JPWO2016143655A1 - 1,2,4−オキサジアゾール誘導体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、チオフェン−2−カルボアルデヒドとベンズアミドオキシムとを、トルエン、モレキュラーシーブおよびピペリジンの存在下に反応させて、3−フェニル−5−(チオフェン−2−イル)−4,5−ジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾールを得たことが記載されている(特許文献2参照)。
[1] 下式(B)で表される化合物と下式(C)で表される化合物とを、塩基性化合物の存在下で反応させることを特徴とする、下式(A)で表される1,2,4−オキサジアゾール誘導体の製造方法。
[2] 下式(B)で表される化合物と下式(C)で表される化合物とを塩基性化合物の存在下で反応させて、下式(A)で表される1,2,4−オキサジアゾール誘導体とともに下式(G)で表される化合物を含む反応生成物を得て、当該反応生成物から下式(G)で表される化合物を分離して除くことを特徴とする、下式(A)で表される1,2,4−オキサジアゾール誘導体の製造方法。
[3] 式(G)で表される化合物を酸化反応に供して式(B)で表される化合物を得て、当該化合物を式(C)で表される化合物と反応させる、[2]に記載の製造方法。
[4] 式(B)で表される化合物が、下式(B1)で表される化合物であり、かつ式(A)で表される1,2,4−オキサジアゾール誘導体が、下式(A1)で表される化合物である、[1]〜[3]のいずれか1項に記載の製造方法。
[5] Arが、フェニル基又は置換基を有するフェニル基である、[1]〜[4]のいずれか1項に記載の製造方法。
[6] 式(B)で表される化合物と式(C)で表される化合物との反応を、溶媒の存在下に行う、[1]〜[5]のいずれか1項に記載の製造方法。
[7] 式(B)で表される化合物と式(C)で表される化合物との反応を、脱水しながら行う、[1]〜[6]のいずれか1項に記載の製造方法。
[8] 式(C)で表される化合物の1モルに対して、式(B)で表される化合物を、1モルを超える量で反応させる、[1]〜[7]のいずれか1項に記載の製造方法。
[9] 塩基性化合物が、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物からなる群から選択される少なくとも1種の無機塩基性化合物である、[1]〜[8]のいずれか1項に記載の製造方法。
[10] 無機塩基性化合物を、式(C)で表される化合物の1モルに対して、2モル以下使用する、[9]に記載の製造方法。
[11] 塩基性化合物が、有機塩基性化合物であり、有機塩基性化合物を、式(C)で表される化合物の1モルに対して、0.3モル以上使用する、[1]〜[8]のいずれか1項に記載の製造方法。
[12] 下式(F)で表される化合物とヒドロキシルアミンとの反応により、式(C)で表される化合物を得た後、当該化合物を式(B)で表される化合物と反応させる、[1]〜[11]のいずれか1項に記載の製造方法。
[13] 式(C)で表される化合物を脱水処理した後に、式(B)で表される化合物と反応させる、[1]〜[12]のいずれか1項に記載の製造方法。
[14] 式(F)で表される化合物とヒドロキシルアミンとを溶媒中で反応させて、式(C)で表される化合物と溶媒との混合物を得て、当該混合物を式(B)で表される化合物と反応させる、[12]または[13]に記載の製造方法。
[15] 下式(B)で表される化合物と下式(C)で表される化合物とを、塩基性化合物の存在下で反応させることを特徴とする、下式(G)で表される化合物の製造方法。
本明細書において、「炭素数1〜5のアルキル基」とは、直鎖状または分岐鎖状の1〜5個の炭素原子を有する飽和炭化水素基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、1−エチルプロピル等が挙げられる。
本明細書において、「炭素数1〜3のアルキル基」とは、直鎖状または分岐鎖状の1〜3個の炭素原子を有する飽和炭化水素基を意味し、例えば、メチル、エチル、プロピルおよびイソプロピルが挙げられる。
