JPWO2017126043A1 - 印刷装置、基板位置調整方法 - Google Patents

Abstract

マスクを保持するマスク保持部と、マスクの下方で基板を駆動して基板をマスクに対向させる基板駆動部と、マスクの上方に設けられたスキージを駆動するスキージ駆動部と、スキージが受ける圧力を検出する圧力検出部と、マスクの上面のうち基板が対向する第１範囲に接したスキージが受ける圧力を圧力検出部により検出した結果に基づき、マスクに対する基板の位置を基板駆動部により鉛直方向に調整する制御部とを備える。

Description

本発明は、上方から基板に重なるマスクの上面をスキージにより摺動することで、マスクの上面のペーストを基板に印刷する印刷技術に関する。

従来、マスクを用いて基板にペーストを印刷する印刷装置には、マスクに対して基板の高さを合わせるための機構が装備されている。例えば特許文献１のスクリーン印刷機では、コンベアがバックアップピンの上方へ基板を搬入すると、バックアップピンが上昇してコンベアから基板を受け取る。さらに、バックアップピンを支持する基板昇降装置がバックアップピンを伴って上昇することで、基板をマスクの高さにまで上昇させてマスクの下面に接触させる。これによって、マスクの上面をスキージにより摺動して、マスクの上面のクリーム半田を基板に適切に印刷することが可能となる。

国際公開第２０１４／１４７８１２号

しかしながら、実際には基板の上昇幅が不適切であるために、基板とマスクとの間に隙間が生じたり、基板がマスクを押し上げてマスクが盛り上がったりすることがあった。この原因としては、例えばオペレーターが基板の上昇幅を誤って設定したり、基板の厚みがロットにより変化したりすることが挙げられる。そして、このように基板の高さがマスクに対して不適切であると、基板へのペーストの印刷を良好に行うことは難しかった。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、マスクに対して基板の高さを適切に調整することを可能とする技術の提供を目的とする。

本発明に係る印刷装置は、マスクを保持するマスク保持部と、マスクの下方で基板を駆動して基板をマスクに対向させる基板駆動部と、マスクの上方に設けられたスキージを駆動するスキージ駆動部と、スキージが受ける圧力を検出する圧力検出部と、マスクの上面のうち基板が対向する第１範囲に接したスキージが受ける圧力を圧力検出部により検出した結果に基づき、マスクに対する基板の位置を基板駆動部により鉛直方向に調整する制御部とを備える。

本発明に係る基板高さ調整方法は、マスクに基板を下方から対向させる工程と、マスクの上面のうち基板が対向する第１範囲に接したスキージが受ける圧力を検出する工程と、第１範囲からスキージが受ける圧力を検出した結果に基づき、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整する工程とを備える。

本発明は、マスクの上面のうち基板が対向する第１範囲に接したスキージが受ける圧力を検出する。つまり、マスクに対して基板の位置が不適切であると、上述のようにマスクと基板との間に隙間ができたり、マスクが盛り上がったりするために、マスクの第１範囲に接するスキージが受ける圧力に影響が生じる。そこで、本発明は、マスクに対する基板の位置とスキージに働く圧力との間の相関関係を利用して、スキージが受ける圧力に基づきマスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整する。その結果、鉛直方向においてマスクに対して基板の位置を適切に調整することが可能となっている。

本発明を適用した印刷装置を模式的に示す正面図である。 図１の印刷装置が備える電気的構成を示すブロック図である。 スキージユニットを模式的に示す側面図である。 スキージユニットを模式的に示す正面図である。 スキージユニットの動作を模式的に示す側面図である。 マスクの下面の高さと基板の上面の高さとの位置関係を模式的に示す正面図である。 基板高さ補正処理の第１例を示すフローチャートである。 図７のフローチャートに基づき実行される動作を模式的に示すタイミングチャートである。 基板高さ補正処理の第２例を示すフローチャートである。 図９のフローチャートに基づき実行される動作を模式的に示すタイミングチャートである。 基板高さ補正処理の第３例を示すフローチャートである。 図１０のフローチャートに基づき実行される動作を模式的に示すタイミングチャートである。

図１は本発明を適用した印刷装置を模式的に示す正面図である。図２は図１の印刷装置が備える電気的構成を示すブロック図である。図１および以下の図では、Ｚ方向を鉛直方向とし、Ｘ方向およびＹ方向を水平方向とするＸＹＺ直交座標軸を適宜示す。この印刷装置１は、マスクＭを保持するマスク保持ユニット２と、マスクＭの下方に配置された基板保持ユニット４と、マスクＭの上方に配置されたスキージユニット６とを備える。さらに、印刷装置１は、ＣＰＵ(Central Processing Unit)およびＲＡＭ(Random Access Memory)等で構成された主制御部１０と、ＨＤＤ(Hard Disk Drive)等で構成された記憶部１１とを備える。そして、主制御部１０が記憶部１１に記憶される印刷プログラムに従って各ユニット４、６を制御することで、基板保持ユニット４により基板ＳをマスクＭに下方から対向させつつスキージユニット６のスキージ７０の先端をマスクＭの上面にＸ方向へ摺動させる（印刷動作）。これによって、マスクＭの上面に供給された半田が、マスクＭを貫通するパターン孔を介して基板Ｓの上面に印刷される。

また、印刷装置１は、装置に設けられた可動部の動作を制御する駆動制御部１２およびバルブ制御部１３を備え、主制御部１０は、駆動制御部１２およびバルブ制御部１３によりユニット４、６の可動部を制御する。さらに、印刷装置１は、例えば液晶ディスプレイ等で構成された表示ユニット１４と、キーボードやマウスといった入力機器で構成された入力ユニット１５とを備える。したがって、作業者は、表示ユニット１４の表示内容を確認することで印刷装置１の稼働状況を確認したり、入力ユニット１５を操作することで印刷装置１に指令を入力したりできる。なお、表示ユニット１４および入力ユニット１５はタッチパネルにより一体的に構成しても構わない。

マスク保持ユニット２はクランプ部材２１を有し、マスクＭはその周縁部に設けられたフレームＦを介してクランプ部材２１に着脱可能に取り付けられる。これによって、平板形状を有するマスクＭがマスク保持ユニット２により水平に保持される。このマスクＭは、平面視において矩形状を有し、基板Ｓへの印刷パターンに応じた形状の貫通孔（パターン孔）を有する。

基板保持ユニット４は、マスク保持ユニット２に保持されたマスクＭの下方に配置され、マスクＭに対して基板Ｓの位置を合わせる機能を担う。この基板保持ユニット４は、基板Ｓを搬送する一対のコンベア４１と、コンベア４１から受け取った基板Ｓを保持する基板保持部４２と、コンベア４１および基板保持部４２を支持する平板形状の可動テーブル４３とを有する。

