JPWO2016103514A1 - 圧電材料及びその製造方法、並びに圧電素子及び圧電素子応用デバイス - Google Patents
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Abstract
Description
3つの成分を、以下のような条件で組み合わせることにより、MPBラインができるだけ立った圧電材料を実現するものである。以下、組み合わせの条件について説明する。
第1成分は、単独組成では菱面体晶である。このようなペロブスカイト型複合酸化物の例を、表1に示す。
以下、実施例を説明する。以下に説明する具体例の相図のうち、図7、図9、図10、及び図11は、図3に対応する図面である。また、図8は、図2に対応する図面である。
図7に、表3の具体例1に対応する成分を組み合わせた相図を示す。第1成分はBaBiO3であり、単独では菱面体晶である。第2成分はLiを添加した(K,Na)NbO3であり、単独では斜方晶である。第1成分であるBaBiO3のキュリー温度Tc1は370℃、第2成分である(K,Na)NbO3のキュリー温度Tc2は270℃である。MPBラインm1は、第2成分のモル比xが0.4〜0.7に亘る範囲で傾斜している。
図9に、表3の具体例2に対応する成分を組み合わせた相図を示す。第1成分はSrを添加した(Bi,Na)TiO3であり、単独では菱面体晶である。第2成分は(Ba,Ca)TiO3であり、単独では正方晶である。第1成分であるSrを添加した(Bi,Na)TiO3のキュリー温度Tc1は268℃、第2成分である(Ba,Ca)TiO3のキュリー温度Tc2は70℃である。MPBラインm2は、第2成分のモル比xが0.47〜0.80に亘る範囲で傾斜している。このような系に、第3成分である(Bi,K)TiO3(キュリー温度Tc3=380℃、単独では正方晶)を、第2成分と第3成分との合計に対して0.49の割合で混合すると、第2成分及び第3成分の組成のキュリー温度は222℃となる。従って、Tc4と第1成分のキュリー温度Tc1との差の絶対値は50℃以内である。第3成分が添加されていない圧電材料のMPBラインm2は、縦軸に対して傾斜しているのに対し、第3成分が添加された圧電材料のMPBラインM2は、MPBラインm2よりも立っており、第2成分のモル比xが0.61〜0.70の範囲に移行するだけである。室温におけるMPB組成のキュリー温度は約245℃、圧電定数は200程度である。
図10に、表3の具体例3に対応する成分を組み合わせた相図を示す。第1成分はSrを添加した(Bi,Na)TiO3であり、単独では菱面体晶である。第2成分はBaTiO3であり、単独では正方晶である。この場合、第1成分であるSrを添加した(Bi,Na)TiO3のキュリー温度Tcが268、第2成分であるBaTiO3のキュリー温度が123℃である。MPBラインm3は、第2成分のモル比xが0.4〜0.6に亘る範囲で傾斜している。このような系に、第3成分であるNaNbO3(キュリー温度Tc3=360℃、単独では正方晶)を、第1成分と第3成分との合計に対して0.45の割合で混合すると、第2成分及び第3成分の組成のキュリー温度は230℃となる。従って、Tc4と第1成分のキュリー温度Tc1との差の絶対値は50℃以内である。第3成分が添加されていない圧電材料のMPBラインm3は、縦軸に対して傾斜しているのに対し、第3成分が添加された圧電材料のMPBラインM3は、MPBラインm3よりも立っており、第2成分の組成比xが0.47〜0.55の範囲で変化するだけである。室温におけるMPB組成のキュリー温度は約249℃、圧電定数は150程度である。
図11は、本発明の一実施形態に係る圧電素子を具備する液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す分解斜視図であり、図12は、図11の平面図であり、図13は図12のA−A′線断面図である。図11〜図13に示すように、本実施形態の流路形成基板10は、シリコン単結晶基板からなり、その一方の面には二酸化シリコンからなる弾性膜50が形成されている。
Claims (10)
- 単独組成では菱面体晶であり、キュリー温度がTc1であり、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第1成分と、
単独組成では菱面体晶以外の結晶であり、キュリー温度Tc2が前記Tc1より低く、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第2成分と、
単独組成では前記第2成分と同じ前記菱面体晶以外の結晶であり、キュリー温度Tc3が前記Tc1以上であり、ペロブスカイト型構造を有し、且つ前記第2成分とは異なる非鉛系の複合酸化物からなる第3成分と、
を含有し、
前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第3成分のモル比をαとし、
α×Tc3+(1−α)×Tc2=Tc4とした場合、
|Tc4−Tc1|が50℃以下であることを特徴とする圧電材料。 - 横軸に前記第1成分と前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第2成分及び前記第3成分のモル比を、縦軸に温度を採った相図におけるMPB近傍の組成を有することを特徴とする請求項1に記載の圧電材料。
- 前記MPB近傍の組成におけるキュリー温度が280℃よりも高いことを特徴とする請求項1又は2に記載の圧電材料。
- 前記第1成分は、Aサイトにバリウムを含むBa系、Bサイトにニオブを含むNb系、及びAサイトにビスマスを含むBi系の成分のうち、いずれか1つの成分であり、
前記第2成分は、Aサイトにバリウムを含むBa系、Bサイトにニオブを含むNb系、及びAサイトにビスマスを含むBi系の成分のうち、前記第1成分とは異なるいずれか1つの成分である
ことを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の圧電材料。 - 前記第1成分と第2成分と第3成分との合計に対する前記第2成分及び前記第3成分のモル比が0.1以上0.9以下の範囲において、キュリー温度が280℃よりも高いことを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の圧電材料。
