JPWO2016152282A1 - タッチパネル用導電フィルムの端子接続構造およびタッチパネル - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明は、タッチパネル用導電フィルムの端子接続構造を有するタッチパネルにも関するものである。
例えば、特許文献1には、タッチパネル用導電フィルムがフレキシブル回路基板に接続されたタッチパネルが掲載されている。
しかし、特許文献1に示されるように、複数の引き回し配線が、交互に異なる位置で対応する外部接続端子に接続されていると、異方性導電膜の一対の端部のうちどちらに熱圧着の圧力が偏って外部接続端子の破断が発生しても、引き回し配線を対応するフレキシブル回路基板の回路側端子にまで導通させることができない外部接続端子が発生し、タッチパネル用導電フィルムとフレキシブル回路基板が電気的な接続を得られなくなってしまう。
また、この発明は、このようなタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造を有するタッチパネルを提供することも目的とする。
複数の外部接続端子は、それぞれ矩形状を有し、少なくとも2つの複数の外部接続端子は、矩形の互いに異なる辺に複数の引き回し配線が接続されている構成としても良い。また、少なくとも2つの複数の外部接続端子は、矩形の互いに対向する辺に引き回し配線が接続されていても良い。
また、これらのタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造を有するタッチパネルを構成することもできる。
以下、この発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
図1に、この発明の実施の形態1に係るタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造が適用されたタッチパネル用導電フィルムの構成を示す。このタッチパネル用導電フィルム1は、矩形状の透明な絶縁基板11を有している。絶縁基板11の表面上には、それぞれ第1の方向D1に沿って延び且つ第1の方向D1に直交する第2の方向D2に沿って並列配列された複数の第1の検出電極12が形成され、複数の第1の検出電極12に対応する複数の第1の引き回し配線13が配置されると共に、絶縁基板11の縁部11Aの近傍に複数の第1の検出電極12に対応する複数の矩形状の第1の外部接続端子14が第1の方向D1に沿って配列形成されている。
一方で、その他の第1の引き回し配線13の他端部は、これらに対応する第1の外部接続端子14に、縁部11A側とは反対側から第2の方向D2に沿ってそれぞれ接続されている。
それぞれの第2の検出電極21には対応する第2の引き回し配線22の一端部が接続され、第2の引き回し配線22の他端部は、対応する第2の外部接続端子23に接続されている。このとき、複数の第2の引き回し配線22の内、一部の第2の引き回し配線22の他端部は、これらに対応する第2の外部接続端子23に、絶縁基板11の縁部11A側から第2の方向D2に沿ってそれぞれ接続されている。
一方で、その他の第2の引き回し配線22の他端部は、これらに対応する第2の外部接続端子23に、縁部11A側とは反対側から第2の方向D2に沿ってそれぞれ接続されている。
タッチパネル用導電フィルム1の裏面上においても、複数の第2の外部接続端子23を第1の方向D1に沿って横切るように、帯状の第2の異方性導電膜4が配置されている。第2の異方性導電膜4の第2の方向D2の長さは、第1の異方性導電膜3と同様に、それぞれの第2の外部接続端子23の第2の方向D2の長さよりも、小さい値に設定されている。
同様に、タッチパネル用導電フィルム1の裏面にも、図示しないフレキシブル回路基板が、複数の第2の外部接続端子23および第2の異方性導電膜4を覆うように配置されている。
なお、実施の形態1では、回路側端子51および第1の外部接続端子14は共に矩形状であるため、第1の幅W1は第3の幅W3と等しく、同様に、第2の幅W2は第4の幅W4と等しい。
なお、タッチパネル用導電フィルム1の絶縁基板11の厚さが小さい値に設定されている場合、タッチパネル用導電フィルム1は変形しやすく、このような破断がさらに生じやすくなる。
しかし、このような場合でも、第2の端部E2に重なる位置においては第1の外部接続端子14に破断が生じないため、回路側端子51から第1の引き回し配線13まで至る電流の経路Rが確保される。