一対のコンベア４１はＸ方向に間隔を空けつつＹ方向に平行に配置されており、それぞれの上面で基板ＳのＸ方向の両端を下方から支持する。また、基板保持ユニット４には、これらコンベア４１を駆動するコンベア駆動部Ｍ４１が設けられている。そして、駆動制御部１２からの指令を受けたコンベア駆動部Ｍ４１が各コンベア４１を駆動すると、各コンベア４１がＹ方向に基板Ｓを搬送して、印刷装置１に対する基板Ｓの搬入あるいは搬出を実行する。

基板保持部４２は、平板形状の昇降テーブル４２１と、可動テーブル４３に対してＺ方向にスライド可能なスライド支柱４２２とを有し、昇降テーブル４２１がスライド支柱４２２の上端に支持されている。また、昇降テーブル４２１の上面にはＺ方向に立設された複数のバックアップピン４２３がＸ方向およびＹ方向に間隔を空けて並ぶ。さらに、基板保持部４２にはバックアップ駆動部Ｍ４２３が設けられており、駆動制御部１２からの指令を受けたバックアップ駆動部Ｍ４２３がスライド支柱４２２を昇降させることで、昇降テーブル４２１とともにバックアップピン４２３を昇降させる。例えばコンベア４１の基板Ｓの搬入時は、バックアップ駆動部Ｍ４２３は、各バックアップピン４２３の上端をコンベア４１の上面より下方に位置させる。そして、コンベア４１がバックアップピン４２３の直上に基板Ｓを搬入すると、バックアップ駆動部Ｍ４２３はバックアップピン４２３を上昇させることで、バックアップピン４２３の上端をコンベア４１の上面より上方へ突出させる。これによって、コンベア４１の上面から各バックアップピン４２３の上端へ基板Ｓが受け渡される。

また、基板保持部４２は、一対のコンベア４１の上方でＸ方向に間隔を空けて配置された一対のクランププレート４２４と、これらクランププレート４２４の少なくとも一方をＸ方向に駆動するプレート駆動部Ｍ４２４とを有する。各クランププレート４２４の上面はＸ方向およびＹ方向に平行な平面であり、同じ高さに位置する。プレート駆動部Ｍ４２４は、バルブ制御部１３からの指令に応じてバルブを開閉することで、クランププレート４２４へ供給するエアを調整する。これによって、クランププレート４２４がＸ方向に駆動される。

そして、駆動制御部１２がバックアップピン４２３上の基板Ｓを一対のクランププレート４２４の間にまで上昇させ、バルブ制御部１３からの指令を受けたバルブが動作してこれらクランププレート４２４の間隔を狭めることで、基板Ｓがこれらクランププレート４２４によりＸ方向（水平方向）からクランプされる。具体的には、基板Ｓの上面の高さをクランププレート４２４の上面の高さに一致させるバックアップ駆動部Ｍ４２３の駆動量を示す基板高さ制御データが記憶部１１に格納されている。例えばバックアップ駆動部Ｍ４２３がスライド支柱４２２を駆動するアクチュエーターである場合には、基板Ｓとクランププレート４２４との上面の高さが一致する際のアクチュエーターのロッドの位置（駆動量）を基板高さ制御データとして格納することができる。あるいは、バックアップ駆動部Ｍ４２３がスライド支柱４２２を駆動するモーターである場合には、基板Ｓとクランププレート４２４との上面の高さが一致する際のモーターの回転角度（駆動量）を基板高さ制御データとして格納することができる。なお、基板高さ制御データの記憶部１１への格納は、作業者による入力ユニット１５への操作等により予め実行される。そして、バックアップ駆動部Ｍ４２３は基板高さ制御データが示す上昇幅だけ基板Ｓを上昇させる。この際、バックアップ駆動部Ｍ４２３による基板Ｓの上昇中は、プレート駆動部Ｍ４２４は一対のクランププレート４２４の間隔を基板ＳのＸ方向の幅より広くする。そして、バックアップ駆動部Ｍ４２３による基板Ｓの上昇が完了すると、プレート駆動部Ｍ４２４は一対のクランププレート４２４の間隔を狭めて、これらクランププレート４２４により基板ＳをＸ方向から挟む。こうして、基板Ｓがクランププレート４２４によりクランプされる。

さらに、基板保持ユニット４は、可動テーブル４３を駆動するテーブル駆動機構４４を有する。このテーブル駆動機構４４は、Ｘ軸テーブル４４１と、Ｘ軸テーブル４４１の上面に取り付けられたＹ軸テーブル４４２と、Ｙ軸テーブル４４２の上面に取り付けられたＲ軸テーブル４４３と、Ｒ軸テーブル４４３に対して可動テーブル４３を昇降させるボールネジ４４４とを有する。さらに、テーブル駆動機構４４は、Ｘ軸テーブル４４１をＸ方向に駆動するＸ軸駆動部Ｍ４４１と、Ｙ軸テーブル４４２をＹ方向へ駆動するＹ軸駆動部Ｍ４４２と、Ｒ軸テーブル４４３をＲ方向（Ｚ方向に平行な軸を中心とする回転方向）に駆動するＲ軸駆動部Ｍ４４３と、ボールネジ４４４を回転させることで可動テーブル４３をＺ方向に駆動するＺ軸駆動部Ｍ４４４とを有する。したがって、駆動制御部１２は、各駆動部Ｍ４４１〜Ｍ４４４を制御することで、可動テーブル４３に配置されたコンベア４１および基板保持部４２をＸ、Ｙ、Ｚ、Ｒ方向に駆動することができる。例えば搬入された基板ＳをマスクＭに対して位置決めする際には、駆動制御部１２は、クランププレート４２４にクランプされた基板Ｓの位置を、Ｘ・Ｙ・Ｒ軸駆動部Ｍ４４１〜Ｍ４４３によりＸＹ面内で調整するとともに、Ｚ軸駆動部Ｍ４４４によりＺ方向に調整する。これによって、クランププレート４２４および基板Ｓそれぞれの上面がマスクＭの下面に接触する。

続いては、スキージユニット６の詳細について、図３〜図５を併用して説明する。ここで、図３はスキージユニットを模式的に示す側面図であり、図４はスキージユニットを模式的に示す正面図であり、図５はスキージユニットの動作を模式的に示す側面図である。スキージユニット６は、マスク保持ユニット２に保持されたマスクＭの上方に配置され、スキージ７０を具備する印刷ヘッド７と、印刷ヘッド７をＸ方向およびＺ方向へ駆動するヘッド駆動機構８とを有する。

