JP2012247547A - 配線の修正装置 - Google Patents

Abstract

【課題】少ない回数のレーザ光の照射で、確実に配線の不良部分を正確に修正することができる配線の修正装置を提供する。
【解決手段】基板２上の処理を要する被処理配線２９にレーザ光Ｌｔを出射することで処理を行う配線の修正装置Ｒｓであって、レーザ光Ｌｔの光軸と交差する方向のエネルギ分布を中心部が高く、辺縁部が低くなるように、レーザ光の透過率を調整する絞り部材５を備えている。
【選択図】図６

Description

本発明は、基板上に形成された信号用の配線を修正する配線の修正装置に関する。

近年、テレビジョン受像機やパーソナルコンピュータの画像表示装置として、液晶表示装置が多く用いられている。前記液晶表示装置に用いられる、液晶パネルは、アレイ基板と、アレイ基板と対向して配置された対向基板と、アレイ基板と対向基板との間に充填される液晶材料を含む液晶層とを含んでいる。

アレイ基板には、互いに直交するソース配線及びゲート配線、ゲート配線と平行に配置される補助容量配線、ソース配線及びゲート配線に接続されたスイッチング素子（例えば、薄膜トランジスタ）、画素を構成する画素電極、スイッチング素子のドレイン端子と画素電極とを接続するドレイン配線等が設けられている。また、液晶分子の配列を整えるための配向膜や偏光板も配置されている。

そして、アレイ基板と液晶層を挟んで対向する対向基板には、共通電極、赤、緑、青（ＲＧＢ）の各着色部が所定の配列で配置されたカラーフィルター等が設けられている。なお、アレイ基板同様、対向基板にも配向膜が設けられている。

液晶パネルでは、画素電極と共通電極の間、すなわち、画素電極と隣接する液晶層に電圧が印加される。これにより、液晶層の液晶材料の向きが変化し、画素を通過する光の偏光方向が変化する。

前記アレイ基板の配線を形成するとき、本来、形成されるべきでない配線が形成される場合がある。例えば、配線のパターニング不良等によって、ソース配線とドレイン配線を接続する配線（以下、不要配線とする）が形成されてしまう場合がある。このように、ソース配線とドレイン配線とを接続する不要配線が形成されてしまうと、ソース配線とドレイン配線とが常に導通状態となり、常に画素電極に電荷が溜まった状態となる。すなわち、液晶層による透過度合の調整ができなくなる。

そこで、この不要配線（被処理配線）を取り除くため、レーザ光を不要配線に照射し、配線のメタルを昇華させ、配線を切断する方法が用いられている。レーザ照射（レーザショット）による不要配線の切断について図面を参照して説明する。図１１Ａはアレイ基板に形成された不要配線にレーザ光を照射したときの断面図であり、図１１Ｂはレーザ光のエネルギ分布を示す図である。

図１１Ａ、図１１Ｂに示すように、従来の配線の修正方法では、不要配線９２に均一な強度のレーザ光Ｌｔを照射することで、不要配線９２のメタルを昇華させ、不要配線９２を切断している。しかしながら、レーザ光Ｌｔで不要配線９２のメタルを昇華させる場合、レーザ光が確実にメタルを昇華させることができない場合があり、レーザ光の照射部分の周囲にメタルの破片がバリ９３として残る場合がある。そして、このバリ９３が形成された状態で、液晶パネルを作製すると、バリ９３が対向基板の共通電極と接触し、リークが発生してしまう。

このようなバリ９３は、１回のレーザ光Ｌｔの照射で不要配線９２を切断しているために発生することがわかっている。そこで、特開２０１０−１０２０６３号公報に記載の発明では、レーザ光をアパーチャの開口を変化させながら数回に分けて照射（レーザショット）することで、バリ９３による段差を含めて配線のメタルを昇華させる方法が提案されている。特開２０１０−１０２０６３号公報の方法を用いることで、バリ９３によるリーク電流の発生を抑えることができ、液晶パネルの歩留まりを上げることができる。