一方、重複領域Sの第1の端部E1側よりも大きい圧力が第2の端部E2側に作用して、第2の端部E2に重なる位置の外部接続端子14に破断が生じても、第2の端部E2は、第1の異方性導電膜3の一対の端部E1およびE2のうち第1の引き回し配線13との接続部Jとは反対側に位置するので、破断に関係なく、回路側端子51から第1の引き回し配線13まで至る電流の経路Rが確保されることとなる。
(A1/A2)=((W1+W3)×L/2)/((W2+W4)×L/2)
と表され、比(A1/A2)が95%〜20%となることが好ましく、90%〜35%となることがより好ましく、85%〜50%となることが最も好ましい。
なお、比(A1/A2)が小さすぎると、第1の外部接続端子14と回路側端子51が導通するための第1の異方性導電膜3の面積が足りなくなり、第1の外部接続端子14と回路側端子51が電気的に接続できなくなるため、比(A1/A2)は、少なくとも20%以上であることが望ましい。
また、図1に示した絶縁基板11の裏面においても、タッチパネル用導電フィルム1の複数の第2の外部接続端子23と第2の異方性導電膜4と図示しないフレキシブル回路基板の複数の回路側端子が、絶縁基板11の表面上における複数の第1の外部接続端子14と第1の異方性導電膜3とフレキシブル回路基板5の複数の回路側端子51と同様の関係を有しており、タッチパネル用導電フィルム1が第2の異方性導電膜4を介して図示しないフレキシブル回路基板と信頼性のある電気的な接続を得ることができる。
それぞれの第1の外部接続端子14の厚さは、絶縁基板11との段差を小さくするため、0.05〜5μmであることが好ましく、0.1〜2μmが最も好ましい。互いに隣り合う第1の外部接続端子14同士の間隔は、省スペースのため、1000μm以下が好ましく、500μm以下がより好ましく、200μm以下が最も好ましい。さらに、それぞれの第1の外部接続端子14の第1の方向D1の幅は、省スペースのため、1000μm以下が好ましく、500μm以下がより好ましく、200μm以下が最も好ましいが、この幅を狭くし過ぎると、熱圧着後に第1の異方性導電膜3との電気的な接続に必要な面積が得られなくなるため、少なくとも50μm以上が好ましい。これらのことは、それぞれの第2の外部接続端子23についても、同様に適用される。
フレキシブル回路基板5の材質は、所望の可撓性を有していれば特に限定されるものではない。フレキシブル回路基板5の回路側端子51の厚さは、熱圧着の際にタッチパネル用導電フィルム1の変形を防ぐために60μm以下が好ましく、40μm以下がより好ましい。
例えば、絶縁基板11の一方の面側に、複数の第1の検出電極12と複数の第2の検出電極21とが層間絶縁膜を介して配置されると共に絶縁基板11の同じ面側に第1の引き回し配線13および第2の引き回し配線22が配置され、さらに第1の外部接続端子14および第2の外部接続端子23が配置される構成とすることもできる。
また、2枚基板の構成とすることもできる。すなわち、第1の絶縁基板の表面上に複数の第1の検出電極12と第1の引き回し配線13と第1の外部接続端子14を配置し、第2の絶縁基板の表面上に複数の第2の検出電極21と第2の引き回し配線22と第2の外部接続端子23を配置し、これら第1の絶縁基板および第2の絶縁基板を、互いに重ね合わせて使用することもできる。
実施の形態1では、図3に示したように回路側端子51は矩形状であったが、必ずしも矩形状である必要はなく、図7に示されるように台形状であっても良い。
このように回路側端子61が台形状であっても、重複領域Sの第1の端部E1の第1の幅W1が、第1の外部接続端子14の第2の幅W2よりも小さい値に設定されることで、熱圧着の際に第1の外部接続端子14に破断部Bが生じても、第1の外部接続端子14が残存部15を有して電流の経路Rが確保されるので、第1の引き回し配線13と回路側端子61は、電気的に接続される。
また、第2の端部E2の第3の幅W3が、第1の外部接続端子14の第4の幅W4よりも小さい値に設定されることで、第1の引き回し配線13との接続部Jが第1の外部接続端子14のいずれの位置に配置されていても、熱圧着の際に第1の外部接続端子14に生じる破断に関わらず、第1の引き回し配線13と回路側端子61は、電気的に接続される。
実施の形態1では、図3に示したように第1の外部接続端子14は矩形状であったが、必ずしも矩形状である必要はなく、図8に示されるように台形状であっても良い。
