JPWO2015159904A1 - ニトロ化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、WO2013/162072には、2−ブロモメチル−3−メチルニトロベンゼンが、2−メチル−6−ニトロ安息香酸と水素化ホウ素ナトリウムおよびメタンスルホン酸より得られる2−ヒドロキシメチル−3−メチルニトロベンゼンと三臭化ホウ素とを反応させることにより製造できることが記載されている。(参考製造例19および20、第949−951頁)
〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、R1aはフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表すかまたは炭素数3〜6のシクロアルキル基を表し、R1bおよびR1cは各々独立してフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子または炭素数3〜6のシクロアルキル基を表す。〕
で示される化合物を、工業的に有利に製造する方法を提供する。
本発明によれば後述の通り、式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物とを反応させて式(4)で示される化合物を得る工程、式(4)で示される化合物と次亜ハロゲン酸(次亜塩素酸もしくは次亜臭素酸)またはその塩とを反応させて式(5)で示される化合物を得る工程および式(5)で示される化合物を還元して式(1)で示される化合物を得る工程を含む製造方法により、工業的に有利に式(1)で示される化合物を製造できる。式(4)で示される化合物の中でも特に式(4’)で示される化合物は、式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物および式(3’)で示される2級アミンとを反応させることにより製造することもできる。
本発明は以下の通りである。
〔1〕式(2)
〔式中、R1aはフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表すかまたは炭素数3〜6のシクロアルキル基を表し、R1bおよびR1cは各々独立してフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子または炭素数3〜6のシクロアルキル基を表す。〕
で示される化合物と、式(3)
〔式中、R2およびR3は各々独立して炭素数1〜3のアルキル基を表すかまたはR2、R3ならびにR2およびR3が結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく(ここで該環は、環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。)、R6およびR7は各々独立して炭素数1〜3のアルコキシ基または−NRaRbを表す。ここで、RaおよびRbは各々独立して炭素数1〜3のアルキル基を表すかまたはRa、RbならびにRaおよびRbが結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される化合物とを反応させて、式(4)
〔式中、R1a、R1b、R1c、R2およびR3は前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程;
式(4)で示される化合物と次亜ハロゲン酸(次亜塩素酸もしくは次亜臭素酸)またはその塩とを反応させて、式(5)
〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、R1a、R1bおよびR1cは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程;および
式(5)で示される化合物を還元して、式(1)
〔式中、X、R1a、R1bおよびR1cは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程;を含む、式(1)で示される化合物の製造方法。
〔2〕式(2)
〔式中、R1aはフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表すかまたは炭素数3〜6のシクロアルキル基を表し、R1bおよびR1cは各々独立してフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子または炭素数3〜6のシクロアルキル基を表す。〕
で示される化合物と、式(3)
〔式中、R2およびR3は各々独立して炭素数1〜3のアルキル基を表すかまたはR2、R3ならびにR2およびR3が結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく(ここで該環は、環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。)、R6およびR7は各々独立して炭素数1〜3のアルコキシ基または−NRaRbを表す。ここで、RaおよびRbは各々独立して炭素数1〜3のアルキル基を表すかまたはRa、RbならびにRaおよびRbが結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される化合物および式(3’)
〔式中、R4およびR5は、R4、R5ならびにR4およびR5が結合する窒素原子が一緒になって環を形成し、ここで該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される2級アミンとを反応させて、式(4’)
〔式中、R1a、R1b、R1c、R4およびR5は前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程;