特開２０１０−１０２０６３号公報

しかしながら、特開２０１０−１０２０６３号公報の方法では、１箇所の配線を切断するとき、レーザ光を複数回に分けて照射するので、それだけ、加工工数（タクトタイム）が多くなる。また、レーザ光を照射するごとに、アパーチャサイズを変更するので、このことからも加工工数が多くなる。これにより、液晶パネルの作製に手間と、時間がかかる。

そこで本発明は、少ない回数のレーザ光の照射で、確実に配線の不良部分を正確に修正することができる配線の修正装置を提供することを目的とする。また、この配線の修正装置を用いることで、液晶パネルの歩留まり低下を抑制することを目的とする。

本発明の発明者は、短時間にレーザ光を照射し、配線の処理（切断処理）を行うとき、光軸に直交する方向の中心部分が高く辺縁部が低いエネルギ分布のレーザ光を照射することで、配線のメタルが昇華しきれずに発生するバリの発生を抑える或いは低減できるとの知見を得た。

そこで、上記目的を達成するために本発明は、基板上の処理を要する被処理配線にレーザ光を出射することで処理を行う配線の修正装置であって、前記レーザ光の光軸と交差する方向のエネルギ分布を中心部が高く、辺縁部が低くなるように、レーザ光の透過率を調整する絞り部材を備えていることを特徴とする。

この構成によると、レーザ光の光軸と交差する方向の透過率を調整することで、前記レーザ光の光軸と直交する方向のエネルギ分布を、中心部が高く、辺縁部が低い分布とすることができる。上述したような、中心部が高く辺縁部が引くいエネルギ分布のレーザ光を用いることで、１回の短時間のレーザ光の照射（レーザショット）で、十分な配線の処理を行うことができるとともに、バリの発生を抑えることができる。

１回のレーザショットで配線の処理を確実に行うことができるので、タクトタイムを増やすことなく、前記バリが他の基板、電子部品等の電極と接触してリークが発生するのを抑制することができる。

上記構成において、前記絞り部材が一部にレーザ光を透過する開口を備えた遮光手段と、前記開口を透過したレーザ光の透過率を調整する光透過率調整手段とを備えているものであってもよい。

なお、光透過率調整手段の透過率によって、レーザ光のエネルギ分布が決定されるものである。前記光透過率調整手段は、多数の小さな貫通孔が２次元配列されているものであってもよく、例えば光学フィルタのような入射光を一定の割合で吸収、散乱、反射等し、光の透過度合を調整する光学部材であってもよい。

上記構成において、前記絞り部材が少なくとも２種の異なる透過率の光透過率調整手段を備えているものであってもよい。

上記構成において、前記絞り部材は、前記遮光手段と前記光透過率調整手段とが、独立して配置されていてもよい。前記遮光手段と前記光透過率調整手段との組み合わせを換えることで、レーザ光の照射領域を変更できるとともに、そのときのエネルギ分布も任意に変更することができる。

上記構成において、前記光透過率調整手段が、前記遮光手段よりも小さな開口を備えていてもよい。

上記構成において、前記光透過率調整手段は、前記開口の大きさを調整することができる構成であってもよい。この構成によると、前記開口の大きさを調整することができるので１つの絞り部材で複数種類のエネルギ分布のレーザ光を被処理配線に照射することが可能である。

上述した、配線の修正装置で配線を修正する基板として、例えば、液晶パネルのアレイ基板、対向基板等を挙げることができる。また、これに限らず、本発明の配線の修正装置は小さな隙間をあけて対向配置される基板の配線の修正に好適である。

本発明によると、不要な配線をレーザ光の照射で切断するとき、レーザ光を均一な強度でなく、中央が強く周囲が弱い強度分布を持たせることで、少ない加工工数で、確実に配線の不良部分を正確に修正することができる配線の修正装置を提供することを目的とする。また、この配線の修正装置を用いることで、液晶パネルの歩留まり低下を抑制することができる。