このように第1の外部接続端子71が台形状であっても、第1の端部E1の第1の幅W1が、第1の外部接続端子71の第2の幅W2よりも小さい値に設定されることで、熱圧着の際に第1の外部接続端子14が残存部15を有して電流の経路Rが確保されるので、第1の引き回し配線13と回路側端子51は、電気的に接続される。
また、第2の端部E2の第3の幅W3が、第1の外部接続端子71の第4の幅W4よりも小さい値に設定されることで、熱圧着の際に第1の外部接続端子14が残存部15を有して電流の経路Rが確保されるので、第1の引き回し配線13との接続部Jが第1の外部接続端子71のいずれの位置に配置されていても、熱圧着の際に第1の外部接続端子71に生じる破断に関わらず、第1の引き回し配線13と回路側端子51は、電気的に接続される。
なお、第1の外部接続端子71の形状は、所望の導電性を有するものであれば特に矩形状や台形状に限定されず、櫛形状または楔形状とすることもできる。
実施の形態1では、図3に示したように回路側端子51は矩形状であったが、必ずしも矩形状である必要はなく、図9に示されるように第2の方向D2に延びる複数の端子分岐部Cを有するような櫛形状であっても良い。
回路側端子81の複数の端子分岐部Cと第1の異方性導電膜3が形成する複数の重複領域Sは、第2の方向D2の複数の第1の端部E1と第2の端部E2を有している。それぞれの第1の端部E1は、第1の方向D1に配列され且つ第1の外部接続端子14と第1の引き回し配線13との接続部J側に位置し、第1の方向D1の第1の分岐幅W5A、W5B、W5Cを有している。
そして、第1の分岐幅W5A、W5B、W5Cの和W5は、第2の幅W2よりも小さい値に設定されている。
そして、第2の分岐幅W6A、W6B、W6Cの和W6は、第4の幅W4よりも小さい値に設定されている。
また、第2の分岐幅W6A、W6B、W6Cの和W6が、第1の外部接続端子14の第4の幅W4よりも小さい値に設定されることで、実施の形態1〜3と同様に、第1の引き回し配線13との接続部Jが第1の外部接続端子14のいずれの位置に配置されていても、熱圧着の際に第1の外部接続端子14に生じる破断に関わらず、第1の引き回し配線13と回路側端子81は、電気的に接続される。
A3=((W5A+W6A)+(W5B+W6B)+(W5C+W6C))×L/2
と表され、第1の異方性導電膜3と第1の外部接続端子14とが重複する領域の面積であるA2との比(A3/A2)は、95%〜20%となることが好ましく、90%〜35%となることがより好ましく、85%〜50%となることが最も好ましい。
以下に、各工程に関して説明する。
工程(1)は、絶縁基板11の両面に、ハロゲン化銀とバインダーとを含有する感光性層を形成する工程である。
感光性層を形成する方法は特に制限されないが、生産性の点から、ハロゲン化銀およびバインダーを含有する感光性層形成用組成物を絶縁基板11に接触させ、絶縁基板11の両面上に感光性層を形成する方法が好ましい。
以下に、上記方法で使用される感光性層形成用組成物の態様について詳述した後、工程の手順について詳述する。
ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。ハロゲン化銀としては、例えば、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらに臭化銀や塩化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。
使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒(例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等)、イオン性液体、またはこれらの混合溶媒を挙げることができる。
感光性層形成用組成物と絶縁基板11とを接触させる方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、感光性層形成用組成物を絶縁基板11に塗布する方法や、感光性層形成用組成物中に絶縁基板11を浸漬する方法などが挙げられる。
工程(2)は、上記工程(1)で得られた感光性層をパターン露光した後、現像処理することにより、第1の検出電極12、第1の引き回し配線13および第1の外部接続端子14、並びに、第2の検出電極21、第2の引き出し配線22および第2の外部接続端子23を形成する工程である。
まず、以下では、パターン露光処理について詳述し、その後現像処理について詳述する。