式(4’)で示される化合物と次亜ハロゲン酸(次亜塩素酸もしくは次亜臭素酸)またはその塩とを反応させて、式(5)
〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、R1a、R1bおよびR1cは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程;および
式(5)で示される化合物を還元して、式(1)
〔式中、X、R1a、R1bおよびR1cは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程;を含む、式(1)で示される化合物の製造方法。
〔3〕式(2)で示される化合物と、式(3)で示される化合物および式(3’)で示される2級アミンとを反応させて式(4’)で示される化合物を得る工程において、ヨウ化銅の存在下で反応させる〔2〕に記載の方法。
〔4〕式(4)または式(4’)で示される化合物と次亜ハロゲン酸またはその塩とを反応させて式(5)で示される化合物を得る工程において、次亜ハロゲン酸またはその塩が次亜塩素酸またはその塩である〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の方法。
〔5〕式(5)で示される化合物を還元して式(1)で示される化合物を得る工程において、不均一系白金族触媒とギ酸またはその塩との存在下で還元する〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の方法。
[6]R1aがメチル基であり、R1bおよびR1cが水素原子である〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の方法。
〔7〕式(7)
〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、R1aはフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基または炭素数3〜6のシクロアルキル基を表す。〕
で示されるニトロ化合物。
R1a、R1bおよびR1cにおけるフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等のアルキル基ならびにトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロsec−ブチル基、ペルフルオロtert−ブチル基、ペルフルオロペンチル基およびペルフルオロヘキシル基等の1以上の水素原子がフッ素原子で置換されているアルキル基が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜3のアルキル基、トリフルオロメチル基およびジフルオロメチル基である。
炭素数3〜6のシクロアルキル基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロヘキシル基であり、R1a、R1bおよびR1cにおける炭素数3〜6のシクロアルキル基としては炭素数3〜4のシクロアルキル基が好ましい。
炭素数1〜3のアルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基であり、R2、R3、RaおよびRbにおける炭素数1〜3のアルキル基としてはメチル基およびエチル基が好ましい。
炭素数1〜3のアルコキシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基およびイソプロポキシ基であり、R6およびR7における炭素数1〜3のアルコキシ基としてはメトキシ基およびエトキシ基が好ましい。
R1aとしては、炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
R1bおよびR1cとしては、水素原子が好ましい。
R2、R3ならびにR2およびR3が結合する窒素原子は一緒になって環を形成してもよく、N、R2およびR3が、窒素原子を含有する5〜7員環を形成してもよい。この5〜7員環は、環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。このような環構造を有する−NR2R3としては例えばピロリジノ基、ピペリジノ基およびモルホリノ基が挙げられる。
好ましい−NR2R3は、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基およびピロリジノ基である。
−NRaRbとしては、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基及びピロリジノ基が挙げられる。
R6としては、炭素数1〜3のアルコキシ基および−NRaRbが好ましく、メトキシ基およびジメチルアミノ基がより好ましい。
R7としては、炭素数1〜3のアルコキシ基および−NRaRbが好ましく、メトキシ基およびジメチルアミノ基がより好ましい。
R4、R5ならびにR4およびR5が結合する窒素原子は一緒になって環を形成し、N、R4およびR5が窒素原子を含有する5〜7員環を形成してもよく、該5〜7員環は、環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。このような環構造を有する−NR4R5としては例えばピロリジノ基、ピペリジノ基およびモルホリノ基が挙げられる。
−NR4R5としては、ピロリジノ基が好ましい。
先ず、式(4)で示される化合物の製造方法を説明する。
式(4)で示される化合物は、式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