印刷ヘッド７は、Ｙ方向に平行な軸を中心にスキージ７０を回動可能に支持する支持ブラケット７１と、支持ブラケット７１に取り付けられた回動モーターＭ７０とを有する。回動モーターＭ７０はスキージ７０の回動軸に接続されており、駆動制御部１２は回動モーターＭ７０によりスキージ７０を回動させることで、スキージ７０がマスクＭに接する角度（アタック角度）を調整することができる。

また、印刷ヘッド７は、スキージ７０が取り付けられた支持ブラケット７１を支持する支持フレーム７２を支持ブラケット７１の上方に有する。つまり、印刷ヘッド７は、Ｚ方向に平行に延設された２本のサポートロッド７３を有し、各サポートロッド７３が支持フレーム７２に対してＺ方向にスライド可能に設けられている。支持フレーム７２には、各サポートロッド７３に対応して挿入孔がＺ方向に貫通しており、２本のサポートロッド７３は対応する挿入孔に上方から挿入されている。各サポートロッド７３は、挿入孔よりも径の大きいフランジ７３１をそれぞれの上端に有し、フランジ７３１が上方から支持フレーム７２に引っ掛かることで、サポートロッド７３が支持フレーム７２から抜け落ちないように構成されている。一方、２本のサポートロッド７３の下端は、支持ブラケット７１の上端を構成するプレート７１１の上面に取り付けられる。こうして支持フレーム７２は、その下方に設けられたスキージ７０をＺ方向へ移動可能に支持する。

さらに、印刷ヘッド７は、スキージ７０に印圧を加えるとともに当該印圧を検出する機構を有する。つまり、印刷ヘッド７は、支持ブラケット７１のプレート７１１の上面に取り付けられた印圧センサー７４と、印圧センサー７４の上面に取り付けられたプレート７４１とを有する。この印圧センサー７４は例えばロードセルで構成される。また、印刷ヘッド７は、Ｚ方向に平行に延設されて支持フレーム７２に対してＺ方向にスライド可能な２本のガイドロッド７５と、各ガイドロッド７５に外嵌された圧縮バネ７６とを有する。支持フレーム７２には各ガイドロッド７５に対応して挿入孔がＺ方向に貫通しており、対応する挿入孔に上方から挿入された各ガイドロッド７５の下端がプレート７４１の上面に取り付けられている。また、各圧縮バネ７６は支持フレーム７２から下方に突き出たガイドロッド７５に外嵌され、圧縮バネ７６の上端が支持フレーム７２に下方から当接するとともに、圧縮バネ７６の下端がプレート７４１に上方から当接する。こうして、支持フレーム７２とプレート７４１の間に設けられた圧縮バネ７６は、支持フレーム７２とプレート７４１との間隔の減少に応じて増大する付勢力を発生する。その結果、プレート７４１、印圧センサー７４、支持ブラケット７１およびスキージ７０は、圧縮バネ７６の付勢力によって支持フレーム７２から離れる方向、すなわち下方に付勢される。また、圧縮バネ７６の付勢力は、印圧センサー７４を介してスキージ７０に伝わるため、主制御部１０は、印圧センサー７４の検出結果に基づき、スキージ７０に加えられる付勢力を確認することができる。

ヘッド駆動機構８は、Ｚ方向に延設されたボールネジ８２と、Ｚ軸モーターＭ８２と、Ｚ軸モーターＭ８２の出力をボールネジ８２に伝達する無端ベルト８３とを有し、支持フレーム７２がボールネジ８２のナットに取り付けられて、ボールネジ８２の回転に応じて昇降する。したがって、駆動制御部１２は、Ｚ軸モーターＭ８２の回転角度を制御することで、支持フレーム７２の高さを調整することができる。さらに、ヘッド駆動機構８は、図３および図４に示すスキージユニット６の構成をＸ方向に一体的に駆動するＸ軸モーターＭ６を有する。したがって、駆動制御部１２は、Ｚ軸モーターＭ８２により支持フレーム７２を下降させてスキージ７０をマスクＭの上面に接触させた状態で、Ｘ軸モーターＭ６によりスキージ７０をＸ方向に移動させることで印刷動作を実行することができる。

このように構成されたスキージユニット６では、支持フレーム７２の高さを調整することで、所定の印圧をスキージ７０に加えることができる。図５を用いて説明すると、スキージ７０がマスクＭから上方へ離れた状態から支持フレーム７２を下降させると、図５の状態Ａ１に示すように、ある時点でスキージ７０がマスクＭに接触する。この状態では、サポートロッド７３のフランジ７３１は支持フレーム７２に接した状態にあり、支持フレーム７２とプレート７４１の間隔は、圧縮バネ７６の自然長、あるいは自然長より若干狭い間隔Ｉ０となる。続いて、状態Ａ１から支持フレーム７２を下降させると、支持フレーム７２とプレート７４１の間隔は、間隔Ｉ０から支持フレーム７２の下降幅ΔＩだけ狭くなり、間隔Ｉ１となる（図５の状態Ａ２）。その結果、圧縮バネ７６が下降幅ΔＩだけ縮んで、下降幅ΔＩにそのバネ定数を乗じた付勢力に応じた圧力が印圧としてスキージ７０に加えられる。具体的には、圧縮バネ７６の付勢力と、印刷ヘッド７のうちの支持フレーム７２に支持される部分の自重との和に相当する圧力がスキージ７０に加わる印圧となる。

このように、支持フレーム７２の高さに応じた印圧がスキージ７０に加わるため、駆動制御部１２はＺ軸モーターＭ８２により支持フレーム７２の高さを制御することで、印刷動作においてスキージ７０に加える印圧を調整することができる。そこで、目標印圧がスキージ７０に加わる高さ（印圧印加高さｈｐ）に支持フレーム７２を位置させるＺ軸モーターＭ８２の駆動量を示す印圧制御データが記憶部１１に格納されている。そして、印刷動作の実行時には、印圧制御データが示す駆動量だけＺ軸モーターＭ８２が駆動すると、支持フレーム７２が印圧印加高さｈｐに位置する。この際、具体的には、圧縮バネ７６が目標印圧に相当する付勢力を発生する高さに支持フレーム７２が位置する際のＺ軸モーターＭ８２の回転角度（駆動量）を印圧制御データとして格納することができる。あるいは、支持フレーム７２の昇降をアクチュエーターで実行する場合には、圧縮バネ７６が目標印圧に相当する付勢力を発生する高さに支持フレーム７２が位置する際のアクチュエーターのロッドの位置（駆動量）を印刷制御データとして格納することができる。

しかしながら、マスク保持ユニット２に保持されるマスクＭの下面の高さと、基板保持ユニット４に保持される基板Ｓの上面の高さとの関係が不適切であるために、印圧制御データが示す高さに支持フレーム７２を位置させても、スキージ７０に加わる印圧が目標印圧からずれる場合があった。この点について図６を用いて説明する。

