JPWO2015025794A1

JPWO2015025794A1 - 膜形成用組成物及び単層塗布型水平配向フィルム

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Publication number: JPWO2015025794A1
Application number: JP2015532837A
Authority: JP
Inventors: ダニエルアントニオ櫻葉汀
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 2013-08-23
Filing date: 2014-08-14
Publication date: 2017-03-02
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Abstract

式［１ａ］及び［１ｂ］で表される繰り返し単位を含む少なくとも１種の重合体と有機溶媒とを含有することを特徴とする膜形成用組成物。

Description

本発明は、膜形成用組成物及び単層塗布型水平配向フィルムに関する。詳しくは、表示装置や記録材料等の用途に好適な光学特性を有する材料、特に、液晶ディスプレイ用の偏光板及び位相差板等の光学補償フィルムに好適に利用できる膜を与える膜形成用組成物、及び該組成物から得られる単層塗布型水平配向フィルムに関する。

液晶表示装置の表示品位の向上や軽量化等の要求から、偏光板や位相差板等の光学補償フィルムとして、内部の分子配向構造が制御された高分子フィルムの要求が高まっている。この要求に応えるべく、重合性液晶化合物が有する光学異方性を利用したフィルムの開発がなされている。ここで用いられる重合性液晶化合物は、一般に、重合性基と液晶構造部位（スペーサ部とメソゲン部とを有する構造部位）とを有する液晶化合物であり、この重合性基としてアクリル基が広く用いられている。

このような重合性液晶化合物は、一般的に、紫外線等の放射線を照射して重合する方法で重合体（フィルム）とされる。例えば、アクリル基を有する特定の重合性液晶化合物を支持体間に担持し、この化合物を液晶状態に保持しつつ放射線を照射して重合体を得る方法（特許文献１）や、アクリル基を有する２種類の重合性液晶化合物の混合物又はこの混合物にカイラル液晶を混合した組成物に光重合開始剤を添加し、紫外線を照射して重合体を得る方法（特許文献２）が知られている。

また、液晶配向膜を必要としない重合性液晶化合物や重合体を用いた配向フィルム（特許文献３、４）、光架橋部位を含有した重合体を用いた配向フィルム（特許文献５、６）等、様々な単層塗布型配向フィルムが報告されてきた。しかし、これらのフィルムに用いる重合体は、溶解性が低く、溶媒としてＮ−メチル−２−ピロリドン、クロロホルム、クロロベンゼン等の溶解力に優れた溶媒を使う必要があるため、これらの溶液から得られたフィルムの屈折率異方性（Δｎ）、ヘイズ値等の特性が悪化することがあるという問題があった。また、簡単なプロセスによって低ヘイズ値を示す配向フィルムを得ることができる材料はこれまでに見出されていなかった。

特開昭６２−７０４０７号公報特開平９−２０８９５７号公報欧州特許出願公開第１０９０３２５号明細書国際公開第２００８／０３１２４３号特開２００８−１６４９２５号公報特開平１１−１８９６６５号公報

本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、より簡単なプロセスで低ヘイズ値を示す単層塗布型水平配向フィルム作製を可能とする膜形成用組成物、及び該組成物から得られる単層塗布型水平配向フィルムを提供することを目的とする。

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、γ−ブチロラクトン骨格を主鎖に含有するとともに、ラクトン環のγ位から延びる側鎖上にケイ皮酸エステル構造を有する重合体を用いることで、偏光紫外線露光後に安定なネットワーク構造が形成されるためか、液晶配向膜を使用することなく、屈折率異方性（Δｎ）を有する水平配向フィルムが得られること、低いヘイズ値を示す水平配向フィルムを低温条件下で作製可能となることを見出し、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、下記膜形成用組成物及び単層塗布型水平配向フィルムを提供する。
１．式［１ａ］及び［１ｂ］で表される繰り返し単位を含む少なくとも１種の重合体と有機溶媒とを含有することを特徴とする膜形成用組成物。

［式中、Ｘは式［２］又は［３］で表される基であり、

（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基である。破線は結合手である。）
Ｍ¹は式［４］で表される基であり、Ｍ²は式［５］で表される基であり、

（式中、ｓ１〜ｓ４はそれぞれ独立に１又は２であり、Ｇ¹は単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−であり、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｒ³は炭素数１〜３のアルキル基である。破線は結合手である。）
ｍ及びｎはそれぞれ０＜ｍ＜１００、０＜ｎ＜１００、かつ、ｍ＋ｎ≦１００を満たす数であり、
ｑ及びｒはそれぞれ独立に２〜９の整数である。］
２．１の膜形成用組成物を基板に塗布し、次いで偏光を照射し、硬化させることにより得られる単層塗布型水平配向フィルム。
３．上記偏光が、直線偏光紫外線である２の単層塗布型水平配向フィルム。
４．２又は３の単層塗布型水平配向フィルムを備える光学部材。