- 前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第3成分のモル比が0.05以上0.49以下であることを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載の圧電材料。
- 請求項1〜6の何れか一項の圧電材料からなる圧電体層と、前記圧電体層を挟む電極と、を備えたことを特徴とする圧電素子。
- 請求項7に記載の圧電素子を備えた圧電素子応用デバイス。
- 単独組成では菱面体晶であり、キュリー温度がTc1であり、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第1成分と、
単独組成では菱面晶以外の結晶であり、キュリー温度Tc2が前記Tc1よりも低く、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第2成分と、
からなる2成分の系に、
単独組成では前記第2成分と同じ前記菱面体晶以外の結晶であり、キュリー温度Tc3が前記Tc1以上であり、ペロブスカイト型構造を有し、且つ前記第2成分とは異なる非鉛系の複合酸化物からなる第3成分を、前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第3成分のモル比をαとし、α×Tc3+(1−α)×Tc2=Tc4とした場合、|Tc4−Tc1|が50℃以下となるように加えることにより、
3成分系の複合酸化物からなる非鉛系圧電材料を製造することを特徴とする圧電材料の製造方法。 - さらに、横軸に前記第1成分と前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第2成分及び前記第3成分のモル比を、縦軸に温度を採った相図において、MPB近傍の組成を特製することによって、
MPB近傍の組成を有する前記3成分系の複合酸化物からなる非鉛系圧電材料を製造することを特徴とする請求項13に記載の圧電材料の製造方法。
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---|---|---|---|---|
US11437560B2 (en) * | 2017-06-22 | 2022-09-06 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Multilayer piezoelectric element, piezoelectric vibration apparatus, and electronic device |
US11430940B2 (en) * | 2017-07-18 | 2022-08-30 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Multilayer piezoelectric element, piezoelectric vibration apparatus, and electronic device |
US11272080B2 (en) * | 2018-02-06 | 2022-03-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Vibration device for dust removal and imaging device |
CN110466262B (zh) * | 2019-09-20 | 2021-07-16 | 厦门容大合众电子科技有限公司 | 一种节能自发电便携打印机及其使用方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010241615A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Nec Tokin Corp | 圧電磁器組成物 |
JP2011222884A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-04 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置および圧電素子 |
Family Cites Families (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09100156A (ja) | 1995-10-04 | 1997-04-15 | Nikon Corp | 誘電体磁器組成物 |
JPH10324569A (ja) | 1997-03-28 | 1998-12-08 | Tdk Corp | 圧電体磁器組成物 |
US6004474A (en) | 1997-03-28 | 1999-12-21 | Tdk Corporation | Piezoelectric ceramic composition |
JP4510966B2 (ja) | 1999-11-19 | 2010-07-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 圧電体セラミックス |
JP5110751B2 (ja) | 2000-08-24 | 2012-12-26 | セイコーインスツル株式会社 | 超音波診断装置 |
US6793843B2 (en) | 2000-11-21 | 2004-09-21 | Tdk Corporation | Piezoelectric ceramic |
JP4674405B2 (ja) | 2000-11-21 | 2011-04-20 | Tdk株式会社 | 圧電磁器 |
JP2003277143A (ja) | 2002-03-25 | 2003-10-02 | Noritake Co Ltd | 圧電セラミックス |
JP2003289161A (ja) | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、インクジェット式ヘッドおよび吐出装置 |
US7279823B2 (en) | 2002-05-15 | 2007-10-09 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric actuator and liquid jet head |
US20070189761A1 (en) | 2003-12-04 | 2007-08-16 | Wojtek Sudol | Implementing ic mounted sensor with high attenutation backing |