図６はマスクの下面の高さと基板の上面の高さとの位置関係を模式的に示す正面図である。なお、図６では、マスクＭの上面のうち基板Ｓが下方から対向する基板対向範囲Ｗ１と、マスクＭの上面のうちクランププレート４２４が下方から対向するプレート対向範囲Ｗ２とが示されている。また、同図の各状態Ｂ１〜Ｂ３では、各クランププレート４２４の上面の高さは、マスク保持ユニット２に保持されるマスクＭの下面の高さに一致している。

図６の状態Ｂ１では、クランププレート４２４の上面より基板Ｓの上面が低く、その結果、マスクＭと基板Ｓとの間に隙間が生じている。かかる状態Ｂ１で、印圧制御データが示す高さに支持フレーム７２を位置させつつスキージ７０を基板対向範囲Ｗ１に押圧した場合、マスクＭの下面うちスキージ７０の先端が対向する部分が基板Ｓに接するまで、可撓性を有するマスクＭが隙間の幅Δｈ１だけ下方へ凹む。そのため、支持フレーム７２とスキージ７０との間隔、すなわち圧縮バネ７６の長さが幅Δｈ１だけ伸び、スキージ７０へ加わる印圧が目標印圧より減少する。なお、この際の印圧の減少量は、圧縮バネ７６のバネ定数に幅Δｈ１を乗じた付勢力に相当する。

また、図６の状態Ｂ２では、クランププレート４２４の上面より基板Ｓの上面が高く、その結果、マスクＭの基板対向範囲Ｗ１がプレート対向範囲Ｗ２より盛り上がっている。かかる状態Ｂ２では、印圧制御データが示す高さに支持フレーム７２を位置させつつスキージ７０を基板対向範囲Ｗ１に押圧した場合、基板Ｓが印圧に抗して基板対向範囲Ｗ１を盛り上がった状態に支持し、スキージ７０の下降を盛り上がりの幅Δｈ２だけ阻む。そのため、支持フレーム７２とスキージ７０との間隔、すなわち圧縮バネ７６の長さが幅Δｈ２だけ縮み、スキージ７０へ加わる印圧が目標印圧より増加する。なお、この際の印圧の増加量は、圧縮バネ７６のバネ定数に幅Δｈ２を乗じた付勢力に相当する。

一方、図６の状態Ｂ３では、クランププレート４２４の上面と基板Ｓの上面とは同じ高さに位置する。その結果、マスクＭの基板対向範囲Ｗ１とプレート対向範囲Ｗ２とが同じ高さに位置するとともに、マスクＭの基板対向範囲Ｗ１は基板Ｓにより支持される。したがって、印圧制御データが示す高さに支持フレーム７２を位置させつつスキージ７０を基板対向範囲Ｗ１に押圧することで、目標印圧をスキージ７０に加えることができる。

このように、マスク保持ユニット２に保持されるマスクＭの下面の高さと、基板保持ユニット４に保持される基板Ｓの上面の高さとの関係が、スキージ７０に加わる印圧に影響する。そこで、主制御部１０は、印圧印加高さｈｐに支持フレーム７２を位置させた際にスキージ７０に加わる印圧を検出した結果に基づき、マスクＭに対する基板Ｓの高さを補正する基板高さ補正処理を実行する。

図７は基板高さ補正処理の第１例を示すフローチャートであり、図８は図７のフローチャートに基づき実行される動作を模式的に示すタイミングチャートである。基板高さ補正処理が開始すると、ステップＳ１０１において、スキージユニット６は支持フレーム７２を初期高さｈｏに保ちつつスキージ７０をマスクＭのプレート対向範囲Ｗ２の上方へ移動させる（時刻ｔ１１）。これによって、スキージ７０の先端のＸ方向における位置は、プレート対向範囲Ｗ２内の初期位置Ｘｏとなる。なお、支持フレーム７２が初期高さｈｏにある状態では、スキージ７０の先端はマスクＭのプレート対向範囲Ｗ２から上方へ離れている。続いて、スキージユニット６は支持フレーム７２を初期高さｈｏから印圧印加高さｈｐへ下降させる（ステップＳ１０２）。これによって、支持フレーム７２が時刻ｔ１２に印圧印加高さｈｐに到達し、スキージ７０がマスクＭのプレート対向範囲Ｗ２に押圧される。そして、主制御部１０は、印圧センサー７４の出力に基づきスキージ７０に加わる印圧を測定する（ステップＳ１０３）。この際、マスクＭの下面に接するクランププレート４２４がスキージ７０に加わる印圧に抗してプレート対向範囲Ｗ２を支持するため、測定される印圧は目標印圧Ｐｔとなる。

続いて、スキージユニット６は、支持フレーム７２を印圧印加高さｈｐに維持しつつ、支持フレーム７２に伴ってスキージ７０をＸ方向に平行に移動させて、スキージ７０の先端をマスクＭの上面に摺動させる（ステップＳ１０４）。そして、Ｘ方向に互いに隣接するプレート対向範囲Ｗ２と基板対向範囲Ｗ１との境界にスキージ７０が到達する時刻ｔ１３以後に、主制御部１０は、印圧センサー７４の出力に基づきスキージ７０に加わる印圧を測定する（ステップＳ１０５）。この際、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ１に示した位置関係にあると、測定される印圧は目標印圧Ｐｔよりも小さい印圧Ｐａ１となり（図８の印圧のグラフの一点鎖線）、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ２に示した位置関係にあると、測定される印圧は目標印圧Ｐｔよりも大きい印圧Ｐｂ１となり（図８の印圧のグラフの二点差線）、マスクＭと基板Ｓとが状態Ｂ３に示した位置関係にあると、測定される印圧は目標印圧Ｐｔと一致する（図８の印圧のグラフの破線）。

そこで、主制御部１０は、ステップＳ１０３で測定した印圧とステップＳ１０５で測定した印圧との差を算出し（ステップＳ１０６）、所定の変換テーブルに基づき、この印圧差を基板Ｓの上面の高さに変換する（ステップＳ１０７）。なお、この変換テーブルは、支持フレーム７２を印圧印加高さｈｐに位置させた状態で基板Ｓの上面の高さを変更しながら印圧差を測定する実験を予め実行した結果から求められて、記憶部１１に記憶されている。ステップＳ１０８では、主制御部１０は、基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっているかを確認することで、基板Ｓの上面の高さが適切かを判断する。