本明細書において、「炭素数2〜5のアルキニル基」とは、少なくとも1個の三重結合を有し、かつ2〜5個の炭素原子を有する直鎖状または分岐鎖状の不飽和炭化水素基を意味し、例えば、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチニル、1−ペンチニル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、4−ペンチニル等が挙げられる。
本明細書において、「炭素数1〜3のアルコキシ基」とは、「炭素数1〜3のアルキル基」で置換されたオキシ基を意味し、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシおよびイソプロポキシが挙げられる。
本明細書において、「炭素数1〜3のハロアルキル基」とは、1個以上(好ましくは1ないし5個、より好ましくは1ないし3個)の「ハロゲン原子」で置換された「炭素数1〜3のアルキル基」を意味し、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、1−フルオロエチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、1−フルオロプロピル、2−フルオロプロピル、3−フルオロプロピル、クロロメチル、2−クロロエチル、3−クロロプロピル、ブロモメチル等が挙げられる。
本明細書において、「炭素数1〜3のハロアルコキシ基」とは、1個以上(好ましくは1ないし5個、より好ましくは1ないし3個)の「ハロゲン原子」で置換された「炭素数1〜3のアルコキシ基」を意味し、例えば、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、1−フルオロエトキシ、2−フルオロエトキシ、2,2−ジフルオロエトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、1−フルオロプロポキシ、2−フルオロプロポキシ、3−フルオロプロポキシ、クロロメトキシ、2−クロロエトキシ、3−クロロプロポキシ、ブロモメトキシ等が挙げられる。
本明細書において、「炭素数6〜10のアリール基」とは、6〜10個の炭素原子を有する芳香族炭化水素基を意味し、例えば、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル等が挙げられる。
本明細書において、「ヘテロアリール基」とは、環形成原子として、炭素原子以外に、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子からなる群から選択される少なくとも1つ(好ましくは1ないし4個)のヘテロ原子を有する5ないし12員(好ましくは5ないし10員)の芳香族複素環基を意味する。当該「ヘテロアリール基」の好適な例としては、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、1,2,4−オキサジアゾリル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、トリアジニル等の5ないし6員単環式芳香族複素環基;
ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジニル、チエノピリジニル、フロピリジニル、ピロロピリジニル、ピラゾロピリジニル、オキサゾロピリジニル、チアゾロピリジニル、イミダゾピラジニル、イミダゾピリミジニル、チエノピリミジニル、フロピリミジニル、ピロロピリミジニル、ピラゾロピリミジニル、オキサゾロピリミジニル、チアゾロピリミジニル、ピラゾロトリアジニル、ナフト[2,3−b]チエニル、フェノキサチイニル、インドリル、イソインドリル、1H−インダゾリル、プリニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル等の8ないし12員縮合多環式(好ましくは2または3環式)芳香族複素環基が挙げられる。
式(B)において、W、X、Y及びZはそれぞれ独立して、−S−、−N=、−CH=、又は−CR=を表し、かつW、X、Y及びZから選ばれる1つは−S−を表す。即ち、化合物Bにおける5員環部分は、環形成原子として、少なくとも1個の炭素原子及び1個の硫黄原子を必須とし、かつ任意に窒素原子を含んでいてもよい5員芳香族性ヘテロ環である。化合物Bは、当該5員芳香族性ヘテロ環の環形成炭素原子の1つにホルミル基が結合した構造を有する。また、5員芳香族性ヘテロ環の他の環形成炭素原子には、水素原子又は置換基(R)が結合しており、水素原子が結合するのが好ましい。化合物Bにおいては、X又はWが−S−であることが好ましい。