JP2005246656A (ja) | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Ricoh Co Ltd | 液滴吐出ヘッド、液体吐出装置及び画像形成装置 |
US7122030B2 (en) | 2004-07-13 | 2006-10-17 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Ferroelectric hyperthermia system and method for cancer therapy |
JP4237208B2 (ja) | 2005-09-26 | 2009-03-11 | 富士フイルム株式会社 | 圧電素子及びその駆動方法、圧電装置、液体吐出装置 |
JP2007084408A (ja) | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk | 圧電セラミックス |
JP4881315B2 (ja) | 2005-10-27 | 2012-02-22 | 京セラ株式会社 | 圧電磁器組成物および圧電磁器 |
US7786656B2 (en) | 2007-04-26 | 2010-08-31 | Fujifilm Corporation | Piezoelectric body, piezoelectric device, and liquid discharge apparatus |
JP5307986B2 (ja) | 2007-05-07 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 圧電素子とその製造方法、及び液体吐出装置 |
JP2008311634A (ja) | 2007-05-14 | 2008-12-25 | Fujifilm Corp | 圧電素子及びその駆動方法、圧電装置、液体吐出装置 |
US20080302658A1 (en) | 2007-06-08 | 2008-12-11 | Tsutomu Sasaki | Oxide body, piezoelectric device, and liquid discharge device |
JP5196879B2 (ja) | 2007-06-20 | 2013-05-15 | キヤノン株式会社 | 圧電材料 |
JP5344456B2 (ja) | 2008-03-11 | 2013-11-20 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 非鉛系圧電材料 |
DE102008057721A1 (de) | 2008-11-17 | 2010-05-20 | Epcos Ag | Keramischer Werkstoff, Verfahren zur Herstellung des keramischen Werkstoffs und Bauelement mit dem keramischen Werkstoff |
JP2010150126A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-07-08 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪セラミックス組成物、圧電/電歪セラミックスの焼結体、圧電/電歪素子、圧電/電歪セラミックス組成物の製造方法及び圧電/電歪素子の製造方法 |
JP4588807B1 (ja) | 2009-04-20 | 2010-12-01 | パナソニック株式会社 | 圧電体薄膜とその製造方法、インクジェットヘッド、インクジェットヘッドを用いて画像を形成する方法、角速度センサ、角速度センサを用いて角速度を測定する方法、圧電発電素子ならびに圧電発電素子を用いた発電方法 |
DE102009035425A1 (de) | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Epcos Ag | Piezoelektrische Keramikzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung der Zusammensetzung und elektrisches Bauelement, umfassend die Zusammensetzung |
JP2011181764A (ja) | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Tdk Corp | 圧電体素子及びその製造方法 |
JP5585767B2 (ja) | 2010-04-14 | 2014-09-10 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置および圧電素子 |
WO2012026107A1 (ja) | 2010-08-27 | 2012-03-01 | パナソニック株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェットヘッドを用いて画像を形成する方法、角速度センサ、角速度センサを用いて角速度を測定する方法、圧電発電素子ならびに圧電発電素子を用いた発電方法 |
WO2012044313A1 (en) | 2010-09-30 | 2012-04-05 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Lead-free piezoelectric materials with enhanced fatigue resistance |
JP5668473B2 (ja) | 2010-12-29 | 2015-02-12 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子及びその製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、並びに赤外線センサー |
JP6020784B2 (ja) | 2011-01-19 | 2016-11-02 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波デバイス及びセンサー |
