JP6478070B2 - 圧電材料及びその製造方法、並びに圧電素子及び圧電素子応用デバイス - Google Patents
圧電材料及びその製造方法、並びに圧電素子及び圧電素子応用デバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JP6478070B2 JP6478070B2 JP2016565852A JP2016565852A JP6478070B2 JP 6478070 B2 JP6478070 B2 JP 6478070B2 JP 2016565852 A JP2016565852 A JP 2016565852A JP 2016565852 A JP2016565852 A JP 2016565852A JP 6478070 B2 JP6478070 B2 JP 6478070B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- piezoelectric
- composition
- piezoelectric material
- curie temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 153
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 123
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 54
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 claims description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 13
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 10
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011206 ternary composite Substances 0.000 claims description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 62
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 15
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 13
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 12
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 12
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 8
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 8
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VJFFDDQGMMQGTQ-UHFFFAOYSA-L barium(2+);2-ethylhexanoate Chemical compound [Ba+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O VJFFDDQGMMQGTQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K bis(2-ethylhexanoyloxy)bismuthanyl 2-ethylhexanoate Chemical compound [Bi+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- VYPDUQYOLCLEGS-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)C([O-])=O VYPDUQYOLCLEGS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- -1 TiO 3 Chemical class 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- NJLQUTOLTXWLBV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanoic acid titanium Chemical compound [Ti].CCCCC(CC)C(O)=O.CCCCC(CC)C(O)=O.CCCCC(CC)C(O)=O.CCCCC(CC)C(O)=O NJLQUTOLTXWLBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGUAIAMPONKRLK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanoic acid;niobium Chemical compound [Nb].CCCCC(CC)C(O)=O JGUAIAMPONKRLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- DLWBHRIWCMOQKI-UHFFFAOYSA-L strontium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Sr+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O DLWBHRIWCMOQKI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMSVUYQRWYTTLI-UHFFFAOYSA-L 2-ethylhexanoate;iron(2+) Chemical compound [Fe+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O SMSVUYQRWYTTLI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GDKAXSGMPFSRJY-UHFFFAOYSA-J 2-ethylhexanoate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O GDKAXSGMPFSRJY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LXUNKDFIOZFCAK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanoic acid;potassium Chemical compound [K].CCCCC(CC)C(O)=O LXUNKDFIOZFCAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012769 bulk production Methods 0.000 description 1