そして、基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっていない場合（ステップＳ１０８で「ＮＯ」の場合）は、主制御部１０は、基板Ｓの高さを変更する（ステップＳ１０９）。具体的には、クランププレート４２４による基板Ｓのクランプを解除してからバックアップ駆動部Ｍ４２３によりバックアップピン４２３を昇降させることで基板Ｓの高さを変更し、再びクランププレート４２４により基板Ｓをクランプする。この際、主制御部１０は、目標印圧Ｐｔに対してステップＳ１０５での実測印圧が小さい場合には基板Ｓを上昇させ、目標印圧Ｐｔに対してステップＳ１０５での実測印圧が大きい場合には基板Ｓを下降させる。そして、ステップＳ１０８で基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっていることが確認されるまで、ステップＳ１０１〜Ｓ１０９が繰り返し実行される。最終的に、ステップＳ１０８で基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっていることが確認されると、図７の基板高さ補正処理が終了する。

以上に説明したように、基板高さ補正処理の第１例では、マスクＭの上面のうち基板Ｓが対向する基板対向範囲Ｗ１に接したスキージ７０が受ける印圧を検出する。つまり、マスクＭに対して基板Ｓの高さが不適切であると、上述のようにマスクＭと基板Ｓとの間に隙間ができたり、マスクＭが盛り上がったりするために、マスクＭの基板対向範囲Ｗ１に接するスキージ７０が受ける印圧に影響が生じる。そこで、マスクＭに対する基板Ｓの高さとスキージ７０に働く印圧との間の相関関係を利用して、スキージ７０が受ける印圧に基づきマスクＭに対する基板Ｓの高さを調整する。その結果、マスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整することが可能となっている。

また、スキージ７０は支持フレーム７２により昇降可能に支持されており、圧縮バネ７６が支持フレーム７２とスキージ７０との高さの差に応じて変化する付勢力を支持フレーム７２とスキージ７０との間に生じさせることでスキージ７０を下方に付勢する。また、スキージ７０の先端がマスクＭの上面に接した状態において、Ｚ軸モーターＭ８２が圧縮バネ７６の付勢力に抗して支持フレーム７２を下方へ押圧することで、この付勢力に応じた印圧でスキージ７０の先端をマスクＭの上面に押圧する。かかる構成では、マスクＭに対して基板Ｓの高さが不適切であると、マスクＭの基板対向範囲Ｗ１に接するスキージ７０に対して圧縮バネ７６が加える印圧に影響が生じる。そこで、主制御部１０は、基板対向範囲Ｗ１に押圧されるスキージ７０が受ける印圧を印圧センサー７４により検出した結果に基づき、マスクＭに対する基板Ｓの高さを調整する。これによって、マスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整することが可能となっている。

特に、基板高さ補正処理の第１例では、支持フレーム７２を印圧印加高さｈｐに位置させてマスクＭのプレート対向範囲Ｗ２にスキージ７０を押圧した後、支持フレーム７２をＸ方向（水平方向）に移動させることでスキージ７０をマスクＭの基板対向範囲Ｗ１に摺動させる圧力検出用動作（ステップＳ１０２、Ｓ１０４）が実行される。この際、プレート対向範囲Ｗ２は下方から接するクランププレート４２４により支持されているため、プレート対向範囲Ｗ２に押圧されるスキージ７０の高さはマスクＭに対する基板Ｓの位置によらず安定する。一方、基板対向範囲Ｗ１に摺動されるスキージ７０の高さは、マスクＭに対する基板Ｓの位置によって変化する。つまり、マスクＭと基板Ｓとの間に隙間がある場合には、スキージ７０の押圧に伴って基板対向範囲Ｗ１が凹むために、基板対向範囲Ｗ１に摺動されるスキージ７０の高さは、プレート対向範囲Ｗ２に押圧されるスキージ７０の高さよりも低くなる。逆に、マスクＭが盛り上がっている場合には、基板対向範囲Ｗ１に摺動されるスキージ７０の高さは、プレート対向範囲Ｗ２に押圧されるスキージ７０の高さよりも高くなる。その結果、マスクＭに対して基板Ｓの高さが不適切であると、スキージ７０がプレート対向範囲Ｗ２に押圧されている期間（時刻ｔ１３より前の期間）と、基板対向範囲Ｗ１に摺動されている期間（時刻ｔ１３より後の期間）とで、スキージ７０と支持フレーム７２との間隔が変化し、その結果、スキージ７０に加わる印圧も変化する。そこで、主制御部１０は、プレート対向範囲Ｗ２に押圧されるスキージ７０が受ける印圧と基板対向範囲Ｗ１に摺動されるスキージ７０が受ける印圧との差に基づき、マスクＭに対する基板Ｓの高さを調整する。こうして、マスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整することが可能となっている。

図９は基板高さ補正処理の第２例を示すフローチャートであり、図１０は図９のフローチャートに基づき実行される動作を模式的に示すタイミングチャートである。以下では、上記実施形態との差異点を中心に説明することとし、共通点については適宜説明を省略する。ただし、上記実施形態と共通する構成を備えることで同様の効果が奏されることは言うまでも無い。

基板高さ補正処理が開始すると、ステップＳ２０１において、スキージユニット６は支持フレーム７２を初期高さｈｏに保ちつつスキージ７０をマスクＭの基板対向範囲Ｗ１の上方へ移動させる（時刻ｔ２１）。なお、支持フレーム７２が初期高さｈｏにある状態では、スキージ７０の先端はマスクＭの基板対向範囲Ｗ１から上方へ離れている。続いて、スキージユニット６は支持フレーム７２を初期高さｈｏから印圧印加高さｈｐへ下降させる（ステップＳ２０２）。これによって、支持フレーム７２が時刻ｔ２２に印圧印加高さｈｐに到達し、スキージ７０がマスクＭの基板対向範囲Ｗ１に押圧される。そして、主制御部１０は、印圧センサー７４の出力に基づきスキージ７０に加わる印圧を測定する（ステップＳ２０３）。この際、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ１に示した位置関係にあると、測定される印圧は目標印圧Ｐｔよりも小さい印圧Ｐａ２となり（図１０の印圧のグラフの一点鎖線）、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ２に示した位置関係にあると、測定される印圧は目標印圧Ｐｔよりも大きい印圧Ｐｂ２となり（図１０の印圧のグラフの二点差線）、マスクＭと基板Ｓとが状態Ｂ３に示した位置関係にあると、測定される印圧は目標印圧Ｐｔと一致する（図１０の印圧のグラフの破線）。