感光性層に対してパターン状の露光を施すことにより、露光領域における感光性層中のハロゲン化銀が潜像を形成する。この潜像が形成された領域は、後述する現像処理によって金属細線を形成する。一方、露光がなされなかった未露光領域では、後述する定着処理の際にハロゲン化銀が溶解して感光性層から流出し、透明な膜が得られる。
露光の際に使用される光源は特に制限されず、可視光線、紫外線などの光、または、X線などの放射線などが挙げられる。
パターン露光を行う方法は特に制限されず、例えば、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。なお、パターンの形状は特に制限されず、形成したい金属細線のパターンに合わせて適宜調整される。
現像処理の方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
現像処理の際に使用される現像液の種類は特に制限されないが、例えば、PQ現像液、MQ現像液、MAA現像液等を用いることもできる。市販品では、例えば、富士フイルム社処方のCN−16、CR−56、CP45X、FD−3、パピトール、KODAK社処方のC−41、E−6、RA−4、D−19、D−72等の現像液、またはそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リス現像液を用いることもできる。
(下塗り層形成工程)
絶縁基板11とハロゲン化銀乳剤層との密着性に優れる理由から、上記工程(1)の前に、絶縁基板11の表面に上述した所定の化合物を含む下塗り層を形成する工程を実施することが好ましい。
(アンチハレーション層形成工程)
金属細線12aおよび21aの細線化の観点で、上記工程(1)の前に、絶縁基板11の両面にアンチハレーション層を形成する工程を実施することが好ましい。
(ハロゲン化銀乳剤の調製)
38℃、pH4.5に保たれた下記1液に、下記の2液および3液の各々90%に相当する量を攪拌しながら同時に20分間にわたって加え、0.16μmの核粒子を形成した。続いて下記4液および5液を8分間にわたって加え、さらに、下記の2液および3液の残りの10%の量を2分間にわたって加え、0.21μmまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム0.15gを加え、5分間熟成し粒子形成を終了した。
水 750ml
ゼラチン 9g
塩化ナトリウム 3g
1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−チオン 20mg
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 10mg
クエン酸 0.7g
2液:
水 300ml
硝酸銀 150g
3液:
水 300ml
塩化ナトリウム 38g
臭化カリウム 32g
ヘキサクロロイリジウム(III)酸カリウム
(0.005%KCl 20%水溶液) 8ml
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
(0.001%NaCl 20%水溶液) 10ml
4液:
水 100ml
硝酸銀 50g
5液:
水 100ml
塩化ナトリウム 13g
臭化カリウム 11g
黄血塩 5mg
上記乳剤に1,3,3a,7−テトラアザインデン1.2×10−4モル/モルAg、ハイドロキノン1.2×10−2モル/モルAg、クエン酸3.0×10−4モル/モルAg、2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジンナトリウム塩0.90g/モルAgを添加し、クエン酸を用いて塗布液pHを5.6に調整して、感光性層形成用組成物を得た。
絶縁基板にコロナ放電処理を施した後、絶縁基板の両面に、下塗層として厚み0.1μmのゼラチン層、さらに下塗層上に光学濃度が約1.0で現像液のアルカリにより脱色する染料を含むアンチハレーション層を設けた。上記アンチハレーション層の上に、上記感光性層形成用組成物を塗布し、さらに厚み0.15μmのゼラチン層を設け、表面に感光性層が形成された絶縁基板を得た。表面に感光性層が形成された絶縁基板をフィルムAとする。形成された感光性層は、銀量6.0g/m2、ゼラチン量1.0g/m2であった。