- LTPCXXMGKDQPAO-UHFFFAOYSA-L calcium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Ca+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O LTPCXXMGKDQPAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N caproic acid ethyl ester Natural products CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- MAZKNBXUMANNDL-UHFFFAOYSA-M lithium;2-ethylhexanoate Chemical compound [Li+].CCCCC(CC)C([O-])=O MAZKNBXUMANNDL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- ZUFQCVZBBNZMKD-UHFFFAOYSA-M potassium 2-ethylhexanoate Chemical compound [K+].CCCCC(CC)C([O-])=O ZUFQCVZBBNZMKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8561—Bismuth-based oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/465—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
- C04B35/468—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/453—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/46—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
- C04B35/462—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
- C04B35/475—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on bismuth titanates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/09—Forming piezoelectric or electrostrictive materials
- H10N30/093—Forming inorganic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/853—Ceramic compositions
- H10N30/8536—Alkaline earth metal based oxides, e.g. barium titanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3232—Titanium oxides or titanates, e.g. rutile or anatase
- C04B2235/3234—Titanates, not containing zirconia
- C04B2235/3236—Alkaline earth titanates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
かかる態様では、鉛を含有していないため環境負荷を低減することができる。また、MPBラインが立っており、温度依存性の少ない圧電材料となる。また、温度依存性が少なく、圧電特性が高く、且つ広い温度範囲で使用可能な圧電材料となる。
上記の圧電材料は、前記MPB近傍の組成を有することが好ましい。MPBラインは、異なる結晶系によって作られる境界線である。圧電材料の圧電定数は、当該材料の組成によって変化する。すなわち、圧電特性は組成依存性を有する。MPBライン上の組成(MPB組成)において、圧電定数は極大値をとる。MPBラインが立っている圧電材料の、MPB近傍の組成を採用することにより、圧電特性が高い状態を、広い温度範囲で維持することが可能である。本発明においては、圧電定数が、室温(20℃以上25℃以下の範囲内における任意の温度)におけるMPB組成の圧電定数に対して70%以上の範囲内である組成領域を、MPB近傍の組成と定義する。
また、前記第1成分は、Aサイトにバリウムを含むBa系、及びAサイトにビスマスを含むBi系の成分のうち、いずれか1つの成分であり、前記第2成分は、Aサイトにバリウムを含むBa系、及びBサイトにニオブを含むNb系の成分のうち、前記第1成分とは異なるいずれか1つの成分であることが好ましい。互いに異なる材料系に属する成分を組み合わせることによって、それぞれの材料が持つ長所が活かされ、より実用性に優れた圧電材料となる。
また、前記第1成分と第2成分と第3成分との合計に対する前記第2成分及び前記第3成分のモル比が0.1以上0.9以下の範囲において、キュリー温度が280℃よりも高いことが好ましい。このような系内の圧電材料であれば、どのような組成をとってもキュリー温度が十分に高くなり、組成の誤差に起因する圧電特性の温度依存性の傾向の変化をかなり小さく抑えることが可能となる。