化合物Cは、以下に示す式(C’)で表される化合物と平衡状態であるが、本明細書では、以下、これらをまとめて化合物Cと記す。なお、式(C’)中の波線は、OHの二重結合に関する立体配置がEであってもZであってもよいことを示す。
「置換基を有する芳香族基」における置換基は、本発明の反応に影響を与えない1価の基であれば特に限定されない。置換基としては、例えば、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜5のアルケニル基、炭素数2〜5のアルキニル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数1〜5のハロアルキル基、炭素数1〜5のハロアルコキシ基、炭素数2〜6のアシル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、スルファニル基、アミノ基、炭素数1〜5のアルキルスルホニル基等が挙げられる。好ましい置換基としては、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、炭素数1〜3のハロアルキル基、炭素数1〜3のハロアルコキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基が挙げられ、メチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ハロゲン原子、シアノ基及びホルミル基がより好ましく、メチル基及びハロゲン原子が特に好ましい。
水の除去は、反応後に化合物Cを単離する方法、反応後に脱水処理を行う方法が挙げられる。
本発明の製造方法の目的化合物であるオキサジアゾール誘導体Aは、式(A)で表される化合物である。式中のAr、W、X、Y及びZの意味は前記と同じ意味であり、好ましい態様も前記と同様である。
オキサジアゾール誘導体Aは、下式(A1)で表される化合物が好ましい。式中のArは前記と同じ意味である。
本発明におけるオキサジアゾール誘導体Aの製造方法は、化合物Bと化合物Cを塩基性化合物の存在下に反応させることにより実施する。
塩基性化合物は、有機塩基性化合物であっても無機塩基性化合物であってもよい。
無機塩基性化合物を用いた場合、反応系の塩基性を高くでき、効率的に化合物Cを活性化できる為、効率的にオキサジアゾール誘導体Aを製造できる効果がある。本発明者の検討によれば、該効果は、特に、水酸化カリウムまたは炭酸カリウムに顕著に認められた。
有機塩基性化合物を用いた場合、化合物Bの1モルに対して0.2〜4モルが好ましい。また、化合物Cの1モルに対して、4モル以下が好ましく、3モル以下がより好ましく、2モル以下が更に好ましく、1.5モル以下が特に好ましい。また化合物Cの1モルに対して0.3モル以上が好ましく、0.5モル以上がより好ましく、0.7モル以上が特に好ましい。化合物Bと化合物Cのモル数が異なっている場合には、塩基性化合物の量は化合物Cを基準に決定する。有機塩基性化合物の使用量を上記の範囲とすることで副反応が抑制され、収率がより向上する傾向がある。
塩基性化合物は、そのままを用いてもよく、溶媒に溶解させて用いてもよい。該溶媒としては、後述する反応溶媒から選ばれる1又は2種以上の溶媒が挙げられる。
化合物Bと化合物Cとの反応における反応温度、反応時間、反応圧力、反応雰囲気等の反応条件は、化合物B、化合物C、塩基性化合物及び溶媒の種類等により適宜変更されうる。通常の場合、反応温度の下限は40℃が好ましく、50℃がより好ましく、90℃が更に好ましく、100℃が特に好ましい。また反応温度の上限は160℃が好ましく、140℃がより好ましく、120℃が特に好ましい。
反応温度の下限が上記であれば、反応が速やかに進行しやすい。また、反応温度の上限が上記であれば、副生成物が生じにくい。
アルコールの炭素数は、1〜8が好ましく、2〜8がより好ましく、4〜6がさらに好ましい。また、アルコールは反応効率の観点から第3級アルコールが好ましく、t−アミルアルコールが特に好ましい。