上記フィルムAの表面に、第1の検出電極12、第1の引き回し配線13、第1の外部接続端子14のパターンに対応したフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。露光後、下記の現像液で現像し、さらに定着液(商品名:CN16X用N3X−R、富士フィルム社製)を用いて現像処理を行った。さらに、純水でリンスし、乾燥することで、両面にAg線からなる導電部材とゼラチン層とが形成された絶縁基板を得た。ゼラチン層はAg線間に形成されていた。得られたフィルムをフィルムBとする。
現像液1リットル(L)中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン 0.037mol/L
N−メチルアミノフェノール 0.016mol/L
メタホウ酸ナトリウム 0.140mol/L
水酸化ナトリウム 0.360mol/L
臭化ナトリウム 0.031mol/L
メタ重亜硫酸カリウム 0.187mol/L
上記フィルムBに対して、120℃の過熱蒸気槽に130秒間静置して、加熱処理を行った。加熱処理後のフィルムをフィルムCとする。このフィルムCがタッチパネル用導電フィルムである。
そして、作製されたタッチパネル用導電フィルムに対し、異方性導電膜(デクセリアルズ株式会社製CP920CM−25AC)を介してフレキシブル回路基板を140℃、3MPaで10秒間の熱圧着をして、タッチパネル用導電フィルムの10個の第1の外部接続端子14をフレキシブル回路基板の10個の回路側端子に接続した、実施例1のテストピースを100個作製した。なお、図3に示した寸法について、第1の幅W1=0.40mm、第2の幅W2=0.50mm、第3の幅W3=0.50mm、第4の幅W4=0.50mm、異方性導電膜の第2の方向D2の長さL=1.5mmとした。また、それぞれの第1の外部接続端子14の第2の方向D2の長さは、4.0mmとした。それぞれのテストピースは、10個の第1の外部接続端子14と対応する第1の引き回し配線13を有し、100個のテストピースが有する第1の外部接続端子14の合計は、1000個となる。
作成したテストピースに対して、JIS C 60068−2−14に基づき、高温側は85℃を10分間、低温側は−40℃を10分間、温度変化率は15℃/分という条件で、500サイクルの温度変化試験を行った。試験後に、合計1000個の第1の外部接続端子14のうち、フレキシブル回路基板の回路側端子とこれに対応する第1の引き回し配線13との間の導通状態が維持されているものの個数Pを計測し、個数Pから、以下の計算式で導電得率Mを計算した。
M=P/(10×100)×100
なお、接続部Jを介して導通した外部接続端子14と第1の引き回し配線13の個数Pは、PICOTEST製M3500A 6 1/2 Digits Standard DMMを使用して測定した。
第1の幅W1=0.08mm、第2の幅W2=0.10mm、第3の幅W3=0.10mm、第4の幅W4=0.10mmとした以外は、実施例1と同様の方法により、実施例2のテストピースをそれぞれ作製した。
第1の幅W1=0.40mm、第2の幅W2=0.50mm、第3の幅W3=0.40mm、第4の幅W4=0.50mmとした以外は、実施例1と同様の方法により、実施例3のテストピースをそれぞれ作製した。
第1の幅W1=0.08mm、第2の幅W2=0.10mm、第3の幅W3=0.08mm、第4の幅W4=0.10mmとした以外は、実施例1と同様の方法により、実施例4のテストピースをそれぞれ作製した。
第1の幅W1=0.50mm、第2の幅W2=0.50mm、第3の幅W3=0.50mm、第4の幅W4=0.50mmとした以外は、実施例1と同様の方法により、比較例1のテストピースをそれぞれ作製した。
図10(B)に示されるように、それぞれの第1の外部接続端子14と第1の引き回し配線13の接続部Jが第2の方向D2に同一の位置に配置された以外は、比較例1と同様の方法により、比較例2のテストピースをそれぞれ作製した。
第1の幅W1=0.10mm、第2の幅W2=0.10mm、第3の幅W3=0.10mm、第4の幅W4=0.10mmとした以外は、比較例2と同様の方法により、比較例1のテストピースをそれぞれ作製した。
タッチパネルが通常使用される環境と比較して極めて過酷な環境下で温度変化試験を行っているため、実施例1〜4で得られた80%以上の導電得率Mは、十分に高い信頼性でタッチパネル用導電フィルムの第1の外部接続端子14とフレキシブル回路基板の回路側端子とが接続されていることを示している。
これに対し、比較例1〜3では、導電得率Mが60%以下に留まり、タッチパネル用導電フィルムの第1の外部接続端子14とフレキシブル回路基板の回路側端子との間に信頼性のある接続がなされなかったものと推測される。
これは、第1の幅W1と第2の幅W2が同じ値に設定され、且つ、接続部Jが第2の方向D2に互い違いに配置されると、重複領域の一対の端部のうちどちらに圧力が偏っても、破断部が第1の外部接続端子14の全幅に渡って分断された第1の外部接続端子14が発生したためであると考えられる。
Claims (10)
- 異方性導電膜を介してタッチパネル用導電フィルムの複数の外部接続端子をフレキシブル回路基板の複数の回路側端子に接続するタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造であって、
前記複数の外部接続端子および前記複数の回路側端子は、それぞれ第1の方向に配列されると共に互いに少なくとも一部が重なるように配置され、
前記タッチパネル用導電フィルムは、複数の検出電極と、前記複数の検出電極をそれぞれ前記複数の外部接続端子に接続する複数の引き回し配線を有し、
前記複数の外部接続端子は、前記複数の引き回し配線との接続部が互いに異なる位置に配置された少なくとも2つの前記複数の外部接続端子を有し、
前記異方性導電膜は、前記第1の方向に延びると共に前記複数の外部接続端子および前記複数の回路側端子の間に配置され、
それぞれの前記外部接続端子に対して、前記回路側端子と前記異方性導電膜との重複領域が前記第1の方向に直交する第2の方向の一対の端部を有すると共に、前記一対の端部のうち前記外部接続端子と前記引き回し配線との接続部側に位置する第1の端部の前記第1の方向の幅W1が、前記第1の端部に重なる前記外部接続端子の前記第1の方向の幅W2よりも小さいことを特徴とするタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造。 - それぞれの前記外部接続端子に対して、前記一対の端部のうち前記外部接続端子と前記引き回し配線との接続部側とは反対側に位置する第2の端部の前記第1の方向の幅W3が、前記第2の端部に重なる前記外部接続端子の前記第1の方向の幅W4よりも小さい請求項1に記載のタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造。
- 前記複数の外部接続端子は、それぞれ矩形状を有し、
前記少なくとも2つの前記複数の外部接続端子は、矩形の互いに異なる辺に前記複数の引き回し配線が接続されている請求項1または2に記載のタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造。 - 前記少なくとも2つの前記複数の外部接続端子は、矩形の互いに対向する辺に前記引き回し配線が接続されている請求項3に記載のタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造。
- 前記複数の回路側端子は、それぞれ第2の方向に延びる複数の端子分岐部を有し、
前記複数の端子分岐部の前記第1の端部における前記第1の方向の幅の和W5が、前記第1の端部に重なる前記外部接続端子の前記第1の方向の幅W2よりも小さい請求項1〜4のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造。 - 前記複数の端子分岐部の前記第2の端部における前記第1の方向の幅の和W6が、前記第2の端部に重なる前記外部接続端子の前記第1の方向の幅W4よりも小さい請求項5に記載のタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造。
- 前記タッチパネル用導電フィルムは50μm以下の厚さの絶縁基板を有し、前記複数の検出電極および前記複数の引き回し配線は、前記絶縁基板の表面上に配置される請求項1〜6のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造。
- 前記複数の検出電極は、メッシュ状の金属細線から形成される請求項1〜7のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造。
- 前記金属細線は、金、銀、銅の少なくとも1つから形成される請求項8に記載のタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造。
- 請求項1〜9のいずれか一項に記載のタッチパネル用導電フィルムの端子接続構造を有するタッチパネル。
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