そこで、主制御部１０は、記憶部１１に予め記憶された目標印圧Ｐｔと、ステップＳ２０３で測定した印圧との差を算出し（ステップＳ２０４）、上記の変換テーブルに基づき、この印圧差を基板Ｓの上面の高さに変換する（ステップＳ２０５）。続いて、ステップＳ２０６では、主制御部１０は、基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっているかを確認することで、基板Ｓの上面の高さが適切かを判断する。基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっていない場合（ステップＳ２０６で「ＮＯ」の場合）は、主制御部１０は、上述のステップＳ１０９と同様に、基板Ｓの高さを変更する（ステップＳ２０７）。そして、ステップＳ２０６で基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっていることが確認されるまで、ステップＳ２０１〜Ｓ２０７が繰り返し実行される。最終的に、ステップＳ２０６で基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっていることが確認されると、図９の基板高さ補正処理が終了する。

以上に説明したように、基板高さ補正処理の第２例においても、マスクＭの上面のうち基板Ｓが対向する基板対向範囲Ｗ１に接したスキージ７０が受ける印圧を検出する。そして、マスクＭに対する基板Ｓの高さとスキージ７０に働く印圧との間の相関関係を利用して、スキージ７０が受ける印圧に基づきマスクＭに対する基板Ｓの高さを調整する。その結果、マスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整することが可能となっている。

特に、基板高さ補正処理の第２例では、支持フレーム７２を印圧印加高さｈｐに位置させることでスキージ７０を基板対向範囲Ｗ１に押圧する圧力検出用動作が実行される（ステップＳ１０２）。そして、主制御部１０は、基板対向範囲Ｗ１に押圧されるスキージ７０が受ける印圧に基づき、マスクＭに対する基板の高さを調整する。こうして、マスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整することが可能となっている。

図１１は基板高さ補正処理の第３例を示すフローチャートであり、図１２は図１０のフローチャートに基づき実行される動作を模式的に示すタイミングチャートである。以下では、上記実施形態との差異点を中心に説明することとし、共通点については適宜説明を省略する。ただし、上記実施形態と共通する構成を備えることで同様の効果が奏されることは言うまでも無い。

基板高さ補正処理が開始すると、ステップＳ３０１において、スキージユニット６は支持フレーム７２を初期高さｈｏに保ちつつスキージ７０をマスクＭの基板対向範囲Ｗ１の上方へ移動させる（時刻ｔ３１）。なお、支持フレーム７２が初期高さｈｏにある状態では、スキージ７０の先端はマスクＭの基板対向範囲Ｗ１から上方へ離れている。続いて、スキージユニット６は支持フレーム７２の初期高さｈｏからの下降を開始する（ステップＳ３０２）。

支持フレーム７２が一定速度で下降する間のある時点で、スキージ７０はマスクＭの上面に接触した後に基板Ｓからの抗力を受け始め、スキージ７０への印圧がゼロから増加し始める。この際、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ３に示した位置関係にあると、印圧の増加は時刻ｔ３３に始まり（図１２の印圧のグラフの破線）、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ２に示した位置関係にあると、印圧の増加は時刻ｔ３３より早い時刻ｔ３２に始まり（図１２の印圧のグラフの二点鎖線）、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ１に示した位置関係にあると、印圧の増加は時刻ｔ３３より遅い時刻ｔ３４に始まる（図１２の印圧のグラフの一点鎖線）。

そして、印圧センサー７４の検出結果に基づき測定される印圧が所定の閾値Ｐｔｈに達したかが確認され（ステップＳ３０３）、印圧が閾値Ｐｔｈに達した時点における支持フレーム７２の高さがＺ軸モーターＭ８２のエンコーダー出力に基づき測定される（ステップＳ３０４）。この際、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ３に示した位置関係にあると、印圧は時刻ｔ３６に閾値Ｐｔｈに達して（図１２の印圧のグラフの破線）、支持フレーム７２は基準高さｈｔに位置し、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ２に示した位置関係にあると、印圧は時刻ｔ３６より早い時刻ｔ３５に閾値Ｐｔｈに達して（図１２の印圧のグラフの二点鎖線）、支持フレーム７２は基準高さｈｔより高い高さｈｂに位置し、マスクＭと基板Ｓとが図６の状態Ｂ１に示した位置関係にあると、印圧は時刻ｔ３６より遅い時刻ｔ３７に閾値Ｐｔｈに達して（図１２の印圧のグラフの一点鎖線）、支持フレーム７２は基準高さｈｔより低い高さｈａに位置する。ちなみに、印圧が所定の閾値Ｐｔｈに達した時点で、支持フレーム７２の下降は停止する。

そして、主制御部１０は、記憶部１１に予め記憶された基準高さｈｔと、ステップＳ３０４で測定した支持フレーム７２の高さとの差を算出し（ステップＳ３０５）、この高さの差から基板Ｓの上面の高さを求める（ステップＳ３０６）。続いて、ステップＳ３０７では、主制御部１０は、基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっているかを確認することで、基板Ｓの上面の高さが適切かを判断する。基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっていない場合（ステップＳ３０７で「ＮＯ」の場合）は、主制御部１０は、上述のステップＳ１０９と同様に、基板Ｓの高さを変更する（ステップＳ３０８）。そして、ステップＳ３０７で基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっていることが確認されるまで、ステップＳ３０１〜Ｓ３０８が繰り返し実行される。最終的に、ステップＳ３０７で基板Ｓの上面の高さが所定範囲に収まっていることが確認されると、図１１の基板高さ補正処理が終了する。

以上に説明したように、基板高さ補正処理の第３例においても、マスクＭの上面のうち基板Ｓが対向する基板対向範囲Ｗ１に接したスキージ７０が受ける印圧を検出する。そして、マスクＭに対する基板Ｓの高さとスキージ７０に働く印圧との間の相関関係を利用して、スキージ７０が受ける印圧に基づきマスクＭに対する基板Ｓの高さを調整する。その結果、マスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整することが可能となっている。

特に、基板高さ補正処理の第３例では、スキージ７０がマスクＭから離れた状態からスキージ７０をマスクＭへ向けて下降させて基板対向範囲Ｗ１に接触させる圧力検出用動作（ステップＳ３０２）が実行される。つまり、スキージ７０をマスクＭへ向けて下降させて基板対向範囲Ｗ１に接触させた場合、スキージ７０が受ける印圧の変化の態様は、マスクＭに対する基板Ｓの高さに応じて異なる。そこで、主制御部１０は、基板対向範囲Ｗ１に接したスキージ７０が受ける印圧の変化に基づき、マスクＭに対する基板Ｓの高さを調整する。こうして、マスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整することが可能となっている。