WO2012104945A1 (ja) | 2011-02-03 | 2012-08-09 | パナソニック株式会社 | 圧電体薄膜とその製造方法、インクジェットヘッド、インクジェットヘッドを用いて画像を形成する方法、角速度センサ、角速度センサを用いて角速度を測定する方法、圧電発電素子ならびに圧電発電素子を用いた発電方法 |
JP6080465B2 (ja) | 2011-10-26 | 2017-02-15 | キヤノン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、圧電音響部品、および電子機器 |
CN102531578B (zh) | 2012-01-17 | 2013-06-05 | 聊城大学 | 一种钛酸钡钙-锆钛酸钡-锡钛酸钡三元系无铅压电陶瓷 |
JP6210188B2 (ja) | 2012-03-26 | 2017-10-11 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波デバイス、フィルター及びセンサー並びに圧電素子の製造方法 |
US9231189B2 (en) | 2012-04-16 | 2016-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Sodium niobate powder, method for producing the same, method for producing ceramic, and piezoelectric element |
US20150311425A1 (en) | 2012-11-27 | 2015-10-29 | Toyama Prefecture | Method for manufacturing piezoelectric ceramic, piezoelectric ceramic, and piezoelectric element |
US9331262B2 (en) | 2013-05-20 | 2016-05-03 | Tdk Corporation | Thin film piezoelectric element, thin film piezoelectric actuator, thin film piezoelectric sensor, hard drive disk, and inkjet printer device |
JP2015038953A (ja) | 2013-06-28 | 2015-02-26 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、圧電モーター及び発電装置 |
JP5754660B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2015-07-29 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、圧電モーター及び発電装置 |
JP5761540B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2015-08-12 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、圧電モーター及び発電装置 |
JP2015084393A (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、液体噴射ヘッド、及び液体噴射装置 |
EP3240054A4 (en) * | 2014-12-26 | 2018-08-01 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric material and method for producing same, piezoelectric element, and device using piezoelectric element |
-
2014
- 2014-12-26 JP JP2016565852A patent/JP6478070B2/ja active Active
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010241615A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Nec Tokin Corp | 圧電磁器組成物 |
JP2011222884A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-04 | Seiko Epson Corp | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置および圧電素子 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
TOMOAKI KARAKI、外4名: "Morphotropic Phase Boundary Slope of (K,Na,Li)NbO3-BaZrO3 Binary System Adjusted Using Third Compone", JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS [ONLINE], vol. 第52巻,第9S1号, JPN6015010955, 20 September 2013 (2013-09-20), pages 09 - 11, ISSN: 0003865204 * |
竹中正: "非鉛系圧電セラミックスの研究開発状況とその課題", マテリアルインテグレーション, vol. 第22巻,第7号, JPN6015010958, 25 June 2009 (2009-06-25), JP, pages 1 - 24, ISSN: 0003865205 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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JP5958718B2 (ja) | 圧電材料の製造方法 |
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