JPWO2016190439A1 - 結晶材料、結晶製造法、放射線検出器、非破壊検査装置、および撮像装置 - Google Patents

結晶材料、結晶製造法、放射線検出器、非破壊検査装置、および撮像装置 Download PDF

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Abstract

一般式(1):(REx1−x−y―sM’2+α(Si1−t,M”2+β7+γで表され、パイロクロア型構造を持ち、非化学量論的組成、調和溶融組成である結晶材料。AはGd、Y、La、Sc、Yb及びLuから選択される少なくとも1種以上を含み、BはLa、Gd、Yb、Lu、Y及びScから選択される少なくとも1種以上を含み、0.1<y<0.4であり、REはCe、Pr、Nd、Eu、Tb、Ybから選択される少なくとも1種以上を含み、0<x<0.1であり、M’およびM”はLi,Na,K,Mg,Ca,Sr,Ba,Ti,Zr,Hf,Fe、Ta,Wから選択される少なくとも1種以上を含み、0≦s<0.01且つ0≦t<0.01であり、0<|α|<0.3且つ0≦|β|<0.3且つ0≦|γ|<0.5で表される。

Description

本発明は、結晶材料、結晶製造法、放射線検出器、非破壊検査装置および撮像装置に関する。
シンチレータ単結晶は、γ線、X線、α線、中性子線等を検出する放射線検出器に用いられている。このような放射線検出器は、陽電子放射断層撮影(positron emission tomography、PET)装置やX線CT装置などの医療画像装置(撮像装置)、高エネルギー物理分野における各種放射線計測装置、および資源探査装置(たとえば石油資源探査(oil well logging)等の資源探査)などに幅広く応用されている。
一般に、放射線検出器は、γ線、X線、α線、中性子線を吸収し、シンチレーション光に変換するシンチレータと、シンチレーション光を受光し、電気信号等に変換する受光素子等の光検出器とから構成される。例えば、高エネルギー物理や陽電子放射断層撮影(PET)イメージングシステムでは、シンチレータと、放射性壊変によって発生する放射線との相互作用に基づいて画像が作成される。ここで陽電子放射断層撮影(PET)イメージングシステムでは、被検体内の陽電子(ポジトロン)と対応する電子との相互作用から生じるガンマ線がシンチレータに入射し、光検出器によって検出することのできるフォトンに変換される。シンチレータから放出されたフォトンはフォト・ダイオード(PD)、シリコンフォトマルチプライヤー(Si−PM)、もしくは光電子増倍管(PMT)、または他の光検出器を使用して、検出することができる。
PMTは400nm付近の波長域に高い量子効率(光子を電子(電流信号)に変換する効率)を有し、主に400nm付近に発光ピーク波長を有するシンチレータと組み合わせて使用されている。シンチレータをアレー状に配列したシンチレータアレーに対しては、位置敏感型PMT(PS−PMT)などを組合せて用いる。これによって、重心演算から、フォトンがシンチレータアレーのどのピクセルで検出されたかを突き止めることができる。
一方、フォト・ダイオード(PD)、アバランシェ・フォト・ダイオード(APD)やシリコン・フォト・マルチプライヤー(Si−PM)といった半導体光検出器は、特に放射線検出器やイメージング機器において、広範な用途を有する。様々な半導体光検出器が知られている。たとえば、シリコン半導体から構成されるPDやSi−PMは、量子効率が350nmから900nmまでの波長帯域において50%を超えており、PMTの量子効率が最大で45%であるのにくらべて、量子効率が高い。上記波長帯域の中で感度の高い波長帯域は500nm〜700nmであり、600nm付近で最も感度が高く、量子効率は80%程度になる。そのため、これらの半導体光検出器は、600nm付近を中心に、350nmから900nmまでの間に発光ピーク波長を有するシンチレータと組み合わせて使用されている。PMTと同様に、PD、APD、Si−PMに関しても、位置検出感度を持つPDアレー、位置検知性アバランシェ・フォトダイオード(PSAPD)、およびSi−PMアレーが存在する。これらの素子でも、フォトンがシンチレータアレーのどのピクセルで検出されたかを突き止めることができる。さらに、350nm以下の短波長発光シンチレータに関しても、短波長用Si−PMや波長変換素子を使用するなどして、シンチレータ光をシリコン半導体が感度を有する波長領域の光に変換することで、シリコン半導体による読み出しを行う放射線検出器が実現可能である。
これらの放射線検出器に適するシンチレータには、検出効率の点から密度が高く原子番号が大きいこと(光電吸収比が高いこと)、高エネルギー分解能の点から発光量が高く、高速応答の必要性から蛍光寿命(蛍光減衰時間)が短いことが望まれる。加えて、近年のシステムでは多層化・高分解能化のため、多数のシンチレータを細長い形状(例えばPETでは5mm×30mm程度)で稠密に並べる必要から、取り扱い易さ、加工性、大型結晶作製が可能なこと、さらには価格も重要な選定要因となっている。また、シンチレータの発光波長が光検出器の検出感度の高い波長域と一致することも重要である。
現在、各種放射線検出器へ応用される好ましいシンチレータとして、パイロクロア型構造を持つシンチレータCe:GdSiがある。当該シンチレータは化学的に安定で、潮解性が無く、発光量が高いという利点がある。例えば、非特許文献1に記載の、Ce3+の4f5d準位からの発光を利用するパイロクロア型構造を持つシンチレータは、蛍光寿命が80ns程度以下と短く、発光量も高い。しかしながら、一方で非特許文献1に記載の通り、相図上、包晶組成であるため、融液からの単結晶成長ができず、大きな透明体を得ることが困難であるという問題点を有する。