化合物Bと化合物Cとの反応で生成する水は、後述する理由から除去することが好ましいため、溶媒は水と共沸混合物を形成できる溶媒であることが好ましく、水と共沸混合物を形成できるアルコールであることがより好ましい。具体的には、溶媒としてはエタノール、t−ブタノール及びt−アミルアルコールからなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
また、後述する化合物Gの酸化工程に、化合物Bと化合物Cとの反応で使用する溶媒が混入する可能性があるが、当該酸化工程での副反応を抑制する観点から、3級アルコールがより好ましい。
溶媒の量は、化合物Bの体積に対して、0.2〜15倍量が好ましい。また化合物Cの体積に対して0.2〜15倍量が好ましく、1〜10倍量が特に好ましい。化合物Bと化合物Cの体積が異なる場合には、溶媒の量は化合物Cの量を基準に決定することが好ましい。
なお、このような化合物Dと化合物Bの酸化還元反応は、例えばカニッツァロ反応型の反応機構で進行すると考えられる。
酸化剤としては、過酸化水素、二酸化マンガン、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DDQ)、次亜塩素酸、ペルオキソ二硫酸カリウム、酸素、塩素等を挙げることができる。
本発明においては、前述したように化合物Bもまた、酸化作用を有することから、酸化剤の使用は必須ではない。
(1)化合物Bと化合物Cとを塩基性化合物の存在下で反応させるジオキサゾール誘導体Aの製造方法。
(2)化合物Bと化合物Cとを塩基性化合物の存在下で反応させてジオキサゾール誘導体Aと化合物Gを含む反応生成物を得て、当該反応生成物から、ジオキサゾール誘導体A及び化合物Gをそれぞれ単離する、ジオキサゾール誘導体A及び化合物Gの製造方法。
(3)(2)の方法における化合物Gを酸化して化合物Bを得て、当該化合物Bを化合物Cと塩基性化合物の存在下で反応させるジオキサゾール誘導体Aの製造方法。
(4)前記(1)〜(3)における化合物Cが、化合物Fとヒドロキシルアミンを反応させることにより製造される、ジオキサゾール誘導体Aの製造方法。
好ましい態様の概念を下式に示した。
各実施例において、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用いた分析は、以下の条件により行った。
HPLCによる定量は以下の条件で行った。
装置:Agilent Technologies 1260 Infinity
カラム:YMC−Pack ODS−AM AM12S05−1546WT(150×4.6mmI.D.,S−5μm,12nm)
流量:0.6ml/min
溶離液:0.1%リン酸緩衝液(0.1%NEt3+H3PO4aq):CH3CN=50:50〜20:80(0−20min)、20:80(20−30min)
検出器:ダイオードアレイ検出器、測定波長:254nm
ガラス製ナス型フラスコにチオフェン−2−カルボアルデヒド(2−ホルミルチオフェン:1.02g、9.1mmol)及びエタノール(14mL;沸点78℃)を入れて混合液を得た。混合液にベンズアミドオキシム(1.25g、9.2mmol)及び炭酸カリウム(0.13g、0.94mmol)を加え、撹拌しながら30.5時間加熱還流した。析出した固体を濾取し、エタノールと水で洗浄することで、下式で表される3−フェニル−5−(チオフェン−2−イル)−1,2,4−オキサジアゾール(以下、化合物A−1と記す。)を収率33%(チオフェン−2−カルボアルデヒドの量を基準とした。)で得た。
ガラス製ナス型フラスコにチオフェン−2−カルボアルデヒド(2.02g、18.0mmol)及びエタノール(9mL)を入れて混合液を得た。混合液にベンズアミドオキシム(1.23g、9.0mmol)及び水酸化カリウム(0.053g、0.95mmol)を加え、撹拌しながら30時間加熱還流した。HPLCによる定量の結果、化合物A−1が収率73%(ベンズアミドオキシムの量を基準とした。)で得られた。
ガラス製ナス型フラスコにチオフェン−2−カルボアルデヒド(2.12g、18.9mmol)及びジメチルスルホキシド(9mL)を入れて混合液を得た。混合液にベンズアミドオキシム(1.23g、9.03mmol)及び水酸化カリウム(0.058g、1.03mmol)を加え、撹拌しながら78℃で30時間加熱した。HPLCによる定量の結果、化合物A−1が収率66%(ベンズアミドオキシムの量を基準とした。)で得られた。
