JPWO2015190092A1 - 表示パネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本実施の形態に係る有機EL表示パネルの製造方法は、(1)発光素子である有機EL素子を構成する発光層と回路素子及び配線を構成する駆動回路層とを積層する積層工程と、(2)短絡箇所を有する配線に、駆動回路層の発光層側と反対の側から、フェムト秒レーザーを照射するレーザー照射工程とを含む。
図1は、有機EL基板の構造断面図である。同図に示した有機EL基板1Aは、陽極、陰極、および当該両極で挟まれた有機発光層を含む有機機能デバイスである。同図に記載された有機EL基板1Aは、サブ画素である赤色画素200a、緑色画素200b、及び、青色画素200c(図示せず)が隣接配置されて形成された1単位画素が、行列状に配置されている。各サブ画素は、基板10の上に、駆動回路層11と、発光層12と、バンク13と、薄膜封止層141と、樹脂封止層142と、カラーフィルタ143と、透明基板20とを備える。
ここで、上記構成の有機EL基板1Aにおいて、駆動回路層11の配線が短絡すると、例えば、駆動TFTが制御不能となり、各画素が適切に発光しないことが想定される。
以下、本実施の形態に係る表示パネルの製造方法について説明する。
まず、図2に示された有機EL基板1Aを準備する工程(S10)について説明する。
次に、有機EL基板1Aの短絡配線を検出する工程(S20)について説明する。図2に示すように、データ線201Aとゲート線202Aとが短絡すると、データ線201Aに接続された各画素は常時滅点画素となり、表示領域において滅線が発生する。
次に、本実施の形態に係る表示パネルの製造方法の要部である、短絡配線をレーザー照射によりリペアする工程(S30)について説明する。
以上のように、本実施の形態に係る表示パネルの製造方法の一態様は、有機EL素子と、当該発光素子を発光駆動するための回路素子及び配線とを有する画素が複数配置された表示パネルの製造方法であって、有機EL素子を構成する発光層12と、回路素子及び配線を構成する駆動回路層11とを積層する積層工程と、回路素子または他の配線と短絡した短絡箇所を有する配線112における所定領域に、駆動回路層11の発光層12側と反対の側から、フェムト秒レーザーを照射するレーザー照射工程とを含む。ここで、上記レーザー照射工程は、駆動回路層11におけるフェムト秒レーザーのビーム径が略配線幅となるように、フェムト秒レーザーのビーム径を絞って上記所定領域にフェムト秒レーザーを照射する第1レーザー照射工程と、第1レーザー照射工程の後、駆動回路層11におけるフェムト秒レーザーのビーム径が第1レーザー照射工程におけるビーム径よりも小さいビーム径となるように、フェムト秒レーザーのビーム径を絞って上記所定領域の配線延在方向の端部かつ配線幅方向の端部である角部にフェムト秒レーザーを照射することにより、上記所定領域において配線112を断線させる第2レーザー照射工程とを含む。
以上、上記実施の形態に基づいて表示パネルの製造方法を説明してきたが、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではない。実施の形態における任意の構成要素を組み合わせて実現される別の実施の形態や、実施の形態に対して本発明の主旨を逸脱しない範囲で当業者が思いつく各種変形を施して得られる変形例や、本実施の形態に係る表示パネルの製造方法により製造された表示パネルを内蔵した各種機器も本発明に含まれる。
10 基板
11 駆動回路層
12 発光層
13 バンク
20 透明基板
50、60 フェムト秒レーザー
50A 照射領域
60A 角部領域
101 レーザー発振器
102 スリット
103 ステージ
104 結像レンズ
105 対物レンズ
111 TFT
112、113、131、132 配線
114 電極配線
115 平坦化膜
116 絶縁膜
121 陽極
122 正孔注入層
123 有機発光層
124 電子輸送層
125 電子注入層
126 陰極
141 薄膜封止層
142 樹脂封止層
143、143a、143b、143c カラーフィルタ
143d ブラックマトリクス
200a、200aA 赤色画素
200b 緑色画素
200c 青色画素
201、201A データ線
202、202A ゲート線
Claims (3)
- 発光素子と、当該発光素子を発光駆動するための回路素子及び配線とを有する画素が複数配置された表示パネルの製造方法であって、
前記発光素子を構成する発光層と、前記回路素子及び前記配線を構成する駆動回路層とを積層する積層工程と、
前記回路素子または他の前記配線と短絡した短絡箇所を有する配線の所定領域に、前記駆動回路層の前記発光層側と反対の側から、フェムト秒レーザーを照射するレーザー照射工程とを含み、
前記レーザー照射工程は、
前記駆動回路層における前記フェムト秒レーザーのビーム径が略配線幅となるように、フェムト秒レーザーのビーム径を絞って前記所定領域に前記フェムト秒レーザーを照射する第1レーザー照射工程と、
前記第1レーザー照射工程の後、前記駆動回路層における前記フェムト秒レーザーのビーム径が前記第1レーザー照射工程における前記ビーム径よりも小さいビーム径となるように、フェムト秒レーザーのビーム径を絞って前記所定領域の配線延在方向の端部かつ配線幅方向の端部である角部にフェムト秒レーザーを照射することにより、前記所定領域において前記配線を断線させる第2レーザー照射工程とを含む
表示パネルの製造方法。 - 前記第2レーザー照射工程では、
前記短絡箇所を挟む2つの前記所定領域のそれぞれにおける複数の前記角部に対して、前記配線の幅の半分以下のビーム径を有する前記フェムト秒レーザーを照射する
請求項1に記載の表示パネルの製造方法。 - 前記第1レーザー照射工程では、
光源から出射したフェムト秒レーザーを、前記光源の出射方向に配置された第1スリットを通過させることにより、前記所定領域にフェムト秒レーザーを照射し、
前記第2レーザー照射工程では、
光源から出射したフェムト秒レーザーを、前記光源からの出射方向に配置された、前記第1スリットよりもスリット径の小さい第2スリットを通過させることにより、前記所定領域にフェムト秒レーザーを照射する
請求項1または2に記載の表示パネルの製造方法。
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