また、特許文献1、2や非特許文献2に記載のパイロクロア型構造を持つシンチレータでは、Ceを希土類元素のサイトに置換することで、構造を安定化するという試みがなされている。これにより、この結晶はフローティングゾーン法、チョクラルスキー法、マイクロ引き下げ法、ブリッジマン法等の融液成長法により大型単結晶作製が可能となる。しかしながら、希土類元素のサイトにCeを増やすと、発光量が激減してしまうという問題(濃度消光)が生じる。
特許文献3、4や非特許文献3では、Y,Yb,Sc、La、Luから選ばれる1種類以上の元素を希土類元素(特にLa)のサイトに置換することで、構造を安定化するという試みがなされている。これにより、この結晶はフローティングゾーン法、チョクラルスキー法、マイクロ引き下げ法、ブリッジマン法等の融液成長法により大型単結晶作製が可能となると期待された。当該試みは一定の効果はあったものの、(R,R’)Siにおいて、(R+R’):Si:酸素=2:2:7の化学量論的組成では調和溶融組成にならず、バルク単結晶を作製する際に不純物が発生して異相として取り込まれ、クラックや欠陥の要因となるため、大口径のバルク単結晶を高い歩留りで得ることができないといった問題が新たに見つかった。
さらに、非化学量論組成では電荷のバランスがずれることから、結晶へのひずみの発生、蛍光寿命への影響などの問題点が考えられる。
特開2009−74039号公報 国際公開第WO2003/083010号公報 国際公開第WO2014/104238号公報 国際公開第WO2014/104238号公報 国際公開第WO2015/037726号公報
S.Kawamura, J.H.Kaneko, M.Higuchi, T.Yamaguchi, J.Haruna, Y.Yagi, K.Susa, F.Fujita, A.Homma, S.Nishiyama, H.Ishibashi, K.Kurashige and M.Furusaka, IEEE Nuclear Science Symposium Conference Record, San Diego, USA, 29 October - 5 November 2006, pp.1160-1163. S.Kawamura, M.Higuchi, J.H.Kaneko, S.Nishiyama, J.Haruna, S.Saeki, S.Ueda, K.Kurashige, H.Ishibashi and M.Furusaka, Crystal Growth & Design, volume 9 (3), 2009, pages 1470-1473. A. Suzuki, S. Kurosawa, T. Shishido, J. Pejchal, Y. Yokota, Y. Futami, A. Yoshikawa, "Fast and High-Energy-Resolution Oxide Scintillator: Ce-Doped (La,Gd)2Si2O7", Appl. Phys. Express vol. 5, 2012, page102601.
シンチレータは高エネルギーの光子を吸収して低エネルギーの光子に変換するが、高エネルギーの光子を吸収するには大きな透明体が必要となる。シンチレータとして用いられるCe:GdSiやCe:(Gd,La)Si等の結晶は、高い発光量を持ち、蛍光寿命が短かく優れた特性を示すが、高品質、且つ、透明、且つ、結晶化率が高いバルク体が得られにくいという課題がある。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、電荷調整された非化学量論的な組成で、調和溶融組成であることを特徴として、高品質で透明なバルク体の提供が可能で、且つ、高い発光量を持ち、蛍光寿命の短い結晶材料およびその製造方法、ならびに当該結晶材料を用いた放射線検出器、撮像装置、非破壊検査装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の一態様に係る結晶材料は、一般式(1):(REx1−x−y―sM’2+α(Si1−t,M”2+β7+γ (1)
で表され、パイロクロア型構造を持ち、且つ、非化学量論的組成、且つ、調和溶融組成であることを特徴とする。ここで、式(1)中、AはGd、Y、La、Sc、Yb及びLuから選択される少なくとも1種以上を含み、BはLa、Gd、Yb、Lu、Y及びScから選択される少なくとも1種以上を含み、0.1<y<0.4であり、REはCe、Pr、Nd、Eu、Tb、Ybから選択される少なくとも1種以上を含み、0<x<0.1であり、M’およびM”はLi,Na,K,Mg,Ca,Sr,Ba,Ti,Zr,Hf,Fe、Ta,Wから選択される少なくとも1種以上を含み、0≦s<0.01、且つ、0≦t<0.01であり、また0<|α|<0.3、且つ、0≦|β|<0.3、且つ、0≦|γ|<0.5で表される。非化学量論的組成かつ調和溶融組成を選択することで、結晶化率の飛躍的な向上が認められる。ここで、||は絶対値をあらわし、0<|α|<0.3は0<α<0.3ないしは0>α>−0.3を意味する。同様に、0≦|β|<0.3は0<β<0.3ないしは0>β>−0.3ないしはβ=0を意味する。また同様に、0≦|γ|<0.5は0<γ<0.5ないしは0>γ>−0.5ないしはγ=0を意味する。
本発明の一態様に係る結晶材料は、前記x、y、s、t、α、β、及び、γの範囲はさらに0<x<0.05、0.1<y<0.40、0≦s<0.005、且つ、0≦t<0.005、0.001<|α|<0.15、且つ、0.001<|β|<0.15、且つ、0.001<|γ|<0.2で表されることを特徴とする。
本発明の一態様に係る結晶材料は、前記x、y、s、t、α、β、及び、γの範囲はさらに0<x<0.04、0.1<y<0.35、0≦s<0.005、且つ、0≦t<0.005、0.01<|α|<0.1、且つ、0.01<|β|<0.1、且つ、0.001<|γ|<0.2で表されることを特徴とする。