ガラス製ナス型フラスコにチオフェン−2−カルボアルデヒド(2.12g、18.9mmol)及びスルホラン(9mL)を入れて混合液を得た。混合液にベンズアミドオキシム(1.23g、9.00mmol)及び水酸化カリウム(0.12g、2.13mmol)を加え、撹拌しながら78℃で15時間加熱した。HPLCによる定量の結果、化合物A−1が収率90%(ベンズアミドオキシムの量を基準とした。)で得られた。
ガラス製ナス型フラスコにチオフェン−2−カルボアルデヒド(42.7g、380mmol)及びt−アミルアルコール(39.9g)を入れて混合液を得た。混合液にベンズアミドオキシム(24.5g、180mmol)及び水酸化カリウム(2.42g、43.1mmol)を加え、モレキュラーシーブによる脱水処理をしながら1.5時間加熱還流した。HPLCによる定量の結果、化合物A−1が収率95%(ベンズアミドオキシムの量を基準とした。)で得られた。
ガラス製ナス型フラスコにチオフェン−2−カルボアルデヒド(42.0g、375mmol)及びt−アミルアルコール(39.9g;沸点102℃)を入れて混合液を得た。混合液にベンズアミドオキシム(24.4g、179mmol)及び炭酸カリウム(4.98g、36.0mmol)を加え、モレキュラーシーブによる脱水処理をしながら3時間加熱還流した。HPLCによる定量の結果、化合物A−1が収率96%(ベンズアミドオキシムの量を基準とした。)で得られた。
ガラス製ナス型フラスコにチオフェン−2−カルボアルデヒド(21.1g、188mmol)及びt−アミルアルコール(19.9g)を入れて混合液を得た。混合液にベンズアミドオキシム(12.2g、89.6mmol)及び水酸化カリウム(1.20g、21.4mmol)を加え、撹拌しながら30時間加熱還流した。HPLCによる定量の結果、化合物A−1が収率94%(ベンズアミドオキシムの量を基準とした。)で得られた。
ガラス製ナス型フラスコにチオフェン−2−カルボアルデヒド(2.12g、18.9mmol)及びスルホラン(10.8g)を入れて混合液を得た。混合液にベンズアミドオキシム(1.22g、8.96mmol)及び水酸化カリウム(0.593g、10.6mmol)を加え、撹拌しながら78℃で4時間加熱した。HPLCによる定量の結果、化合物A−1が収率55%(ベンズアミドオキシムの量を基準とした。)で得られた。
ガラス製ナス型フラスコにベンズアミドオキシム(297g、2.18mol)、水酸化カリウム(11.7g、0.208mol)及びt−アミルアルコール(1.22kg)を入れて混合液を得た。撹拌しながら加熱還流して共沸脱水処理を行った。得られた混合液にチオフェン−2−カルボアルデヒド(446g、3.97mol)を加え、共沸脱水しながら3時間加熱還流した。HPLCによる定量の結果、化合物A−1が収率100%(チオフェン−2−カルボアルデヒドの半分の量を基準とした;ベンズアミドオキシムの量を基準とした収率で91%)で得られた。
ガラス製ナス型フラスコにチオフェン−2−カルボアルデヒド(2.12g、18.9mmol)及びスルホラン(10.8g;8.6ml)を入れて混合液を得た。混合液にベンズアミドオキシム(1.22g、8.99mmol)及び水酸化カリウム(0.296g、5.27mmol)を加え、撹拌しながら78℃で4時間加熱した。HPLCによる定量の結果、化合物A−1が収率84%(ベンズアミドオキシムの量を基準とした。)で得られた。
実施例9で得られた化合物A−1およびチオフェン−2−メタノールを含む溶液をろ別して、化合物A−1を97%(実施例9で使用したチオフェン−2−カルボアルデヒドの半分の量を基準とした。)の収率で得た。また、チオフェン−2−メタノールを反応使用時のチオフェン−2−カルボアルデヒド基準で46%回収した。回収したチオフェン−2−メタノールに対して次亜塩素酸ナトリウムを用いた酸化反応によりチオフェン−2−カルボアルデヒドを収率87%で得られた。
ガラス製ナス型フラスコにベンゾニトリル(451g、4.38mol)及びt−アミルアルコール(951g)、水(241g)を入れて混合液を得た。混合液に50%ヒドロキシルアミン水溶液(360g、5.45mol)を加え、撹拌しながら50℃で3時間加熱して、ベンズアミドオキシムを含む溶液を得た。HPLCによる定量の結果、下式(C−1)で表されるベンズアミドオキシムが収率100%で得られた。
