JPWO2016132401A1 - 転写形感光性屈折率調整フィルム、屈折率調整パターンの形成方法及び電子部品 - Google Patents
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Abstract
Description
また、工程数は増えるが、特許文献3の手法に特許文献2の手法を組み合わせようと、基材上にIM層を設け、該IM層上に透明電極パターンを形成後、さらに該透明電極パターン上にIM層を作成しようと試みても、透明電極パターンの形成されている表面に凹凸があるため、IM層を均一に形成できないという課題があった。
さらに、特許文献4の手法では、金属酸化物超微粒子である酸化ジルコニウム分散液をバインダー樹脂と混合し塗布することで高屈折率を発現しているが、超微粒子分散系は均一な膜を形成する観点や環境適応性の観点において改善の余地がある。
1.支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備え、
前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が主に有機物からなる転写形感光性屈折率調整フィルム。
2.前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が実質的に有機物のみからなる1に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
3.前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が金属酸化物を実質的に含まない1に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
4.前記高屈折率層がトリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物を含む1〜3のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
5.前記高屈折率層がフルオレン骨格を有する化合物を含む1〜4のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
6.前記高屈折率層がビフェニル骨格を有する化合物を含む1〜4のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
7.前記高屈折率層がナフタレン骨格を有する化合物を含む1〜4のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
8.前記高屈折率層の波長633nmにおける屈折率が1.50〜1.90である1〜7のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
9.前記高屈折率層の膜厚が50〜1000nmである1〜8のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
10.前記感光性樹脂層がバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含む1〜9のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
11.前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物を含む10に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
12.前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有する10又は11に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
13.前記バインダーポリマーが(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸グリシジルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、及び(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を含むバインダーポリマーである10〜12のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
14.前記感光性樹脂層がリン酸エステル化合物を含む10〜13のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
15.前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層の、波長400〜700nmにおける可視光透過率の最小値が90.00%以上である1〜14のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
16.前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが30μm以下である1〜15のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
17.上記1〜16のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、
前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程と、を備える屈折率調整パターンの形成方法。
18.上記17に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「(ポリ)オキシエチレン鎖」はオキシエチレン基又はポリオキシエチレン基を意味し、「(ポリ)オキシプロピレン鎖」はオキシプロピレン基又はポリオキシプロピレン基を意味する。「A又はB」とは、AとBのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。
本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムは、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備える。そして、感光性樹脂層及び感光性樹脂層が主に有機物からなることを特徴とする。
以下、支持フィルム、感光性樹脂層、高屈折率層及び保護フィルムについて説明する。
支持フィルム10としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。
本発明において感光性樹脂層20は、主に有機物からなる。これにより、現像性が向上する。なお、本願において感光性樹脂層が主に有機物からなるとは、感光性樹脂層を形成する材料全体に占める有機物の含有率が90質量%以上(好ましくは95質量%以上、より好ましくは99質量%以上)であることを意味する。感光性樹脂層20は、実質的に有機物のみからなることがさらに好ましい。実質的に有機物のみからなるとは、具体的には、感光性樹脂層を形成する材料全体に占める無機物の含有率が0.1質量%未満である。また、感光性樹脂層20は、金属酸化物を実質的に含まないことが特に好ましい。金属酸化物を実質的に含まないとは、具体的には、感光性樹脂層を形成する材料全体に占める無機物の含有率が0.01質量%未満である。
また、有機物とは炭素Cを含む化合物群から、一般に無機物に分類されるもの(例えば、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム等の金属元素の炭酸塩、一酸化炭素、二酸化炭素等の酸化物、シアン化物など)を除いた化合物を意味する。例えば、オルガノシロキサンは有機物であり、金属酸化物は無機物である。
これらの中でも、アルカリ現像性(特に無機アルカリ水溶液に対する)、パターニング性、透明性の観点から、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸グリシジルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルエステルから選択される化合物に由来する構造単位を含むバインダーポリマーが好ましい。
R16及びR17は、それぞれ炭素数1〜12のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。
R19はアセタール結合を有する有機基であり、後述する式(3−1)に示す化合物が有するR19に対応する置換基であることが好ましい。
R20及びR21は、それぞれ炭素数1〜12のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
R22は、炭素数1〜6のアルキル基を示す。nは0〜4の整数を示す。R22が複数の場合、複数のR22はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析における安息香酸の検出ピーク面積は、ヘプタノニトリルの検出ピーク面積に対して、1〜10%の範囲で検出される。
測定装置:GC/MS QP−2010(株式会社島津製作所製、製品名)
カラム:HP−5MS(アジレント・テクノロジー株式会社製、製品名)Oven Temp:40℃で5分間加熱後、15℃/minの割合で300℃まで昇温
キャリアーガス:ヘリウム、1.0mL/min
インターフェイス温度:280℃
イオンソース温度:250℃
サンプル注入量:0.1mL
高屈折率層は、上記の感光性樹脂層よりも屈折率が高い層である。なお、感光性樹脂層の波長633nmにおける屈折率は、通常、1.40〜1.49である。
本発明において高屈折率層30は、感光性樹脂層と同様に主に有機物からなる。これにより、現像性が向上する。高屈折率層30は、実質的に有機物のみからなることが好ましい。なお、「主に有機物からなる」、「実質的に有機物のみからなる」、「有機物」及び「金属酸化物を実質的に含まない」の定義は、上述した感光性樹脂層と同様である。
高屈折率層は、波長633nmの光における屈折率が1.50〜1.90であることが好ましく、1.53〜1.85であることがより好ましく、1.55〜1.75であることがさらに好ましい。高屈折率層の633nmにおける屈折率が1.50〜1.90であることにより、図2に示す積層体とした場合、ITO等の透明電極パターン50aと、感光性樹脂層20の上に使用される各種部材(例えば、モジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着するOCA)との屈折率の中間値となりやすく、ITO等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分での光学的な反射による色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を抑制できる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を抑制することが可能となる。なお、屈折率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
得られたトリアジン環を有するハイパーブランチポリマーを、フタル酸やコハク酸等で変性することにより酸価を含有させることも可能である。
具体的には、イソシアヌル酸トリアリルが好ましい。
ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。
−R2OHとしては、メチロール基、ヒドロキシエチル基が好ましい。
フルオレン骨格を有する化合物としては、9,9−ビス[4−2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン骨格を有する化合物が好ましい。上記化合物は(ポリ)オキシエチレン又は(ポリ)オキシプロピレンで変性されていてもよい。これらは、例えば、EA−200(大阪ガスケミカル株式会社製、製品名)として商業的に入手可能である。さらに、エポキシアクリレートでエポキシ変性されていてもよい。これらは、例えば、GA5000、EG200(大阪ガスケミカル株式会社製、製品名)として商業的に入手可能である。
フルオレン骨格を有する化合物を含む場合、高屈折率組成物中の(F)成分の合計量100質量部に対し、10〜100質量部含むことが好ましく、20〜90質量部含むことがより好ましく、30〜90質量部含むことがさらに好ましく、70〜90質量部含むことが特に好ましい。
また、上記の高屈折率組成物は、実質的に上述した(F)成分の少なくとも1つのみからなってもよい。即ち、本発明における高屈折率層は、実質的に(F)成分のみからなっていてもよい。
ここで「実質的」とは、組成物又は層を構成する成分の95質量%以上100質量%以下(好ましくは98質量%以上100質量%以下)が上記成分であることを意味する。
なお、金属酸化物の含有率は、原子吸光光度計(日立ハイテクノロジー株式会社製、製品名「Z−5010」)で測定することができる。
保護フィルム40としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等が挙げられる。
実施例
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表1に示す(1)を仕込み、窒素ガス雰囲気下で80℃に昇温し、反応温度を80℃±2℃に保ちながら、表1に示す(2)を4時間かけて均一に滴下した。(2)の滴下後、80℃±2℃で6時間撹拌を続け、重量平均分子量が65,000、酸価が78mgKOH/g、水酸基価が2mgKOH/gのバインダーポリマーの溶液(固形分45質量%)(A1)を得た。
重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。GPCの条件を以下に示す。
ポンプ:L−6000(株式会社日立製作所製、製品名)
カラム:Gelpack GL−R420、Gelpack GL−R430、Gelpack GL−R440(以上、日立化成株式会社製、製品名)
溶離液:テトラヒドロフラン
測定温度:40℃
流量:2.05mL/分
検出器:L−3300(RI検出器、株式会社日立製作所製、製品名)
バインダーポリマーの溶液を130℃で1時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー1gを精秤した後、このポリマーにアセトンを30g添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、0.1NのKOH水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価=10×Vf×56.1/(Wp×I)
式中、VfはKOH水溶液の滴定量(mL)を示し、Wpは測定した樹脂溶液の質量(g)を示し、Iは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合(質量%)を示す。
バインダーポリマーの溶液を130℃で1時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー1gを精秤した後、ポリマーを三角フラスコに入れ、10質量%の無水酢酸ピリジン溶液を10mL加えてこれを均一に溶解し、100℃で1時間加熱した。加熱後、水10mLとピリジン10mLを加えて100℃で10分間加熱後、自動滴定機(平沼産業株式会社製、製品名「COM−1700」)を用いて、0.5mol/Lの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行った。そして、次式により水酸基価を算出した。
水酸基価=(A−B)×f×28.05/試料(g)+酸価
式中、Aは空試験に用いた0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液の量(mL)を示し、Bは滴定に用いた0.5mol/L水酸化カリウムエタノール溶液の量(mL)を示し、fはファクターを示す。
[感光性樹脂層を形成する塗布液の作製]
表2〜4の「感光性樹脂層」に示す組成物を、撹拌器を用いて15分間混合し感光性樹脂層を形成するための塗布液を作製した。
(A)成分
(A1):モノマー配合比(メタクリル酸/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル=12/58/30(質量比))である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル/トルエン溶液、重量平均分子量65,000、酸価78mgKOH/g、水酸基価2mgKOH/g、Tg60℃
T−1420(T):ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(日本化薬株式会社製、製品名)
IRGACURE OXE 01:1,2−オクタンジオン,1−[(4−フェニルチオ)フェニル−,2−(O−ベンゾイルオキシム)](BASF株式会社製、製品名)
HAT:5−アミノ−1H−テトラゾール(東洋紡績株式会社製、製品名)
PM−21:光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル化合物(日本化薬株式会社製、製品名)
Antage W−500:2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)(川口化学株式会社製、製品名)
SH−30:オクタメチルシクロテトラシロキサン(東レ・ダウコーニング
株式会社製、製品名)
メチルエチルケトン(東燃化学株式会社製)
表2〜4の「高屈折率層」に示す成分を、撹拌機を用いて15分間混合し高屈折率層を形成するための塗布液を作製した。
(D)成分
3MT:3−メルカプト−トリアゾール(和光純薬株式会社製、製品名)
(E)成分
Phosmer−M:りん酸2−(メタクリロイルオキシ)エチル(ユニケミカル株式会社製、製品名)
(F)成分
HYPERTECH:トリアジン骨格を有するポリマー(日産化学工業株式会社製、商標名)
EA−200:ポリオキシエチレン変性9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンジアクリレート(大阪ガスケミカル株式会社製、製品名)
EA−F5503:ポリオキシエチレン変性9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンジアクリレート/ベンジルアクリレート/9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン骨格化合物の混合物(大阪ガスケミカル株式会社製、製品名)
EA−HC931:ポリオキシエチレン変性9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンジアクリレート他混合物(大阪ガスケミカル株式会社製、製品名)
OPP−1:下記式で表されるジフェニル骨格を有するモノマー(日本化薬株式会社製、製品名「OPP−1」)
OZ−S40K−AC:ジルコニア分散液(日産化学工業株式会社製、製品名「ナノユースOZ−S40K−AC」)
・その他の成分
L−7001:オクタメチルシクロテトラシロキサン(東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名)
保護フィルムとして厚さ30μmのポリプロピレンフィルム(王子エフテックス株式会社製、製品名「E−201F」)を使用し、上記で作製した高屈折率層を形成するための塗布液を保護フィルム上にダイコーターを用いて均一に塗布し、100℃の熱風滞留式乾燥機で3分間乾燥して溶剤を除去し、高屈折率層を形成した。
[高屈折率層の屈折率の測定]
高屈折率層を形成するための塗布液を厚さ0.7mmのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、100℃の熱風滞留式乾燥機で3分間乾燥して溶剤を除去し、高屈折率層を形成した。
なお、転写形感光性屈折率調整フィルムの形態における屈折率層単層の屈折率は、高屈折率層の支持フィルム側の最表面層の値とする。
高屈折率層を有する保護フィルムと、感光性樹脂層を有する支持フィルムを貼り合わせる前の試料で測定した。上記で作製した高屈折率層を有する保護フィルムの高屈折率層をF20(FILMETRICS株式会社製、製品名)で測定することにより高屈折率層の膜厚を測定した。また、上記で作製した感光性樹脂層を有する支持フィルムを、デジタルシックネスゲージ(ニコン株式会社製、製品名「DIGIMICROSTAND MS−5C」)で測定することにより感光性樹脂層の膜厚を測定した。
上記で作製した転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、厚さ0.7mmのガラス基材上に、高屈折率層が接するようにラミネータ(日立化成株式会社製、製品名「HLM−3000型」)を用いて、ロール温度120℃、基材送り速度1m/分、圧着圧力(シリンダ圧力)4×105Pa(厚さが1mm、縦10cm×横10cmの基材を用いたため、このときの線圧は9.8×103N/m)の条件でラミネートして、ガラス基材上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
なお、参考としてガラス基材単体の測定値を表4に示す。
得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、易接着層付PETフィルム(東洋紡株式会社製、製品名「A4300 」、125μm厚)上に、高屈折率層が接するようにラミネータ(日立化成株式会社製、製品名「HLM−3000型」)を用いて、ロール温度120℃、基材送り速度1m/分、圧着圧力(シリンダ圧力)4×105Pa(厚さが125μm、縦10cm×横10cmの基材を用いたため、この時の線圧は9.8×103N/m)の条件でラミネートして、A4300上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
A : 現像残渣が発生しない。
B : 現像残渣がわずかに発生するが、その後の工程への影響はない。
C : 現像残渣が発生する。
D : 現像残渣が多く発生する。
得られた転写形感光性屈折率調整フィルムの保護フィルムをはがしながら、透明導電性フィルム(東洋紡株式会社製、製品名「300R」)上に、高屈折率層が接するようにラミネータ(日立化成株式会社製、製品名「HLM−3000型」)を用いて、ロール温度120℃、基材送り速度1m/分、圧着圧力(シリンダ圧力)4×105Pa(厚さが1mm、縦10cm×横10cmの基材を用いたため、このときの線圧は9.8×103N/m)の条件でラミネートして、透明導電性フィルム上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。
ムを除去し、硬化膜を有する色相(反射R)測定用試料を得た。
R規格化=反射率実測値/感光性樹脂層のみ積層した測定試料(比較例7)の反射率実測値×100
なお、参考として透明導電性フィルム単体の測定値を表4に示す。
表2〜4に示すように、実施例では反射R規格化の値が90%以下となり、反射率を充分に低減している。また、現像残渣がなく現像性が充分であった。なお、比較例7は感光性樹脂層のみを設けた場合の結果である。
この明細書に記載の文献の内容を全てここに援用する。
符号の説明
1…転写形感光性屈折率調整フィルム、10…支持フィルム、20…感光性樹脂層、30…高屈折率層、40…保護フィルム、50…透明電極パターン付き基材、50a…透明電極パターン、100…積層体、101…透明基材、102…タッチ画面、103…透明電極(X位置座標)、104…透明電極(Y位置座標)、105…引き出し配線、106…接続電極、107…接続端子、123…屈折率調整パターン。
Claims (18)
- 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層とを備え、
前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が主に有機物からなる転写形感光性屈折率調整フィルム。 - 前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が実質的に有機物のみからなる請求項1に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層が金属酸化物を実質的に含まない請求項1に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記高屈折率層がトリアジン環を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物を含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記高屈折率層がフルオレン骨格を有する化合物を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記高屈折率層がビフェニル骨格を有する化合物を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記高屈折率層がナフタレン骨格を有する化合物を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記高屈折率層の波長633nmにおける屈折率が1.50〜1.90である請求項1〜7のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記高屈折率層の膜厚が50〜1000nmである請求項1〜8のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記感光性樹脂層がバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含む請求項1〜9のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物を含む請求項10に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記バインダーポリマーがカルボキシル基を有する請求項10又は11に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記バインダーポリマーが(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸グリシジルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、(メタ)アクリル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、及び(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を含むバインダーポリマーである請求項10〜12のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記感光性樹脂層がリン酸エステル化合物を含む請求項10〜13のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記感光性樹脂層及び前記高屈折率層の、波長400〜700nmにおける可視光透過率の最小値が90.00%以上である請求項1〜14のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが30μm以下である請求項1〜15のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
- 請求項1〜16のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、
前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程と、を備える屈折率調整パターンの形成方法。 - 請求項17に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品。
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