本発明の重合体は、γ−ブチロラクトン骨格を主鎖に含有する。そのため、この重合体を含有する膜形成用組成物を塗布し、室温にて直線偏光を照射し、ポストベークを行うプロセスにより、低ヘイズ値を示す単層塗布型水平配向フィルムを作製することが可能である。

実施例１で得られたフィルムの波長５５０ｎｍにおけるリタデーション値角度依存性を示す図である。実施例２で得られたフィルムの波長５５０ｎｍにおけるリタデーション値角度依存性を示す図である。実施例３で得られたフィルムの波長５５０ｎｍにおけるリタデーション値角度依存性を示す図である。比較例１で得られたフィルムの波長５５０ｎｍにおけるリタデーション値角度依存性を示す図である。

［膜形成用組成物］
本発明の膜形成用組成物は、少なくとも１種の下記重合体と有機溶媒とを含有する。

［重合体］
本発明の膜形成用組成物に含まれる重合体は、式［１ａ］及び［１ｂ］で表される繰り返し単位を含む。

式［１ａ］中、Ｘは式［２］又は［３］で表される基である。

（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基である。破線は結合手である。）

式［１ａ］中、Ｍ¹は式［４］で表される基であり、式［１ｂ］中、Ｍ²は式［５］で表される基である。

（式中、ｓ１〜ｓ４はそれぞれ独立に１又は２であり、Ｇ¹は単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−であり、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｒ³は炭素数１〜３のアルキル基である。破線は結合手である。）

ここで、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子が挙げられるが、本発明においては、フッ素原子が好ましい。

アルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その炭素数も特に限定されない。上記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロブチル基、ｎ−ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。これらのうち、Ｒ²としては、直鎖状の炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、特にメチル基、エチル基等が好ましい。Ｒ³としては、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、特にメチル基、エチル基等が好ましい。

アルコキシ基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、その炭素数も特に限定されないが、本発明においては、直鎖状の炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましい。上記アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等が挙げられる。これらのうち、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、特にメトキシ基、エトキシ基等が好ましい。

なお、上記アルキル基、アルコキシ基において、その水素原子の一部又は全部がフッ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。

Ｒ²として更に好ましくは、水素原子、フッ素原子、シアノ基、メチル基、メトキシ基等である。Ｒ³として更に好ましくは、メチル基である。

Ｇ¹としては、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−が好ましい。

式［１ａ］及び［１ｂ］中、ｍ及びｎは、各繰り返し単位の含有率（ｍｏｌ％）を表し、それぞれ０＜ｍ＜１００、０＜ｎ＜１００、かつ、ｍ＋ｎ≦１００を満たす数であるが、Δｎの向上や重合体の溶解性の向上等の点から、それぞれ２０≦ｍ≦９０、１０≦ｎ≦８０を満たす数であることが好ましく、５０≦ｍ≦８０、２０≦ｎ≦５０を満たす数であることがより好ましい。

式［１ａ］及び［１ｂ］中、ｑ及びｒは、それぞれ独立に２〜９の整数であるが、３〜６が好ましく、特にｑとしては５又は６がより好ましい。

上記重合体は、重量平均分子量が３,０００〜２００,０００であることが好ましく、４,０００〜１５０,０００であることがより好ましく、５,０００〜１００,０００であることが更に好ましい。重量平均分子量が２００,０００を超えると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が３,０００未満であると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性及び耐熱性が低下する場合がある。
なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算測定値である。

また、上記重合体は、本発明の効果を損なわない限り、式［１ａ］及び［１ｂ］以外の他の繰り返し単位を含んでもよい。上記他の繰り返し単位を与える重合性化合物としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物等が挙げられる。

上記他の繰り返し単位の含有率は、全繰り返し単位中、０〜１０ｍｏｌ％が好ましい。上記他の繰り返し単位の含有率が大きすぎると、本発明の重合体の特性、例えば液晶性等の特性が低下する場合がある。

なお、本発明の重合体は、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体のいずれでもよい。

［重合性化合物］
本発明で用いる重合体の原料となる重合性化合物は、式［６］及び［７］で表される。

［式中、Ｒ²、Ｒ³、Ｇ¹、ｑ、ｒ及びｓ１〜ｓ４は上記と同じ。Ｘ'は式［８］又は［９］で表される重合性基である。

（式中、Ｒ¹は上記と同じ。）］

［重合性化合物の合成］
上記重合性化合物は、有機合成化学における手法を組み合わせることによって合成することができ、その合成法は特に限定されない。

例えば、式［６］で表される重合性化合物は下記方法にて製造される。
Ｇ¹が−ＣＯＯ−の場合、下記スキームで表されるように、式［１０］で表される安息香酸誘導体とフェノール誘導体とを、溶媒中、縮合剤の存在下で縮合させることにより製造される。

（式中、Ｒ²、Ｘ'、ｑ、ｓ１及びｓ２は上記と同じ。ＤＣＣはＮ,Ｎ'−ジシクロヘキシルカルボジイミドを、ＤＭＡＰはＮ,Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジンを表す。）

Ｇ¹が−ＯＣＯ−の場合、下記スキームで表されるように、式［１１］で表されるフェノール誘導体と安息香酸誘導体とを、溶媒中、縮合剤の存在下で縮合させることにより製造される。

（式中、Ｒ²、Ｘ'、ｑ、ｓ１及びｓ２は上記と同じ。）

また、式［７］で表される化合物は、下記合成スキームで表されるように、式［１２］で表される化合物とフェノール誘導体とを、溶媒中、縮合剤の存在下で縮合させることにより製造される。

（式中、Ｒ³、ｒ、ｓ３及びｓ４は上記と同じ。）

式［１０］及び［１１］で表される化合物は、Ｘ'が式［８］で表される基の場合は、SYNTHON Chemicals社又はみどり化学（株）から市販品として入手可能である。
また、式［１０］及び［１１］で表される化合物であってＸ'が式［９］で表される基であるもの、及び式［１２］で表される化合物は、例えば、Talaga等（P. Talaga, M. Schaeffer, C. Benezra and J. L. Stampf, Synthesis, 530 (1990)）が提案する手法を用いて合成することができる。この手法は、下記合成スキームＡ１で表されるように、ＳｎＣｌ₂を用いて２−(ブロモメチル)アクリル酸とアルデヒド又はケトンとを反応させる方法である。なお、２−(ブロモメチル)アクリル酸は、Ramarajan等が提案する方法で得ることができる（K.Ramarajan, K.Kamalingam, D. J. O'Donnell and K. D. Berlin, Organic Synthesis, vol. 61,pp. 56-59 (1983)）。

（式中、Ｒ'は一価の有機基を表す。Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ（登録商標）１５は、ロームアンドハース社製イオン交換樹脂である。ＴＨＦはテトラヒドロフランを表す。Ｅｔはエチル基を表す。）

また、ＳｎＣｌ₂を用いた２−(ブロモメチル)アクリル酸の反応では、アルデヒド又はケトンの代わりに対応するアセタール又はケタールとの反応により、α−メチレン−γ−ブチロラクトン構造を得ることもできる。アセタール又はケタールとしては、ジメチルアセタール基、ジエチルアセタール基、１,３−ジオキサン基、１,３−ジオキソラン基等を有する化合物が挙げられる。下記合成スキームＡ２に、アセタール又はケタールを用いた場合の合成法及び保護基を示す。

（式中、Ｒ'は上記と同じ。）

上記合成スキームＡ１又はＡ２の手法を応用した下記合成スキームＢ又はＣの手法により、式［１０］、［１１］又は［１２］で表される化合物を合成することができる。

（式中、ｑ及びｓ１は上記と同じ。Ｍｅはメチル基を表す。ＰＣＣはピリジニウムクロロクロマートを表す。）

（式中、ｑ及びｓ１は上記と同じ。）

［重合体の合成］
上記重合体を合成する方法としては、特に限定されず、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等を採用し得る。これらのうち、特にラジカル重合が好ましく、具体的には、溶媒中、上記重合性化合物を重合開始剤の存在下で加熱し、重合させればよい。

重合開始剤としては、従来公知のものから適宜選択して用いることができる。例えば、過酸化ベンゾイル、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等の過酸化物；過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩；アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスメチルブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル等のアゾ系化合物等が挙げられる。これらは１種単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。

重合開始剤の使用量は、重合性化合物１ｍｏｌに対して、０.０１〜０.０５ｍｏｌ程度が好ましい。
反応温度は、０℃から使用する溶媒の沸点までで適宜設定すればよいが、２０〜１００℃程度が好ましい。反応時間は、０.１〜３０時間程度が好ましい。

重合反応に用いられる溶媒としては、特に限定されず、上記重合反応で一般的に使用されている各種溶媒から適宜選択して用いればよい。具体的には、水；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、ｉ−ペンタノール、ｔ−ペンタノール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１,４−ジオキサン等のエーテル類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテルアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル類；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、アニソール等の脂肪族又は芳香族炭化水素類；メチラール、ジエチルアセタール等のアセタール類；ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸類；ニトロプロパン、ニトロベンゼン、ジメチルアミン、モノエタノールアミン、ピリジン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等が挙げられる。これらは１種単独で又は２種以上混合して用いることができる。

上記重合体が式［１ａ］及び［１ｂ］以外の他の繰り返し単位を含む場合は、その合成方法としては、上記重合の際に、上記他の繰り返し単位を与える重合性化合物を共存させて重合すればよい。

［有機溶媒］
本発明の膜形成用組成物に含まれる有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の極性溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類；３−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル等のアルコキシエステル類；エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等のグリコールジアルキルエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のジグリコールジアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールモノアルキルエーテル類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル等のジグリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート、エチルセロソルブアセテート等のグリコールモノアルキルエーテルエステル類；シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン等のケトン類等を挙げることができる。これらの有機溶媒は１種単独で又は２種以上混合して用いることができる。

これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、シクロヘキサノン等が好ましい。
有機溶媒の使用量は、組成物中６０〜９５質量％程度とすることが好適である。