以上に説明したように、本実施形態では、印刷装置１が本発明の「印刷装置」の一例に相当し、マスク保持ユニット２が本発明の「マスク保持部」の一例に相当し、マスクＭが本発明の「マスク」の一例に相当し、基板保持ユニット４が本発明の「基板駆動部」の一例に相当し、基板Ｓが本発明の「基板」の一例に相当し、スキージユニット６が本発明の「スキージ駆動部」の一例に相当し、スキージ７０が本発明の「スキージ」の一例に相当し、印圧センサー７４が本発明の「圧力検出部」の一例に相当し、印圧が本発明の「圧力」の一例に相当し、主制御部１０が本発明の「制御部」の一例に相当し、基板対向範囲Ｗ１が本発明の「第１範囲」の一例に相当し、プレート対向範囲Ｗ２が本発明の「第２範囲」の一例に相当し、支持フレーム７２が本発明の「支持部材」の一例に相当し、圧縮バネ７６が本発明の「付勢部材」の一例に相当し、Ｚ軸モーターＭ８２が本発明の「駆動源」の一例に相当し、印圧印加高さｈｐが本発明の「所定高さ」の一例に相当する。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、ステップＳ１０２、Ｓ２０２における支持フレーム７２の下降先は印圧印加高さｈｐに限られず、印圧印加高さｈｐと異なる高さであっても良い。

また、上記のスキージユニット６は、支持フレーム７２をプレート７１１より上側に配置して圧縮バネ７６によりスキージ７０に付勢力を加えていた。しかしながら、支持フレーム７２をプレート７１１より下側に配置して引っ張りバネによりスキージ７０に付勢力を与えるようにスキージユニット６を構成しても良い。

また、上記実施形態では、基板高さ補正処理の実行タイミングについては具体的に説明しなかった。しかしながら、基板高さ補正処理は、種々のタイミングで実行可能である。 例えば、スキージユニット６は、マスクＭの上面に供給された半田（ペースト）をスキージ７０に沿って広げるためにスキージ７０をマスクＭに摺動させる慣らし動作を、新たに半田が供給される度に適宜実行する。そこで、主制御部１０は、この慣らし動作の前に基板高さ補正処理を実行しても良い。これによって、マスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整した状態で慣らし動作を実行できる。また、主制御部１０は印刷動作の前に、基板高さ補正処理を実行しても良い。これによって、マスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整した状態で印刷動作を実行できる。あるいは、主制御部１０は、予め設定された枚数の基板Ｓに印刷動作を実行する度に基板高さ補正処理を実行しても良い。これによって、以後の印刷動作をマスクＭに対して基板Ｓの高さを適切に調整した状態で実行できる。

以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、本発明では例えば次のように構成することができる。

つまり、スキージ駆動部は、スキージを昇降可能に支持する支持部材と、支持部材とスキージとの高さの差に応じて変化する付勢力を支持部材とスキージとの間に生じさせることでスキージを下方に付勢する付勢部材と、支持部材を昇降させる駆動源とを有し、スキージがマスクに接した状態において付勢力に抗して駆動源により支持部材を下方へ押圧することで、付勢力に応じた圧力でスキージをマスクに押圧可能であり、制御部は、第１範囲に押圧されるスキージが受ける圧力を圧力検出部により検出した結果に基づき、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整するように、印刷装置を構成できる。

かかる構成では、マスクに対して基板の位置が不適切であると、上述のようにマスクと基板との間に隙間ができたり、マスクが盛り上がったりするために、マスクの第１範囲に接するスキージに対して付勢部材が加える圧力に影響が生じる。そこで、制御部は、スキージが受ける圧力に基づき、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整する。その結果、マスクに対して基板の高さを適切に調整することができる。

また、マスクに対向する基板を水平方向からクランプし、マスクの下面に接するクランププレートをさらに備え、スキージ駆動部は、支持部材を所定高さに位置させることでマスクの上面のうちクランププレートが対向する第２範囲にスキージを押圧した後に、支持部材を水平方向に平行に移動させることでスキージを第１範囲に摺動させる圧力検出用動作を実行し、制御部は、圧力検出用動作において第２範囲に押圧されるスキージが受ける圧力と第１範囲に摺動されるスキージが受ける圧力との差に基づき、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整するように、印刷装置を構成できる。

かかる構成では、支持部材を所定高さに位置させてマスクの第２範囲にスキージを押圧した後、支持部材を水平方向に移動させることでスキージをマスクの第１範囲に摺動させる圧力検出用動作が実行される。この際、第２範囲は下方から接するクランププレートにより支持されているため、第２範囲に押圧されるスキージの高さはマスクに対する基板の位置によらず安定する。一方、第１範囲に摺動されるスキージの高さは、マスクに対する基板の位置によって変化する。つまり、マスクと基板との間に隙間がある場合には、スキージの押圧に伴って第１範囲が凹むために、第１範囲に摺動されるスキージの高さは、第２範囲に押圧されるスキージの高さよりも低くなる。逆に、マスクが盛り上がっている場合には、第１範囲に摺動されるスキージの高さは、第２範囲に押圧されるスキージの高さよりも高くなる。その結果、マスクに対して基板の位置が不適切であると、スキージが第２範囲に押圧されている期間と、第１範囲に摺動されている期間とで、スキージと支持部材との間隔が変化し、その結果、スキージに働く圧力も変化する。そこで、制御部は、第２範囲に押圧されるスキージが受ける圧力と第１範囲に摺動されるスキージが受ける圧力との差に基づき、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整する。こうして、マスクに対して基板の高さを適切に調整することが可能となっている。

また、スキージ駆動部は、支持部材を所定高さに位置させることでスキージを第１範囲に押圧する圧力検出用動作を実行し、制御部は、圧力検出用動作において第１範囲に押圧されるスキージが受ける圧力に基づき、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整するように、印刷装置を構成できる。

つまり、第１範囲に押圧されるスキージの高さは、マスクに対する基板の位置によって変化する。具体的には、マスクと基板との間に隙間がある場合には、スキージの押圧に伴って第１範囲が凹む。そのため、基板がマスクの下面に接している場合と比較して、第１範囲に押圧されるスキージの高さは低くなり、スキージに働く圧力は小さくなる。逆に、マスクが盛り上がっている場合には、基板がマスクの下面に接している場合と比較して、第１範囲に押圧されるスキージの高さは高くなり、スキージに働く圧力は大きくなる。そこで、制御部は、第１範囲に押圧されるスキージが受ける圧力に基づき、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整する。こうして、マスクに対して基板の高さを適切に調整することが可能となっている。

また、スキージ駆動部は、スキージがマスクから離れた状態からスキージをマスクへ向けて下降させて第１範囲に接触させる圧力検出用動作を実行し、制御部は、圧力検出用動作において第１範囲に接したスキージが受ける圧力の変化に基づき、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整するように、印刷装置を構成できる。

つまり、スキージをマスクへ向けて下降させて第１範囲に接触させた場合、スキージが受ける圧力の変化の態様は、マスクに対する基板の位置に応じて異なる。そこで、制御部は、第１範囲に接したスキージが受ける圧力の変化に基づき、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整する。こうして、マスクに対して基板の高さを適切に調整することが可能となっている。