また、前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第3成分のモル比は0.05以上0.49以下であることが好ましい。キュリー温度が高い圧電材料は圧電特性が悪いという一般的な傾向を考慮すると、第3成分の比率はあまり高すぎない方が良いと考えられる。一方で、第3成分の比率が低すぎると、Tc4が十分に高い温度とならず、|Tc4−Tc1|が50℃以下という条件を満足できなくなる可能性がある。
本発明の他の態様は、上記態様の圧電材料からなる圧電体層と、前記圧電体層を挟む電極と、を備えたことを特徴とする圧電素子にある。
これによれば、圧電材料が鉛を含有していないため環境負荷を低減することができる。また、MPBラインが立っており、温度依存性の少ない圧電材料を利用するため、温度依存性が少ない圧電素子が実現できる。
また、本発明の他の態様は、上記態様の圧電素子を備えた圧電素子応用デバイスにある。圧電材料が鉛を含有していないため環境負荷を低減することができる。また、MPBラインが立っており、温度依存性の少ない圧電材料を利用するため、温度依存性が少ないデバイスが実現できる。このような圧電素子応用デバイスとしては、例えば次のようなものが挙げられる。
ノズル開口に連通する圧力発生室と、上述した圧電素子と、を具備することを特徴とする液体噴射ヘッド。
上記態様の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
上述した圧電素子を駆動することによって生じる変位を外部に伝える振動部と、発生した圧力波を外部に伝える整合層を備えたことを特徴とする超音波センサー。
上述した圧電素子を配した振動体と、接触する移動体とを少なくとも具備する圧電モーター。
上述した圧電素子により生じた電荷を上記電極から取り出す電極を備えたことを特徴とする発電装置。
また、本発明の他の態様は、単独組成では菱面体晶であり、キュリー温度がTc1であり、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第1成分と、単独組成では正方晶、斜方晶又は立方晶の結晶であり、キュリー温度Tc2が前記Tc1よりも低く、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第2成分と、からなる2成分の系に、単独組成では前記第2成分と同じ前記正方晶、斜方晶又は立方晶の結晶であり、キュリー温度Tc3が前記Tc1以上であり、ペロブスカイト型構造を有し、且つ前記第2成分とは異なる非鉛系の複合酸化物からなる第3成分を、前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第3成分のモル比をαとし、α×Tc3+(1−α)×Tc2=Tc4とした場合、|Tc4−Tc1|が50℃以下となるように加えることにより、横軸に前記第1成分と前記第3成分と前記第2成分との合計に対する前記第2成分のモル比を、縦軸に温度を採った相図におけるMPB近傍の組成におけるキュリー温度が280℃よりも高い3成分系の複合酸化物からなる非鉛系圧電材料を製造することを特徴とする圧電材料の製造方法にある。
かかる態様では、鉛を含有していないため環境負荷が低く、また、MPBラインが立っており、温度依存性の少ない圧電材料を製造できる。
さらに、横軸に前記第1成分と前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第2成分及び第3成分のモル比を、縦軸に温度を採った相図において、MPB組成を特定することによって、MPB近傍の組成を有する前記3成分系の複合酸化物からなる非鉛系圧電材料を製造することが好ましい。
また、別の態様は、単独組成では菱面体晶であり、キュリー温度がTc1であり、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第1成分と、単独組成では菱面晶以外の結晶であり、キュリー温度Tc2が前記Tc1より低く、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第2成分と、単独組成では前記第2成分と同じ前記菱面晶以外の結晶であり、キュリー温度Tc3が前記Tc1以上であり、ペロブスカイト型構造を有し、且つ前記第2成分とは異なる非鉛系の複合酸化物からなる第3成分と、を含有し、前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第3成分のモル比をαとし、α×Tc3+(1−α)×Tc2=Tc4とした場合、|Tc4−Tc1|が50℃以下であることを特徴とする圧電材料にある。
3つの成分を、以下のような条件で組み合わせることにより、MPBラインができるだけ立った圧電材料を実現するものである。以下、組み合わせの条件について説明する。
第1成分は、単独組成では菱面体晶である。このようなペロブスカイト型複合酸化物の例を、表1に示す。
以下、実施例を説明する。以下に説明する具体例の相図のうち、図7、図9、図10、及び図11は、図3に対応する図面である。また、図8は、図2に対応する図面である。
図7に、表3の具体例1に対応する成分を組み合わせた相図を示す。第1成分はBaBiO3であり、単独では菱面体晶である。第2成分はLiを添加した(K,Na)NbO3であり、単独では斜方晶である。第1成分であるBaBiO3のキュリー温度Tc1は370℃、第2成分である(K,Na)NbO3のキュリー温度Tc2は270℃である。MPBラインm1は、第2成分のモル比xが0.4〜0.7に亘る範囲で傾斜している。
図9に、表3の具体例2に対応する成分を組み合わせた相図を示す。第1成分はSrを添加した(Bi,Na)TiO3であり、単独では菱面体晶である。第2成分は(Ba,Ca)TiO3であり、単独では正方晶である。第1成分であるSrを添加した(Bi,Na)TiO3のキュリー温度Tc1は268℃、第2成分である(Ba,Ca)TiO3のキュリー温度Tc2は70℃である。MPBラインm2は、第2成分のモル比xが0.47〜0.80に亘る範囲で傾斜している。このような系に、第3成分である(Bi,K)TiO3(キュリー温度Tc3=380℃、単独では正方晶)を、第2成分と第3成分との合計に対して0.49の割合で混合すると、第2成分及び第3成分の組成のキュリー温度は222℃となる。従って、Tc4と第1成分のキュリー温度Tc1との差の絶対値は50℃以内である。第3成分が添加されていない圧電材料のMPBラインm2は、縦軸に対して傾斜しているのに対し、第3成分が添加された圧電材料のMPBラインM2は、MPBラインm2よりも立っており、第2成分のモル比xが0.61〜0.70の範囲に移行するだけである。室温におけるMPB組成のキュリー温度は約245℃、圧電定数は200程度である。