式(2)で示される化合物としては、2,3−ジメチルニトロベンゼン、2−メチル−3−エチルニトロベンゼン、2−メチル−3−シクロプロピルニトロベンゼン、2−メチル−3−トリフルオロメチルニトロベンゼンおよび2−メチル−3−ジフルオロメチルニトロベンゼン等が挙げられ、市販のものを用いてもよいし、公知の方法により調製したものを用いてもよい。
式(3)で示される化合物としては、N,N−ジメチルホルミアミドジメチルアセタール、N,N−ジメチルホルミアミドジエチルアセタール、1−(ジメトキシメチル)ピペリジン、1−(ジエトキシメチル)ピペリジン、1−(ジメトキシメチル)ピロリジン、1−(ジエトキシメチル)ピロリジン、4−(ジメトキシメチル)モルホリン、4−(ジエトキシメチル)モルホリン、ビス(N,N−ジメチルアミノ)メトキシメタン、ジピペリジノメトキシメタン、ジピロリジノメトキシメタン、ジモルホリノメトキシメタン、トリ(N,N−ジメチルアミノ)メタン、トリピペリジノメタン、トリピロリジノメタンおよびトリモルホリノメタン等が挙げられ、市販のものを用いてもよいし、公知の方法により調製したものを用いてもよい。好ましい式(3)で示される化合物はN,N−ジメチルホルミアミドジメチルアセタールである。
式(3)で表される化合物の使用量は、式(2)で示される化合物1モルに対して、通常1〜10モル、好ましくは1〜3モルの割合である。
式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物との反応は、通常両者を混合することにより行われ、混合に際しては溶媒を用いることができる。
溶媒としては、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。好ましくは、N,N−ジメチルホルムアミドである。
溶媒の使用量は、式(2)で示される化合物1重量部に対して通常0.1〜50重量部の割合である。
式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物とは、一括して混合してもよいし、いずれかの化合物を徐々に加えながら混合してもよい。
反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−20〜250℃、好ましくは50〜200℃の範囲内である。
反応時間は、通常0.1〜72時間、好ましくは1〜24時間の範囲内である。
反応混合物を濃縮することにより、式(4)で示される化合物を単離することができる。単離に際して溶媒を加えて抽出することができ、また、必要に応じて塩基を加えてもよい。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等が挙げられる。溶媒としては、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、水等が挙げられる。塩基を水溶液の形態で加える場合、塩基の濃度は通常1〜6規定である。
単離された式(4)で示される化合物は、洗浄、再結晶等で精製することができる。
式(4)で示される化合物の中でも特に式(4’)で示される化合物は、式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物および式(3’)で示される2級アミンとを反応させることにより製造することもできる。
式(2)で示される化合物および式(3)で示される化合物の具体例は上述の通りである。
式(3’)で示される2級アミンとしては、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等が挙げられる。
式(3)で示される化合物の使用量は、式(2)で示される化合物1モルに対して、通常1〜10モル、好ましくは1〜3モルの割合であり、式(3’)で示される2級アミンの使用量は、式(2)で示される化合物1モルに対して、通常0.05〜10モルの割合である。
反応に際し、2級アミンと共にさらにハロゲン化銅を加えてもよく、ハロゲン化銅としては塩化銅、臭化銅およびヨウ化銅等が挙げられ、1価のハロゲン化銅が好ましい。ハロゲン化銅は、通常式(2)で表される化合物1モルに対して、0.001〜5モルの割合で用いられる。
式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物および式(3’)で示される2級アミンとの反応は、通常これらを混合することにより行われ、混合に際しては溶媒を用いることができる。
溶媒の具体例および使用量は、式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物との反応と同じである。
混合は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−20〜250℃、好ましくは0〜150℃の範囲内である。
反応時間は、通常0.1〜72時間、好ましくは1〜24時間の範囲内である。
反応終了後の後処理は、式(2)で示される化合物と式(3)で示される化合物との反応と同じである。
式(4)および式(4’)で示される化合物としては、2−{2−(N,N−ジメチルアミノ)ビニル}−3−メチルニトロベンゼン、2−{2−(N,N−ジエチルアミノ)ビニル}−3−メチルニトロベンゼン、2−(2−ピロリジニルビニル)−3−メチルニトロベンゼン、2−(2−ピペリジニルビニル)−3−メチルニトロベンゼン、2−(2−モルホリニルビニル)−3−メチルニトロベンゼン、2−{2−(N,N−ジメチルアミノ)ビニル}−3−エチルニトロベンゼン、2−{2−(N,N−ジエチルアミノ)ビニル}−3−エチルニトロベンゼン、2−(2−ピロリジニルビニル)−3−エチルニトロベンゼン、2−(2−ピペリジニルビニル)−3−エチルニトロベンゼン、2−(2−モルホリニルビニル)−3−エチルニトロベンゼン、2−{2−(N,N−ジメチルアミノ)ビニル}−3−シクロプロピルニトロベンゼン、2−{2−(N,N−ジエチルアミノ)ビニル}−3−シクロプロピルニトロベンゼン、2−(2−ピロリジニルビニル)−3−シクロプロピルニトロベンゼン、2−(2−ピペリジニルビニル)−3−シクロプロピルニトロベンゼン、2−(2−モルホリニルビニル)−3−シクロプロピルニトロベンゼン、2−{2−(N,N−ジメチルアミノ)ビニル}−3−トリフルオロメチルニトロベンゼン、2−{2−(N,N−ジエチルアミノ)ビニル}−3−トリフルオロメチルニトロベンゼン、2−(2−ピロリジニルビニル)−3−トリフルオロメチルニトロベンゼン、2−(2−ピペリジニルビニル)−3−トリフルオロメチルニトロベンゼンおよび2−(2−モルホリニルビニル)−3−トリフルオロメチルニトロベンゼン等が挙げられる。