実施例9のベンズアミドオキシムを、得られたベンズアミドオキシム溶液に変更して、実施例9と同様の反応を行った。生成物をHPLCで分析した結果、化合物A−1が収率100%(チオフェン−2−カルボアルデヒドの半分の量を基準とした。)で得られた。
実施例11で得られたチオフェン−2−カルボアルデヒドを実施例12の市販品のそれと変更して実施例12と同様の反応を行った。生成物をHPLCで分析した結果、化合物A−1が収率100%(チオフェン−2−カルボアルデヒドの半分の量を基準とした。)で得られた。
塩基性化合物としてピペリジンを用い、溶媒の種類と、それぞれの仕込比率、反応時間を変更する以外は、実施例10と同様にして反応を実施した。結果をまとめて、表1に示す。
Claims (15)
- 下式(B)で表される化合物と下式(C)で表される化合物とを、塩基性化合物の存在下で反応させることを特徴とする、下式(A)で表される1,2,4−オキサジアゾール誘導体の製造方法。
- 下式(B)で表される化合物と下式(C)で表される化合物とを塩基性化合物の存在下で反応させて、下式(A)で表される1,2,4−オキサジアゾール誘導体とともに下式(G)で表される化合物を含む反応生成物を得て、当該反応生成物から下式(G)で表される化合物を分離して除くことを特徴とする、下式(A)で表される1,2,4−オキサジアゾール誘導体の製造方法。
- 式(G)で表される化合物を酸化反応に供して式(B)で表される化合物を得て、当該化合物を式(C)で表される化合物と反応させる、請求項2に記載の製造方法。
- 式(B)で表される化合物が、下式(B1)で表される化合物であり、かつ式(A)で表される1,2,4−オキサジアゾール誘導体が、下式(A1)で表される化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
- Arが、フェニル基又は置換基を有するフェニル基である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
- 式(B)で表される化合物と式(C)で表される化合物との反応を、溶媒の存在下に行う、請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
- 式(B)で表される化合物と式(C)で表される化合物との反応を、脱水しながら行う、請求項1〜6のいずれか1項に記載の製造方法。
- 式(C)で表される化合物の1モルに対して、式(B)で表される化合物を、1モルを超える量で反応させる、請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法。
- 塩基性化合物が、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物からなる群から選択される少なくとも1種の無機塩基性化合物である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の製造方法。
- 無機塩基性化合物を、式(C)で表される化合物の1モルに対して、2モル以下使用する、請求項9に記載の製造方法。
- 塩基性化合物が、有機塩基性化合物であり、有機塩基性化合物を、式(C)で表される化合物の1モルに対して、0.3モル以上使用する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の製造方法。
- 下式(F)で表される化合物とヒドロキシルアミンとの反応により、式(C)で表される化合物を得た後、当該化合物を式(B)で表される化合物と反応させる、請求項1〜11のいずれか1項に記載の製造方法。
- 式(C)で表される化合物を脱水処理した後に、式(B)で表される化合物と反応させる、請求項1〜12のいずれか1項に記載の製造方法。
- 式(F)で表される化合物とヒドロキシルアミンとを溶媒中で反応させて、式(C)で表される化合物と溶媒との混合物を得て、当該混合物を式(B)で表される化合物と反応させる、請求項12または13に記載の製造方法。
- 下式(B)で表される化合物と下式(C)で表される化合物とを、塩基性化合物の存在下で反応させることを特徴とする、下式(G)で表される化合物の製造方法。
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