［その他の成分］
本発明の膜形成用組成物には、基板との親和性を向上させる目的で界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、特に限定されないが、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられる。これらのうち、基板との親和性改善効果の高いフッ素系界面活性剤が好ましい。

フッ素系界面活性剤の具体例としては（以下、商品名）、エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（（株）トーケムプロダクツ製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（旭硝子（株）製）等が挙げられるが、これらに限定されない。なお、界面活性剤は１種単独でも２種以上を組み合わせて用いることもでき、その添加量は重合体１００質量部に対して５質量部以下が好ましい。

更に、本発明の膜形成用組成物には、基板との密着性を向上させる目的で密着促進剤を添加してもよい。

密着促進剤としては、トリメチルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン等のクロロシラン類；トリメチルメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルビニルエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類；ヘキサメチルジシラザン、Ｎ,Ｎ'−ビス(トリメチルシリル)ウレア、ジメチルトリメチルシリルアミン、トリメチルシリルイミダゾール等のシラザン類；ビニルトリクロロシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(Ｎ−ピペリジニル)プロピルトリメトキシシラン等のシラン類；ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、インダゾール、イミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、ウラゾール、チオウラシル、メルカプトイミダゾール、メルカプトピリミジン等の複素環状化合物；１,１−ジメチルウレア、１,３−ジメチルウレア等の尿素化合物；チオ尿素化合物等が挙げられる。

密着促進剤は１種単独でも２種以上を組み合わせて用いることもでき、その添加量は重合体１００質量部に対して１質量部以下が好ましい。

［単層塗布型水平配向フィルム］
以上説明した本発明の膜形成用組成物を基板（例えば、シリコン／二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロム等が被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ＩＴＯ基板等）やフィルム（例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム）等の上に、バーコート、スピンコート、フローコート、ロールコート、スリットコート、スリットコートに続いたスピンコート、インクジェット法、印刷法等の方法によって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレート又はオーブン等で加熱乾燥することにより、膜を形成することができる。

加熱乾燥の条件としては、例えば、４０〜１００℃及び０.１〜６０分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度及び加熱時間が採用される。上記加熱温度及び加熱時間は、好ましくは４０〜８０℃、０.１〜２分間である。

このようにして形成された膜に対して、直線偏光照射を行い、ポストベークを行うことにより、単層塗布型水平配向フィルムが得られる。
直線偏光の照射方法としては、通常１５０〜４５０ｎｍの波長の紫外線〜可視光線が用いられ、室温又は加熱した状態で、直線偏光を照射することによって行われる。照射線量は、用いる光によって異なるが、概ね１００〜２,０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましい。

また、ポストベークは、ホットプレート又はオーブン等で加熱すればよく、その温度及び時間は、好ましくは９０〜１５０℃、２〜２０分間であり、より好ましくは９５〜１２０℃、５〜２０分間である。

本発明の単層塗布型水平配向フィルムの膜厚は、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができ、例えば、０.１〜３μｍが好適である。

このようにして得られた本発明の単層塗布型水平配向フィルムは、表示装置や記録材料等の用途に好適な光学特性を有する材料であり、特に、液晶ディスプレイ用の偏光板及び位相差板等の光学補償フィルムとして好適である。

以下、合成例、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されない。なお、実施例における各物性の測定方法及び測定条件は、以下のとおりである。
［１］¹Ｈ−ＮＭＲ
化合物を重水素化クロロホルム（CDCl₃）に溶解し、核磁気共鳴装置（３００ＭＨｚ、ジオール社製）を用いて¹Ｈ−ＮＭＲを測定した。
［２］平均分子量測定
昭和電工（株）製ＳｈｏｄｅｘＧＰＣ−１０１（溶媒：テトラヒドロフラン、検量線：標準ポリスチレン）を用いて、数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を測定した。
［３］ヘイズ値
（有）東京電色製Spectral Haze Meter（TC-1800H）を用いてフィルムのヘイズ値を測定した。
［４］フィルムのリタデーション値（Δｎｄ）
リタデーション測定装置（ＲＥＴＳ−１００、大塚電子（株）製）を用いて波長５５０ｎｍのΔｎｄを測定した。
［５］偏光顕微鏡観察
（株）ニコン製の偏光顕微鏡Ｅ６００−Ｐｏｌを用いて観察を行った。

［合成例１］重合性化合物（Ｍ１）の合成
［１］中間体化合物（Ａ１）の合成

冷却管付き２００ｍＬナスフラスコに、４−ヒドロキシ安息香酸メチル７.６１ｇ（５０.０ｍｍｏｌ）、６−ブロモ−１−ヘキサノール９.１ｇ（５０.０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１３.８ｇ（１００ｍｍｏｌ）、及びアセトン７０ｍＬを加えて混合物とし、６４℃で２４時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧下で反応液から溶媒を留去し、黄色の湿潤固体を得た。この固体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（カラム：シリカゲル６０、０.０６３−０.２００ｍｍ、メルク社製、溶出液：へキサン／酢酸エチル＝１／１）により精製した。得られた溶液から溶媒を留去し、白色の固体１１.３ｇを得た。この固体を¹Ｈ−ＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が目的の中間体化合物（Ａ１）であることが確認された（収率９０％）。
¹H-NMR (CDCl₃) δ:1.3-1.7(m, 8H), 3.67(m, 2H), 3.88(s, 3H), 4.03(t, 2H), 6.91(d, 2H), 7.99(d, 2H).

［２］中間体化合物（Ｂ１）の合成

次に、冷却管付き１００ｍＬ三口フラスコに、ＰＣＣ２.２ｇ（１０.０ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン１５.０ｍＬを入れて攪拌混合した状態で、中間体化合物（Ａ１）２.５ｇ（１０.０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１５.０ｍＬに溶解した溶液を滴下し、室温で６時間更に攪拌した。その後、フラスコの壁に付着したオイル状物を除いた溶液に、ジエチルエーテル９０ｍＬを加えて減圧ろ過した後、減圧下で溶媒を留去して、濃緑色の湿潤な固体を得た。
この固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィ（カラム：シリカゲル６０、０.０６３−０.２００ｍｍ、メルク社製、溶出液：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製した。得られた溶液から溶媒を留去して、無色の固体１.３ｇを得た。この固体を¹Ｈ−ＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この無色の固体が目的の中間体化合物（Ｂ１）であることが確認された（収率５０％）。
¹H-NMR (CDCl₃) δ:1.3-1.8(m, 6H), 2.49(t, 2H), 3.88(s, 3H), 3.99(t, 2H), 6.87(d, 2H), 7.99(d, 2H), 9.78(s, 1H).

［３］中間体化合物（Ｃ１）の合成

次に、冷却管付き５０ｍＬナスフラスコに、中間体化合物（Ｂ１）１.２５ｇ（５.０ｍｍｏｌ）、２−(ブロモメチル)アクリル酸０.８３ｇ（５.０ｍｍｏｌ）、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ（登録商標）１５（ロームアンドハース社製）０.８ｇ、ＴＨＦ８.０ｍＬ、塩化スズ(II)０.９５ｇ（５.０ｍｍｏｌ）、及び純水２.０ｍＬを加えて混合物とし、７０℃で５時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応液を減圧ろ過して純水４０ｍＬと混合し、そこにジエチルエーテル５０ｍＬを加えて抽出した。抽出は３回行った。
抽出後の有機層に、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、減圧ろ過した後の溶液から溶媒を留去し、無色固体１.５ｇを得た。この固体を¹Ｈ−ＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この無色固体が目的の中間体化合物（Ｃ１）であることが確認された（収率９４％）。
¹H-NMR (DMSO-d6) δ:1.3-1.8(m, 8H), 2.62(m, 1H), 3.04(s, 1H), 3.81(s, 3H), 4.05(t, 2H), 4.54(m, 1H), 5.70(s, 1H), 6.01(s, 1H), 7.03(d, 2H), 7.89(d, 2H).

［４］中間体化合物（Ｄ１）の合成

冷却管付き１００ｍＬナスフラスコに、エタノール３５ｍＬ、中間体化合物（Ｃ１）１.５ｇ（４.７ｍｍｏｌ）、及び１０質量％水酸化ナトリウム水溶液５ｍＬを加えて混合物とし、８５℃で３時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、５００ｍＬのビーカーに水３００ｍＬと反応液とを加えて、３０分間室温で攪拌した後、１０質量％ＨＣｌ水溶液５ｍＬを滴下した後、ろ過して白色固体１.３ｇを得た。
次に、冷却管付き５０ｍＬナスフラスコに、得られた白色固体１.１ｇ、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ（登録商標）１５（ロームアンドハース社製）１.０ｇ、及びテトラヒドロフラン２０.０ｍＬを加えて混合物とし、７０℃で５時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応液を減圧ろ過した後の溶液から溶媒を留去し黄色固体を得た。この黄色固体を再結晶（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製した後、白色固体０.９ｇを得た。この固体を¹Ｈ−ＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が目的の中間体化合物（Ｄ１）であることが確認された（収率７１％）。
¹H-NMR (DMSO-d6) δ:1.2-1.8(m, 8H), 2.60(m, 1H), 3.09(m, 1H), 4.04(m, 2H), 4.55(m, 1H), 5.69(s, 1H), 6.02(s, 1H), 6.99(d, 2H), 7.88(d, 2H), 12.5(s, broad, 1H).

［５］重合性化合物（Ｍ１）の合成

中間体化合物（Ｄ１）３.０ｇ（１０.０ｍｍｏｌ）、メチル４−ヒドロキシシナメート１.８ｇ（１０.０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ０.０５ｇ、及び少量のブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を室温にて攪拌下、ジクロロメタン４５ｍＬに懸濁させ、そこにＤＣＣ２.７ｇ（１３.０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１５ｍＬに溶解させた溶液を加えて終夜攪拌した。析出したＤＣＣウレアをろ別し、そのろ液を０.５ｍｏｌ／Ｌ塩酸５０ｍＬ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍＬ、飽和食塩水１００ｍＬにて順次２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、黄色固体を得た。この固体をエタノールによる再結晶で精製した。目的の重合性化合物（Ｍ１）２.６ｇを得た（収率５６％）。¹Ｈ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
¹H-NMR (CDCl₃) δ:1.40-1.90(m, 8H), 2.58(m, 1H), 3.08(m, 1H), 3.80(s, 3H), 4.05(t, 2H), 4.55(m, 1H), 5.64(s, 1H), 6.22(s, 1H), 6.42(d, 1H), 6.97(d, 2H), 7.22(d, 2H), 7.60(d, 2H), 7.70(d, 1H), 8.15(d, 2H).

［合成例２］重合性化合物（Ｍ２）の合成
［１］中間体化合物（Ａ２）の合成

冷却管付き１００ｍＬナスフラスコに、４−シアノ−４'−ヒドロキシビフェニル５.０ｇ（２５.６ｍｍｏｌ）、６−ブロモ−１−ヘキサノール４.６ｇ（２５.６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム７.０ｇ（５０ｍｍｏｌ）、及びアセトン５０ｍＬを加えて混合物とし、６４℃で２４時間攪拌しながら反応させた。反応終了後、減圧下で溶媒を留去し、黄色の湿潤固体を得た。その後、この固体と水７０ｍＬを混合し、ジエチルエーテル５０ｍＬを加えて抽出した。抽出は３回行った。
分液した有機層は、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、ろ過した後に減圧下で溶媒を留去し、黄色の固体を得た。この固体を酢酸エチル３ｍＬに溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（カラム：シリカゲル６０、０.０６３−０.２００ｍｍ、メルク社製、溶出液：へキサン／酢酸エチル＝１／１）により精製した。得られた溶液から溶媒を留去し、白色の固体６.９ｇを得た。この固体を¹Ｈ−ＮＭＲで測定した結果を以下に示す。この結果から、この白色固体が目的の中間体化合物（Ａ２）であることが確認された（収率９１％）。
¹H-NMR(DMSO-d6) δ：1.26(m, 6H), 1.69(m, 2H), 3.37(t, 2H), 4.03(t, 2H), 7.06(d, 2H), 7.69(d, 2H), 7.85(m, 4H).

［２］重合性化合物（Ｍ２）の合成

中間体化合物（Ａ２）３.０ｇ（１０.２ｍｍｏｌ）を、トリエチルアミン１.５ｍＬと少量のＢＨＴと共にＴＨＦ１０ｍＬに溶解させて室温にて攪拌し、水浴による冷却下、ＴＨＦ１０ｍＬに溶解した０.９ｍＬの塩化アクリロイルを１５分間かけて滴下した。滴下後、反応溶液を３０分間攪拌し、水浴を除去して室温に戻しながら終夜攪拌を続けて析出したトリエチルアミン塩酸塩をろ過した。得られたろ液からＴＨＦを約３／４留去してジクロロメタン５０ｍＬを添加し、その有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍＬ、０.５ｍｏｌ／Ｌ塩酸５０ｍＬ、飽和食塩水５０ｍＬにて順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して生成物を得た。メタノールによる再結晶後、目的の重合性化合物（Ｍ２）１.７ｇを得た。¹Ｈ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
¹H-NMR(CDCl₃) δ：1.50(m, 4H), 1.73(m, 2H), 1.85(m, 2H), 4.05(t, 2H), 4.20(t, 2H), 5.82(d, 1H), 6.15(m, 1H), 6.41(d, 1H), 6.99(d, 2H), 7.55(d, 2H), 7.66(m, 4H).

［合成例３］重合性化合物（Ｍ３）の合成

合成例１で得られた中間体化合物（Ｄ１）０.６ｇ（２.０ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシビフェニル０.３ｇ（２.０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ０.００８ｇ、及び少量のＢＨＴを室温にて攪拌下、ジクロロメタン１０ｍＬに懸濁させ、そこにジクロロメタン５ｍＬにＤＣＣ０.５ｇ（２.５ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液を加えて終夜攪拌した。析出したＤＣＣウレアをろ別し、そのろ液を０.５ｍｏｌ／Ｌ塩酸５０ｍＬ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ｍＬ、飽和食塩水５０ｍＬにて順次２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、エタノールによる再結晶で精製し、目的の重合性化合物（Ｍ３）０.６ｇを得た（収率６２％）。¹Ｈ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
¹H-NMR (CDCl₃) δ:1.56(m, 4H), 1.75(m, 2H), 1.85(m, 2H), 2.61(m, 1H), 3.07(m, 1H), 4.06(t, 2H), 4.54(m, 1H), 5.63(d, 1H), 6.24(d, 1H), 6.97(d, 2H), 7.29(d, 2H), 7.35(m, 1H), 7.45(m, 2H), 7.62(m, 4H), 8.17(d, 2H).

［合成例４］重合性化合物（Ｍ４）の合成

４−(６−アクリロイルオキシ−１−ヘキシルオキシ)安息香酸（SYNTHON Chemicals社製）２９.２ｇ（１００ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシビフェニル１７.０ｇ（１００ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ０.６ｇ、及び少量のＢＨＴを室温にて攪拌下、ジクロロメタン２００ｍＬに懸濁させ、そこにジクロロメタン１００ｍＬにＤＣＣ２４.０ｇ（１１６ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液を加えて終夜攪拌した。析出したＤＣＣウレアをろ別し、そのろ液を０.５ｍｏｌ／Ｌ塩酸１５０ｍＬ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５０ｍＬ、飽和食塩水１５０ｍＬにて順次２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、エタノールによる再結晶で精製し、目的の重合性化合物（Ｍ４）３９.６ｇを得た（収率８９％）。¹Ｈ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.57(m, 4H), 1.70(m, 2H), 1.86(m, 2H), 4.00(m, 2H), 4.19(m, 2H), 5.82(m, 1H), 6.12(m, 1H), 6.39(m, 1H), 6.97(d, 2H), 7.29(m, 2H), 7.36(m, 1H), 7.47(m, 2H), 7.62(m, 4H), 8.18(m, 2H)

［合成例５］重合性化合物（Ｍ５）の合成

４−(６−アクリロイルオキシ−１−ヘキシル)安息香酸（SYNTHON Chemicals社製）２.９ｇ（１０ｍｍｏｌ）、メチル４−ヒドロキシシナメート１.８ｇ（１０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ０.０６ｇ、及び少量のＢＨＴを室温にて攪拌下、ジクロロメタン３０ｍＬに懸濁させ、そこにＤＣＣ２.４ｇ（１２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１０ｍＬに溶解させた溶液を加えて終夜攪拌した。析出したＤＣＣウレアをろ別し、そのろ液を、０.５ｍｏｌ／Ｌ塩酸２０ｍＬ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２０ｍＬ、飽和食塩水３０ｍＬにて順次２回ずつ洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去して、黄色固体を得た。この固体をエタノールによる再結晶で精製した。目的の重合性化合物（Ｍ５）３.４ｇを得た（収率７２％）。¹Ｈ−ＮＭＲの測定結果を以下に示す。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.56(m, 4H), 1.76(m, 2H), 1.86(m, 2H), 3.81(s, 3H), 4.04(m, 2H), 4.19(m, 2H), 5.84(d, 1H), 6.14(m, 1H), 6.40(m, 1H), 6.97(d, 2H), 7.22(m, 3H), 7.57(d, 2H), 7.70(d, 1H), 8.17(d, 2H).

［合成例６］重合体（１）の合成

冷却管を備えたフラスコに、合成例１で得られた重合性化合物（Ｍ１）０.９８ｇ（２.１ｍｍｏｌ）、合成例２で得られた重合性化合物（Ｍ２）１.７ｇ（４.９ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ２４ｇ、及びＡＩＢＮ５７ｍｇを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、６０℃で２０時間攪拌して反応した。得られた反応溶液を３００ｍＬのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿した。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、重合体（１）を２.６ｇ得た（収率９６％）。
得られた重合体（１）のＭｎは２０,６４３、Ｍｗは６４,６１２であった（Ｍｗ／Ｍｎ＝３.１３）。

［合成例７］重合体（２）の合成

冷却管を備えたフラスコに、合成例１で得られた重合性化合物（Ｍ１）０.４０ｇ（０.９ｍｍｏｌ）、合成例３で得られた重合性化合物（Ｍ３）０.９１ｇ（２.０ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ１１.８ｇ、及びＡＩＢＮ２５ｍｇを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、６０℃で２０時間攪拌して反応した。得られた反応溶液を３００ｍＬのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿した。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、重合体（２）を０.９５ｇ得た（収率７３％）。
得られた重合体（１）のＭｎは２３,４３２、Ｍｗは５２,９５６であった（Ｍｗ／Ｍｎ＝２.２６）。

[合成例８］重合体（３）の合成

冷却管を備えたフラスコに、合成例１で得られた重合性化合物（Ｍ１）０.２０ｇ（０.４ｍｍｏｌ）、合成例４で得られた重合性化合物（Ｍ４）０.４４ｇ（１.０ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ５.８ｇ、及びＡＩＢＮ１２ｍｇを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、６０℃で２０時間攪拌して反応した。得られた反応溶液を２００ｍＬのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿した。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、重合体（３）を０.５ｇ得た（収率７８％）。
得られた重合体（１）のＭｎは１５,８７７、Ｍｗは５１,７５９であった（Ｍｗ／Ｍｎ＝３.２６）。

［合成例９］重合体（４）の合成

冷却管を備えたフラスコに、合成例５で得られた重合性化合物（Ｍ５）０.５４ｇ（１.２ｍｍｏｌ）、合成例４で得られた重合性化合物（Ｍ４）１.３ｇ（２.８ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ１６ｇ、及びＡＩＢＮ３４ｍｇを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、６０℃で２０時間攪拌して反応した。得られた反応溶液を３００ｍＬのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿した。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、重合体（４）を１.６ｇ得た（収率８９％）。
得られた重合体（１）のＭｎは１２,６７８、Ｍｗは２２,３１３であった（Ｍｗ／Ｍｎ＝１.７６）。

［膜形成用組成物の調製及びフィルム作製・評価］
上記合成例で得られた重合体を用いて膜形成用組成物を調製し、下記条件にしたがってフィルムを作製し、その特性を検討した。
フィルム作製条件：
スピンコート：３００ｒｐｍ／５ｓｅｃ、５００−１０００ｒｐｍ／２０ｓｅｃ
プリベーク：５０℃／３０ｓｅｃ（ホットプレート）
露光：直線偏光紫外線、垂直照射、照射線量１,０００ｍＪ／ｃｍ²（波長３１３ｎｍ）
ポストベーク：１００℃又は１２０℃／２０分（ホットプレート）

［実施例１］
重合体（１）１５０ｍｇ及びＲ−３０（ＤＩＣ（株）製界面活性剤、以下同じ。）０.３ｍｇをシクロヘキサノン８５０ｍｇに溶解し、重合体（１）の溶液を得た。
この溶液を、ガラス基板にスピンコートにより塗布し、プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上に得られた膜は透明であった。
次に、ガラス基板に形成された塗膜を露光した後、ポストベークした。得られたフィルムは、膜厚は１.４μｍであり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、フィルムが基板面に対して水平配向していることを確認した。そして、そのΔｎｄは４３ｎｍであり、ヘイズ値は０.３％であった。図１に、上記フィルムのΔｎｄの角度依存性を示す。

［実施例２］
重合体（２）１５０ｍｇ及びＲ−３００.３ｍｇをシクロヘキサノン８５０ｍｇに溶解し、重合体（２）の溶液を得た。
この溶液を、ガラス基板にスピンコートにより塗布し、プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の得られた膜は透明であった。
次に、ガラス基板に形成された塗膜を露光した後、ポストベークした。得られたフィルムは、膜厚は１.６μｍであり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、フィルムが基板面に対して水平配向していることを確認した。そして、そのΔｎｄは５３ｎｍであり、ヘイズ値は０.０％であった。図２に上記フィルムのΔｎｄの角度依存性を示す。

［実施例３］
重合体（３）１５０ｍｇ及びＲ−３００.３ｍｇをシクロヘキサノン８５０ｍｇに溶解し、重合体（３）の溶液を得た。
この溶液を、ガラス基板にスピンコートにより塗布し、プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の得られた膜は透明であった。
次に、ガラス基板に形成された塗膜を露光した後、ポストベークした。得られたフィルムは、膜厚は１.８μｍであり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、フィルムが基板面に対して水平配向していることを確認した。そして、そのΔｎｄは７９ｎｍであり、ヘイズ値は０.４％であった。図３に上記フィルムのΔｎｄの角度依存性を示す。

［比較例１］
重合体（４）１５０ｍｇ及びＲ−３００.３ｍｇをシクロヘキサノン８５０ｍｇに溶解し、重合体（４）の溶液を得た。
この溶液を、ガラス基板にスピンコートにより塗布し、プリベークした後、室温まで放冷した。このとき、基板上の得られた膜は透明であった。
次に、ガラス基板に形成された塗膜を露光した後、１００℃のホットプレート上で２０分間ポストベークした。得られたフィルムは、膜厚は１.５μｍであり、偏光顕微鏡でそれを観察したところ、水平配向フィルムが得られず、そのΔｎｄは２５ｎｍであり、ヘイズ値は４.０％であった。図４に上記フィルムのΔｎｄの角度依存性を示す。

以上の結果をまとめて、下記表１に示す。

Claims

式［１ａ］及び［１ｂ］で表される繰り返し単位を含む少なくとも１種の重合体と有機溶媒とを含有することを特徴とする膜形成用組成物。

［式中、Ｘは式［２］又は［３］で表される基であり、

（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基である。破線は結合手である。）
Ｍ¹は式［４］で表される基であり、Ｍ²は式［５］で表される基であり、

（式中、ｓ１〜ｓ４はそれぞれ独立に１又は２であり、Ｇ¹は単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−であり、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基であり、Ｒ³は炭素数１〜３のアルキル基である。破線は結合手である。）
ｍ及びｎはそれぞれ０＜ｍ＜１００、０＜ｎ＜１００、かつ、ｍ＋ｎ≦１００を満たす数であり、
ｑ及びｒはそれぞれ独立に２〜９の整数である。］
請求項１記載の膜形成用組成物を基板に塗布し、次いで偏光を照射し、硬化させることにより得られる単層塗布型水平配向フィルム。
上記偏光が、直線偏光紫外線である請求項２記載の単層塗布型水平配向フィルム。
請求項２又は３記載の単層塗布型水平配向フィルムを備える光学部材。