また、スキージ駆動部は、マスクの上面に供給されたペーストをスキージに沿って広げるためにスキージをマスクに摺動させる慣らし動作の前に圧力検出用動作を実行し、制御部は、スキージ駆動部による慣らし動作の前に、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整するように、印刷装置を構成できる。かかる構成では、マスクに対して基板の高さを適切に調整した状態で慣らし動作を実行できる。

また、スキージ駆動部は、スキージをマスクに摺動させることでスキージの上面の半田をマスクの孔を介して基板に印刷する印刷動作の前に圧力検出用動作を実行し、制御部は、スキージ駆動部による印刷動作の前に、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整するように、印刷装置を構成できる。かかる構成では、マスクに対して基板の高さを適切に調整した状態で印刷動作を実行できる。

また、スキージ駆動部は、スキージをマスクに摺動させることでスキージの上面の半田をマスクの孔を介して基板に印刷する印刷動作を、予め設定されている枚数の基板に実行した後に圧力検出用動作を実行し、制御部は、圧力検出用動作の実行後に、マスクに対する基板の位置を鉛直方向に調整するように、印刷装置を構成しても良い。かかる構成では、予め設定されている枚数の基板へ印刷動作が実行されると、圧力検出用動作が実行されて、マスクに対する基板の位置が鉛直方向に調整される。そのため、以後の印刷動作を、マスクに対して基板の高さ適切に調整した状態で実行できる。

この発明は、上方から基板に重なるマスクの上面をスキージにより摺動することで、マスクの上面のペーストを基板に印刷する印刷技術全般に適用可能である。

１…印刷装置
２…マスク保持ユニット
４…基板保持ユニット
６…スキージユニット
７０…スキージ
７２…支持フレーム
７４…印圧センサー
７６…圧縮バネ
１０…主制御部
Ｍ８２…Ｚ軸モーター
Ｗ１…基板対向範囲
Ｗ２…プレート対向範囲
Ｍ…マスク
Ｓ…基板
ｈｐ…印圧印加高さ

Claims (9)

1. マスクを保持するマスク保持部と、
   前記マスクの下方で基板を駆動して前記基板を前記マスクに対向させる基板駆動部と、
   前記マスクの上方に設けられたスキージを駆動するスキージ駆動部と、
   前記スキージが受ける圧力を検出する圧力検出部と、
   前記マスクの上面のうち前記基板が対向する第１範囲に接した前記スキージが受ける圧力を前記圧力検出部により検出した結果に基づき、前記マスクに対する前記基板の位置を前記基板駆動部により鉛直方向に調整する制御部と
   を備える印刷装置。
2. 前記スキージ駆動部は、前記スキージを昇降可能に支持する支持部材と、前記支持部材と前記スキージとの高さの差に応じて変化する付勢力を前記支持部材と前記スキージとの間に生じさせることで前記スキージを下方に付勢する付勢部材と、前記支持部材を昇降させる駆動源とを有し、前記スキージが前記マスクに接した状態において前記付勢力に抗して前記駆動源により前記支持部材を下方へ押圧することで、前記付勢力に応じた圧力で前記スキージを前記マスクに押圧可能であり、
   前記制御部は、前記第１範囲に押圧される前記スキージが受ける圧力を前記圧力検出部により検出した結果に基づき、前記マスクに対する前記基板の位置を鉛直方向に調整する請求項１に記載の印刷装置。
3. 前記マスクに対向する前記基板を水平方向からクランプし、前記マスクの下面に接するクランププレートをさらに備え、
   前記スキージ駆動部は、前記支持部材を所定高さに位置させることで前記マスクの上面のうち前記クランププレートが対向する第２範囲に前記スキージを押圧した後に、前記支持部材を前記水平方向に平行に移動させることで前記スキージを前記第１範囲に摺動させる圧力検出用動作を実行し、
   前記制御部は、前記圧力検出用動作において前記第２範囲に押圧される前記スキージが受ける圧力と前記第１範囲に摺動される前記スキージが受ける圧力との差に基づき、前記マスクに対する前記基板の位置を鉛直方向に調整する請求項２に記載の印刷装置。
4. 前記スキージ駆動部は、前記支持部材を所定高さに位置させることで前記スキージを前記第１範囲に押圧する圧力検出用動作を実行し、
   前記制御部は、前記圧力検出用動作において前記第１範囲に押圧される前記スキージが受ける圧力に基づき、前記マスクに対する前記基板の位置を鉛直方向に調整する請求項２に記載の印刷装置。
5. 前記スキージ駆動部は、前記スキージが前記マスクから離れた状態から前記スキージを前記マスクへ向けて下降させて前記第１範囲に接触させる圧力検出用動作を実行し、
   前記制御部は、前記圧力検出用動作において前記第１範囲に接した前記スキージが受ける圧力の変化に基づき、前記マスクに対する前記基板の位置を鉛直方向に調整する請求項２に記載の印刷装置。
6. 前記スキージ駆動部は、前記マスクの上面に供給されたペーストを前記スキージに沿って広げるために前記スキージを前記マスクに摺動させる慣らし動作の前に前記圧力検出用動作を実行し、
   前記制御部は、前記スキージ駆動部による前記慣らし動作の前に、前記マスクに対する前記基板の位置を鉛直方向に調整する請求項１ないし５のいずれか一項に記載の印刷装置。
7. 前記スキージ駆動部は、前記スキージを前記マスクに摺動させることで前記スキージの上面の半田を前記マスクの孔を介して前記基板に印刷する印刷動作の前に前記圧力検出用動作を実行し、
   前記制御部は、前記スキージ駆動部による前記印刷動作の前に、前記マスクに対する前記基板の位置を鉛直方向に調整する請求項１ないし５のいずれか一項に記載の印刷装置。
8. 前記スキージ駆動部は、前記スキージを前記マスクに摺動させることで前記スキージの上面の半田を前記マスクの孔を介して前記基板に印刷する印刷動作を、予め設定されている枚数の前記基板に実行した後に前記圧力検出用動作を実行し、
   前記制御部は、前記圧力検出用動作の実行後に、前記マスクに対する前記基板の位置を鉛直方向に調整する請求項１ないし５のいずれか一項に記載の印刷装置。
9. マスクに基板を下方から対向させる工程と、
   前記マスクの上面のうち前記基板が対向する第１範囲に接した前記スキージが受ける圧力を検出する工程と、
   前記第１範囲から前記スキージが受ける圧力を検出した結果に基づき、前記マスクに対する前記基板の位置を鉛直方向に調整する工程と
   を備える基板位置調整方法。

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