液晶パネルの断面図である。 液晶パネルに用いられるアレイ基板の平面図である。 図２に示すアレイ基板のIII-III矢視断面図である。 不要な配線を有するアレイ基板の平面図である。 図４に示す不要配線を本発明にかかる配線の修正装置で修正している状態の図である。 図５Ａで利用しているレーザ光のエネルギ分布を示す図である。 本発明にかかる配線の修正装置の概略図である。 絞り部材のレーザ光が入射する側から見た図である。 本発明にかかる配線の修正装置の他の例に用いられる絞り部材のレーザ光の入射側から見た図である。 図８Ａに示す絞り部材を側方から見た図である。 本発明にかかる配線の修正装置のさらに他の例に用いられる絞り部材のレーザ光源側から見た図である。 図９Ａに示す絞り部材の側方から見た図である。 図９Ａ、図９Ｂに示す絞り部材を通過したレーザ光のエネルギ分布を示す図である。 アレイ基板に形成された不要配線にレーザ光を照射したときの断面図である。 レーザ光のエネルギ分布を示す図である。

以下に本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本発明にかかる配線の修正装置の説明を行う前に、配線を修正する液晶パネルについて説明する。

（液晶パネルについて）
図１は液晶パネルの断面図であり、図２は液晶パネルに用いられるアレイ基板の平面図であり、図３は図２に示すアレイ基板のIII-III矢視断面図である。液晶パネル１は、複数個の画素１１に分割されており、画素１１ごとに、光の透過量を調整することで、画像を表示している。

図１に示すように液晶パネル１は、アレイ基板２と、アレイ基板２と対向して配置された対向基板３と、アレイ基板２と対向基板３との間に充填される液晶材料を含む液晶層４とを含んでいる。

図２に示すように、アレイ基板２は、ガラス基板２０の液晶層４側に互いに直交するソース配線２１及びゲート配線２２、ゲート配線２２と平行に配置される補助容量配線２３、ソース配線２１及びゲート配線２２に接続された薄膜トランジスタ２４（スイッチング素子）、画素１１を構成する画素電極２５、薄膜トランジスタ２４のドレイン端子と画素電極２５とを接続するドレイン配線２６が設けられている。また、液晶材料の配列を整えるため、液晶層４側には配向膜２７が形成されており、ガラス基板２０の液晶層４と反対側に偏光板２８が配置されている（図３参照）。

薄膜トランジスタ２４は、ソース電極２４１、ゲート電極２４２及びドレイン電極２４３を備えている。そして、ソース電極２４１はソース配線２１と、ゲート電極２４２はゲート配線２２とそしてドレイン電極２４３はドレイン配線２６とそれぞれ接続されている。ドレイン配線２６のドレイン電極２４３と反対側は、画素電極２５の中心部分に接続されている。

また、アレイ基板２と液晶層４を挟んで対向する対向基板３には、共通電極３１、赤、緑、青（ＲＧＢ）の各着色部が所定の配列で配置されたカラーフィルター３２等が設けられている。なお、アレイ基板１同様、対向基板３にも配向膜３３が設けられている。また、対向基板３の液晶層４と反対側に偏光板３４が配置されている。

液晶パネル１では、ゲート配線２２には、パルス信号が供給されており、ゲート配線２２にオン信号が入力されると、薄膜トランジスタ２４のゲート電極２４２にオン信号が入力され、薄膜トランジスタ２４がオンになる。薄膜トランジスタ２４がオンのとき、ソース配線２１にハイ電圧が供給されていると、ソース電極２４１とドレイン電極２４３との間に電流が流れる。

これにより、ドレイン電極２４３に流れた電流はドレイン配線２６を介して画素電極２５に電流が流れ、画素電極２５に電荷が蓄積される。画素電極２５と共通電極３１の間に電位差が形成され、すなわち、画素電極２５と共通電極３１との間に配置される液晶層４に電圧が印加される。これにより、液晶層４の液晶材料の向きが変化し、画素を通過する光の偏光方向が変化する。

アレイ基板２に配置された偏光板２８と対向基板３に配置された偏光板３４とは偏光方向が一定の角度をなすように配置されており、液晶層４を通過する光の偏光方向を調整することで、偏光板２８を通過した光が偏光板３４を通過する光量を調整している。また、対向基板３にはカラーフィルター３２が備えられており、光が対向基板３を通過するとき、ＲＧＢいずれかの波長の光に分光される。このようにして、画素１１ごとに色、階調が調整された光が出射され、画像が形成される。