本発明の一態様に係る結晶材料は、前記一般式(1)において、REはCeであり、AはGdであり、BはLa,Yから選択された1つ以上であることを特徴とする。
本発明の一態様に係る結晶材料は、放射線の照射によってシンチレーション光を発し、前記シンチレーション光に含まれる所定の蛍光成分は、蛍光寿命が2マイクロ秒以下であり、且つ、蛍光ピーク波長が250nm以上900nm以下の範囲であることを特徴とする。
本発明の一態様に係る結晶材料は、放射線の照射によってシンチレーション光を発し、前記シンチレーション光に含まれる所定の蛍光成分は、蛍光寿命が80ナノ秒以下であり、且つ、蛍光ピーク波長が300nm以上700nm以下の範囲であることを特徴とする。
本発明の一態様に係る結晶材料は、放射線の照射によってシンチレーション光を発し、前記シンチレーション光に含まれる所定の蛍光成分の発光量は、環境温度が室温から摂氏150度の範囲において13,000光子/MeVより多く、且つ、潮解性がないことを特徴とする。
本発明の一態様に係る結晶製造方法は、本発明の一態様に係る結晶材料の元素比になるようにA、Si、REを含む原料を配合し、前記配合した原料を溶融するまで温度を上げた後に冷却し、パイロクロア型構造を持つ結晶とすること、且つ、結晶化率50%以上とすることを特徴とする結晶製造方法。本発明の製造法方法は結晶化率を50%以上と飛躍的に向上させるものである。
本発明の一態様に係る放射線検出器は、本発明の一態様に係る結晶材料から構成されるシンチレータと、前記シンチレータからのシンチレーション光を受光する光検出器と、を備えることを特徴とする。
本発明の一態様に係る放射線検出器は、本発明の一態様に係る結晶材料から構成されるシンチレータと、前記シンチレータからのシンチレーション光を受光し、該シンチレーション光に含まれる波長260nm〜350nmの光の波長を320nm〜700nmの範囲のいずれかの波長に変換する波長変換素子と、前記波長変換素子が波長変換した光を受光する光検出器と、を備えることを特徴とする。
本発明の一態様に係る放射線検出器は、本発明の一態様に係る結晶材料から構成されるシンチレータを備え、位置感度を持たせたことを特徴とする。
本発明の一態様に係る撮像装置は、本発明の一態様に係る放射線検出器を備えることを特徴とする。
本発明の一態様に係る非破壊検査装置は、本発明の一態様に係る放射線検出器を備えることを特徴とする。
本発明によれば、調和融液組成の結晶は高い発光量を持ち、蛍光寿命が短いという優れた特性を保ちつつ、育成に係る時間やコストが化学量論的組成である既存のパイロクロア型構造の結晶に比べて大幅に抑えられるという効果を奏する。
図1は、作製した(Ce0.015Gd0.750La0.2351.95Si2.016.94結晶の写真およびこの結晶の断面を切断し、研磨した写真を示す図である。 図2は、作製した(Ce0.015Gd0.7499La0.235Mg0.00011.997Si2.057.10結晶の写真およびこの結晶の断面を切断し、研磨した写真を示す図である。 図3は、ピクセルアレイの写真を示す図である。 図4は、作製した(Ce0.013La0.132Gd0.855)1.66Si2.487.02結晶の写真を示す図である。 図5は、作製した(Ce0.013La0.132Gd0.855)1.66Si2.487.02結晶の断面を切断、研磨した写真を示す図である。 図6は、作製した(Ce0.023Gd0.751La0.226)Si結晶の断面を切断、研磨した写真を示す図である。 図7は、実施例1および比較例1の透過率プロファイルを示す図である。 図8は、137Csγ線(662keV)を照射して得られた波高分布スペクトル(実施例1、比較例10)を示す図である。 図9は、137Csγ線(662keV)を照射して得られた実施例1の結晶の蛍光減衰曲線のプロファイルを示す図である。 図10は、ピクセルアレイとMPPCを与わせた放射線検出器に137Csγ線(662keV)を照射して得られた再構成イメージを示す図である。 図11は、本発明の実施の形態に係る放射線検出器を示す図である。 図12は、本発明の実施の形態に係る非破壊検査装置を示す図である。 図13は、本発明の実施の形態に係る撮像装置を示す図である。 図14は、本発明の実施の形態に係る放射線検出器を示す図である。
以下に、図面を参照して本発明に係る結晶材料、結晶製造方法、放射線検出器、撮像装置および非破壊検査装置の実施の形態を詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
本発明の実施の形態に係る結晶材料は、一般式(1):
(REx1−x−y―sM’2+α(Si1−t,M”2+β7+γ (1)
で表され、パイロクロア型構造を持ち、且つ、非化学量論的組成、且つ、調和溶融組成である結晶材料である。
ここで、式(1)中、AはGd、Y、La、Sc、Yb及びLuから選択される少なくとも1種以上を含み、BはLa、Gd、Yb、Lu、Y及びScから選択される少なくとも1種以上を含み、0.1<y<0.4であり、REはCe、Pr、Nd、Eu、Tb、Ybから選択される少なくとも1種以上を含み、0<x<0.1であり、M’およびM”はLi,Na,K,Mg,Ca,Sr,Ba,Ti,Zr,Hf,Fe、Ta,Wから選択される少なくとも1種以上を含み、0≦s<0.01、且つ、0≦t<0.01であり、また0<|α|<0.3、且つ、0≦|β|<0.3、且つ、0≦|γ|<0.5で表される。REについて、希土類元素のほか遷移金属でも発光賦活剤として選択できる。なお、上記x、y、s、t、α、β、及び、γの範囲の組合せを、組成範囲(1)とする。