次に、式(5)で示される化合物の製造方法について説明する。
式(5)で示される化合物は、式(4)で示される化合物と次亜ハロゲン酸またはその塩とを反応させることにより製造することができる。式(4’)で示される化合物と次亜ハロゲン酸またはその塩との反応も同様に行うことができる。
本発明において、次亜ハロゲン酸とは、次亜塩素酸および次亜臭素酸を意味し、次亜ハロゲン酸の塩としては、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸リチウム、次亜塩素酸カルシウム、次亜臭素酸ナトリウム等の次亜塩素酸および次亜臭素酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩等が挙げられる。次亜塩素酸のアルカリ金属塩の使用が好ましく、次亜塩素酸ナトリウムがより好ましい。
式(4)で示される化合物と次亜ハロゲン酸またはその塩とは、一括して混合してもよいし、次亜ハロゲン酸またはその塩を徐々に加えながら混合してもよい。
次亜ハロゲン酸またはその塩は市販品を用いてもよいし、公知の方法により調製したものを用いてもよい。
次亜ハロゲン酸またはその塩の使用量は、式(4)で示される化合物1モルに対して、通常1〜100モル、好ましくは1〜10モルの割合である。
式(4)で示される化合物と次亜ハロゲン酸またはその塩との反応は、通常溶媒中で両者を混合することにより行われる。溶媒としては、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、水、アセトニトリルおよびトルエンである。
溶媒の使用量は、式(4)で示される化合物1重量部に対して通常0.1〜50重量部の割合である。
反応は、必要に応じて、相関移動触媒を添加してもよい。相関移動触媒としては、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラブチルアンモニウムサルフェート、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド等の4級アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムクロリド等の4級ホスホニウム塩、ドデシルピリジニウムクロリド等のピリジニウム化合物およびクラウンエーテル等が挙げられる。好ましくは4級アンモニウム塩であり、さらに好ましくはテトラブチルアンモニウムクロリドおよびテトラブチルアンモニウムブロミドである。相関移動触媒の使用量は、式(4)で示される化合物1重量部に対して通常0.01〜5重量部の割合である。
反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−20〜150℃、好ましくは−10〜100℃の範囲内である。
反応時間は、通常0.1〜72時間、好ましくは1〜24時間の範囲内である。
反応混合物を濃縮することにより、式(5)で示される化合物を単離することができる。その際、必要に応じて、反応混合物に塩基、塩または溶媒を添加してもよい。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等が挙げられ、塩としては、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム等が挙げられる。溶媒としては、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、水等が挙げられる。塩基や塩を水溶液の形態で添加する場合、塩基の濃度は通常1〜6規定であり、塩の濃度は通常1〜6モル/Lである。溶媒の添加量は式(5)で示される化合物1重量部に対して通常1〜50重量部の割合である。
単離された式(5)で示される化合物は、洗浄、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる。
式(5)で示される化合物としては、2−ジクロロメチル−3−メチルニトロベンゼン、2−ジブロモメチル−3−メチルニトロベンゼン、2−ジクロロメチル−3−エチルニトロベンゼン、2−ジブロモメチル−3−エチルニトロベンゼン、2−ジクロロメチル−3−シクロプロピルニトロベンゼン、2−ジブロモメチル−3−シクロプロピルニトロベンゼン、2−ジクロロメチル−3−トリフルオロメチルニトロベンゼンおよび2−ジブロモメチル−3−トリフルオロメチルニトロベンゼン等が挙げられる。
続いて、式(5)で示される化合物から式(1)で示される化合物の製造方法について説明する。
式(1)で示される化合物は、式(5)で示される化合物を、触媒の存在下で還元剤と反応させることにより製造することができる。
還元剤は、例えば水素;ギ酸;ギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム等のギ酸塩;および水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化アミノホウ素リチウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、ボラン、ボランジメチルスルフィド錯体およびボランテトラヒドロフラン錯体等のホウ素化合物;であり、ギ酸またはその塩が好ましく、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム等のギ酸アルカリ金属塩およびギ酸アンモニウムがより好ましい。
還元剤は、通常式(5)で示される化合物1モルに対して、0.05〜50モルの割合で用いられる。
触媒は、例えばパラジウム担持炭素(Pd/C)、白金担持炭素(Pt/C)、オスミウム担持炭素(Os/C)、ルテニウム担持炭素(Ru/C)、ロジウム担持炭素(Rh/C)等の不均一系白金族触媒およびラネーニッケル、塩化ニッケル等のニッケル触媒であり、パラジウム担持炭素が好ましい。ここで、白金族とは、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジウム、イリジウムおよびオスミウムを意味する。触媒は、通常式(5)で示される化合物1モルに対して0.05〜3モルの割合で用いられる。
式(5)で示される化合物と還元剤とは、一括して混合してもよいし、還元剤を徐々に加えながら混合してもよい。
反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、式(5)で示される化合物1重量部に対して通常0.1〜50重量部の割合である。
反応温度は、通常0〜100℃の範囲内である。
反応時間は、通常0.1〜72時間の範囲内である。
実施例1
2,3−ジメチルニトロベンゼン30g、N,N−ジメチルホルアミドジメチルアセタール39.5gおよびN,N−ジメチルホルアミド200mLの混合物を175℃で10時間加熱した。反応混合物を濃縮して2−{2−(N,N−ジメチルアミノ)ビニル}−3−メチルニトロベンゼン38.0gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.37(3H,s),2.79(6H,s),5.01(1H,d,J=14.0Hz),6.29(1H,d,J=14.0Hz),7.01(1H,t,J=7.8Hz),7.27(1H,d,J=7.2Hz),7.37(1H,d,J=8.2Hz)
実施例2
2,3−ジメチルニトロベンゼン10g、N,N−ジメチルホルアミドジメチルアセタール15.8g、ピロリジン27.2mLおよびヨウ化銅(I)1.26gの混合物を100℃で10時間加熱した。反応混合物の1H−NMR測定により2−(2−ピロリジニルビニル)−3−メチルニトロベンゼンが収率97%で得られたことを確認した。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):1.89−1.95(4H,m),2.37(3H,s),3.20−3.24(4H,m),4.95(1H,d,J=13.8Hz),6.62(1H,d,J=13.8Hz),6.96(1H,t,J=7.8Hz),7.25(1H,d,J=7.5Hz),7.36(1H,d,J=7.9Hz)
実施例3
2,3−ジメチルニトロベンゼン10g、N,N−ジメチルホルアミドジメチルアセタール15.8gおよびピロリジン27.2mLの混合物を100℃で10時間加熱した。反応混合物の1H−NMR測定により2−(2−ピロリジニルビニル)−3−メチルニトロベンゼンが収率40%で得られたことを確認した。
実施例4
2−(2−ピロリジニルビニル)−3−メチルニトロベンゼン60g、次亜塩素酸ナトリウム水溶液(濃度約5%)1590gおよびアセトニトリル530mLの混合物を0℃で1時間撹拌した。反応混合物に飽和重曹水を加え、トルエンで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して2−ジクロロメチル−3−メチルニトロベンゼン43.7gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.85(3H,s),7.27(1H,s),7.42(1H,t,J=7.9Hz),7.51(1H,d,J=7.6Hz),7.60(1H,dd,J=8.0,0.9Hz)
実施例5
2−{2−(N,N−ジメチルアミノ)ビニル}−3−メチルニトロベンゼン6.2g、トルエン7ml、水3.5gおよびテトラブチルアンモニウムブロミド0.49gの混合物を0℃で攪拌した。反応混合物に10%次亜塩素酸水溶液81gを滴下し、0℃で1時間攪拌した後、15℃に昇温し、さらに3時間攪拌した。次いで、有機層を分取し、7gの飽和亜硫酸水素ナトリウム水溶液および7gの水で順次洗浄した後、濃縮して2−ジクロロメチル−3−メチルニトロベンゼン4.0gを得た。
実施例6
2−ジクロロメチル−3−メチルニトロベンゼン10g、パラジウム担持炭素(10%)0.24g、ギ酸ナトリウム49.5g、エチレングリコールジメチルエーテル50mLおよび水50mLの混合物を室温で7時間撹拌した。反応混合物に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して7.7gの組生成物を得た。1H−NMR測定の結果、2−クロロメチル−3−メチルニトロベンゼン(収率81%)が得られたことを確認した。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.56(3H,s),4.82(2H,s),7.39(1H,t,J=7.9Hz),7.48(1H,d,J=7.5Hz),7.74(1H,d,J=8.2Hz)
実施例7
2−ジクロロメチル−3−メチルニトロベンゼン150mg、パラジウム担持炭素(5%)0.1g、ギ酸アンモニウム0.65g、エチレングリコールジメチルエーテル0.6gおよび水0.6gの混合物を室温で4時間撹拌した。反応混合物をトルエン10gで希釈し、セライト(登録商標)を用いて濾過した。濾液を飽和食塩水5gで洗浄して得られた有機層を濃縮して2−クロロメチル−3−メチルニトロベンゼン95mgを得た。
Claims (11)
- 式(2)
〔式中、R1aはフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表すかまたは炭素数3〜6のシクロアルキル基を表し、R1bおよびR1cは各々独立してフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子または炭素数3〜6のシクロアルキル基を表す。〕
で示される化合物と、式(3)
〔式中、R2およびR3は各々独立して炭素数1〜3のアルキル基を表すかまたはR2、R3ならびにR2およびR3が結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく(ここで該環は、環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。)、R6およびR7は各々独立して炭素数1〜3のアルコキシ基または−NRaRbを表す。ここで、RaおよびRbは各々独立して炭素数1〜3のアルキル基を表すかまたはRa、RbならびにRaおよびRbが結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される化合物とを反応させて、式(4)
〔式中、R1a、R1b、R1c、R2およびR3は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程;
式(4)で示される化合物と次亜ハロゲン酸またはその塩とを反応させて、式(5)
〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、R1a、R1bおよびR1cは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程;および、
式(5)で示される化合物を還元して、式(1)
〔式中、X、R1a、R1bおよびR1cは前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程;を含む、式(1)で示される化合物の製造方法。 - 式(2)
〔式中、R1aはフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表すかまたは炭素数3〜6のシクロアルキル基を表し、R1bおよびR1cは各々独立してフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子または炭素数3〜6のシクロアルキル基を表す。〕
で示される化合物と、式(3)
〔式中、R2およびR3は各々独立して炭素数1〜3のアルキル基を表すかまたはR2、R3ならびにR2およびR3が結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく(ここで該環は、環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。)、R6およびR7は各々独立して炭素数1〜3のアルコキシ基または−NRaRbを表す。ここで、RaおよびRbは各々独立して炭素数1〜3のアルキル基を表すかまたはRa、RbならびにRaおよびRbが結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される化合物および式(3’)
〔式中、R4およびR5は、R4、R5ならびにR4およびR5が結合する窒素原子が一緒になって環を形成し、ここで該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される2級アミンとを反応させて、式(4’)
〔式中、R1a、R1b、R1c、R4およびR5は前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程;
式(4’)で示される化合物と次亜ハロゲン酸またはその塩とを反応させて、式(5)
〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を表し、R1a、R1bおよびR1cは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程;および、
式(5)で示される化合物を還元して、式(1)
〔式中、X、R1a、R1bおよびR1cは前記と同じ意味を有する。〕
で表される化合物を得る工程;を含む、式(1)で示される化合物の製造方法。 - 式(2)で示される化合物と、式(3)で示される化合物および式(3’)で示される2級アミンとを反応させて式(4’)で示される化合物を得る工程において、ヨウ化銅の存在下で反応させる請求項2に記載の方法。
- 2級アミンがピロリジンである請求項2に記載の方法。
- 式(4)で示される化合物と次亜ハロゲン酸またはその塩とを反応させて式(5)で示される化合物を得る工程において、次亜ハロゲン酸またはその塩が次亜塩素酸またはその塩である請求項1に記載の方法。
- 式(4’)で示される化合物と次亜ハロゲン酸またはその塩とを反応させて式(5)で示される化合物を得る工程において、次亜ハロゲン酸またはその塩が次亜塩素酸またはその塩である請求項2に記載の方法。
- 式(5)で示される化合物を還元して式(1)で示される化合物を得る工程において、不均一系白金族触媒とギ酸またはその塩との存在下で還元する請求項1に記載の方法。
- 式(5)で示される化合物を還元して式(1)で示される化合物を得る工程において、不均一系白金族触媒とギ酸またはその塩との存在下で還元する請求項2に記載の方法。
- R1aがメチル基であり、R1bおよびR1cが水素原子である請求項1に記載の方法。
- R1aがメチル基であり、R1bおよびR1cが水素原子である請求項2に記載の方法。
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