JPWO2016121286A1 - 試料保持具 - Google Patents
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Abstract
Description
ここで、Eaは見かけの活性化エネルギー、kbはボルツマン定数である。
(1)式の両辺の対数をとると
lnρ=lnρ0+(Ea/kb)・(1/T) ・・・(2)
(2)式を図示したのが図2であるが、図2より明らかなように400℃(673.15K)以上の領域では体積固有抵抗ρは熱活性的なアレニウス型の温度依存性を示している。これは、大気中の水分や、不純物MnとFe間で生じる光励起によるホール生成の影響を受けないためと考えられる。
すなわち
Ea≧1.78×10−19 [J] ・・・(4)
上述のサンプルを試料1として、同様の測定を絶縁基板2がアルミナ質セラミックスから成る試料2〜8についても行なった。そして、それぞれのサンプルにおいて残留吸着力を測定した。具体的には、1×10−3Paに減圧された真空チャンバー内において、試料保持具1の試料保持面21の吸着面が200℃になるようにハロゲンランプで加熱した。この状態で、試料保持具1の静電吸着用電極3に所定の電圧を300秒印加して、被保持物10(シリコンウエハ)を保持した。その後、静電吸着用電極3への電圧印加を停止し、停止1秒後の残留吸着力についてロードセルを用いて測定した。ここで、電圧を全く印加していない場合の吸着力をロードセルを用いて測定した場合には、0.2KPa程度の値になることから、測定値が0.2kPa以下の場合には残留吸着力がないと判断した。その結果を表1に示す。
2:絶縁基板
21:試料保持面
3:静電吸着用電極
4:発熱抵抗体
5:接合層
6:支持体
7:液体もしくはガスの流路
8:ガス導入孔
9:直流電源
10:被保持物
Claims (2)
- 上面に試料保持面を有するアルミナ質セラミックスから成る絶縁基板と、
該絶縁基板の内部に設けられた静電吸着用電極とを備えており、
前記絶縁基板の平均粒径は2〜15μm、且つ粒径偏差は2〜7μmであることを特徴とする試料保持具。 - 前記絶縁基板の少なくとも400℃、450℃および500℃に加熱した状態でそれぞれ体積固有抵抗値を測定して、得られた体積固有抵抗値をアレニウスプロットすることによって求めた見かけの活性化エネルギーの値(Ea)が(Ea)≧1.78×10−19Jを満たす請求項1に記載の試料保持具。
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