図10に、表3の具体例3に対応する成分を組み合わせた相図を示す。第1成分はSrを添加した(Bi,Na)TiO3であり、単独では菱面体晶である。第2成分はBaTiO3であり、単独では正方晶である。この場合、第1成分であるSrを添加した(Bi,Na)TiO3のキュリー温度Tcが268、第2成分であるBaTiO3のキュリー温度が123℃である。MPBラインm3は、第2成分のモル比xが0.4〜0.6に亘る範囲で傾斜している。このような系に、第3成分であるNaNbO3(キュリー温度Tc3=360℃、単独では正方晶)を、第1成分と第3成分との合計に対して0.45の割合で混合すると、第2成分及び第3成分の組成のキュリー温度は230℃となる。従って、Tc4と第1成分のキュリー温度Tc1との差の絶対値は50℃以内である。第3成分が添加されていない圧電材料のMPBラインm3は、縦軸に対して傾斜しているのに対し、第3成分が添加された圧電材料のMPBラインM3は、MPBラインm3よりも立っており、第2成分の組成比xが0.47〜0.55の範囲で変化するだけである。室温におけるMPB組成のキュリー温度は約249℃、圧電定数は150程度である。
図11は、本発明の一実施形態に係る圧電素子を具備する液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す分解斜視図であり、図12は、図11の平面図であり、図13は図12のA−A′線断面図である。図11〜図13に示すように、本実施形態の流路形成基板10は、シリコン単結晶基板からなり、その一方の面には二酸化シリコンからなる弾性膜50が形成されている。
Claims (9)
- 単独組成では菱面体晶であり、キュリー温度がTc1であり、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第1成分と、
単独組成では正方晶、斜方晶又は立方晶の結晶であり、キュリー温度Tc2が前記Tc1より低く、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第2成分と、
単独組成では前記第2成分と同じ前記正方晶、斜方晶又は立方晶の結晶であり、キュリー温度Tc3が前記Tc1以上であり、ペロブスカイト型構造を有し、且つ前記第2成分とは異なる非鉛系の複合酸化物からなる第3成分と、
を含有し、
前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第3成分のモル比をαとし、
α×Tc3+(1−α)×Tc2=Tc4とした場合、
|Tc4−Tc1|が50℃以下であり、
横軸に前記第1成分と前記第3成分と前記第2成分との合計に対する前記第2成分のモル比を、縦軸に温度を採った相図におけるMPB近傍の組成におけるキュリー温度が280℃よりも高い
ことを特徴とする圧電材料。 - 前記MPB近傍の組成を有することを特徴とする請求項1に記載の圧電材料。
- 前記第1成分は、Aサイトにバリウムを含むBa系、及びAサイトにビスマスを含むBi系の成分のうち、いずれか1つの成分であり、
前記第2成分は、Aサイトにバリウムを含むBa系、及びBサイトにニオブを含むNb系の成分のうち、前記第1成分とは異なるいずれか1つの成分である
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の圧電材料。 - 前記第1成分と第2成分と第3成分との合計に対する前記第2成分及び前記第3成分のモル比が0.1以上0.9以下の範囲において、キュリー温度が280℃よりも高いことを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の圧電材料。
- 前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第3成分のモル比が0.05以上0.49以下であることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の圧電材料。
- 請求項1〜5の何れか一項の圧電材料からなる圧電体層と、前記圧電体層を挟む電極と、を備えたことを特徴とする圧電素子。
- 請求項6に記載の圧電素子を備えた圧電素子応用デバイス。
- 単独組成では菱面体晶であり、キュリー温度がTc1であり、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第1成分と、
単独組成では正方晶、斜方晶又は立方晶の結晶であり、キュリー温度Tc2が前記Tc1よりも低く、且つペロブスカイト型構造を有する非鉛系の複合酸化物からなる第2成分と、
からなる2成分の系に、
単独組成では前記第2成分と同じ前記正方晶、斜方晶又は立方晶の結晶であり、キュリー温度Tc3が前記Tc1以上であり、ペロブスカイト型構造を有し、且つ前記第2成分とは異なる非鉛系の複合酸化物からなる第3成分を、前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第3成分のモル比をαとし、α×Tc3+(1−α)×Tc2=Tc4とした場合、|Tc4−Tc1|が50℃以下となるように加えることにより、
横軸に前記第1成分と前記第3成分と前記第2成分との合計に対する前記第2成分のモル比を、縦軸に温度を採った相図におけるMPB近傍の組成におけるキュリー温度が280℃よりも高い3成分系の複合酸化物からなる非鉛系圧電材料を製造することを特徴とする圧電材料の製造方法。 - さらに、横軸に前記第1成分と前記第2成分と前記第3成分との合計に対する前記第2成分及び前記第3成分のモル比を、縦軸に温度を採った相図において、MPB近傍の組成を特製することによって、
MPB近傍の組成を有する前記3成分系の複合酸化物からなる非鉛系圧電材料を製造することを特徴とする請求項8に記載の圧電材料の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2014/084701 WO2016103514A1 (ja) | 2014-12-26 | 2014-12-26 | 圧電材料及びその製造方法、並びに圧電素子及び圧電素子応用デバイス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016103514A1 JPWO2016103514A1 (ja) | 2017-10-05 |
JP6478070B2 true JP6478070B2 (ja) | 2019-03-06 |
Family