好ましくは、式(1)におけるx、y、s、t、α、β、及び、γの範囲はさらに0<x<0.05、0.1<y<0.40、0≦s<0.005、且つ、0≦t<0.005、0.001<|α|<0.15、且つ、0.001<|β|<0.15、且つ、0.001<|γ|<0.2で表される。上記x、y、s、t、α、β、及び、γの範囲の組合せを、組成範囲(2)とする。
より好ましくは、式(1)におけるx、y、s、t、α、β、及び、γの範囲はさらに0<x<0.04、0.1<y<0.35、0≦s<0.005、且つ、0≦t<0.005、0.01<|α|<0.1、且つ、0.01<|β|<0.1、且つ、0.001<|γ|<0.2で表される。上記x、y、s、t、α、β、及び、γの範囲の組合せを、組成範囲(3)とする。
これによって、本実施の形態に係る結晶材料は、放射線の照射により発生するシンチレーション光の発光量が高く、蛍光寿命の短い結晶材料となる。なお、例えば、一般式(1)において、REはCeであり、AはGdであり、BはLa,Yから選択された1つ以上であることが好ましい。
なお、公知のパイロクロア型構造を持つパイロシリケート結晶は、高い発光量が期待されるものの、化学量論的組成は調和溶融組成でないため、透明バルク体を作製することが非常に困難となり、結晶作製時に歩留りないしは結晶化率(作製した結晶の良品率)が悪くなってしまうという課題がある。これに対して、本実施の形態に係る結晶材料は、これらの課題を解決するように構成することができる。たとえば、一例として、x、y、s、t、α、β、及び、γを組成範囲(1)とすることで、55%以上の結晶化率を得ることができ、組成範囲(2)とすることで、60%以上の結晶化率を得ることができ、組成範囲(3)とすることで、70%以上の結晶化率を得ることができる。
また、本実施の形態に係る結晶材料は、たとえば図11に示されるように、当該結晶材料101が発するシンチレーション光を受光できる光検出器102と組み合わせることで、放射線検出器100としての使用が可能となる。さらに、たとえば図12に示されるように、放射線源201からの放射線を測定対象物202に照射し、測定対象物202を透過した放射線を放射線検出器100で検出することで、放射線検出器100を備えた非破壊検査装置200としての放射線計測装置や資源探査装置としても使用可能である。
また、本実施の形態に係る結晶材料は、シンチレーション光に含まれる蛍光成分の蛍光寿命を10マイクロ秒以下、且つ、蛍光ピーク波長を150nm以上900nm以下の範囲とすることができる。さらには、蛍光寿命を2マイクロ秒以下、且つ、蛍光ピーク波長を250nm以上900nm以下の範囲とすることができる。このように、蛍光寿命が短いので、蛍光測定のためのサンプリング時間が短くて済み、高時間分解能、すなわちサンプリング間隔を低減することができる。また、高時間分解能が実現されることにより、単位時間でのサンプリング数を増加させることが可能になる。このような短寿命の発光を有する結晶材料は、撮像装置であるPET、SPECT(Single photon emission computed tomography;単一光子放射断層撮影)、およびCT用の高速応答の放射線検出のためのシンチレータとして好適に利用できる。たとえば、図13に示されるように、放射線源201と放射線検出器100とを円周の対称点に配置し、当該円周を走査しながら測定対象物202のトモグラフィー像を取得することで、CTを用いた撮像装置300としての使用が可能となる。
また、蛍光成分の蛍光ピーク波長が150nm以上900nm以下の範囲であるので、シリコン半導体から構成されるPD、APD、またはSi−PMなどの半導体光検出器と組み合わせて検出できるものである。特に、蛍光成分の蛍光ピーク波長が250nm以上400nm以下の場合、波長変換素子を用いて300nm以上900nm以下の波長、すなわち上述の光検出器の波長感度が十分ある領域の波長に変換することが有効である。このような波長変換素子としては、シンチレーション光に含まれる波長260nm〜350nmの光の波長を320nm〜700nmの範囲のいずれかの波長に変換するものが利用できる。たとえば、図14に示されるように、波長変換素子103としては、たとえばプラスチック製の波長変換用光ファイバ(たとえばクラレ社製Y11(200)M−S)等を用いたものが利用し、結晶材料101が発するシンチレーション光を波長変換した後に光検出器104で受光することができる。また、組み合わせる光検出器の種類は蛍光ピーク波長等に合わせて適宜利用でき、たとえばPMTやPS−PMTを利用してもよい。
また、本実施の形態に係る結晶材料において、シンチレーション光に含まれる蛍光成分の蛍光寿命が80ナノ秒以下であり、且つ、蛍光ピーク波長が300nm以上700nm以下の範囲であれば、さらなる高分解能且つ高感度でのシンチレーション光の検出を実現できる。蛍光寿命が60ナノ秒以下であり、且つ、蛍光ピーク波長が320nm以上700nm以下の範囲であれば、より一層の高分解能且つ高感度でのシンチレーション光の検出を実現できるので好ましい。蛍光寿命および蛍光ピーク波長の調整は、結晶材料の組成を調整することによって実現することができる。たとえば、Ce濃度を高くすると蛍光寿命が短くなる。また、1,2価ないしは4価以上の価数を取りうる元素を微量添加することで寿命が短くなることがある。1,2価ないしは4価以上の価数を取りうる元素としてはたとえばLi,Na,K,Mg,Ca,Sr,Ba,Ti,Zr,Hf、Fe、Ta、Wがあるがこれに限定されない。
また、本実施の形態に係る結晶材料では、環境温度が摂氏0度の場合の蛍光成分の発光量を基準とした場合に、環境温度が室温から摂氏150度の範囲における蛍光成分の発光量が13,000光子/MeVより多く、かつ前記基準からの減衰割合を50%未満とすることができる。さらに、摂氏400度以上の環境下に12時間以上放置したのちの蛍光成分の常温下での発光量は20%以上の変動はなく、潮解性などが無く機械強度が強い。したがって、本実施の形態に係る結晶材料は、高温環境下でも発光量の減衰を少なくできるので、高温環境下、または、大振動下で使用される結晶材料として非常に有用である。
特に、本実施の形態に係る結晶材料から構成されるシンチレータと、シンチレータからの発光を受光し、室温以上、摂氏200度以下の環境温度で動作する光検出器とを組み合わせて放射線検出器を構成することで、高温環境下、且つ、大振動下での計測が必須となる資源探査などにも無冷却で利用可能であるので好ましい。
本実施の形態に係る結晶材料の単結晶の製造方法(結晶製造方法)について、以下に説明する。いずれの組成の単結晶の製造方法においても、出発原料としては、一般的な酸化物原料が使用可能であるが、シンチレータ用単結晶として使用する場合、99.99%以上(4N以上)の高純度原料を用いることが特に好ましい。A、Si、REを含むこれらの出発原料を、融液形成時に目的の組成(本実施の形態に係る結晶材料の元素比)となるように秤量、混合し、配合したものを結晶育成原料として用いる。さらにこれらの出発原料中には、目的とする組成以外の不純物が極力少ない(例えば、1ppm以下)ものが特に好ましい。
出発原料組成は化学量論的組成ではなく、融液が本実施の形態の調和溶融組成の比になることを考慮して準備することが望ましい。その際、イグニッションロス等、結晶製造過程でのロスを考慮することが望ましい。
結晶の育成は、不活性ガス(例えば、Ar、N、He等)雰囲気下で行うことが好ましい。または、不活性ガス(例えば、Ar、N、He等)と酸素ガスとの混合ガスを使用してもよい。ただし、この混合ガスの雰囲気下で結晶の育成を行う場合、坩堝の酸化を防ぐ目的で、酸素の分圧は2%以下であることが好ましい。ただし、フローティングゾーン法の様に坩堝を使用しない作製法を用いる場合は、酸素分圧は100%まで設定可能である。なお、結晶成長後のアニールなどの後工程においては、酸素ガス、不活性ガス(例えば、Ar、N、He等)、および不活性ガス(例えば、Ar、N2、He等)と酸素ガスとの混合ガスを用いることができる。後工程においては、混合ガスを用いる場合、酸素分圧は2%以下という制限は受けず、酸素分圧0%から100%までいずれの混合比のものを使用してもよい。
本実施の形態に係る結晶材料の単結晶の製造方法としては、マイクロ引き下げ法に加え、チョクラルスキー法(引き上げ法)、ブリッジマン法、帯溶融法(ゾーンメルト法)、縁部限定薄膜供給結晶成長(EFG法)、フローティングゾーン法、および、ベルヌーイ法等が挙げられるが、これらに限定されず、各種結晶育成方法を用いることができる。なお、大型単結晶を得るためには、チョクラルスキー法またはブリッジマン法が好ましい。大型単結晶を用いることにより、単結晶の歩留りを向上させ、相対的には加工ロスを軽減することができる。したがって、特許文献1に記載のような、多結晶化した中から単結晶を取り出す方法と比較して、低コスト且つ高品質の結晶材料を得ることができる。ただし、本実施の形態に係る結晶材料は、単結晶に限定されず、セラミックスなどの多結晶の焼結体でもよい。
一方、シンチレータ用単結晶として小型の単結晶のみを使用するのであれば、後加工の必要が無いかあるいは少ないことから、フローティングゾーン法、ゾーンメルト法、EFG法、マイクロ引き下げ法、またはチョクラルスキー法が好ましく、坩堝材との濡れ性などの理由から、マイクロ引き下げ法、またはゾーンメルト法が特に好ましい。
また、使用できる坩堝およびアフターヒータの材料としては、白金、イリジウム、ロジウム、レニウム、またはこれらの合金が挙げられる。
シンチレータ用単結晶の製造においては、さらに高周波発振機、集光加熱器、および抵抗加熱機を使用してもよい。
以下に、本実施の形態に係る結晶材料の単結晶の製造方法の例として、マイクロ引き下げ法、チョクラルスキー法およびフローティングゾーン法を用いた単結晶製造法を示すが、本実施の形態に係る結晶材料の単結晶の製造方法はこれに限定されるものではない。
マイクロ引き下げ法については、公知の高周波誘導加熱による雰囲気制御型マイクロ引き下げ装置を用いて行うことができる。マイクロ引き下げ装置は、たとえば、原料融液を収容する坩堝と、坩堝底部に設けた細孔から流出する原料融液に接触させる種結晶を保持する種結晶保持具と、種結晶保持具を下方に移動させる移動機構と、移動機構の速度を制御する移動速度制御装置と、坩堝を加熱する誘導加熱手段(たとえば高周波誘導加熱コイル)とを具備した単結晶製造装置である。このような単結晶製造装置によれば、坩堝直下に固液界面を形成し、下方向に種結晶を移動させることで、単結晶を作製することができる。
上記のマイクロ引き下げ法装置において、坩堝は、カーボン、白金、イリジウム、ロジウム、レニウム、またはこれらの合金製である。また、坩堝底部外周にカーボン、白金、イリジウム、ロジウム、レニウム、またはこれらの合金からなる発熱体であるアフターヒータが配置される。坩堝及びアフターヒータのそれぞれの誘導加熱手段の出力調整により、発熱量を調整することによって、坩堝底部に設けた細孔から引き出される原料融液の固液境界領域の温度およびその分布を制御することができる。
上記の雰囲気制御型マイクロ引き下げ装置は、チャンバーの材質にはステンレス鋼(SUS)、窓材には石英を採用し、且つ、雰囲気制御を可能にするためのロータリーポンプを具備し、ガス置換前において、内部の真空度を1×10−3Torr以下にすることを可能にした装置である。また、チャンバーへは、付随するガスフローメータにより精密に調整された流量で、Ar、N、H、O、Heガス等を導入できるものであるが、雰囲気ガス種はこれらに限定されるものではない。
この装置を用いて、上述の方法にて準備した結晶育成原料を坩堝に入れ、炉内を排気して高真空にした後、ArガスもしくはArガスとOガスとの混合ガスを炉内に導入することにより、炉内を不活性ガス雰囲気もしくは低酸素分圧雰囲気とする。つぎに、高周波誘導加熱コイルに高周波電力を徐々に印加することにより坩堝を加熱して原料を溶融するまで温度を上げ、坩堝内の原料を完全に融解する。
続いて、種結晶保持具に保持された種結晶を移動機構によって所定の速度で徐々に上昇させる。そして、種結晶の先端を坩堝下端の細孔に接触させて充分になじませたら、融液温度を調整しつつ、種結晶を下降させることで冷却し、結晶を成長させる。
種結晶としては、結晶成長対象物と同等ないしは、構造・組成ともに近いものを使用することが好ましいが、これに限定されない。また種結晶として結晶方位の明確なものを使用することが好ましい。
準備した結晶育成原料が全て結晶化し、融液が無くなった時点で結晶成長は終了となる。一方、育成する結晶の組成を均一に保つ目的および長尺化の目的で、結晶育成原料の連続チャージ用機器を取り入れてもよい。これによって、結晶育成原料をチャージしながら結晶を育成することができる。
つぎに、チョクラルスキー法について説明する。チョクラルスキー法は公知の高周波誘導加熱による雰囲気制御型引き上げ装置を用いて行うことができる。引き上げ装置は、たとえば、原料融液を収容する坩堝と、原料融液に接触させる種結晶を保持する種結晶保持具と、種結晶保持具を上方に移動させる移動機構と、移動機構の速度を制御する移動速度制御装置と、坩堝を加熱する誘導加熱手段(たとえば高周波誘導加熱コイル)とを具備した単結晶製造装置である。このような単結晶製造装置によれば、融液上面に固液界面を形成し、上方向に種結晶を移動させることで、単結晶を作製することができる。
種結晶としては、結晶成長対象物と同等ないしは、構造・組成ともに近いものを使用することが好ましいが、これに限定されない。また種結晶として結晶方位の明確なものを使用することが好ましい。
マイクロ引下げ法、チョクラルスキー法、ブリッジマン法、およびベルヌーイ法では主に調和溶融組成の結晶育成が可能である。
つぎに、フローティングゾーン法について説明する。フローティングゾーン法は、通常2ないし4つの回転楕円体ミラーによってハロゲンランプ等の光を集光し、その楕円焦点に多結晶で作った試料棒の一部を設置し、光エネルギーによって高温にして多結晶を融かし、徐々にミラー(焦点)を移動さることによって融けている部分を移動させ、その一方で融けていた部分をゆっくり冷やしていくことで、当該試料棒を大きな単結晶に変化させる方法である。
フローティングゾーン法では、坩堝を使用しないため、より高純度の結晶の育成が可能であり、さらに、酸素雰囲気では坩堝が酸化してしまい結晶育成が困難な条件でも、結晶の育成可能である。
以下、本発明の実施例および比較例について、図面を参照して詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるわけではない。なお、以下の実施例では、Ce濃度は、特定の結晶中における濃度か、融液(仕込み)における濃度かのいずれかの記載となっている。
(実施例1)
チョクラルスキー法により、(Ce0.015Gd0.750La0.2351.95Si2.016.94の組成で表される結晶を作製した。この結晶は、パイロクロア型酸化物である。図1は、作製した(Ce0.015Gd0.750La0.2351.95Si2.016.94結晶の切断面(15mmの厚さ、15mm×15mm面、鏡面研磨済み)の写真である。図1に示すように、作製した単結晶は、その下の模様が透けて見えており、透明バルク体であった。
(実施例2)
チョクラルスキー法により、(Ce0.015Gd0.7499La0.235Mg0.00011.99Si2.057.10の組成で表される結晶を作製した。この結晶は、パイロクロア型酸化物である。図2は、作製した(Ce0.015Gd0.7499La0.235Mg0.00011.99Si2.057.10結晶の切断面(15mmの厚さ、15mm×15mm面、鏡面研磨済み)の写真である。図2に示すように、作製した単結晶は、その下の模様が透けて見えており、透明バルク体であった。
(実施例3〜25)
前記に加えてチョクラルスキー法により、表1のとおりの組成であらわされる結晶を作製した。この結晶は、Aで表されるパイロクロア型酸化物である。作製した単結晶は、その下の模様が透けて見えており、透明バルク体であった。
(実施例21)
図3は実施例1の結晶を用いて、ピクセルアレイ化したものの写真を示す図である。ピクセルサイズは2.5mm×2.5mm×5mmであり、ピクセル数はピクセル数:12×12個である。
(比較例1)
チョクラルスキー法により、(Ce0.013Gd0.855La0.132)1.66Si2.487.02の組成で表される結晶を作製した。この結晶は、Aで表されるパイロクロア型酸化物である。図4は、作製した(Ce0.013Gd0.855La0.132)1.66Si2.487.02結晶の写真を示す図である。図5は当該結晶の切断面(1mmの厚さ、鏡面研磨済み)の写真である。図4および図5に示すように、作製した単結晶は、黄色い不透明バルク体であった。
(比較例2)
チョクラルスキー法により、(Ce0.023Gd0.751La0.226)Siの組成で表される結晶を作製した。この結晶は、Aで表されるパイロクロア型酸化物である。図6は、作製した(Ce0.023Gd0.751La0.226)Si結晶の写真を示す図である。図6に示すように、作製した単結晶は、黄色い不透明バルク体であった。
表1は、上記実施例1〜25、比較例1〜9について、α、β、γと結晶の状態とを示したものである。
(比較例10)
公知の比較例10として、市販されている5mm×5mm×5mmサイズの(Ce0.01Gd0.99SiO(Ce1%:GSO)結晶を用意した。
つぎに、実施例1の結晶について、1mmの厚さに切断し、鏡面研磨を行ったのちに、1mm厚の方向の透過率を測定した。発光測定には日本分光社の紫外-可視分光光度計(型式:V−530)を用いた。実施例2〜6、比較例1〜8の結晶についても同様の測定を行った。図7は実施例1および比較例1にて得られた透過率プロファイルを示す図である。なお、図7において、横軸は波長(nm)、縦軸は直線透過率(%)である。ここで、発光の最大波長領域はおおよそ360〜430nmにあることが、Edingurg社の分光器(型式:Instrument FLS920)を用いたRadioluminescence(5.5MeVのアルファ線励起)の測定でわかっており、この発光領域において、直線透過率は40%以上と十分な値を示した。実施例2〜6の結晶についても同型のプロファイルを示した一方で、比較例1〜8の結晶については、直線透過率が10%以下(1mm厚)となる場合があり、この場合、ガンマ線検出への応用は難しい場合がある。
さらに、実施例1で得られた結晶の発光量を見積もった。ここでそれぞれの結晶は光学グリース(応用光研社製6262A)にて光検出器である光電子増倍管(浜松ホトニクス社製R7600U−200)に光学接着し、1MBqの放射能を有する137Cs密封線源(ガンマ線源)ないしは4MBqの放射能を有する241Am密封線源(アルファ線源)を用い、ガンマ線ないしはアルファ線を照射して励起、発光させた。
なお、光電子増倍管には700Vの電圧を印加し、シンチレーション光を電気信号に変換した。ここで、光電子増倍管より出力される電気信号は、受光したシンチレーション光を反映したパルス状の信号であり、パルスの波高がシンチレーション光の発光強度を表す。このようにして光電子増倍管から出力された電気信号を整形増幅器で整形、増幅した後、多重波高分析器に入力して解析し、波高分布スペクトルを作成した。なお、比較例10の(Ce1%:GSO)結晶についても同様に波高分布スペクトルを作成した。ここで、測定時の温度は室温(摂氏21度)であった。
図8は、137Csγ線(662keV)を照射して得られた波高分布スペクトル(実施例1、比較例10)を示す図である。図8において、横軸はマルチチャネルアナライザ(MCA)のチャネル番号であり、信号の大きさを表している。縦軸はカウント数である(arb.unit)。横軸については、662keVガンマ線に由来する光電吸収ピークが、図中の右側にあるほど発光量が高いことを表す。図8から分かるように、実施例1の結晶は比較例10の結晶よりも発光量が高かった。なお、図8において、実施例1の結晶の発光量は36,000photons/MeV以上であった。
実施例2〜10についても表2の通り発光量を求めることができた。しかし、比較例1〜8については、発光量は測定不能であった。
つぎに、実施例1の結晶の減衰時間を求めた。ここで結晶は光学グリース(応用光研社製6262A)にて光電子増倍管(浜松ホトニクス社製R7600U−200)に光学接着し、1MBqの放射能を有する137Cs密封線源を用い、ガンマ線を照射して励起、発光させた。そして、光電子増倍管からの信号をオシロスコープ(Tektronix社製TDS 3034B)で信号の時間分布を測定することで、減衰時間を求めた。
図9は、実施例1の結晶の蛍光減衰曲線のプロファイルを示す図である。図9において、横軸は時間を表し、縦軸は発光強度に対応する電圧を表している。なお、実線は減衰定数を求めるために時間tを変数とする次の関数I(t)でフィットした結果ある。ここで、I(t)は以下のようになった。
I(t)=0.098・exp(−t/71ns)
+0.040・exp(−t/287ns)+0.00241
すなわち、実施例1の結晶の蛍光の減衰時間は71ナノ秒であり、高速シンチレータを構成できるものであった。
次に、実施例1〜10および19、20の結晶のそれぞれの摂氏150度の高温環境での発光量を測定した。結晶は光学グリース(応用光研社製6262A)にて光検出器である光電子増倍管(浜松ホトニクス社製R1288AH)に光学接着し、1MBq以上の放射能を有する137Cs密封線源(ガンマ線源)を用い、ガンマ線を照射して励起、発光させた。ここで、恒温槽(いすゞ製作所社製VTN−11)を用いて結晶および光電子増倍管を摂氏150度の高温にした。加えて、結晶近傍では熱電対により、目的の温度環境になっているかを確かめた。
なお、光電子増倍管には−1340Vの電圧を印加し、結晶からのシンチレーション光を電気信号に変換した。ここで、光電子増倍管より出力される電気信号は、受光したシンチレーション光を反映したパルス状の信号であり、パルスの波高がシンチレーション光の発光強度を表す。このようにして光電子増倍管から出力された電気信号を整形増幅器で整形、増幅した後、多重波高分析器に入力して解析し、波高分布スペクトルを作成した。なお、比較例10の(Ce1%:GSO)結晶についても同様に波高分布スペクトルを作成した。
実施例1〜10および19、20について、表3のとおり摂氏150度での発光量を求めることができた。なお、摂氏150度以外の温度条件下でも発光量を測定したところ、実施例1〜10および19、20について、室温から摂氏150度の範囲において13,000光子/MeVを超えた。しかし、比較例1〜8については、室温から摂氏150度の範囲において発光量は測定不能であった。
つぎに、SPECT、PETでは、(位置分解能)を持たせることが重要な性能となる。そこで、実施例1の結晶をもちいて、ピクセルアレイ化(図3参照)を行った。反射材には硫酸バリウム、テフロン(登録商標)、酸化チタン、ESRフィルムから選択される材料が使用できるが、これに限ったものではない。
組み立てたアレイ(実施例8)を用いて、SPECT、PETとしての動作原理実証を行った。
具体的には、実施例1のシンチレータ結晶を位置有感型のMulti-Pixel Photon Counter(MPPC、浜松ホトニクス社製S12642−0808PA−50)と組み合わせた。MPPCは複数のガイガーモードアバランシェ・フォトダイオードを並べたもので、さらにそのMPPCユニット(ピクセルサイズ:50μm×50μm)を6×6個にアレイ化したものである。
MPPCと組み合わせたアレイ(実施例8)に1MBqの放射能を有する137Cs密封線源を用い、ガンマ線を照射して、各MPPCからの信号を処理して、イメージング再構成を行った。
図10は、イメージング再構成を行った図である。各ピクセルが分離できており、正しくイメージングができ、位置感度を持たせたSPECT、PETなどのイメージング検出器への応用を実証できた。
なお、上記実施の形態により本発明が限定されるものではない。上述した各構成要素を適宜組み合わせて構成したものも本発明に含まれる。また、さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。よって、本発明のより広範な態様は、上記の実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
100 放射線検出器
101 結晶材料
102、104 光検出器
103 波長変換素子
200 非破壊検査装置
201 放射線源
202 測定対象物
300 撮像装置

Claims (13)

  1. 一般式(1):
    (REx1−x−y―sM’2+α(Si1−t,M”2+β7+γ (1)
    で表され、パイロクロア型構造を持ち、且つ、非化学量論的組成、且つ、調和溶融組成であることを特徴とする結晶材料。
    ここで、式(1)中、AはGd、Y、La、Sc、Yb及びLuから選択される少なくとも1種以上を含み、BはLa、Gd、Yb、Lu、Y及びScから選択される少なくとも1種以上を含み、0.1≦y<0.4であり、REはCe、Pr、Nd、Eu、Tb、Ybから選択される少なくとも1種以上を含み、0<x<0.1であり、M’およびM”はLi,Na,K,Mg,Ca,Sr,Ba,Ti,Zr,Hf,Fe、Ta,Wから選択される少なくとも1種以上を含み、0≦s<0.01、且つ、0≦t<0.01であり、また0<|α|<0.3、且つ、0≦|β|<0.3、且つ、0≦|γ|<0.5で表される。
  2. 前記x、y、s、t、α、β、及び、γの範囲はさらに0<x<0.05、0.1<y<0.40、0≦s<0.005、且つ、0≦t<0.005、0.001<|α|<0.15、且つ、0.001<|β|<0.15、且つ、0.001<|γ|<0.2で表されることを特徴とする請求項1に記載の結晶材料。
  3. 前記x、y、s、t、α、β、及び、γの範囲はさらに0<x<0.04、0.1<y<0.35、0≦s<0.005、且つ、0≦t<0.005、0.01<|α|<0.1、且つ、0.01<|β|<0.1、且つ、0.001<|γ|<0.2で表されることを特徴とする請求項1に記載の結晶材料。
  4. 前記一般式(1)において、REはCeであり、AはGdであり、BはLa,Yから選択された1つ以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の結晶材料。
  5. 放射線の照射によってシンチレーション光を発し、前記シンチレーション光に含まれる所定の蛍光成分は、蛍光寿命が2マイクロ秒以下であり、且つ、蛍光ピーク波長が250nm以上900nm以下の範囲であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の結晶材料。
  6. 放射線の照射によってシンチレーション光を発し、前記シンチレーション光に含まれる所定の蛍光成分は、蛍光寿命が80ナノ秒以下であり、且つ、蛍光ピーク波長が300nm以上700nm以下の範囲であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の結晶材料。
  7. 放射線の照射によってシンチレーション光を発し、前記シンチレーション光に含まれる所定の蛍光成分の発光量は、環境温度が室温から摂氏150度の範囲において13,000光子/MeVより多く、且つ、潮解性がないことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の結晶材料。
  8. 請求項1〜4のいずれか一つに記載の結晶材料の元素比になるようにA、Si、REを含む原料を配合し、前記配合した原料を溶融するまで温度を上げた後に冷却し、パイロクロア型構造を持つ結晶とすること、且つ、結晶化率50%以上とすることを特徴とする結晶製造方法。
  9. 請求項1〜7のいずれか一つに記載の結晶材料から構成されるシンチレータと、
    前記シンチレータからのシンチレーション光を受光する光検出器と、
    を備えることを特徴とする放射線検出器。
  10. 請求項1〜7のいずれか一つに記載の結晶材料から構成されるシンチレータと、
    前記シンチレータからのシンチレーション光を受光し、該シンチレーション光に含まれる波長260nm〜350nmの光の波長を320nm〜700nmの範囲のいずれかの波長に変換する波長変換素子と、
    前記波長変換素子が波長変換した光を受光する光検出器と、
    を備えることを特徴とする放射線検出器。
  11. 請求項1〜7のいずれか一つに記載の結晶材料から構成されるシンチレータを備え、位置感度を持たせたことを特徴とする放射線検出器。
  12. 請求項9〜11のいずれか一つに記載の放射線検出器を備えることを特徴とする撮像装置。
  13. 請求項9〜11のいずれか一つに記載の放射線検出器を備えることを特徴とする非破壊検査装置。
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