（アレイ基板の製造について）
次に、アレイ基板の製造について簡単に説明する。アレイ基板２に形成された配線、電極等は次のようにして作製される。まず、ガラス基板２０上にスパッタリング法等の成膜方法で金属膜を成膜する。そして、金属膜の上から形成する配線パターンと同じ形状のレジストを形成した後、エッチング等の手法を用いて、金属膜を除去する。その後、レジストを除去することで配線、電極等が形成される。

このような手順で配線、電極を形成するとき、配線パターニングが不十分で配線不良が発生することがある。図４に不要な配線を有するアレイ基板の平面図を示す。例えば、ガラス基板２０上にソース配線２１及びドレイン配線２５を形成するとき、レジストが不完全であったり、エッチングの不良であったりして、図４に示すように、ソース配線２１とドレイン配線２６とを接続する配線（以下、不要配線２９とする）が形成される場合がある。

（第１の実施形態）
不要配線を修正する本発明の配線の修正装置について図面を参照して説明する。まず、本発明の修正装置が出射するレーザ光について説明する。図５Ａは図４に示す不要配線を本発明にかかる配線の修正装置で修正している状態の図であり、図５Ｂは図５Ａで利用しているレーザ光のエネルギ分布を示す図である。図５Ａに示すように、本発明にかかる配線の修正装置では、不要配線２９にレーザ光Ｌｔを照射（レーザショットと称する場合がある）し、不要配線２９を構成するメタルを昇華させ、切断を行ものである。

本発明者は、レーザ光Ｌｔの光軸と直交する方向のエネルギ（強度）分布を、中央が高く、端部を低くし、配線の切断を行うことで、１回のレーザショットにおいて、レーザ光Ｌｔを照射した周縁部で発生するバリ２９０が低減するとの知見を得た。そこで、本発明の配線の修正装置では、図５Ｂに示すようなエネルギ分布のレーザ光Ｌｔを照射している。

次に、本発明にかかる配線の修正装置で用いるレーザ光のエネルギ分布を調整する方法について図面を参照して説明する。図６は本発明にかかる配線の修正装置の概略図である。図６に示すように、配線の修正装置Ｒｓは、修正を行う配線にレーザ光を照射し、レーザ光の熱で配線のメタルを昇華させて修正処理（断線処理）を行うものである。配線の修正装置Ｒｓはレーザ光Ｌｔを出射する光源Ｌｓと、修正を行う配線が形成されている基板（ここでは、アレイ基板２）を固定するための固定台Ｓｄと、光源Ｌｓに近接して配置され、レーザ光Ｌｔの出力（エネルギ）を絞る絞り部材５とを備えている。

ここで絞り部材５について説明する。図７は絞り部材のレーザ光が入射する側から見た図である。図７に示すように、絞り部材５は長方形板状の部材であり、中心部に開口が形成されたスリット部５０（遮光手段）と、中心部の開口に形成され、貫通孔を複数個並べた長方形状の第１メッシュ部５１（光透過率調整手段）と、第１メッシュ部５１の周囲に形成され第１メッシュ部５１の透過率よりも小さい透過率を持つように貫通孔を複数個並べた第２メッシュ部５２とを備えている。

このような絞り部材５にレーザ光が照射されると、レーザ光Ｌｔはスリット部５０で遮光され、第１メッシュ部５１及び第２メッシュ部５２が形成されている部分を通過する。このとき、レーザ光Ｌｔは第１メッシュ部５１及び第２メッシュ部５２の透過率に基づいてエネルギが減少する。これにより、絞り部材５を通過したレーザ光Ｌｔは、光軸と直交する方向のエネルギ分布は中央が高く端部が低い、例えば、図５Ｂに示すようなエネルギ分布となる。

図６に示す配線の修正装置Ｒｓでは絞り部材５を用いており、図５Ｂに示すレーザ光Ｌｔを固定台Ｓｄに固定された基板（ここではアレイ基板２）に向かって照射する。上述しているように、レーザ光Ｌｔの光軸に直交する方向のエネルギ分布を、図５Ｂに示すように中心が高く端部が低い分布とすることで、１回のレーザショットで不要配線２９を確実に修正するとともに、発生するバリの量を減らすことができる。

このことから、不要配線を処理したアレイ基板２を用いる場合、バリによる共通電極と信号配線（ソース配線２１或いはドレイン配線２６）が導通状態になる（リーク電流が発生する）のを抑制することができる。これにより、アレイ基板２１の製造時に不良品が発生するのを抑制することができ、液晶パネル１における画像の表示品位の低下を抑制する。また、１回のレーザショットで不要配線２９を修正処理（断線）することができるので、作業工数（タクトタイム）を減らすことができる。

以上のことから、本発明にかかる配線の修正装置を用いることで、液晶パネルの製造工程におけるタクトタイムを削減することができるとともに、歩留まりの低下を抑制することができる。

なお、本発明にかかる配線の修正装置Ｒｓでは、複数種類の絞り部材５を配置し、修正する配線の形状（大きさ、幅、厚さ等）にあわせて最適なエネルギ分布のレーザ光Ｌｔに調整できる絞り部材５を選択して用いるようにしてもよい。このように複数種類の絞り部材５を適切に選択することで、レーザ光のエネルギ分布を細かく調整することができ、配線の修正処理を確実に行うことが可能である。

（第２の実施形態）
本発明にかかる配線の修正装置の他の例について図面を参照して説明する。図８Ａは本発明にかかる配線の修正装置の他の例に用いられる絞り部材のレーザ光の入射側から見た図であり、図８Ｂは図８Ａに示す絞り部材を側方から見た図である。なお、本実施形態において、修正するアレイ基板及び修正に用いる配線の修正装置は第１の実施形態と同じであり、詳細な説明は省略する。

図８Ａ、図８Ｂに示すように、絞り部材６は、スリット６０と、第１メッシュ部材６１と、第２メッシュ部材６２とを備えている。絞り部６では、レーザ光Ｌｔの光源Ｌｄ側からスリット６０、第１メッシュ部材６１及び第２メッシュ部材６２の順番でレーザ光Ｌｔの光軸に沿って配列されている。

スリット６０には中心部に長方形状の貫通孔である開口６００が形成されており、レーザ光Ｌｔが開口６００を通過することで、レーザ光Ｌｔの照射断面が開口６００と同じ形となる、すなわち、レーザ光Ｌｔは照射面積が絞られる。スリット６０を通過したレーザ光は、第１メッシュ部材６１、第２メッシュ部材６２を通過する。

第１メッシュ部材６１及び第２メッシュ部材６２には、中央にスリット６０の開口６００よりも小さな開口６１０、６２０が形成されている。なお、絞り部材６では、第１メッシュ部材６１の開口６１０が第２メッシュ部材６２の開口６２０よりも大きい。そして、第１メッシュ部材６１には、無数の貫通孔が左右に等間隔に並んで配置されている。また、第２メッシュ部材６２にも、第１メッシュ部材６１と同様に無数の貫通孔が左右に等間隔に並んで配置されている。なお、第１メッシュ部材６１に入射したレーザ光に対する通過したレーザ光の割合（透過率）は、第２メッシュ部材６２よりも高い。

レーザ光Ｌｔは第１メッシュ部材６１を通過するとき、開口６１０及び貫通孔を通過し、その他の部分では遮断される。開口６１０に照射されたレーザ光はそのままの出力で通過するが、貫通孔が複数配置されている部分に照射されたレーザ光は部分的に遮光されるので出力（エネルギ）が低減される。さらに、第２メッシュ部材６２も同様に、開口６２０に照射されたレーザ光はそのままの出力で通過し、開口６２０以外の部分に照射されたレーザ光は出力（エネルギ）がさらに低減される。以上のような構成の絞り部材６を用いることで、図５Ｂに示すような、中央が高く端部が低いエネルギ分布を有するレーザ光Ｌｔを照射することができる。

以上のことより、第１の実施形態と同様、１回のレーザショットで配線を確実に断線させることができるとともに、バリの発生を低減或いは抑制することができる。これにより、アレイ基板を製造するときのタクトタイムを減らすとともに、歩留まりが低下するのを抑制することができる。

なお、スリット６０、第１メッシュ部材６１、第２メッシュ部材６２をそれぞれ、複数種備えておき、修正する（切断処理する）配線（ここでは、不要配線２９）の形状（幅、厚さ、長さ等）にあわせて、適宜選択するようにしてもよい。例えば、切断する配線の幅が大きいときは、開口６００が大きいスリット６０を選択する。また、配線が厚い場合、レーザ光Ｌｔが照射される全ての部分で、配線のメタルを昇華することができる程度のエネルギを備え、なおかつ、バリの発生を抑える（なくす）ことができるエネルギ分布となるように、第１メッシュ部材６１及び第２メッシュ部材６２を選択すればよい。

本実施形態において、第１メッシュ部材６１及び第２メッシュ部材６２を中央に開口が形成されているものとして説明しているが、これに限定されるものではなく、開口が形成されていないものを用いることも可能である。また、絞り部材６において、メッシュは１個であってもよく、３個以上であってもよい。レーザ光Ｌｔの光軸と交差する断面におけるエネルギ分布を適切な分布とするようにメッシュの個数を決定することができる。しかしながら、レーザ光Ｌｔはメッシュを通過するごとに全エネルギは減衰するので、可能な限り少ない方が好ましい。

また、絞り部材６では、スリット６０、第１メッシュ部材６１及び第２メッシュ部材６２の組み合わせを変えることで、レーザ光Ｌｔのエネルギ分布を調整することができるので、より多くの形状の配線の修正処理を行うことができる。

（第３の実施形態）
本発明にかかる配線の修正装置の他の例について図面を参照して説明する。図９Ａは本発明にかかる配線の修正装置のさらに他の例に用いられる絞り部材のレーザ光源側から見た図であり、図９Ｂは図９Ａに示す絞り部材の側方から見た図であり、図１０は図９Ａ、図９Ｂに示す絞り部材を通過したレーザ光のエネルギ分布を示す図である。なお、本実施形態において、修正するアレイ基板及び修正に用いる配線の修正装置は第１の実施形態と同じであり、詳細な説明は省略する。

図９Ｂに示すように、絞り部材７は、スリット７０、第１メッシュ部材７１及び第２メッシュ部材７２を備えており、光源側より、スリット７０、第１メッシュ部材７１、第２メッシュ部材７２の順に配置されている。スリット７０は長方形状の開口７００を備えている。なお、スリット７０は第３の実施形態に示すスリット６０と同じ構成を有しているので、詳細は省略する。

図９Ａ、図９Ｂに示すように、第１メッシュ部材７１は、長方形状の開口７１０を備えている。また、第１メッシュ部材７１は、貫通孔を２次元方向に等間隔に配列しているとともに第１の方向（ここでは、開口７１０の長手方向）に配置された一対の第１網状部７１１と、貫通孔を２次元方向に等間隔に配列しているとともに第１の方向と直交する第２の方向（ここでは、開口７１０の短手方向）に配置された一対の第２網状部７１２とを備えている。

第１網状部７１１及び第２網状部７１２は照射されたレーザ光Ｌｔの一部を透過させる部材である。一対の第１網状部７１１は互いに接近離間するように摺動可能であり、一対の第１網状部７１１を摺動させることで、開口７１０の大きさ（長手方向の長さ）を変更することができる。同様に、一対の第２網状部７１２も互いに接近離間するように摺動可能であり、一対の第２網状部７１２を摺動させることで、開口７１０の大きさ（短手方向の長さ）を変更することができる。

第１網状部７１１及び第２網状部７１２を連動することで、開口７１０の形状（長辺と短辺との比）を変えることなく、大きさのみを変更させることも可能である。すなわち、一対の第１網状部７１１を接近させ、それと同時に、一対の第２網状部７１２を同時に接近させることで、開口７１０の形状を変えることなく、小面積にすることが可能である。同様に、一対の第１網状部７１１を離間させ、一対の第２網状部７１２を離間させることで、開口７１０の形状を換えることなく、大面積にすることが可能である。

一対の第１網状部７１１が、同時に同じ量だけ接近又は離間するように配置され一対の第２網状部７１２が、同時に同じ量だけ接近又は離間するように配置されていることで、開口７１０は中心がずれることなく、面積が変化する。なお、第１メッシュ部材７１の開口７１０はスリット７０の開口７００よりも小さい。これにより、スリット７０の開口７００を通過したレーザ光Ｌｔが第１メッシュ部材７１を通過するとき、辺縁部のエネルギが低減される。なお、一対の第１網状部７１１及び一対の第２網状部７１２の移動は従来よく知られた方法でなされており、詳細は省略する。

図９Ａ、図９Ｂに示すように、第２メッシュ部材７２も第１メッシュ部材７１と同じ構成を有している。すなわち、第１メッシュ部材７２は、長方形状の開口７２０を備えている。また、第２メッシュ部材７２は、貫通孔を２次元方向に等間隔に配列しているとともに第１の方向（ここでは、開口７２０の長手方向）に配置された一対の第１網状部７２１と、貫通孔を２次元方向に等間隔に配列しているとともに第１の方向と直交する第２の方向（ここでは、開口７２０の短手方向）に配置された一対の第２網状部７２２とを備えている。

第１網状部７２１及び第２網状部７２２は照射されたレーザ光Ｌｔの一部を透過させる部材である。一対の第１網状部７２１は互いに接近離間するように摺動可能であり、一対の第１網状部７２１を摺動させることで、開口７２０の大きさ（長手方向の長さ）を変更することができる。同様に、一対の第２網状部７２２も互いに接近離間するように摺動可能であり、一対の第２網状部７２２を摺動させることで、開口７２０の大きさ（短手方向の長さ）を変更することができる。

なお、第２メッシュ部材７２の開口７２０は第１メッシュ部材７１の開口７１０よりも小さい。これにより、第１メッシュ部材７１の開口７１０を通過したレーザ光Ｌｔが第２メッシュ部材７２を通過するとき、辺縁部のエネルギが低減される。

以上のような絞り部材７で、例えば、第１メッシュ部材７１及び第２メッシュ部材７２の開口７１０及び開口７２０を大きくすることで、図１０に実線で示すエネルギ分布Ｌ１のレーザ光Ｌｔを出射することができる。また、第１メッシュ部材７１及び第２メッシュ部材７２の開口７１０及び開口７２０を小さくすることで、図１０に破線で示すエネルギ分布Ｌ２のレーザ光Ｌｔを出射することができる。

つまり、第１メッシュ部材７１及び第２メッシュ部材７２を調整することで、絞り部材７を透過したレーザ光のエネルギ分布を調整することが可能である。これにより、配線に照射するレーザ光のエネルギ分布を細かく調整することができる。なお、本実施形態では、第１メッシュ部材７１及び第２メッシュ部材７２を可動な部材としているが、どちらか一方のみが可動とされていてもよい。

また、本実施形態では、第１メッシュ部材７１の第１網状部７１１が互いに接近離間するように移動する一対の部材としているが、片方だけが動く構成であってもよいし、それぞれ独立して移動する構成であってもよい。また、第２網状部７１２、第２メッシュ部材７２の第１網状部７２１及び第２網状部７２２も、第１メッシュ部材７１の第１網状部７１１と同様、片方のみ稼働としてもよく、両方が独立して移動する構成であってもよい。このように、第１メッシュ部材７１及び第２メッシュ部材７２の各網状部が上述したように移動することで、開口の中心をずらすことが可能である。すなわち、レーザ光のエネルギ分布のピークを中心からずらすことが可能である。これにより、レーザ光のエネルギ分布を不要配線２９の形状に適切に合わせることが可能である。

第２の実施形態及び第３の実施形態において、第１メッシュ部材の透過率が第２メッシュ部材の透過率よりも大きいものを例としているが、それに限定されるものではなく、透過率が同じであってもよいし、第１メッシュ部材の透過率が第２メッシュ部材の透過率よりも小さいものとしてもよい。

また、上述の各実施形態では、配線の修正を行う基板を液晶パネルに用いられるアレイ基板の配線を修正しているが、これに限定されるものではなく、対向基板に形成された配線を修正するものとしてもよい。

また、上述の各実施形態において、第１メッシュ部（第１メッシュ部材）、第２メッシュ部（第２メッシュ部材）の２種の光透過率調整手段を備えているが、２種に限定されるものではない。また、光透過率調整手段として、孔が配列された板状のものとしているが、これに限定されるものではなく、透過時に光の一部を吸収するような膜状或いは板状のものであってもよい。レーザ光が透過するときにその透過率を適切に調整し、光軸に交差する方向のエネルギ分布とすることができる構成のものを広く採用することができる。

上述の各実施形態において、レーザ光の透過率を調整するものとして、複数個の小さな貫通孔を２次元配列したものを利用しているが、これ以外にも、例えば、バンドパスフィルタのような入射光を一定の割合で吸収、散乱、反射等し、光の透過度合を調整する光学部材を用いてもよい。また、これら以外でも、レーザ光の透過率を調整できる構造の部材、光学素子等を広く採用することができる。

上述の各実施形態では、絞り部材の開口が長方形状のものを例に説明しているが、これに限定されるものではなく、円形形状、多角形状の開口を有するものであってもよい。また、被処理配線である不要配線の形状、大きさに基づいて、開口の形状を選択するようにしてもよい。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこの内容に限定されるものではない。また本発明の実施形態は、発明の趣旨を逸脱しない限り、種々の改変を加えることが可能である。

本発明は、液晶パネルのように、狭い空間を隔てて対向配置する構造の基板に形成された配線の修正装置に利用することができる。

１ 液晶パネル
２ アレイ基板
２０ ガラス基板
２１ ソース配線
２２ ゲート配線
２３ 補助容量配線
２４ 薄膜トランジスタ
２４１ ソース電極
２４２ ゲート電極
２４３ ドレイン電極
２５ 画素電極
２６ ドレイン配線
２７ 配向膜
２８ 偏光板
２９ 不要配線
３ 対向基板
３０ ガラス基板
３１ 共通電極
３２ カラーフィルター
３３ 配向膜
３４ 偏光板
４ 液晶層
５ 絞り部材
５０ スリット部
５１ 第１メッシュ部
５２ 第２メッシュ部
６ 絞り部材
６０ スリット
６１ 第１メッシュ部材
６２ 第２メッシュ部材
Ｒｓ 配線の修正装置
Ｌｓ 光源
Ｓｄ 固定台

Claims (7)

1. 基板上の処理を要する被処理配線にレーザ光を出射することで処理を行う配線の修正装置であって、
   前記レーザ光の光軸と交差する方向のエネルギ分布を中心部が高く、辺縁部が低くなるように、レーザ光の透過量を調整する絞り部材を備えていることを特徴とする配線の修正装置。
2. 前記絞り部材は、一部にレーザ光を透過する開口を備えた遮光手段と、
   前記開口を透過したレーザ光の透過率を調整する光透過率調整手段とを備えている請求項１に記載の配線の修正装置。
3. 前記絞り部材は、少なくとも２種の異なる透過率の光透過率調整手段を備えている請求項２に記載の配線の修正装置。
4. 前記絞り部材は、前記遮光手段と前記光透過率調整手段とが独立して配置されている請求項２又は請求項３に記載の配線の修正装置。
5. 前記光透過率調整手段は、前記遮光手段よりも小さな開口を備えている請求項４に記載の配線の修正装置。
6. 前記光透過率調整手段は、開口の大きさを調整することができる請求項５に記載の配線の修正装置。
7. 前記遮光手段の開口の形状が異なる絞り部材を複数個備えている請求項１から請求項６のいずれかに記載の配線の修正装置。

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