ID=56149596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016565852A Active JP6478070B2 (ja) | 2014-12-26 | 2014-12-26 | 圧電材料及びその製造方法、並びに圧電素子及び圧電素子応用デバイス |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10427981B2 (ja) |
EP (1) | EP3240055B1 (ja) |
JP (1) | JP6478070B2 (ja) |
CN (1) | CN107004758A (ja) |
WO (1) | WO2016103514A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11437560B2 (en) * | 2017-06-22 | 2022-09-06 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Multilayer piezoelectric element, piezoelectric vibration apparatus, and electronic device |
US11430940B2 (en) * | 2017-07-18 | 2022-08-30 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Multilayer piezoelectric element, piezoelectric vibration apparatus, and electronic device |
US11272080B2 (en) * | 2018-02-06 | 2022-03-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Vibration device for dust removal and imaging device |
CN110466262B (zh) * | 2019-09-20 | 2021-07-16 | 厦门容大合众电子科技有限公司 | 一种节能自发电便携打印机及其使用方法 |
Family Cites Families (46)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09100156A (ja) | 1995-10-04 | 1997-04-15 | Nikon Corp | 誘電体磁器組成物 |
US6004474A (en) | 1997-03-28 | 1999-12-21 | Tdk Corporation | Piezoelectric ceramic composition |
JPH10324569A (ja) | 1997-03-28 | 1998-12-08 | Tdk Corp | 圧電体磁器組成物 |
JP4510966B2 (ja) | 1999-11-19 | 2010-07-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 圧電体セラミックス |
JP5110751B2 (ja) | 2000-08-24 | 2012-12-26 | セイコーインスツル株式会社 | 超音波診断装置 |
US6793843B2 (en) | 2000-11-21 | 2004-09-21 | Tdk Corporation | Piezoelectric ceramic |
JP4674405B2 (ja) | 2000-11-21 | 2011-04-20 | Tdk株式会社 | 圧電磁器 |
JP2003277143A (ja) | 2002-03-25 | 2003-10-02 | Noritake Co Ltd | 圧電セラミックス |
JP2003289161A (ja) | 2002-03-27 | 2003-10-10 | Seiko Epson Corp | 圧電素子、インクジェット式ヘッドおよび吐出装置 |
EP1505663A4 (en) | 2002-05-15 | 2009-08-19 | Seiko Epson Corp | PIEZOELECTRIC ACTUATOR AND LIQUID JET HEAD |
WO2005055195A1 (en) | 2003-12-04 | 2005-06-16 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | Implementing ic mounted sensor with high attenuation backing |
JP2005246656A (ja) | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Ricoh Co Ltd | 液滴吐出ヘッド、液体吐出装置及び画像形成装置 |
US7122030B2 (en) | 2004-07-13 | 2006-10-17 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Ferroelectric hyperthermia system and method for cancer therapy |
JP4237208B2 (ja) | 2005-09-26 | 2009-03-11 | 富士フイルム株式会社 | 圧電素子及びその駆動方法、圧電装置、液体吐出装置 |
JP2007084408A (ja) | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk | 圧電セラミックス |
EP1950188B1 (en) | 2005-10-27 | 2016-07-27 | Kyocera Corporation | Piezoelectric ceramic composition and piezoelectric ceramic |
EP1986245B1 (en) | 2007-04-26 | 2015-08-26 | FUJIFILM Corporation | Piezoelectric body, piezoelectrc device, and liquid discharge apparatus |
JP5307986B2 (ja) | 2007-05-07 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 圧電素子とその製造方法、及び液体吐出装置 |
JP2008311634A (ja) | 2007-05-14 | 2008-12-25 | Fujifilm Corp | 圧電素子及びその駆動方法、圧電装置、液体吐出装置 |
US20080302658A1 (en) | 2007-06-08 | 2008-12-11 | Tsutomu Sasaki | Oxide body, piezoelectric device, and liquid discharge device |
JP5196879B2 (ja) | 2007-06-20 | 2013-05-15 | キヤノン株式会社 | 圧電材料 |
JP5344456B2 (ja) | 2008-03-11 | 2013-11-20 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 非鉛系圧電材料 |
DE102008057721A1 (de) | 2008-11-17 | 2010-05-20 | Epcos Ag | Keramischer Werkstoff, Verfahren zur Herstellung des keramischen Werkstoffs und Bauelement mit dem keramischen Werkstoff |
JP2010150126A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-07-08 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪セラミックス組成物、圧電/電歪セラミックスの焼結体、圧電/電歪素子、圧電/電歪セラミックス組成物の製造方法及び圧電/電歪素子の製造方法 |
JP2010241615A (ja) * | 2009-04-01 | 2010-10-28 | Nec Tokin Corp | 圧電磁器組成物 |
WO2010122707A1 (ja) | 2009-04-20 | 2010-10-28 | パナソニック株式会社 | 圧電体薄膜とその製造方法、インクジェットヘッド、インクジェットヘッドを用いて画像を形成する方法、角速度センサ、角速度センサを用いて角速度を測定する方法、圧電発電素子ならびに圧電発電素子を用いた発電方法 |
DE102009035425A1 (de) | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Epcos Ag | Piezoelektrische Keramikzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung der Zusammensetzung und elektrisches Bauelement, umfassend die Zusammensetzung |
JP2011181764A (ja) | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Tdk Corp | 圧電体素子及びその製造方法 |
JP5585767B2 (ja) | 2010-04-14 | 2014-09-10 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置および圧電素子 |
JP5585768B2 (ja) * | 2010-04-14 | 2014-09-10 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、液体噴射装置および圧電素子 |
WO2012026107A1 (ja) | 2010-08-27 | 2012-03-01 | パナソニック株式会社 | インクジェットヘッド、インクジェットヘッドを用いて画像を形成する方法、角速度センサ、角速度センサを用いて角速度を測定する方法、圧電発電素子ならびに圧電発電素子を用いた発電方法 |
KR101706417B1 (ko) | 2010-09-30 | 2017-02-13 | 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. | 내피로성이 강화된 납-부재 압전 재료 |
JP5668473B2 (ja) | 2010-12-29 | 2015-02-12 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子及びその製造方法、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、並びに赤外線センサー |
JP6020784B2 (ja) | 2011-01-19 | 2016-11-02 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波デバイス及びセンサー |
JP5196087B2 (ja) | 2011-02-03 | 2013-05-15 | パナソニック株式会社 | 圧電体薄膜とその製造方法、インクジェットヘッド、インクジェットヘッドを用いて画像を形成する方法、角速度センサ、角速度センサを用いて角速度を測定する方法、圧電発電素子ならびに圧電発電素子を用いた発電方法 |
JP6080465B2 (ja) | 2011-10-26 | 2017-02-15 | キヤノン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、圧電音響部品、および電子機器 |
CN102531578B (zh) | 2012-01-17 | 2013-06-05 | 聊城大学 | 一种钛酸钡钙-锆钛酸钡-锡钛酸钡三元系无铅压电陶瓷 |
JP6210188B2 (ja) | 2012-03-26 | 2017-10-11 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波デバイス、フィルター及びセンサー並びに圧電素子の製造方法 |
EP2836463B8 (en) | 2012-04-16 | 2019-03-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Sodium niobate powder, method for producing the same, method for producing ceramic, and piezoelectric element |
WO2014084265A1 (ja) | 2012-11-27 | 2014-06-05 | 富山県 | 圧電セラミックスの製造方法、圧電セラミックス、および圧電素子 |
US9331262B2 (en) | 2013-05-20 | 2016-05-03 | Tdk Corporation | Thin film piezoelectric element, thin film piezoelectric actuator, thin film piezoelectric sensor, hard drive disk, and inkjet printer device |
JP5761540B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2015-08-12 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、圧電モーター及び発電装置 |
JP2015038953A (ja) | 2013-06-28 | 2015-02-26 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、圧電モーター及び発電装置 |
JP5754660B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2015-07-29 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電材料、圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、圧電モーター及び発電装置 |
JP2015084393A (ja) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電素子、液体噴射ヘッド、及び液体噴射装置 |
CN107112412A (zh) * | 2014-12-26 | 2017-08-29 | 精工爱普生株式会社 | 压电材料及其制造方法以及压电元件和应用压电元件的设备 |
-
2014
- 2014-12-26 JP JP2016565852A patent/JP6478070B2/ja active Active
- 2014-12-26 EP EP14909116.7A patent/EP3240055B1/en active Active
- 2014-12-26 US US15/520,771 patent/US10427981B2/en active Active
- 2014-12-26 WO PCT/JP2014/084701 patent/WO2016103514A1/ja active Application Filing
- 2014-12-26 CN CN201480084053.4A patent/CN107004758A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2016103514A1 (ja) | 2017-10-05 |
US10427981B2 (en) | 2019-10-01 |
WO2016103514A1 (ja) | 2016-06-30 |
EP3240055A4 (en) | 2018-10-31 |
EP3240055A1 (en) | 2017-11-01 |
EP3240055B1 (en) | 2021-06-23 |
CN107004758A (zh) | 2017-08-01 |
US20170313625A1 (en) | 2017-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5754660B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、圧電モーター及び発電装置 | |
JP5761540B2 (ja) | 圧電材料、圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、圧電モーター及び発電装置 | |
US9190601B2 (en) | Piezoelectric material, piezoelectric element, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, ultrasonic sensor, piezoelectric motor, and power generator | |
JP5958719B2 (ja) | 圧電材料の製造方法 | |
JP6478070B2 (ja) | 圧電材料及びその製造方法、並びに圧電素子及び圧電素子応用デバイス | |
JP6478069B2 (ja) | 圧電材料及びその製造方法、並びに圧電素子及び圧電素子応用デバイス | |
JP5915850B2 (ja) | 圧電素子の製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法、液体噴射装置の製造方法、超音波デバイスの製造方法及びセンサーの製造方法 | |
JP2015084393A (ja) | 圧電素子、液体噴射ヘッド、及び液体噴射装置 | |
JP2007084424A (ja) | ペブロスカイト型酸化物、これを用いた圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置及びペブロスカイト型酸化物の製造方法 | |
JP6268468B2 (ja) | 圧電素子、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、超音波センサー、圧電モーター及び発電装置 | |
JP5958718B2 (ja) | 圧電材料の製造方法 | |
WO2016103515A1 (ja) | 圧電材料の製造方法、並びにこれにより製造された圧電材料を用いた圧電素子、及び圧電素子応用デバイス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170817 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180829 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181029 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190109 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6478070 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |