JPWO2015059915A1 - Icモジュール及びicカード、icモジュール基板 - Google Patents
Icモジュール及びicカード、icモジュール基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2015059915A1 JPWO2015059915A1 JP2015543712A JP2015543712A JPWO2015059915A1 JP WO2015059915 A1 JPWO2015059915 A1 JP WO2015059915A1 JP 2015543712 A JP2015543712 A JP 2015543712A JP 2015543712 A JP2015543712 A JP 2015543712A JP WO2015059915 A1 JPWO2015059915 A1 JP WO2015059915A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- module
- plating layer
- contact terminal
- chip
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 83
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 114
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 106
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 18
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract description 49
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 47
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 27
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 141
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 81
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 50
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 35
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 description 32
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 25
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 12
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 12
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002343 gold Chemical class 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
- G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
- G06K19/067—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
- G06K19/07—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
- G06K19/077—Constructional details, e.g. mounting of circuits in the carrier
- G06K19/0772—Physical layout of the record carrier
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
- G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
- G06K19/067—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components
- G06K19/07—Record carriers with conductive marks, printed circuits or semiconductor circuit elements, e.g. credit or identity cards also with resonating or responding marks without active components with integrated circuit chips
- G06K19/077—Constructional details, e.g. mounting of circuits in the carrier
- G06K19/07745—Mounting details of integrated circuit chips
- G06K19/07747—Mounting details of integrated circuit chips at least one of the integrated circuit chips being mounted as a module
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Credit Cards Or The Like (AREA)
Abstract
Description
図25は、従来例に係るICモジュール800の構成例を示す断面図である。図25に示すように、このICモジュール800は、接触端子510を有するICモジュール基板501にICチップ555を実装し、接触端子510の接続用領域とICチップ555とをボンディングホール503を通してワイヤー560で電気的に接続し、その後、ICチップ555とワイヤー560とをモールド樹脂570で封止することにより形成する。
そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、接触端子の外観を損なうことなく製造コストの低減が可能であるICモジュール及びICカード、ICモジュール基板の提供を目的とする。
<第1実施形態>
(構成)
図1は、本発明の第1実施形態に係るICモジュール基板50の構成例を示す断面図である。ICモジュール基板50は、ICチップを実装してICモジュールを構成するための基板である。図1に示すように、ICモジュール基板50は、基材1と、接触端子10と、第1の導電層20と、第2の導電層30と、表面材料40と、を有する。
基材1は、表(おもて)面1aと、裏面1bとを有する。基材1の表面1aと裏面1bとの間には、貫通穴であるスルーホール3が設けられている。基材1の裏面1bには、ICチップを取り付けるためのIC取付領域が用意されている。基材1の材質は特に限定されないが、例えば、ガラスエポキシ又はポリイミドからなる。また、基材1の厚さは、例えば80μm以上、170μm以下である。
一例を挙げると、接触端子10は、導電材料である銅箔11と、銅箔11上に形成された銅メッキ層12と、銅メッキ層12上に形成された図示しないニッケル(Ni)メッキ層と、ニッケルメッキ層上に形成された金(Au)メッキ層14とを有する。金メッキ層14は、貴金属メッキ層の一例である。接触端子10の側面10a、10b及び接触面10cが金メッキ層14からなる。
第2の導電層30は、スルーホール3の内壁に設けられている。第2の導電層30は、例えば、銅メッキ層12と、銅メッキ層12上に形成された図示しないニッケルメッキ層と、ニッケルメッキ層上に形成された金メッキ層14とを有する。
なお、接触端子10、第1の導電層20及び第2の導電層30が有する貴金属メッキ層は、金メッキ層に限定されるものではない。貴金属メッキ層は、例えば、銀(Ag)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)等の何れか一つからなるメッキ層でもよい。
また、表面材料10の一部が、後述のように接触端子10の外周部分を覆うように配置されても良い。但しその場合、覆っている部分(重複している部分)の表面材料40の厚みは段差が出来ない程度、具体的には10μm以下が好ましい。
また表面材料40の厚み(接触端子10を覆っている部分を除く)と、接触端子10の厚みとの差は、100μm以下であると良い。好ましくは50μm以下、更に好ましくは10μm以下である。上記の厚みの差が100μmより大きい場合、所定以上の段差が形成され、その段差の角が削れるなど、好ましくない。
また、表面材料40の色も特に限定されないが、例えば、接触端子10等が有する貴金属メッキ層と異なる色(例えば、金メッキ層の場合は、金色以外の色)でもよく、その場合は接触端子10の外観の意匠性をさらに高めることも可能である。この点については、後で説明する。
ICチップ55は、例えばシリコン(Si)ウェハーに回路を形成し、このSiウェハーを研磨することによりウェハーの厚みを規定の厚みとし、ダイシング装置により1つのチップとして切り離すことにより製造されたものである。接着剤51は、例えば銀(Ag)ペーストである。
ワイヤー60は、ICチップ55の図示しない電極パッドを接触端子10へ導通させるためのものである。ワイヤー60の一端はICチップ55の図示しない電極パッドに接合し、ワイヤー60の他端は第1の導電層20表面の金メッキ層14に接合している。ワイヤー60の材料は例えば金である。但し、ワイヤー60の材料は金に限定されるものではなく、例えば銅、アルミニウムなど他の材料であっても構わない。封止部材70は、例えばトランスファーモールド技術で形成されるモールド樹脂であり、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等からなる。
また、ICモジュール100は、凹部81に埋設された状態で、その表面(例えば、表面材料40の表面)がカード基材80の券面80aと面一(即ち、同じ高さ)となっている。カード基材80の材質は特に限定されないが、例えば、ポリ塩化ビニル(PVC)やポリエチレンテレフタレート(PET)等、絶縁性の樹脂材料からなる。
図4〜図6は、本発明の第1実施形態に係るICモジュール100の製造方法を工程順に示す断面図である。図4(a)に示すように、まず始めに、基材1の表面1a及び裏面1b(即ち、両面)にそれぞれ銅箔11、21がそれぞれ設けられた両面銅箔基材2を用意する。銅箔11、21は、例えば図示しない接着剤によって、基材1に貼付されている。
次に、図4(b)に示すように、両面銅箔基材2に貫通穴であるスルーホール3を形成する。スルーホール3は、例えば、両面銅箔基材2をドリルで掘削する又はレーザー光を照射することで形成する。次に、スルーホール3が形成された両面銅箔基材2を例えばプラズマ雰囲気に晒して、スルーホール3の内壁を活性化する。これにより、スルーホール3の形成時に内壁に残された樹脂残渣等を除去する。
次に、図4(d)に示すように、両面銅箔基材2の両面にフォトレジスト101、111をそれぞれ塗布する。そして、露光及び現像技術により、フォトレジスト101、111をそれぞれパターニングして、図5(a)に示すように、レジストパターン102、112をそれぞれ形成する。レジストパターン102の形状は、例えば、接触端子を形成する領域と、スルーホール3の上側開口端3aとを覆い、それ以外の領域(例えば、非形成領域)を露出した形状である。また、レジストパターン112の形状は、例えば、第1の導電層20を形成する領域と、スルーホール3の下側開口端3bとを覆い、それ以外の領域(例えば、IC取付領域)を露出した形状である。
次に、例えば電気メッキにより、銅メッキ層12上に図示しないニッケルメッキ層と、金メッキ層14とを形成する。このようにして、図6(a)に示すように、接触端子10と、第1の導電層20と、第2の導電層20とを形成する。次に、図6(b)に示すように、基材1の両面に絶縁性の表面材料40をそれぞれ塗布する。表面材料40の塗布方法(即ち、形成方法)は、例えば印刷(オフセット印刷、スクリーン印刷)である。或いは、表面材料40の形成方法は印刷以外の方法でもよく、例えば、蒸着等でもよい。また、表面材料40の上に保護材として透明層を形成してもよい。以上の工程を経て、図1に示したICモジュール基板50が完成する。
第1実施形態では、第1の導電層20と、第2の導電層30及びワイヤー60が本発明の「導電部材」に対応している。また、ワイヤー60が本発明の「導電路」に対応している。さらに、券面80aが本発明の「一方の面」に対応している。
本発明の第1実施形態は、以下の効果を奏する。
(1)接触端子10は、接触面10cの少なくとも一部と、側面10a、10bとが金メッキ層14からなる(つまり、接触端子10の接触面10cの少なくとも一部と、側面10a、10bとを、貴金属メッキ層を形成する形成領域とする。)。また、基材1の表面1aのうちICチップ51(又は、IC取付領域)と平面視で重なる領域の少なくとも一部を貴金属メッキ層を形成しない非形成領域とし、該非形成領域に表面材料40を配置する。
例えばISO又はJIS規格で定められた端子位置には、金メッキ層14を有する接触端子10を配置し、それ以外の位置では金メッキ層に替えて表面材料40を配置する。これにより、接触端子10における金メッキ層14の厚みを薄くすることなく、金の使用量を減らすことができるので、接触端子の外観を損なうことなく、ICモジュール基板、ICモジュール及びICカードの製造コストを低減することが可能である。
図7は、ICモジュール100の一例を模式的に示す平面図である。図7(a)及び(b)は6端子の例、図7(c)は接触端子10が8個(即ち、8端子)の例をそれぞれ示しているが、何れの場合も、ICモジュール基板100の外周の断面(側面)100aに銅等が露出していないため、腐食の進行を防ぐことができる。
(5)また、ワイヤー60の一端はICチップ55に接合し、その他端は基材の裏面1bに設けられた第1の導電層20に接合される。これにより、ICモジュール基板50の設計段階で、第1の導電層20のレイアウトを変更することにより、ワイヤー60の他端と第1の導電層20との接合部61の位置を調整することができる。
(6)また、仮にワイヤー60と第1の導電層20との接合部がローラー接触領域と重なる場合でも、ワイヤー60と第1の導電層20との接合部は基材1の裏面1b側であり、該接合部は基材1を介して搬送用ローラーで押圧されることとなる。このため、上記接合部が基材1の表面1a側に配置される場合と比べて、その信頼性は高い。
(1)上記の第1実施形態では、ICチップ55と第1の導電層20との電気的接続をワイヤー60を介して行う(即ち、ワイヤーボンディングで行う)場合について説明した。しかしながら、本発明の第1実施形態において、ICチップ55と第1の導電層20との電気的接続はワイヤー60に限定されるものではなく、例えば、バンプ電極を介して行ってもよい(即ち、フェースダウンボンディングで行ってもよい)。このような場合であっても、上記した第1実施形態の効果(1)〜(4)を奏する。
(2)上記の第1実施形態では、接触端子10の接触面10cが表面材料40下から完全に露出している場合について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではない。表面材料40は、接触面10cのうちの接続用領域以外の領域の少なくとも一部を覆っていてもよい。このような場合であっても、上記の第1実施形態の効果(1)〜(6)を奏する。また、表面1aの意匠性の確保にさらに寄与することができる。
上記の第1実施形態では、接触端子の側面が貴金属メッキ層からなる場合について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではない。接触端子の側面は、例えば、接触端子のベース材料(例えば、銅)であってもよい。第2実施形態では、この点について説明する。
(構成)
図9は、本発明の第2実施形態に係るICモジュール基板250の構成例を示す断面図である。図10は、本発明の第2実施形態に係るICモジュール300の構成例を示す断面図である。図11は、本発明の第2実施形態に係るICカード350の構成例を示す断面図である。
図12及び図13は、本発明の第2実施形態に係るICモジュール300の製造方法を工程順に示す断面図である。図12(a)に示すように、銅メッキ層12及び銅箔11、21を部分的にエッチングし、その後レジストを除去する工程までは、第1実施形態と同じである。
次に、図12(b)に示すように、基材1の表面1aの銅箔11下から露出している領域にレジストパターン103を形成する。また、レジストパターン103の形成と前後して、基材1の裏面1bの銅箔21下から露出している領域にレジストパターン113を形成する。レジストパターン103は、例えば、接触端子を形成する領域と、スルーホール3の上側開口端3aとを露出し、それ以外の領域(例えば、スペース等)を覆う形状である。また、レジストパターン113は、第1の導電層を形成する領域と、スルーホール3の下側開口端3bとを露出し、それ以外の領域(例えば、IC取付領域)を覆う形状である。レジストパターン103、113の形成方法は、例えばレジスト材料の印刷(オフセット印刷、スクリーン印刷)、又は、レジスト材料の塗布と露光及び現像技術である。
そして、これ以降の工程は、第1実施形態と同じである。即ち、図13(b)に示すように、基材1の両面に絶縁性の表面材料40をそれぞれ塗布する。これにより、図9に示したICモジュール基板250が完成する。次に、図13(c)に示すように、ICチップ55の実装工程と、ワイヤーボンディング工程と、封止工程とを順次行う。以上の工程を経て、図10に示したICモジュール300が完成する。
第2実施形態における本発明との対応関係は、第1実施形態と同じである。
本発明の第2実施形態は、第1実施形態の効果(1)、(3)〜(6)と同様の効果を奏する。
また、第2実施形態では、例えば銅からなる側面10a、10bを表面材料40が覆っている。これにより、接触端子10の側面10a、10bが使用環境に晒されることを防ぐことができ、各側面10a、10bに錆等が発生することを防ぐことができる。封止部材70から露出している第1の導電層20の側面20bについても同様である。従って、接触端子10等の耐腐食性を高めることができる。
(変形例)
第2実施形態においても、第1実施形態で説明した変形例(1)〜(3)を適用してよい。
上記の第3実施形態では、ICモジュール基板の基材として、表面及び裏面にそれぞれ銅箔が設けられた両面銅箔基材を用いる場合について説明した。しかしながら、本発明の実施形態において、ICモジュール基板の基材は両面銅箔基材に限定されるものではなく、例えば、表面又は裏面の一方にのみ銅箔が設けられた片面銅箔基材でもよい。第3実施形態では、このような場合について説明する。
(構成)
図14は、本発明の第3実施形態に係るICモジュール基板450の構成例を示す断面図である。図14に示すように、ICモジュール基板450は、基材1と、接触端子210と、表面材料240とを有する。
接触端子210は、基材1の表面1aに設けられている。接触端子210は、例えば銅(Cu)箔等の導電材料に金等の貴金属メッキが施された構造を有する。一例を挙げると、接触端子210は、導電材料である銅箔11と、銅箔11の表面及び側面に形成された図示しないニッケル(Ni)メッキ層と、ニッケルメッキ層を介して銅箔11の表面側に形成された金メッキ層14とを有する。また、接触端子210は、その裏面であって、貫通穴であるボンディングホール203に面する領域に形成された金メッキ層214を有する。
また、表面材料40は、基材1の表面1aのうち、接触端子10が配置されている領域以外の領域を覆っている。一例を挙げると、表面材料40は、基材1の表面1aのうち、貴金属メッキ層を形成しない非形成領域を覆っており、接触端子210の側面210aも覆っている。
図16は、本発明の第3実施形態に係るICカード550の構成例を示す断面図である。図16に示すように、ICカード550は、例えば接触式ICカードであり、その券面80aに凹部81を有するカード基材80と、この凹部81に埋設されたICモジュール300とを備える。この例では、ICモジュール500は、その裏面側(即ち、封止部材270を有する側)をカード基材80に向けた状態で凹部81に配置されており、ICモジュール300の外周部が接着剤83を介して凹部81の底面に接着、固定されている。
図17〜図19は、本発明の第3実施形態に係るICモジュール500の製造方法を工程順に示す断面図である。図17(a)に示すように、まず始めに、基材1を用意する。次に、図17(b)に示すように、基材1に貫通穴であるボンディングホール203を形成する。次に、図17(c)に示すように、基材1の表面1aに銅箔11を貼付する。銅箔11の貼付は、例えば図示しない接着剤を用いて行う。
次に、図17(d)に示すように、銅箔11上にフォトレジスト301を塗布する。そして、露光及び現像技術により、フォトレジスト301をそれぞれパターニングして、図18(a)に示すように、レジストパターン302を形成する。レジストパターン302は、例えば、接触端子を形成する領域(ボンディングホール203の上側開口端3aを含む。)を覆い、それ以外の領域(例えば、非形成領域)を露出した形状である。
次に、図19(a)に示すように、電気メッキにより、銅箔11の表面と、銅箔11の(ボンディングホール203を通して露出している)裏面と、銅箔11の側面とに図示しないニッケルメッキ層と、金メッキ層14、214とを形成する。これにより、接触端子210を形成する。次に、図19(b)に示すように、基材1の表面1aに表面材料40を形成する。表面材料40の形成方法は、例えば印刷(オフセット印刷、スクリーン印刷)、又は蒸着等である。また、表面材料40の上に保護材として透明層を形成してもよい。以上の工程を経て、図14に示したICモジュール基板450が完成する。
ICカードの製造工程は、第1実施形態と同じである。即ち、ICモジュール500をカード基材80の凹部81に埋設する。この埋設は、例えばピックアップ装置等を用いて行う。以上の工程を経て、図16に示したICカード550が完成する。
第3実施形態では、ワイヤー60が本発明の導電部材に対応している。それ以外の対応関係は第1実施形態と同じである。
(第3実施形態の効果)
第3実施形態は、第1実施形態の効果(1)〜(3)と同様の効果を奏する。
上記の第3実施形態では、片面銅箔基材を用いる場合で、かつ、接触端子の側面が貴金属メッキ層からなる場合について説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではない。両面銅箔基材を用いる場合と同様、接触端子の側面は、例えば、接触端子のベース材料(例えば、銅)であってもよい。第4実施形態では、この点について説明する。
(構成)
図20は、本発明の第4実施形態に係るICモジュール基板650の構成例を示す断面図である。図21は、本発明の第4実施形態に係るICモジュール700の構成例を示す断面図である。図22は、本発明の第4実施形態に係るICカード750の構成例を示す断面図である。
図23及び図24は、本発明の第4実施形態に係るICモジュール700の製造方法を工程順に示す断面図である。図23(a)に示すように、銅メッキ層12及び銅箔11、を部分的にエッチングし、その後レジストを除去する工程までは、第3実施形態と同じである。
次に、図23(b)に示すように、基材1の表面1aの銅箔11下から露出している領域にレジストパターン303を形成する。レジストパターン303の形成方法は、例えばレジスト材料の印刷(オフセット印刷、スクリーン印刷)、又は、レジスト材料の塗布と露光及び現像技術である。
そして、これ以降の工程は、第3実施形態と同じである。即ち、図24(b)に示すように、基材1の両面に絶縁性の表面材料40をそれぞれ塗布する。これにより、図20に示したICモジュール基板650が完成する。次に、図24(c)に示すように、ICチップ55の実装工程と、ワイヤーボンディング工程と、封止工程とを順次行う。以上の工程を経て、図21に示したICモジュール700が完成する。
第4実施形態における本発明との対応関係は、第3実施形態と同じである。
本発明の第4実施形態は、第1実施形態の効果(1)、(3)と同様の効果を奏する。
また、第4実施形態では、例えば銅からなる側面210a、210bを表面材料40が覆っている。これにより、接触端子210の側面210a、210bが使用環境に晒されることを防ぐことができ、各側面210a、210bに錆等が発生することを防ぐことができる。従って、接触端子210等の耐腐食性を高めることができる。
上記の各実施形態では、ICモジュール基板、ICモジュール及びICカードを接触式ICカードに適用する場合について説明した。しかしながら、本発明の適用は接触式に限定されるものではなく、例えば、接触ICチップと非接触ICチップとを一枚のカードに搭載したハイブリッドカード、1つのICチップが接触式及び非接触式の双方として機能するデュアルカード、デュアルカードにアンテナコイル等が設けられた電磁結合デュアルカードなど、ICモジュール構造が適用されるモジュール構造全般に適用してもよい。このような場合であっても、各実施形態の効果を奏する。
ここでは、限られた数の実施形態を参照しながら説明したが、権利範囲はそれらに限定されるものではなく、上記の開示に基づく各実施形態の改変は当業者にとって自明なことである。すなわち、本発明は、以上に記載した各実施形態に限定されうるものではない。当業者の知識に基づいて各実施形態に設計の変更等を加えることが可能であり、そのような変更等を加えた態様も本発明の範囲に含まれる。
1a 表面
1b 裏面
2 両面銅箔基材
3 スルーホール
3a 上側開口端
3b 下側開口端
10、210 接触端子
10a、20a、20b、210a 側面
10c、210c 接触面
11、21 銅箔
12 銅メッキ層
14、214 金メッキ層
20 第1の導電層
20a、20b 側面
30 第2の導電層
40、240 表面材料
50、250、450、650 モジュール基板
51 接着剤
55 ICチップ
60 ワイヤー
61 接合部
70、270 封止部材
80 カード基材
80a 券面
81 凹部
83 接着剤
100、300、500、700 ICモジュール
100a 外周の断面(側面)
101、301 フォトレジスト
102、103、112、113、302、303 レジストパターン
150、350、550、750 ICカード
203 ボンディングホール
Claims (7)
- 表面及び裏面に開口する貫通穴が設けられた基材と、
前記表面に設けられ、外部端子との接触面の少なくとも一部が貴金属メッキ層からなる接触端子と、
平面視で前記貫通穴と重ならない位置で前記裏面に取り付けられたICチップと、
前記貫通穴を通して、前記ICチップと前記接触端子とを接続する導電部材と、
前記表面を部分的に覆う絶縁性の表面材料とを備え、
前記表面のうち前記ICチップと平面視で重なる領域の少なくとも一部を前記貴金属メッキ層を形成しない非形成領域とし、該非形成領域に前記表面材料を配置することを特徴とするICモジュール。 - 前記接触端子の側面は前記貴金属メッキ層からなることを特徴とする請求項1に記載のICモジュール。
- 前記表面材料は、前記接触端子の側面を覆っていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のICモジュール。
- 前記表面材料の色は、前記貴金属メッキ層の色と異なることを特徴とする請求項1から請求項3の何れか一項に記載のICモジュール。
- 前記導電部材は、
前記基材の前記裏面に設けられた第1の導電層と、
前記貫通穴の内壁に設けられ、前記第1の導電層と前記接触端子とに接続する第2の導電層と、
一端が前記ICチップに接続し、他端が前記第1の導電層に接続する導電路と、を有することを特徴とする請求項1から請求項4の何れか一項に記載のICモジュール。 - 一方の面に凹部を有するカード基材と、
前記凹部に埋設されたICモジュールとを備え、
前記ICモジュールは、
表面及び裏面に開口する貫通穴が設けられた基材と、
前記表面に設けられ、外部端子との接触面の少なくとも一部が貴金属メッキ層からなる接触端子と、
平面視で前記貫通穴と重ならない位置で前記裏面に取り付けられたICチップと、
前記貫通穴を通して、前記ICチップと前記接触端子とを接続する導電部材と、
前記表面を部分的に覆う絶縁性の表面材料とを備え、
前記表面のうち前記ICチップと平面視で重なる領域の少なくとも一部を前記貴金属メッキ層を形成しない非形成領域とし、該非形成領域に前記表面材料を配置することを特徴とするICカード。 - 表面及び裏面に開口する貫通穴が設けられた基材と、
前記表面に設けられ、外部端子との接触面の少なくとも一部が貴金属メッキ層からなる接触端子と、
前記表面を部分的に覆う絶縁性の表面材料とを備え、
前記裏面のうち、平面視で前記貫通穴と重ならない領域に前記ICチップを取り付けるIC取付領域が設定され、
前記表面のうち、前記IC取付領域と平面視で重なる領域の少なくとも一部を前記貴金属メッキ層を形成しない非形成領域とし、該非形成領域に前記表面材料を配置することを特徴とするICモジュール基板。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013219361 | 2013-10-22 | ||
JP2013219361 | 2013-10-22 | ||
PCT/JP2014/005305 WO2015059915A1 (ja) | 2013-10-22 | 2014-10-20 | Icモジュール及びicカード、icモジュール基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015059915A1 true JPWO2015059915A1 (ja) | 2017-03-09 |
JP6346192B2 JP6346192B2 (ja) | 2018-06-20 |
Family
ID=52992534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015543712A Active JP6346192B2 (ja) | 2013-10-22 | 2014-10-20 | Icモジュール及びicカード、icモジュール基板 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9633297B2 (ja) |
EP (1) | EP3062266B1 (ja) |
JP (1) | JP6346192B2 (ja) |
CN (1) | CN105684000B (ja) |
WO (1) | WO2015059915A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6372148B2 (ja) * | 2014-04-23 | 2018-08-15 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62151396A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-06 | 松下電器産業株式会社 | Icカ−ド |
JPS63212594A (ja) * | 1986-11-20 | 1988-09-05 | ゲーアーオー ゲゼルシャフト フィア アウトマチオン ウント オルガニザチオン エムベーハー | 集積回路を有するデータキャリア及びその製造方法及びその製造装置 |
FR2765010A1 (fr) * | 1997-06-20 | 1998-12-24 | Inside Technologies | Micromodule electronique, notamment pour carte a puce |
DE10311965A1 (de) * | 2003-03-18 | 2004-10-14 | Infineon Technologies Ag | Flip-Chip Anordnung auf einem Substratträger |
JP2004538588A (ja) * | 2001-08-10 | 2004-12-24 | インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト | チップカードへの半導体チップのボンディング |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000348154A (ja) | 1999-06-02 | 2000-12-15 | Toppan Printing Co Ltd | デザインを施したカード用icモジュール及びそれを用いたicカード |
EP1122778A3 (en) * | 2000-01-31 | 2004-04-07 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Circuit device and manufacturing method of circuit device |
JP2002312746A (ja) | 2001-04-11 | 2002-10-25 | Toshiba Corp | Icモジュール及びその製造方法、並びに該icモジュールを装着した携帯可能電子装置 |
JP2002312749A (ja) * | 2001-04-16 | 2002-10-25 | Nec Tokin Corp | コンビ型icカードの製造方法 |
US7807498B2 (en) * | 2007-07-31 | 2010-10-05 | Seiko Epson Corporation | Substrate, substrate fabrication, semiconductor device, and semiconductor device fabrication |
US7875988B2 (en) * | 2007-07-31 | 2011-01-25 | Seiko Epson Corporation | Substrate and manufacturing method of the same, and semiconductor device and manufacturing method of the same |
WO2009136496A1 (ja) * | 2008-05-09 | 2009-11-12 | 国立大学法人九州工業大学 | 3次元実装半導体装置及びその製造方法 |
US20110266671A1 (en) * | 2010-05-03 | 2011-11-03 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Substrate for a semiconductor package and manufacturing method thereof |
-
2014
- 2014-10-20 WO PCT/JP2014/005305 patent/WO2015059915A1/ja active Application Filing
- 2014-10-20 CN CN201480058190.0A patent/CN105684000B/zh active Active
- 2014-10-20 US US15/030,687 patent/US9633297B2/en active Active
- 2014-10-20 EP EP14855890.1A patent/EP3062266B1/en active Active
- 2014-10-20 JP JP2015543712A patent/JP6346192B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62151396A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-06 | 松下電器産業株式会社 | Icカ−ド |
JPS63212594A (ja) * | 1986-11-20 | 1988-09-05 | ゲーアーオー ゲゼルシャフト フィア アウトマチオン ウント オルガニザチオン エムベーハー | 集積回路を有するデータキャリア及びその製造方法及びその製造装置 |
FR2765010A1 (fr) * | 1997-06-20 | 1998-12-24 | Inside Technologies | Micromodule electronique, notamment pour carte a puce |
JP2004538588A (ja) * | 2001-08-10 | 2004-12-24 | インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト | チップカードへの半導体チップのボンディング |
DE10311965A1 (de) * | 2003-03-18 | 2004-10-14 | Infineon Technologies Ag | Flip-Chip Anordnung auf einem Substratträger |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6346192B2 (ja) | 2018-06-20 |
WO2015059915A1 (ja) | 2015-04-30 |
CN105684000A (zh) | 2016-06-15 |
EP3062266A4 (en) | 2017-07-19 |
EP3062266B1 (en) | 2020-10-14 |
EP3062266A1 (en) | 2016-08-31 |
US9633297B2 (en) | 2017-04-25 |
CN105684000B (zh) | 2019-03-15 |
US20160267371A1 (en) | 2016-09-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101535223B1 (ko) | 테이프 배선 기판, 칩-온-필름 패키지 및 장치 어셈블리 | |
JP2007004775A (ja) | 半導体メモリカード | |
US9760754B2 (en) | Printed circuit board assembly forming enhanced fingerprint module | |
JP2002373969A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
KR20070101094A (ko) | 전자 장치용 기판 및 그 제조 방법, 및 전자 장치 및 그제조 방법 | |
US9583459B2 (en) | Method for producing a printed circuit, printed circuit obtained by this method and electronic module comprising such a printed circuit | |
CN106470527B (zh) | 用于形成增强型指纹辨识模块的印刷电路板结构 | |
US8987060B2 (en) | Method for making circuit board | |
JP2008078207A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP7474251B2 (ja) | チップカード用電子モジュール | |
JP4945682B2 (ja) | 半導体記憶装置およびその製造方法 | |
JP2010245157A (ja) | 配線用部品及びその製造方法、並びに該配線用部品を組み込んで用いる電子デバイスパッケージ及びその製造方法 | |
JP6346192B2 (ja) | Icモジュール及びicカード、icモジュール基板 | |
JP4759041B2 (ja) | 電子部品内蔵型多層基板 | |
KR100610144B1 (ko) | 플립 칩 조립 구조를 가지는 칩-온-보드 패키지의 제조 방법 | |
JP2005347488A (ja) | 半導体装置 | |
JP4952266B2 (ja) | デュアルインターフェースicカードとその製造方法、接触・非接触兼用icモジュール | |
JP2007213463A (ja) | 非接触データキャリア、非接触データキャリア用配線基板 | |
JP2015082185A (ja) | Icモジュール及びicカード | |
JP2008269648A (ja) | 接触型非接触型共用icカード | |
US20110260340A1 (en) | Circuit board structure, packaging structure and method for making the same | |
JP4207933B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2006019606A (ja) | 電子部品の製造方法および電子部品ならびにicカード | |
CN101740424B (zh) | 芯片封装结构的制程 | |
CN101661928A (zh) | 芯片封装体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180508 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180524 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6346192 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |