JPWO2014157740A1 - ピラゾール誘導体 - Google Patents

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Abstract

痛風、高尿酸血症、腫瘍崩壊症候群、尿路結石、高血圧症、脂質異常症、糖尿病、動脈硬化症や心不全等の心血管疾患、糖尿病性腎症等の腎疾患、慢性閉塞性肺疾患等の呼吸器疾患、炎症性腸疾患または自己免疫性疾患等、キサンチンオキシダーゼの関与する疾患の治療または予防に有用な優れたキサンチンオキシダーゼ阻害活性を有する式（Ｉ）で表される化合物、もしくはその製薬学的に許容される塩、またはそれらを有効成分として含有する医薬もしくは医薬組成物を提供する。［式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｒ、Ｒ１は請求項１記載の意味を表す。］

Description

本発明は、キサンチンオキシダーゼ阻害活性を有する新規化合物、およびその製造方法、ならびに該化合物を有効成分として含有するキサンチンオキシダーゼ阻害剤に関する。特に、本発明は、痛風、高尿酸血症、腫瘍崩壊症候群、尿路結石、高血圧症、脂質異常症、糖尿病、動脈硬化症や心不全等の心血管疾患、糖尿病性腎症等の腎疾患、慢性閉塞性肺疾患等の呼吸器疾患、炎症性腸疾患または自己免疫性疾患等、キサンチンオキシダーゼの関与する疾患の治療薬または予防薬として有益なピラゾール誘導体に関する。
キサンチンオキシダーゼは核酸代謝においてヒポキサンチンからキサンチン、さらに尿酸への変換を触媒する酵素である。
キサンチンオキシダーゼの作用に対して、キサンチンオキシダーゼ阻害剤は尿酸合成を阻害することで血中尿酸値を低下させる。すなわち高尿酸血症およびこれに起因する各種疾患の治療に有効である。一方、高尿酸血症が持続して尿酸塩結晶が沈着した結果として起こる病態として、痛風と呼ばれる痛風関節炎、痛風結節がある。また、高尿酸血症は肥満、高血圧、脂質異常症および糖尿病などに関連した生活習慣病やメタボリックシンドロームの因子として重要視されており、最近では疫学調査により腎障害、尿路結石、心血管疾患の危険因子であることかが明らかにされつつある（高尿酸血症・痛風の治療ガイドライン第２版）。また、キサンチンオキシダーゼ阻害剤は、その活性酸素種発生阻害活性により、活性酸素種が関与する疾患の治療への有用性、例えば、血管機能改善作用を通じた心血管疾患の治療への有用性、が期待されている（Ｃｉｒｃｕｌａｔｉｏｎ．２００６；１１４：２５０８−２５１６）。
臨床では、高尿酸血症の治療薬としてアロプリノール、フェブキソスタットが使用されているが、アロプリノールには、スティーブンス・ジョンソン症候群、中毒性表皮壊死症、肝障害、腎機能障害等の副作用が報告されている（Ｎｉｐｐｏｎ Ｒｉｎｓｈｏ，２００３；６１，Ｓｕｐｐｕｌ．１：１９７−２０１）。
キサンチンオキシダーゼ阻害活性を有する化合物としては、例えば、フェニルピラゾール誘導体（特許文献１〜３）、トリアリールカルボン酸誘導体（特許文献４〜７）等、中央の芳香環がベンゼン環であるピラゾール誘導体が報告されている。また、６−インドールピラゾール誘導体（特許文献８）等、中央２環性の複素環であるピラゾール誘導体が報告されている。
非特許文献１および非特許文献２には、中央にピリジン環を有するピラゾールカルボン酸誘導体が報告されている。
特開昭５９−９５２７２号公報 国際公開第９８／１８７６５号 特開平１０−３１０５７８号公報 国際公開第２００７／０４３４５７号 国際公開第２００７／０９７４０３号 国際公開第２００８／１２６７７０号 国際公開第２００８／１２６７７２号 国際公開第２０１１／０４３５６８号
Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ，２００６年，第１６巻（２１），ｐ．５６１６−５６２０ Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ，２００６年，第１６巻（２１），ｐ．５６８７−５６９０
本発明が解決しようとする課題は、新規のキサンチンオキシダーゼ阻害活性を有する化合物を提供することである。更に、本発明の課題は、優れた尿酸低下作用を有する化合物を提供することである。また、本発明の別の課題は、痛風、高尿酸血症、腫瘍崩壊症候群、尿路結石、高血圧症、脂質異常症、糖尿病、動脈硬化症や心不全等の心血管疾患、糖尿病性腎症等の腎疾患、慢性閉塞性肺疾患等の呼吸器疾患、炎症性腸疾患または自己免疫性疾患等、キサンチンオキシダーゼの関与する疾患の治療または予防薬として有用な化合物を提供することである。
発明者らはキサンチンオキシダーゼ阻害活性を有する化合物について鋭意研究を行った結果、下記式（Ｉ）
Figure 2014157740
で表される化合物、すなわち、３環性のトリアリール構造であり、中央の環に、一つの窒素原子を有するシアノ基で置換されたピリジン環を有するピラゾール誘導体が、キサンチンオキシダーゼ阻害活性を有すること、更には、優れた尿酸低下作用を伴う新規キサンチンオキシダーゼ阻害活性を有すること、更には、特に優れた長時間にわたる尿酸低下作用を可能とする持続的なキサンチンオキシダーゼ阻害活性を有することを見出して本発明を完成させた。更に、このピラゾール誘導体は、痛風、高尿酸血症、腫瘍崩壊症候群、尿路結石、高血圧症、脂質異常症、糖尿病、動脈硬化症や心不全等の心血管疾患、糖尿病性腎症等の腎疾患、慢性閉塞性肺疾患等の呼吸器疾患、炎症性腸疾患または自己免疫性疾患等の良好な治療薬または予防薬になりうることを見出して本発明を完成させた。
本発明は、以下の式（Ｉ）で表される化合物またはその製薬学的に許容される塩である。
Figure 2014157740
［式中、
Ａは、炭素数６〜１０のアリール基またはヘテロアリール基を表し、ここで、アリール基またはヘテロアリール基は、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１〜３個の基Ｑで置換されていてもよい。
Ｘ、ＹおよびＺはＣＲ５または窒素原子を表し、ここで、Ｘ、ＹおよびＺのうち１つは窒素原子を表し、残り２つはＣＲ５を表す。
Ｒは、水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ１は、水素原子、アミノ基または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ２は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ３およびＲ４は、同一または互いに異なって、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、ここで、Ｒ３およびＲ４は一体となって、これらが結合する窒素原子と共に単環式含窒素飽和複素環を形成してもよい。
Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。］
また、本発明は、上記式（Ｉ）で表される化合物またはその製薬学的に許容される塩と、製薬学的に許容される担体を含む医薬組成物である。
また、本発明は、上記式（Ｉ）で表される化合物またはその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する、キサンチンオキシダーゼ阻害剤である。
また、本発明は、上記式（Ｉ）で表される化合物またはその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する、痛風、高尿酸血症、腫瘍崩壊症候群、尿路結石、高血圧症、脂質異常症、糖尿病、動脈硬化症や心不全等の心血管疾患、糖尿病性腎症等の腎疾患、慢性閉塞性肺疾患等の呼吸器疾患、炎症性腸疾患または自己免疫性疾患等、キサンチンオキシダーゼの関与する疾患の治療薬または予防薬である。
さらに、本発明は、上記式（Ｉ）で表される化合物の製造中間体として用いることができる、以下の式（ＩＩ）で表される化合物である。
Figure 2014157740
［式中、
Ａは、炭素数６〜１０のアリール基またはヘテロアリール基を表し、ここで、アリール基またはヘテロアリール基は、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１〜３個の基Ｑで置換されていてもよい。
Ｘ、ＹおよびＺはＣＲ５または窒素原子を表し、ここで、Ｘ、ＹおよびＺのうち１つは窒素原子を表し、残り２つはＣＲ５を表す。
Ｒは、水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ１は、水素原子、アミノ基または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ２は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ３およびＲ４は、同一または互いに異なって、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、ここで、Ｒ３およびＲ４は一体となって、これらが結合する窒素原子と共に単環式含窒素飽和複素環を形成してもよい。
Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ６は、カルボキシル基の保護基を表す。
Ｗは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはシアノ基を表す。］
さらに、本発明は、上記式（Ｉ）で表される化合物の製造中間体として用いることができる、以下の式（ＩＩＩ）で表される化合物である。
Figure 2014157740
［式中、
Ｘ、ＹおよびＺはＣＲ５または窒素原子を表し、ここで、Ｘ、ＹおよびＺのうち１つは窒素原子を表し、残り２つはＣＲ５を表す。
Ｒは、水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ１は、水素原子、アミノ基または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ６は、カルボキシル基の保護基を表す。
Ｖは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、水酸基、またはベンジルオキシ基を表す。
Ｗは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはシアノ基を表す。］
さらに、本発明は、上記式（Ｉ）で表される化合物の製造中間体として用いることができる、以下の式（ＩＶ）で表される化合物である。
Figure 2014157740
［式中、
Ａは、炭素数６〜１０のアリール基またはヘテロアリール基を表し、ここで、アリール基またはヘテロアリール基は、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１〜３個の基Ｑで置換されていてもよい。
Ｘ、ＹおよびＺはＣＲ５または窒素原子を表し、ここで、Ｘ、ＹおよびＺのうち１つは窒素原子を表し、残り２つはＣＲ５を表す。
Ｒ２は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ３およびＲ４は、同一または互いに異なって、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、ここで、Ｒ３およびＲ４は一体となって、これらが結合する窒素原子と共に単環式含窒素飽和複素環を形成してもよい。
Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｘ２は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。］
本発明は、高いキサンチンオキシダーゼ阻害活性を有する新規化合物、およびその製造方法を提供する。さらに本発明化合物は、特に、痛風、高尿酸血症、腫瘍崩壊症候群、尿路結石、高血圧症、脂質異常症、糖尿病、動脈硬化症や心不全等の心血管疾患、糖尿病性腎症等の腎疾患、慢性閉塞性肺疾患等の呼吸器疾患、炎症性腸疾患または自己免疫性疾患等、キサンチンオキシダーゼの関与する疾患の治療または予防薬として有用である。
本明細書で単独または組み合わせて用いられる用語を以下に説明する。特段の記載がない限り、各置換基の説明は、各部位において共通するものとする。なお、いずれかの変数が、任意の構成要素においてそれぞれ存在するとき、その定義はそれぞれの構成要素において独立している。また、置換基および変数の組み合わせは、そのような組み合わせが化学的に安定な化合物をもたらす限り許される。
「キサンチンオキシダーゼ」は、一般に、ヒポキサンチンからキサンチン、さらに尿酸への酸化反応を触媒する酵素という広義と、同反応を触媒する酵素の１つであるオキシダーゼ型のキサンチンオキシドレダクターゼという狭義で用いられるが、本発明において、「キサンチンオキシダーゼ」とは、特に断りのない限り、ヒポキサンチンからキサンチン、さらに尿酸への酸化反応を触媒する酵素を総称する。この反応を担うキサンチンオキシドレダクターゼには、オキシダーゼ型とデヒドロゲナーゼ型の２つの型が存在するが、いずれの型も本発明のキサンチンオキシダーゼに含まれる。「キサンチンオキシダーゼ阻害活性」、「キサンチンオキシダーゼ阻害剤」等においても、特に断りのない限り、「キサンチンオキシダーゼ」は上記定義と同じ意味を有する。
本発明において「アリール基」とは、芳香族炭化水素の環に結合する水素原子が１個離脱して生じる基を意味する。炭素数６〜１０のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、インデニル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基、およびアズレニル基等が挙げられる。
本発明において「ヘテロアリール基」とは、酸素原子、硫黄原子、および窒素原子からなる群より選ばれる１〜５個のヘテロ原子を含有する、３〜１０員の単環または二環性の芳香族性を有する複素環系を意味する。「３〜１０員の単環または二環性の芳香属性を有する複素環系」とは、酸素原子、硫黄原子、および窒素原子からなる群より選ばれる１〜５個のヘテロ原子を有する、３〜１０員の単環または二環性の芳香族複素環から水素原子を除いて得られる１価の基をいう。また、二環性のヘテロアリール基の場合、一方の環が芳香環または芳香族複素環であれば、他方の環は芳香族でない環構造であってもよい。かかるヘテロアリール基における各ヘテロ原子の個数やそれらの組合せは、所定の員数の環を構成しうるものであり、かつ化学的に安定に存在しうるものであれば特に制限されない。かかるヘテロアリール基としては、例えば、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピリダジニル基、フリル基、チエニル基、ピラゾリル基、１，３‐ジオキサインダニル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、イソインドリル基、クロマニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ピラニル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、フラザニル基、チアジアゾリル基、ジヒドロベンゾフリル基、ジヒドロイソベンゾフリル基、ジヒドロキノリル基、ジヒドロイソキノリル基、ジヒドロベンゾオキサゾリル基、ジヒドロプテリジニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾジオキサゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾトリアゾリル基、プテリジニル基、プリニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、およびテトラゾリル基等が挙げられる。
本発明において「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を意味する。
本発明において「アルキル基」とは、１価の飽和の直鎖または分岐状脂肪族炭化水素基を意味する。炭素数が１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、ｔ−ペンチル基、イソヘキシル基等が挙げられる。
本発明において、「アルキレン基」とは、炭素数が１〜６個の２価の飽和の直鎖または分岐状脂肪族炭化水素基を意味する。炭素数１〜６のアルキレン基としては、、例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ペンチレン基、ｎ−ヘキシレン基等が挙げられる。
本発明において「シクロアルキル基」とは、環状の飽和炭化水素基を意味する。炭素原子３〜７のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、およびシクロヘプチル基等が挙げられる。
本発明において「ハロゲノアルキル基」とは、１個以上のハロゲンで置換されたアルキル基を意味する。炭素数１〜６のハロゲノアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
本発明において「単環式含窒素飽和複素環」とは、１つの窒素原子を含み、更に窒素原子、硫黄原子、および酸素原子からなるヘテロ原子を１つ含んでいてもよい５〜８員飽和若しくは一部不飽和の単環複素環を意味し、例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、アゼパン、ジアゼパン、アゾカン、モルホリン、チオモルホリン、テトラヒドロピリジン環などが挙げられる。
前記「単環式含窒素飽和複素環」において、環原子である硫黄原子が酸化されてオキシドやジオキシド、または窒素原子が酸化されてオキシドを形成してもよい。
本発明において「カルボキシル基の保護基」とは、例えば、ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ｉｎ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ，ＴＨＩＲＤ ＥＤＩＴＩＯＮ、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．に記載の一般的なカルボキシル基の保護基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヘプチル基、ｔ−ブチル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、メトキシエトキシメチル基、メトキシエチル基、ベンジル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等を挙げることができる。
前記式（Ｉ）中、Ａは、炭素数６〜１０のアリール基またはヘテロアリール基を表し、ここで、アリール基またはヘテロアリール基は、無置換であるか、または同一もしくはハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１〜３個の基Ｑで置換されていてもよい。
「アリール基」および「ヘテロアリール基」の具体例は、前述の定義の通りであるが、Ａの好ましい「アリール基」または「ヘテロアリール基」としては、フェニル基、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、フリル基、チエニル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ピラニル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイソオキサゾリル基等が挙げられ、フェニル基、チエニル基がより好ましい。
Ａは、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１〜３個の基Ｑで置換されていてもよい。ＡがＱで置換される場合、Ｑの個数は１または２個であることが好ましい。Ａは、無置換であるか、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−Ｏ−Ｒ２、および−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキルからなる群より選択される基Ｑにより置換されていることが好ましい。Ａは、無置換であるか、ハロゲン原子、メチル基、およびメトキシ基からなる群より選択される基Ｑにより置換されていることがより好ましい。ハロゲン原子としてはフッ素原子が好ましい。
特に好ましいＡは、例えば以下の構造式で表すことができる。
Figure 2014157740
前記式（Ｉ）中、Ｒは、水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表す。「炭素数１〜６のアルキル基」の具体例は、前述の定義の通りであるが、好ましい「炭素数１〜６のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、ｔ−ペンチル基、およびイソヘキシル基等が挙げられ、Ｒは、水素原子、またはメチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。
前記式（Ｉ）中、Ｒ１は、水素原子、アミノ基または炭素数１〜６のアルキル基を表す。「炭素数１〜６のアルキル基」の具体例は、前述の定義の通りであるが、好ましい「炭素数１〜６のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、ｔ−ペンチル基、およびイソヘキシル基等が挙げられ、Ｒ１は、水素原子、アミノ基またはメチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。
前記式（Ｉ）中、Ｒ２は、水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表す。「炭素数１〜６のアルキル基」の具体例は、前述の定義の通りであるが、好ましい「炭素数１〜６のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、ｔ−ペンチル基、およびイソヘキシル基等が挙げられ、Ｒ２は、水素原子、またはメチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
前記式（Ｉ）中、Ｒ３およびＲ４は、同一または互いに異なって、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、ここで、Ｒ３およびＲ４は一体となって、これらが結合する窒素原子と共に単環式含窒素飽和複素環を形成してもよい。「炭素数１〜６のアルキル基」および「単環式含窒素飽和複素環」は、具体例は、前述の定義の通りであるが、好ましい「炭素数１〜６のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、１−エチルプロピル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、ｔ−ペンチル基、およびイソヘキシル基等が挙げられ、好ましい「単環式含窒素飽和複素環」としては、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、アゼパン、ジアゼパン、アゾカン、モルホリン、チオモルホリン、テトラヒドロピリジン環等が挙げられる。Ｒ３、Ｒ４および「単環式含窒素飽和複素環」は、水素原子、メチル基、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジンおよびモルホリンがより好ましく、水素原子、メチル基およびモルホリンが特に好ましい。
前記式（Ｉ）中、Ｘ、ＹおよびＺはＣＲ５または窒素原子を表し、ここで、Ｘ、ＹおよびＺのうち１つは窒素原子を表し、残り２つはＣＲ５を表す。Ｘ、Ｙ、Ｚ、それぞれが窒素原子である３例は、以下の構造式で表すことができる。この中で、Ｙが窒素原子であることが好ましい。
Figure 2014157740
Ｒ５としては、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６のアルキル基が挙げられ、水素原子が好ましい。
前記式（Ｉ）中、Ａ、Ｑ、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ、ＹおよびＺの組み合わせとしては、それぞれについて上記した好ましい基同士を組み合わせたものが好ましく、より好ましいとした基を組み合わせたものがより好ましい。より好ましいとした基を組み合わせた式（Ｉ）の構造のＡ、Ｒ１を、特に好ましい基に置きかえた組み合わせが特に好ましい。
本発明の化合物は優れたキサンチンオキシダーゼ阻害活性を示す化合物である。また、本発明の化合物は、優れた尿酸低下作用を有する。さらに、本発明の化合物は、長時間にわたる持続的な尿酸低下作用を有する。
好ましい化合物の具体例としては、以下の化合物を挙げることができる。
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
このうち、より好ましい化合物は、化合物１、２、５、６、７、１０、１３、１４、１５、１６、１９、２０、２１、２２、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、４１、４２、４３、４４、４７、４８、５０、５１、５２、５３、５４、５５、５７、５９、６１、６３、６４、６５、６６、６８、６９、７０、７１、７３、９７、９８、９９、１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６および１０７であり、さらに好ましくは、化合物１、５、１０、１４、１９、２１、３３、９７および９８である。
本発明の前記の式（Ｉ）で表される化合物の製造中間体として用いることができる、前記の式（ＩＩ）で表される化合物において、Ａ、Ｑ、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ、ＹおよびＺは前記の式（Ｉ）における定義と同じである。Ｗは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはシアノ基を表す。Ｗは、ハロゲン原子、またはシアノ基がより好ましく、シアノ基が特に好ましい。Ｒ６は、カルボキシル基の保護基を表す。カルボキシル基の保護基の定義は上述の通りであり、好ましくは、メチル基、エチル基、ベンジル基である。
さらに、本発明の前記の式（Ｉ）で表される化合物の製造中間体として用いることができる、前記の式（ＩＩＩ）で表される化合物において、Ｒ、Ｒ１、Ｒ５、Ｘ、ＹおよびＺは前記の式（Ｉ）における定義と同じである。Ｖは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、水酸基、またはベンジルオキシ基を表す。Ｖは、ハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、水酸基、またはベンジルオキシ基が好ましい。Ｗは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはシアノ基を表す。Ｗは、ハロゲン原子、またはシアノ基がより好ましく、シアノ基が特に好ましい。Ｒ６は、カルボキシル基の保護基を表す。カルボキシル基の保護基の定義は上述の通りであり、好ましくは、メチル基、エチル基、ベンジル基である。
本発明の前記の式（Ｉ）で表される化合物の製造中間体として用いることができる、前記の式（ＩＶ）で表される化合物において、Ａ、Ｑ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ、ＹおよびＺは前記の式（Ｉ）における定義と同じである。Ｘ２は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。好ましくは、ハロゲン原子である。
＜一般的合成法＞
本発明の式（Ｉ）の化合物および中間体は、例えば、以下に記載されるような合成法のいずれかに従って合成することができる。なお、各式中、Ａ、Ｒ、Ｒ１、Ｑ、Ｘ、ＹおよびＺは、式（Ｉ）の定義のとおりである。また、化学式中に記載の、条件としての試薬または溶媒などは、本文にも記載のとおり例示にすぎない。各置換基は、必要に応じて、適切な保護基で保護されていてもよく、適切な段階において脱保護を行って良い。なお、適切な保護基およびその除去方法は、この分野で汎用される各置換基の保護基および公知の方法を採用することができ、例えば、ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳｉｎ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ，ＴＨＩＲＤ ＥＤＩＴＩＯＮ、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．に記載されている。
また、本文中または表における置換基、試薬、および溶媒の略号を用いている場合は、それぞれ以下のことを表す。
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ‐ジメチルホルムアミド
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｐｈ：フェニル
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
合成法（Ａ）
化合物（Ａ−２）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｘ１およびＸ２は脱離基を表す。）Ｘ１およびＸ２で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、化合物（Ａ−１）におけるピリジンの４位を塩基によりリチウム化あるいはナトリウム化させた後に、ホルミル化剤によりホルミル化させることにより、化合物（Ａ−２）を合成する方法である。塩基としては、ジイソプロピルアミンとｎ−ブチルリチウムとから調整されるリチウムジイソプロピルアミン（ＬＤＡ）等が挙げられる。また、ホルミル化剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−ホルミルモルホリン等が挙げられる。本反応は、−７８℃〜０℃下で、反応に不活性な溶媒中、化合物（Ａ−１）に等量、あるいは小過剰に塩基を反応させた後に、等量あるいは過剰量のホルミル化剤を加え、通常０．５〜５時間反応させることによって行われる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
化合物（Ａ−４）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｘ１およびＸ２は脱離基、Ｙ１は−Ｂ（ＯＨ）２または−Ｂ（ＯＲ７）ＯＲ８を表す。ここで、Ｒ７およびＲ８は同一または互いに異なって炭素数１〜６のアルキル基、またはＲ７およびＲ８が一体となって炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）本反応は、化合物（Ａ−２）と（Ａ−３）とをカップリングさせることにより、化合物（Ａ−４）を合成する方法である。Ｘ１およびＸ２で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、化合物（Ａ−２）と（Ａ−３）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基およびパラジウム触媒存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５〜２日間反応させることによって行われる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、水またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、あるいはこれらの塩基を水等で希釈した溶液等が挙げられる。パラジウム触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、塩化パラジウム−１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等が好ましい。
化合物（Ａ−５）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｘ２は脱離基を表す。）Ｘ２で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、ホルミル基からシアノ基への変換反応であり、上記式（Ａ−４）で表される芳香族アルデヒド誘導体をヒドロキシルアミンと反応させることにより行われる。ヒドロキシルアミンとしては、その塩酸塩等のその他の塩を用いてもよいが、その場合には適切な塩基性物質を加えることが好ましい。また、無水酢酸、アセチルクロリド及びトリクロロアセチルクロリド等を１．０〜３．０当量加えて、反応を加速させることもできる。これらの反応に用いるヒドロキシルアミンまたはその塩の量は、通常１当量以上を用い、好ましくは１．０〜２．０当量である。塩基性物質を用いる場合には、ヒドロキシルアミンの塩に対して１．０〜３．０当量である。用いる塩基性物質としては、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸ナトリウム等のカルボン酸塩、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩、トリエチルアミン、ピリジン、４−アミノピリジン等の有機アミン塩が用いられる。反応は不活性な溶媒中、塩基の存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５時間〜３日間反応させることによって行なわれる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。これらの反応に用いられる溶媒としては、酢酸、ギ酸、トルエン、ベンゼン、ピリジン、酢酸エチル、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、メタノール、エタノール、２−プロパノール等の溶媒が挙げられる。
化合物（Ａ−７）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基を表す。また、Ｘ２は脱離基を表す。）Ｘ２で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、化合物（Ａ−５）と（Ａ−６）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５時間〜３日間反応させることによって行なわれる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここで、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、トリエチルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＥＡ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）などが挙げられる。
化合物（Ａ−８）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基を表す。）本合成法は、化合物（Ａ−７）の保護基Ｒ６を酸または塩基等により脱保護させることにより、本発明化合物（Ａ−８）を合成する方法である。
本反応は、化合物（Ａ−７）に、反応に不活性な溶媒中、酸または塩基を等量、あるいは過剰に用い、室温〜加熱還流下で、通常０．５〜５日間反応されることによって行なわれる。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、水またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。酸としては、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、あるいはこれらの酸を水または有機溶媒で希釈した溶液等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、あるいはこれらの塩基を水等で希釈した溶液等が挙げられる。
また、化合物（Ａ−７）は、例えば、以下に記載されるような合成法（Ｂ）に従っても合成することができる。
合成法（Ｂ）
化合物（Ｂ−１）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｘ１およびＸ２は脱離基を表す。また、Ｒ９およびＲ１０は同一または互いに異なって炭素数１〜６のアルキル基、またはＲ９およびＲ１０が一体となって炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）Ｘ１およびＸ２で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、化合物（Ａ−２）に、反応に不活性な溶媒中、アルコールもしくはオルトギ酸トリアルキルを等量、あるいは過剰に用い、酸存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５〜２日間反応させることによって行われる。ここで酸としては、塩化水素、トリフルオロ酢酸、トシルスルホン酸、カンファスルホン酸等のブレンステッド酸、トリフルオロスルホン酸トリメチルシリル、トリフルオロボラン等のルイス酸等が用いられる。これらの反応に用いられる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
化合物（Ｂ−２）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基、Ｘ１およびＸ２は脱離基を表す。また、Ｒ９およびＲ１０は同一または互いに異なって炭素数１〜６のアルキル基、またはＲ９およびＲ１０が一体となって炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）Ｘ１およびＸ２で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、化合物（Ｂ−１）と（Ａ−６）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５時間〜３日間反応させることによって行なわれる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここで、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、トリエチルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＥＡ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）などが挙げられる。
化合物（Ｂ−３）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基、Ｘ１は脱離基を表す。また、Ｒ９およびＲ１０は同一または互いに異なって炭素数１〜６のアルキル基、またはＲ９およびＲ１０が一体となって炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）本合成法は、化合物（Ｂ−２）のシアノ化を行い、化合物（Ｂ−３）を合成する方法である。Ｘ１で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、上記式（Ｂ−２）で表される芳香族ジアルコキシアセタール誘導体を脱保護反応によりアルデヒド誘導体へと変換し、引き続いてヒドロキシルアミンと反応させることによりシアノ化を行なう。ヒドロキシルアミンとしては、その塩酸塩等のその他の塩を用いても良いが、その場合には適切な塩基性物質を加えることが好ましい。これらの反応に用いるヒドロキシルアミンまたはその塩の量は、通常１当量以上を用い、好ましくは１．０〜２．０当量である。塩基性物質を用いる場合には、ヒドロキシルアミンの塩に対して１．０〜３．０当量用いる。用いる塩基性物質としては、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸ナトリウム等のカルボン酸塩、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩、トリエチルアミン、ピリジン、４−アミノピリジン等の有機アミン塩が用いられる。反応は不活性な溶媒中、塩基の存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５時間〜３日間反応させることによって行なわれる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。これらの反応に用いられる溶媒としては、酢酸、ギ酸、トルエン、ベンゼン、ピリジン、酢酸エチル、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、メタノール、エタノール、２−プロパノールまたはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
化合物（Ａ−７）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基、Ｘ１は脱離基、Ｙ１は−Ｂ（ＯＨ）２または−Ｂ（ＯＲ７）ＯＲ８を表す。ここで、Ｒ７およびＲ８は同一または互いに異なって炭素数１〜６のアルキル基、またはＲ７およびＲ８が一体となって炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）本合成法は、化合物（Ｂ−３）と（Ａ−３）とをカップリングさせることにより、化合物（Ａ−７）を合成する方法である。Ｘ１で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は化合物（Ｂ−３）と（Ａ−３）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基およびパラジウム触媒存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５〜２日間反応させることによって行われる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、水またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、あるいはこれらの塩基を水等で希釈した溶液等が挙げられる。パラジウム触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、塩化パラジウム−１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等が好ましい。
合成法（Ｃ）
化合物（Ｃ−２）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は脱離基を表す。）Ｘ１、Ｘ２およびＸ３で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、化合物（Ｃ−１）と（Ａ−６）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５時間〜３日間反応させることによって行なわれる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここで、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、トリエチルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＥＡ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）などが挙げられる。
化合物（Ｃ−３）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基、Ｘ１およびＸ３は脱離基、Ｙ１は−Ｂ（ＯＨ）２または−Ｂ（ＯＲ７）ＯＲ８を表す。ここで、Ｒ７およびＲ８は同一または互いに異なって炭素数１〜６のアルキル基、またはＲ７およびＲ８が一体となって炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）本合成法は、化合物（Ｃ−２）と（Ａ−３）とをカップリングさせることにより、化合物（Ｃ−３）を合成する方法である。Ｘ１およびＸ３で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は化合物（Ｃ−２）と（Ａ−３）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基およびパラジウム触媒存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５〜２日間反応させることによって行われる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、水またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、あるいはこれらの塩基を水等で希釈した溶液等が挙げられる。パラジウム触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、塩化パラジウム−１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等が好ましい。
化合物（Ｃ−４）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基、Ｘ３は脱離基を表す。本合成法は、化合物（Ｃ−３）にシアノ化を行い、化合物（Ｃ−４）を合成する方法である。Ｘ３で示される脱離基としてはハロゲン原子等が挙げられる。本反応は、脱離基Ｘ３をシアノ基で置換する反応であり、上記式（Ｃ−３）とシアノ化試薬を反応させることにより行われる。本反応は化合物（Ｃ−３）とシアノ化試薬を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、場合により塩基およびパラジウムまたは銅触媒存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５時間〜２日間反応させることによって行われる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。用いるシアノ化試薬としては、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、シアン化銅、シアン化亜鉛等のシアン化試薬が用いられる。また、そのシアン化試薬の量は、通常１当量以上を用い、好ましくは１．０〜２．０当量である。塩基性物質を用いる場合には、化合物（Ｃ−３）に対して１．０〜３．０当量用いる。用いる塩基性物質としては、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸ナトリウム等のカルボン酸塩、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩、トリエチルアミン、ピリジン、４−アミノピリジン等の有機アミン塩が用いられる。これらの反応に用いられる溶媒としては、酢酸、ギ酸、トルエン、ベンゼン、ピリジン、酢酸エチル、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。パラジウム触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、塩化パラジウム−１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等が好ましい。銅触媒としては、ヨウ化銅等が好ましい。
化合物（Ｃ−５）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基を表す。）本合成法は、化合物（Ｃ−４）の保護基Ｒ６を酸または塩基等により脱保護させることにより、本発明化合物（Ｃ−５）を合成する方法である。
本反応は、化合物（Ｃ−４）に、反応に不活性な溶媒中、酸または塩基を等量、あるいは過剰に用い、室温〜加熱還流下で、通常０．５〜５日間反応されることによって行なわれる。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、水またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。酸としては、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、あるいはこれらの酸を水または有機溶媒で希釈した溶液等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の帰属アルコキシド、あるいはこれらの塩基を水等で希釈した溶液等が挙げられる。
合成法（Ｄ）
化合物（Ｄ−２）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｘ４は脱離基を表す。）本合成法は、化合物（Ｄ−１）をハロゲン化することにより、化合物（Ｄ−２）を合成する方法である。Ｘ４で示される脱離基としては、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子が挙げられる。本反応は、化合物（Ｄ−１）に、反応に不活性な溶媒中、ハロゲン化剤を等量、あるいは過剰に用い、０℃〜加熱還流下で、通常０．５時間〜３日間反応させることによって行なわれる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここで、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、水またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。ハロゲン化剤としては、塩素、臭素、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨードスクシンイミド、水またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
化合物（Ｄ−４）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｘ４およびＹ２は脱離基を表す。）本合成法は、化合物（Ｄ−２）と（Ｄ−３）を反応させることにより、化合物（Ｄ−４）を合成する方法である。Ｘ４で示される脱離基としては、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子が挙げられる。Ｙ２で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、化合物（Ｄ−２）と（Ｄ−３）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５時間〜３日間反応させることによって行なわれる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ピリジン、酢酸エチルまたはこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水素化ナトリウム、水素化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、トリエチルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＥＡ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、ピリジンなどが挙げられる。
化合物（Ｄ−５）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｘ４は脱離基、Ｒ６はカルボキシル基の保護基を表す。）本合成法は、化合物（Ｄ−４）と（Ａ−６）とをカップリングさせることにより、化合物（Ｄ−５）を合成する方法である。Ｘ４で示される脱離基としてはヨウ素原子、臭素原子、塩素原子が挙げられる。本反応は、化合物（Ｄ−４）と（Ａ−６）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基、銅触媒および配位子の存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５時間〜３日間反応させることによって行なわれる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、酢酸エチル、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、トリエチルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＥＡ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）などが挙げられる。銅触媒としては塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、酸化銅等が挙げられる。配位子としてはプロリン、トランス−Ｎ，Ｎ’−ジメチルシクロヘキサン−１，２−ジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ酢酸、１，１０−フェナントロリン等が挙げられる。
化合物（Ｄ−６）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基を表す。）本合成法は、化合物（Ｄ−５）の脱ベンジル化を行うことにより、化合物（Ｄ−６）を合成する方法である。本反応は、化合物（Ｄ−５）を、反応に不活性な溶媒中、パラジウム触媒存在下、水素ガス雰囲気下、室温〜加熱還流下で、通常０．５〜２日間反応させることによって行われる。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、酢酸エチルまたはこれらの混合溶媒等が挙げられる。パラジウム触媒としては、パラジウム−炭素、水酸化パラジウム、パラジウムブラック等が好ましい。
化合物（Ｄ−８）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基を表す。またＲ１１は無置換若しくは置換された炭素数１〜９のアルキルスルホニル基、または無置換若しくは置換されたフェニルスルホニル基を表す。またＺ１は脱離基を表す。）本合成法は、化合物（Ｄ−６）のフェノール性水酸基をスルホニルエステル化することにより、化合物（Ｄ−８）を合成する方法である。Ｒ１１で示されるスルホニル基としてはメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基等が挙げられる。Ｚ１で示される脱離基としてはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。本反応は、化合物（Ｄ−６）と（Ｄ−７）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基の存在下、０℃〜加熱還流下で、通常０．５時間〜３日間反応させることによって行なわれる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ピリジン、酢酸エチル、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。本反応は不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩、トリエチルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＥＡ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、ピリジン等が挙げられる。
化合物（Ｄ−９）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基を表す。またＲ１１は無置換若しくは置換された炭素数１〜９のアルキルスルホニル基、または無置換若しくは置換されたフェニルスルホニル基を表す。またＹ１は−Ｂ（ＯＨ）２または−Ｂ（ＯＲ７）ＯＲ８を表す。ここで、Ｒ７およびＲ８は同一または互いに異なって炭素数１〜６のアルキル基、またはＲ７およびＲ８が一体となって炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）本合成法は、化合物（Ｄ−８）と（Ａ−３）とをカップリングさせることにより、化合物（Ｄ−９）を合成する方法である。Ｒ１１で示されるスルホニル基としてはメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基等が挙げられる。本反応は、化合物（Ｄ−８）と（Ａ−３）を等量、あるいは一方を過剰に用い、反応に不活性な溶媒中、塩基およびパラジウム触媒存在下、室温〜加熱還流下で、通常０．５〜２日間反応させることによって行われる。本反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、水またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、あるいはこれらの塩基を水等で希釈した溶液等が挙げられる。パラジウム触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、塩化パラジウム−１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン等が好ましい。
化合物（Ｄ−１０）の合成
Figure 2014157740
（式中、Ｒ６はカルボキシル基の保護基を表す。）本合成法は、化合物（Ｄ−９）の保護基Ｒ６を酸または塩基等により脱保護させることにより、本発明化合物（Ｄ−１０）を合成する方法である。本反応は、化合物（Ｄ−９）に、反応に不活性な溶媒中、酸または塩基を等量、あるいは過剰に用い、室温〜加熱還流下で、通常０．５〜５日間反応されることによって行なわれる。ここに、溶媒としては特に限定はされないが、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、水またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。酸としては、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、あるいはこれらの酸を水または有機溶媒で希釈した溶液等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシド、あるいはこれらの塩基を水等で希釈した溶液等が挙げられる。
以下、前記式（Ｉ）で表される化合物のうち、好ましい化合物およびその製薬学的に許容される塩としては、製薬学的に許容される塩であれば特に限定されないが、かかる塩としては、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸、炭酸などの無機酸との塩；マレイン酸、フマル酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸、コハク酸、安息香酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸などの有機酸との塩；グリシン、リジン、アルギニン、ヒスチジン、オルニチン、グルタミン酸、アスパラギン酸などのアミノ酸との塩；ナトリウム、カリウム、リチウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩；アルミニウム、亜鉛、鉄などの金属との塩；テトラメチルアンモニウム、コリンなどのような有機オニウムとの塩；アンモニア、プロパンジアミン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジン、エタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、４−ヒドロキシピペリジン、ｔ−オクチルアミン、ジベンジルアミン、モルホリン、グルコサミン、フェニルグリシルアルキルエステル、エチレンジアミン、Ｎ−メチルグルカミン、グアニジン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、クロロプロカイン、プロカイン、ジエタノールアミン、Ｎ−ベンジルフェニルアミン、ピペラジン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンなどの有機塩基との塩が挙げられる。
さらに、式（Ｉ）で表される化合物およびその塩には、各種の水和物や溶媒和物が包含される。
式（Ｉ）で表される化合物の製薬学的に許容される前記各種の塩は、当技術分野の通常の知識に基づいて適宜製造することができる。
本発明の化合物には、式（Ｉ）で表される化合物の立体異性体、ラセミ体、および可能なすべての光学活性体も含まれる。
本発明の式（Ｉ）で表される化合物、およびその製薬学的に許容される塩は、特に優れたキサンチンオキシダーゼ阻害活性を有する。その優れたキサンチンオキシダーゼ阻害活性から、本発明の式（Ｉ）で表される化合物、およびその製薬学的に許容される塩は、キサンチンオキシダーゼ阻害剤として有用である。
本発明の式（Ｉ）で表される化合物、およびその製薬学的に許容される塩は、キサンチンオキシダーゼ阻害剤として臨床で応用可能な、痛風、高尿酸血症、腫瘍崩壊症候群、尿路結石、高血圧症、脂質異常症、糖尿病、動脈硬化症や心不全等の心血管疾患、糖尿病性腎症等の腎疾患、慢性閉塞性肺疾患等の呼吸器疾患、炎症性腸疾患または自己免疫性疾患等、キサンチンオキシダーゼの関与する疾患の治療または予防のための医薬として使用することができる。
前記式（Ｉ）で表される化合物、その製薬学的に許容される塩は、製薬学的に許容される担体および／または希釈剤とともに、医薬組成物とすることができる。この医薬組成物は種々の剤形に成形して、経口的または非経口的に投与することができる。非経口投与としては、例えば、静脈、皮下、筋肉、経皮、または直腸内への投与が挙げられる。
本発明の式（Ｉ）で表される化合物またはその塩の１種または２種以上を有効成分として含有する製剤は、通常製剤化に用いられる担体や賦形剤、その他の添加剤を用いて調製される。製剤用の担体や賦形剤としては、固体または液体いずれでも良く、例えば乳糖、ステアリン酸マグネシウム、スターチ、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、アラビアゴム、オリーブ油、ゴマ油、カカオバター、エチレングリコール等やその他常用のものが挙げられる。投与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、液剤等による経口投与、あるいは静注、筋注等の注射剤、坐剤、経皮等による非経口投与のいずれの形態であってもよい。
本発明の式（Ｉ）で表される化合物、またはその製薬学的に許容される塩は、疾患の種類、投与経路、患者の症状、年齢、性別、体重等により異なるが、通常成人１日あたり、０．０１〜１０００ｍｇの範囲で、１回または数回に分けて、投与することができる。しかし、投与量は種々の条件により変動するため、上記投与量よりも少ない量で十分な場合もあり、また上記の範囲を超える投与量が必要な場合もある。
本発明を以下、具体的な実施例に基づいて説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
単離された新規化合物の構造は、１Ｈ ＮＭＲおよび／または電子スプレイ源を備えた単一四重極装置（ｓｉｎｇｌｅ ｑｕａｄｒｕｐｏｌｅ ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔａｔｉｏｎ）を用いる質量分析、その他適切な分析法により確認した。
１Ｈ ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ‐ｄ６またはＣＤＣｌ３）を測定したものについては、その化学シフト（δ：ｐｐｍ）およびカプリング定数（Ｊ：Ｈｚ）を示す。質量分析の結果については、Ｍ＋＋Ｈ、すなわち化合物分子質量（Ｍ）にプロトン（Ｈ＋）が付加した値として観測された測定値を示す。なお、以下の略号はそれぞれ次のものを表す。
ｓ＝ｓｉｎｇｌｅｔ、ｄ＝ｄｏｕｂｌｅｔ、ｔ＝ｔｒｉｐｌｅｔ、ｑ＝ｑｕａｒｔｅｔ、ｂｒｓ＝ｂｒｏａｄ ｓｉｎｇｌｅｔ、ｍ＝ｍｕｌｔｉｐｌｅｔ。
以下の実施例の方法に従って合成された化合物について、さらに高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）分析、および電子スプレーイオン源を備えた飛行時間型質量分析計（ＴＯＦ‐ＭＳ：Ｔｉｍｅ Ｏｆ Ｆｌｉｇｈｔ‐Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）を用いる質量分析法によっても分析を行った。
下記分析条件でのＨＰＬＣ分析における化合物の保持時間（単位：分）を、ＨＰＬＣ保持時間として示す。
ＨＰＬＣ測定条件
測定装置：Ｈｅｗｌｅｔｔ‐Ｐａｃｋａｒｄ １１００ＨＰＬＣ
カラム：Ｉｍｔａｋｔ Ｃａｄｅｎｚａ ＣＤ‐Ｃ１８ １００ｍｍ×４．６ｍｍ ３μｍ
ＵＶ：ＰＤＡ検出（２５４ｎｍ）
カラム温度：４０度
グラジエント条件：
溶媒：Ａ：Ｈ２Ｏ／アセトニトリル＝９５／５
０．０５％ＴＦＡ（トリフルオロ酢酸）
Ｂ：Ｈ２Ｏ／アセトニトリル＝５／９５
０．０５％ＴＦＡ（トリフルオロ酢酸）
流速：１．０ｍＬ／分
勾配：０〜１分、溶媒Ｂ：２％ 溶媒Ａ：９８％
１〜１４分、溶媒Ｂ：２％→１００％ 溶媒Ａ：９８％→０％
１４〜１７分、溶媒Ｂ：１００％ 溶媒Ａ：０％
１７〜１９分、溶媒Ｂ：１００％→２％ 溶媒Ａ：０％→９８％
また、質量分析の結果については、以下に示す装置および分析条件により観測された「Ｍ＋＋Ｈ」の値（Ｏｂｓ． Ｍａｓｓ：すなわち化合物の分子質量（Ｍ）にプロトン（Ｈ＋）が付加した実測値）、「Ｍ＋＋Ｈ」の計算値（Ｐｒｅｄ． Ｍａｓｓ）と共に、実測された「Ｍ＋＋Ｈ」の値から算出された組成式（Ｆｏｒｍｕｌａ）も示す。
ＴＯＦ‐ＭＳ測定条件
質量分析装置：島津製作所 ＬＣＭＳ‐ＩＴ‐ＴＯＦ
ＬＣ：Ｐｒｏｍｉｎｅｎｃｅ
カラム：Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ Ｓｙｎｅｒｇｉ Ｈｙｄｒｏ‐ＲＰ ４．０ｍｍ×２０ｍｍ ２．５μｍ
ＵＶ：ＰＤＡ検出（２５４ｎｍ）
流量：０．６ｍＬ／分
カラム温度：４０度
検出電圧：１．６３ｋＶ
グラジェント条件：
溶媒：Ａ：Ｈ２Ｏ／アセトニトリル＝９５／５
０．１％ＨＣＯＯＨ
Ｂ：Ｈ２Ｏ／アセトニトリル＝５／９５
０．１％ＨＣＯＯＨ
流速：０．５ｍＬ／分
勾配：０〜０．２分、溶媒Ｂ：２％ 溶媒Ａ：９８％
０．２〜２．５分、溶媒Ｂ：２％→１００％ 溶媒Ａ：９８％→０％
２．５〜３．８分、溶媒Ｂ：１００％ 溶媒Ａ：０％
３．８〜４．０分、溶媒Ｂ：１００％→２％ 溶媒Ａ：０％→９８％
４．０〜５．０分、溶媒Ｂ：２％ 溶媒Ａ：９８％
［参考例］５−ブロモ−２−クロロピリジン−４−カルバルデヒド（参考例化合物）の合成
ジイソプロピルアミン１０．６ｍＬをＴＨＦ１００ｍＬに溶解し、−７８℃に冷却させた後に、ｎ−ブチルリチウム２２．７ｍＬをゆっくりと滴下させた。この反応溶液を１時間撹拌させた後に、５−ブロモ−２−クロロピリジン９．７ｇをＴＨＦ５０ｍＬに溶解させた溶液をゆっくりと滴下させ、反応溶液をさらに１時間撹拌させた。その後に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍＬを滴下して加えた。この混合溶液を−７８℃にて１時間撹拌した後に、２Ｍの塩酸水溶液３０ｍＬを加えて、室温までゆっくりと温度を上げ、室温にて３０分間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行った。残渣にジクロロメタン１０ｍＬを加え、５−ブロモ−２−クロロピリジン−４−カルバルデヒド３．２３ｇを得た。また、ろ液を減圧濃縮させた後に、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１）で精製することにより、５−ブロモ−２−クロロピリジン−４−カルバルデヒド６．３４ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．７２（１Ｈ，ｓ），８．６８（１Ｈ，ｓ），１０．３０（１Ｈ，ｓ）
［実施例１］１−（４−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸（化合物番号１）の合成（合成法（Ａ））
（１）５−ブロモ−２−クロロピリジン−４−カルバルデヒド８．８０ｇ、フェニルボロン酸５．３６ｇおよび炭酸カリウム１１．０６ｇを４−ジオキサン／水＝４／１の混合溶液１００ｍＬに懸濁させ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム９２４ｍｇを加え、窒素雰囲気下、８０℃で５時間加熱した。反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行い、２−クロロ−５−フェニルピリジン−４−カルバルデヒドを１０．８０ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．３−７．４２（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（３Ｈ，ｍ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ），９．９９（１Ｈ，ｓ）
ＥＳＩ／ＭＳ ｍ／ｅ：２１８．０、２２０．０（Ｍ＋＋Ｈ，Ｃ１２Ｈ８ＣｌＮＯ）．
（２）２−クロロ−５−フェニルピリジン−４−カルバルデヒド１０．８０ｇ、ヒドロキシルアミン・１塩酸塩５．５６ｇ、ギ酸ナトリウム５．４４ｇをギ酸１００ｍＬに懸濁させ、無水酢酸１２．２ｇを加え、窒素雰囲気下、１００℃で２時間加熱した。水１００ｍＬを加え、常法により精製し、２−クロロ−５−フェニルピリジン−４−カルボニトリルを６．３４ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．２７（１Ｈ，ｓ），７．５−７．６（５Ｈ，ｍ），７．６７（１Ｈ，ｓ），８．６３（１Ｈ，ｓ）
ＥＳＩ／ＭＳ ｍ／ｅ：２１５．０、２１７．０（Ｍ＋＋Ｈ，Ｃ１２Ｈ７ＣｌＮ２）
（３）２−クロロ−５−フェニルピリジン−４−カルボニトリル３．２２ｇ、エチル１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート２．３１ｇ、炭酸カリウム３．１１ｇをジメチルスルホキシド４０ｍＬに懸濁させ、窒素雰囲気下、１２０℃で２．５時間加熱した。水５０ｍＬを加え、常法により精製し、エチル １−（４−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートを３．９７ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ ｄ６）δ（ｐｐｍ）：１．３１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），４．２８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．５５−７．６２（３Ｈ，ｍ），７．７０−７．７２（２Ｈ，ｍ），８．３２（１Ｈ，ｓ），８．４３（１Ｈ，ｓ），８，８６（１Ｈ，ｓ），９．０５（１Ｈ，ｓ）
ＥＳＩ／ＭＳ ｍ／ｅ：３１９．１（Ｍ＋＋Ｈ，Ｃ１８Ｈ１４Ｎ４Ｏ２）．
（４）エチル １−（４−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート３．９７ｇをテトラヒドロフラン／メタノール＝１／１の混合溶液３０ｍＬに溶解し、６Ｍ塩酸水溶液３０ｍＬを加えて、８０℃で４８時間加熱した。常法により精製し、１−（４−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸３．７１ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ ｄ６）δ（ｐｐｍ）：７．５４−７．６２（３Ｈ，ｍ），７．７０−７．７２（２Ｈ，ｍ），８．２６（１Ｈ，ｓ），８．４１（１Ｈ，ｓ），８，８５（１Ｈ，ｓ），８．９８（１Ｈ，ｓ），１２．９１（１Ｈ，ｓ）
ＨＰＬＣ保持時間：１０．４８分
Ｏｂｓ Ｍａｓｓ（Ｍ＋＋Ｈ）：２９１．０８８０
Ｐｒｅｄ Ｍａｓｓ（Ｍ＋＋Ｈ）：２９１．０８７７
Ｆｏｒｍｕｌａ（Ｍ）：Ｃ１６Ｈ１０Ｎ４Ｏ２
［実施例２−７０］
上記の参考例化合物を出発原料として、実施例１と同様にして、化合物番号２〜７０を合成した。
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
Figure 2014157740
［実施例７１］１−（４−シアノ−５−（３−メチルスルホニルフェニル）ピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸（化合物番号７１）の合成（合成法（Ｂ））
（１）５−ブロモ−２−クロロピリジン−４−カルバルデヒド５．５１ｇ、オルトギ酸トリメチル２６．５ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物４．７５ｇをメタノール５０ｍＬに懸濁させ、７０℃で４時間加熱した。反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行い、５−ブロモ−２−クロロ−４−（ジメトキシメチル）−ピリジンを５．４８ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．３９（６Ｈ，ｓ），５．４６（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｓ），８．４９（１Ｈ，ｓ）
（２）５−ブロモ−２−クロロ−４−（ジメトキシメチル）−ピリジン５．３３ｇ、エチル １Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート２．３３ｇ、炭酸カリウム４．１４ｇをジメチルホルムアミド５０ｍＬに懸濁させ、窒素雰囲気下、９０℃で７時間加熱した。反応混合液を室温まで冷却させた後、反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行い、エチル １−（５−ブロモ−４−（ジメトキシメチル）ピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートの粗体を得た。
上記で得られた粗体をギ酸２５ｍＬに懸濁させ、ヒドロキシルアミン・１塩酸塩２．７８ｇを加え、窒素雰囲気下、７０℃で３０分間加熱した。オキシムの生成を確認した後、ギ酸ナトリウム２．７２ｇ、無水酢酸１０．２ｇを加え、１１０℃で１５時間加熱した。反応混合液を室温まで冷却させた後に水２５ｍＬを加え、水１００ｍＬで洗浄し、エチル １−（５−ブロモ−４−シアノピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートを２．２６ｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），４．３５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｓ），８．２９（１Ｈ，ｓ），８．７１（１Ｈ，ｓ），８．９７（１Ｈ，ｓ）
（３）エチル １−（５−ブロモ−４−シアノピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート８０．３ｍｇ、３−（メチルスルホニル）フェニルボロン酸７５．０ｍｇ、塩化パラジウム−１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン１０．２ｍｇ、リン酸三カリウム１０６．１ｍｇを１，４−ジオキサン／水＝３／１の混合溶媒０．８ｍＬに懸濁させ、窒素雰囲気下、９０℃で１５時間加熱した。反応混合液を室温まで冷却させた後に水２ｍＬ、酢酸エチル４ｍＬを加えて撹拌し、有機相を濃縮、減圧乾燥させることで、エチル １−（４−シアノ−５−（３−メチルスルホニルフェニル）ピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートの粗体を得た。
上記で得られた粗体を４Ｍ塩酸１，４−ジオキサン溶液０．８ｍＬに溶解し、６Ｍ塩酸水溶液０．２ｍＬを加えて、１００℃で１４時間加熱した。反応混合液を室温まで冷却させた後、濃縮することで１−（４−シアノ−５−（３−メチルスルホニルフェニル）ピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸の粗体を得た。これを逆相ＨＰＬＣにて精製することで、１−（４−シアノ−５−（３−メチルスルホニルフェニル）ピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸１８．１ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ‐ｄ６）δ（ｐｐｍ）：３．３０（３Ｈ，ｓ），７．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，８．０Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．２７（２Ｈ，ｓ），８．４６（１Ｈ，ｓ），８．９５（１Ｈ，ｓ），９．００（１Ｈ，ｓ），１２．９１（１Ｈ，ｓ）
ＨＰＬＣ保持時間：８．６０分
Ｏｂｓ Ｍａｓｓ（Ｍ＋＋Ｈ）：３６９．０６４５
Ｐｒｅｄ Ｍａｓｓ（Ｍ＋＋Ｈ）：３６９．０６５２
Ｆｏｒｍｕｌａ（Ｍ）：Ｃ１７Ｈ１２Ｎ４Ｏ４Ｓ
［実施例７２−７４］
上記の参考例化合物を出発原料として、実施例７１と同様にして、化合物番号７２〜７４を合成した。
Figure 2014157740
［実施例７５］１−（５−シアノ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸（化合物番号７５）の合成（合成法（Ｃ））
１）２，３−ジブロモ−５−フルオロピリジン２５５ｍｇ、エチル １Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート１６８ｍｇ、炭酸カリウム２０７ｍｇをジメチルスルホキシド２ｍＬに懸濁させ、窒素雰囲気下、１２０℃で２時間加熱した。反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行い、エチル １−（５，６−ジブロモピリジン−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートの粗体を得た。これをカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）にて精製することで、エチル １−（５，６−ジブロモピリジン−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートを１６４ｍｇ得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），４．３６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），８．４３（１Ｈ，ｓ），８．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ）．
ＥＳＩ／ＭＳ ｍ／ｅ：３７３．９、３７５．９、３７７．９（Ｍ＋＋Ｈ，Ｃ１１Ｈ１０Ｂｒ２Ｎ３Ｏ２）．
（２）エチル １−（５，６−ジブロモピリジン−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート８２．０ｍｇ、フェニルボロン酸２９．３ｇおよび炭酸カリウム６０．５ｍｇを１，４−ジオキサン／水＝４／１の混合溶液１．５ｍＬに懸濁させ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム１２．６ｍｇを加え、窒素雰囲気下、８０℃で７時間加熱した。反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行い、エチル １−（５−ブロモ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートの粗体を得た。これをカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）にて精製することで、エチル １−（５−ブロモ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートを８２．２ｍｇ得た。
ＥＳＩ／ＭＳ ｍ／ｅ：３７２．０、３７４．０（Ｍ＋＋Ｈ，Ｃ１７Ｈ１５ＢｒＮ３Ｏ２）．
（３）エチル １−（５−ブロモ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート８２．２ｍｇ、シアン化銅（Ｉ）３１．３ｍｇをジメチルホルムアミド１．５ｍＬに懸濁させ、窒素雰囲気下、１６０℃で６時間加熱した。反応混合液を室温まで冷却させた後に、セライトろ過して不溶物を取り除き、ろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行い、エチル １−（５−シアノ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートの粗体を得た。これをカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）にて精製することで、エチル １−（５−シアノ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートを５４．２ｍｇ得た。
ＥＳＩ／ＭＳ ｍ／ｅ：３１９．１（Ｍ＋＋Ｈ，Ｃ１８Ｈ１５Ｎ４Ｏ２）．
（４）エチル １−（５−シアノ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートを５４．２ｍｇをテトラヒドロフラン／メタノール＝１／１の混合溶液１．０ｍＬに懸濁させ、２Ｍの水酸化ナトリウム水溶液０．２ｍＬを加え、窒素雰囲気下、５０℃で２時間加熱した。反応混合液に２Ｍの塩酸水溶液０．２ｍＬを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行い、１−（５−シアノ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸の粗体を得た。これを逆相ＨＰＬＣにて精製することで、１−（５−シアノ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸６．３５ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ‐ｄ６）δ（ｐｐｍ）：７．５８−７．５９（３Ｈ，ｍ），７．８９−７．９１（２Ｈ，ｍ），８．２２（１Ｈ，ｓ），８．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），９．２７（１Ｈ，ｓ），９．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），１２．９３（１Ｈ，ｂｒｓ）
ＨＰＬＣ保持時間：９．７６分
Ｏｂｓ Ｍａｓｓ（Ｍ＋＋Ｈ）：２９１．０８７５
Ｐｒｅｄ Ｍａｓｓ（Ｍ＋＋Ｈ）：２９１．０８７７
Ｆｏｒｍｕｌａ（Ｍ）：Ｃ１６Ｈ１０Ｎ４Ｏ２
［実施例７６−８４］
上記のエチル １−（５，６−ジブロモピリジン−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートを出発原料として、実施例７５と同様にして、化合物番号７６〜８４を合成した。
Figure 2014157740
［実施例８５］１−（６−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸（化合物番号８５）の合成（合成法（Ｄ））
（１）２−シアノ−３−ヒドロキシピリジン２．７３ｇをアセトリトリル／水＝５／１の混合溶液６０ｍＬに懸濁させ、０℃に冷却させた後に、Ｎ−ブロモスクシンイミド４．８５ｇをゆっくりと加え、窒素雰囲気下、反応溶液を２時間撹拌させた。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行うことにより、６−ブロモ−２−シアノ−３−ヒドロキシピリジンの粗体５．３９ｇを得た。
（２）６−ブロモ−２−シアノ−３−ヒドロキシピリジン５．３９ｇ、炭酸カリウム４．７１ｇをジメチルホルムアミド６０ｍＬに懸濁させ、ベンジルブロマイド４．６６ｇを加え、６０℃で１２時間加熱した。反応混合液を室温まで冷却させた後に水６０ｍＬを加え、常法により精製し、３−ベンジルオキシ−６−ブロモ−２−シアノピリジン４．７３ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：５．２６（２Ｈ，ｓ），７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．３６−７．４４（５Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
（３）３−ベンジルオキシ−６−ブロモ−２−シアノピリジン２．６４ｇ、エチル １Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート１．４４ｇ、ヨウ化銅９８ｍｇおよび炭酸カリウム２．２９ｇをトルエン２０ｍＬに懸濁させ、トランス−Ｎ，Ｎ’−ジメチルシクロヘキサン−１，２−ジアミン２３６ｍｇを加え、窒素雰囲気下、１００℃で１２時間加熱した。反応混合液を室温まで冷却させた後に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行った。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製することで、エチル １−（５−ベンジロキシ）−６−シアノピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート１．３０ｇを得た。
（４）エチル １−（５−ベンジロキシ）−６−シアノピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート１．３９ｇをテトラヒドロフラン／エタノール＝１／１の混合溶液３０ｍＬに懸濁させ、パラジウム／炭素（１０％ｗｔ）４０９ｍｇを加えた後に、水素雰囲気下、室温で１４時間撹拌した。反応混合液をろ過し、ろ液を減圧濃縮することで、エチル １−（６−シアノ−５−ヒドロキシピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート１．０２ｇを得た。
（５）エチル １−（６−シアノ−５−ヒドロキシピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート４６ｍｇをジクロロメタン１ｍＬに懸濁させ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン３５ｍｇを加え、０℃に冷却した後に、トリフルオロメタンスルホン酸無水物７６ｍｇを加え、窒素雰囲気下、室温で４時間撹拌した。反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行った。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製することで、エチル １−（６−シアノ−５−（（トリフルオロメチル）スルホニルオキシ）ピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−２−カルボキシレート４５．３ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），４．３７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｓ），８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．９８（１Ｈ，ｓ）
（６）エチル １−（６−シアノ−５−（（トリフルオロメチル）スルホニルオキシ）ピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−２−カルボキシレート４６．８ｍｇ、フェニルボロン酸１７．６ｍｇおよび塩化パラジウム−１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン−ジクロロメタン錯体７．８ｍｇを１，２−ジメトキシエタン１．０ｍＬに懸濁させ、１Ｍ炭酸カリウム水溶液０．１２ｍＬを加え、窒素雰囲気下、８０℃で３時間加熱した。反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後、乾燥、減圧濃縮を行い、エチル １−（６−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレートの粗体を得た。
上記の粗体をテトラヒドロフラン／メタノール＝２／１の混合溶液１．５ｍＬに懸濁させ、２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液０．２４ｍＬを加え、５０℃で４時間加熱した。反応混合液を室温まで冷却させた後に２Ｍ塩酸０．２４ｍＬおよび２ｍＬを加え、酢酸エチルで抽出、減圧濃縮を行った。得られた粗体を逆相ＨＰＬＣにて精製することで、１−（６−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸１８．８ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ‐ｄ６）δ（ｐｐｍ）：７．５６−７．６１（３Ｈ，ｍ），７．７０−７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），８．２５（１Ｈ，ｓ），８．３０−８．３７（２Ｈ，ｍ），８．９７（１Ｈ，ｓ），１２．９５（１Ｈ，ｓ）
ＨＰＬＣ保持時間：１０．４０分
Ｏｂｓ Ｍａｓｓ（Ｍ＋＋Ｈ）：２９１．０８７４
Ｐｒｅｄ Ｍａｓｓ（Ｍ＋＋Ｈ）：２９１．０８７７
Ｆｏｒｍｕｌａ（Ｍ）：Ｃ１６Ｈ１０Ｎ４Ｏ２
［実施例８６−９６］
上記の実施例８５の（５）で得られたエチル １−（６−シアノ−５−（（トリフルオロメチル）スルホニルオキシ）ピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−２−カルボキシレートを原料として、実施例８５と同様にして、化合物番号８６〜９６を合成した。
Figure 2014157740
［実施例９７−１０７］
上記の参考例化合物を出発原料として、実施例１と同様にして、化合物番号９７〜１０７を合成した。
Figure 2014157740
［実施例１０８］
以上の実施例の方法に従って合成された化合物について、キサンチンオキシダーゼ阻害活性を測定した。
（１）試験化合物の調製
試験化合物をＤＭＳＯ（シグマ社製）に２０ｍＭの濃度になるように溶解した後、使用時の目的の濃度に調製して用いた。
（２）測定方法
本発明化合物のキサンチンオキシダーゼ阻害活性評価を文献記載の方法（Ｍｅｔｈｏｄ Ｅｎｚｙｍａｔｉｃ Ａｎａｌｙｓｉｓ，１，５２１−５２２，１９７４）を一部改変して実施した。本評価は、オキシダーゼ型のキサンチンオキシドレダクターゼ活性の測定により行われた。すなわち、あらかじめ２０ｍＭ水酸化ナトリウム溶液にて１０ｍＭに調製したキサンチン（シグマ社製）溶液を１００ｍＭリン酸緩衝液を用いて３０μＭに調製し、９６穴プレートに７５μＬ／穴ずつ加えた。最終濃度の１００倍になるようにＤＭＳＯにて希釈した各試験化合物を１．５μＬ／穴ずつ添加し、ミキシング後にマイクロプレートリーダーＳＰＥＣＴＲＡ ｍａｘ Ｐｌｕｓ３８４（モレキュラーデバイス社製）にて２９０ｎｍの吸光度を測定した。続けてオキシダーゼ型キサンチンオキシドレダクターゼ（バターミルク由来、Ｃａｌｂｉｏｃｈｅｍ社製）を１００ｍＭリン酸緩衝液を用いて３０．６ｍＵ／ｍＬに調製し、７３．５μＬ／穴ずつ加えた。ミキシング後速やかに２９０ｎｍにおける吸光度変化を５分間測定した。試験化合物溶液の代わりにＤＭＳＯを添加したときの酵素活性を１００％として試験化合物の阻害率を計算し、用量応答曲線にフィットさせてオキシダーゼ型キサンチンオキシドレダクターゼに対する５０％阻害濃度を計算した。
この結果を次の表に示す。但し、表中の記号（＋、＋＋、＋＋＋）は以下の通りの阻害活性値を表しているものとする。
１０．０ｎＭ≦ＩＣ５０：＋
５．０ｎＭ≦ＩＣ５０＜１０．０ｎＭ：＋＋
１．０ｎＭ≦ＩＣ５０＜５．０ｎＭ：＋＋＋
Figure 2014157740
Figure 2014157740
［実施例１０９］
血中尿酸低下作用（正常マウス）
７〜８週齢のＣｒｌｊ：ＣＤ１系雄性マウス（日本チャールス・リバー株式会社）に０．５％メチルセルロース液に懸濁した試験化合物を経口ゾンデを用いて強制投与した。投与後６時間、１６時間、２４時間に心臓より採血した後、血清を分離した。血中尿酸値は尿酸測定キット（オートセラＳＵＡ：積水メディカル）を用いて、ウリカーゼ法にて吸光度計（日立自動分析装置７１８０）にて測定し、尿酸低下率を下式により求めた。
尿酸低下率（％）
＝（対照動物の尿酸値−試験化合物投与動物の尿酸値）ｘ１００／対照動物の尿酸値
本試験において、本発明化合物の優れた血中尿酸低下作用が確認された。例えば、化合物番号１、５、１０、１４、１９、２１および３３の化合物は１ｍｇ／ｋｇの経口投与６時間後、尿酸低下率７０％以上を示した。
以上の結果より、本発明化合物は強力な血中尿酸低下作用を有することが示された。
［実施例１１０］
血中尿酸低下作用（正常ラット）
８〜９週齢のＳｐｒａｇｕｅ−Ｄａｗｌｅｙ系雄性ラット（日本チャールス・リバー株式会社）に０．５％メチルセルロース液に懸濁した試験化合物を経口ゾンデを用いて強制投与した。投与後６時間、２４時間に尾静脈より採血した後、血漿を分離した。血中尿酸値は尿酸測定キット（ＬタイプワコーＵＡ・Ｆ：和光純薬工業）を用いて、ウリカーゼ法にて吸光度計を用いて測定し、尿酸低下率を下式により求めた。
尿酸低下率（％）＝（対照動物の尿酸値−試験化合物投与動物の尿酸値）ｘ１００／対照動物の尿酸値
化合物番号１の化合物は１ｍｇ／ｋｇの用量で投与後６時間および２４時間において、尿酸低下率７０％以上を示した。また、化合物番号９７および９８の化合物は１０ｍｇ／ｋｇの用量で投与後６時間および２４時間において、尿酸低下率５０％以上を示した。この結果から、本発明化合物は強力かつ持続的な血中尿酸低下作用を有することが示された。
［実施例１１１］
血中尿酸低下作用（フサオマキザル）
フサオマキザルに０．５％メチルセルロース液に懸濁した試験化合物をディスポーザブルカテーテルおよび注射筒を用いて鼻腔から胃内に強制投与した。投与後４時間、２４時間に伏在静脈より採血した後、血漿を分離した。血中尿酸値は尿酸測定キット（ＬタイプワコーＵＡ・Ｆ：和光純薬工業）を用いて、ウリカーゼ法にて吸光度計を用いて測定し、尿酸低下率を下式により求めた。
尿酸低下率（％）＝（対照動物の尿酸値−試験化合物投与動物の尿酸値）ｘ１００／対照動物の尿酸値
化合物番号１の化合物は１ｍｇ／ｋｇの用量で投与後４時間および２４時間において、尿酸低下率５０％以上を示した。
この結果から、フサオマキザルにおいても、本発明化合物は強力かつ持続的な血中尿酸低下作用を有することが示された。
［実施例１１２］
血中尿酸低下作用（ビーグル犬）
化合物番号１について、ビーグル犬における血中尿酸低下作用を確認した。ビーグル犬（北山ラベス）に０．５％メチルセルロース液に懸濁した試験化合物を強制経口投与した。投与後２４時間に橈側皮静脈より採血した後、血漿を分離した。血中尿酸値はＬＣ−ＭＳ／ＭＳ法を用いて測定し、尿酸低下率を下式により求めた。
尿酸低下率（％）
＝（対照動物の尿酸値−試験化合物投与動物の尿酸値）ｘ１００／対照動物の尿酸値
化合物番号１は、３ｍｇ／ｋｇの用量において、投与後２４時間において、尿酸低下率５０％以上を示した。
この結果から本発明の化合物がイヌにおいて持続的な血中尿酸低下効果を有することが示された。
以上の結果より、本発明化合物は、１日１回またはそれ以上の間隔で投与しても強力な尿酸低下作用を発揮することが期待できる。また、臨床上、尿酸値を持続的に低下させることは、高尿酸血症およびこれに起因する各種疾患、特に慢性疾患の治療または予防において重要であり、本発明がかかる疾患に対して優れた効果を発揮することが期待できる。
本発明の前記式（Ｉ）で表される化合物、およびその製薬学的に許容される塩は、キサンチンオキシダーゼ阻害活性を有し、キサンチンオキシダーゼ阻害剤として臨床で応用可能な、特に、痛風、高尿酸血症、腫瘍崩壊症候群、尿路結石、高血圧症、脂質異常症、糖尿病、動脈硬化症や心不全等の心血管疾患、糖尿病性腎症等の腎疾患、慢性閉塞性肺疾患等の呼吸器疾患、炎症性腸疾患または自己免疫性疾患等、キサンチンオキシダーゼの関与する疾患の治療薬または予防薬として使用することができる。

Claims (21)

  1. 式（Ｉ）で表される化合物またはその製薬学的に許容される塩。
    Figure 2014157740
    ［式中、
    Ａは、炭素数６〜１０のアリール基またはヘテロアリール基を表し、ここで、アリール基またはヘテロアリール基は、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１〜３個の基Ｑで置換されていてもよい。
    Ｘ、Ｙ、およびＺはＣＲ５または窒素原子を表し、ここで、Ｘ、Ｙ、およびＺのうち１つは窒素原子を表し、残り２つはＣＲ５を表す。
    Ｒは、水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ１は、水素原子、アミノ基または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ２は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ３およびＲ４は、同一または互いに異なって、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、ここで、Ｒ３およびＲ４は一体となって、これらが結合する窒素原子と共に単環式含窒素飽和複素環を形成してもよい。
    Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。］
  2. ＸおよびＺはＣＲ５を表し、Ｙは窒素原子を表す、請求項１記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  3. ＹおよびＺはＣＲ５を表し、Ｘは窒素原子を表す、請求項１記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  4. ＸおよびＹはＣＲ５を表し、Ｚは窒素原子を表す、請求項１記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  5. Ｒ５は水素原子を表す、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  6. ＲおよびＲ１は水素原子を表す、請求項１〜５のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  7. Ａは、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１もしくは２個の基Ｑで置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール基を表す、請求項１〜６のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  8. Ａは、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１もしくは２個の基Ｑで置換されていてもよいフェニル基を表す、請求項７記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  9. Ａは、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１もしくは２個の基Ｑで置換されていてもよいヘテロアリール基を表す、請求項１〜６のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  10. Ａは、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１もしくは２個の基Ｑで置換されていてもよいチエニル基を表す、請求項９記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  11. Ａは、無置換である、請求項１〜１０のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  12. Ｑは、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−Ｏ−Ｒ２、および−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキルからなる群より選択される、請求項１〜１０のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  13. Ｑは、ハロゲン原子、メチル基およびメトキシ基からなる群より選択される、請求項１２に記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩。
  14. 以下の（１）〜（１０７）より選択されるいずれかの化合物またはその製薬学的に許容される塩。
    （１） １−（４−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２） １−［４−シアノ−５−（４−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３） １−［４−シアノ−５−（２−エトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４） １−［４−シアノ−５−（２−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５） １−［４−シアノ−５−（２−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６） １−［４−シアノ−５−（２−クロロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７） １−［４−シアノ−５−（２−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８） １−｛４−シアノ−５−［２−（トリフルオロメチル）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９） １−｛４−シアノ−５−［２−（トリフルオロメトキシ）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１０） １−［４−シアノ−５−（３−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１１） １−［４−シアノ−５−（３−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１２） １−［４−シアノ−５−（３−クロロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１３） １−［４−シアノ−５−（３−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１４） １−［４−シアノ−５−（４−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１５） １−［４−シアノ−５−（４−クロロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１６） １−［４−シアノ−５−（４−ヒドロキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１７） １−［４−シアノ−５−（２−エトキシ−６−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１８） １−［４−シアノ−５−（２−フルオロ−６−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１９） １−［４−シアノ−５−（２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２０） １−［４−シアノ−５−（２，３−ジフルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２１） １−［４−シアノ−５−（チオフェン−３−イル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２２） １−［４−シアノ−５−（３−メチルチオフェン−２−イル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２３） １−［４−シアノ−５−（フラン−３−イル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２４） １−［４−シアノ−５−（３−メトキシピリジン−４−イル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２５） １−［４−シアノ−５−（ピリジン−３−イル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２６） １−（４−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２７） １−（４−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−３−（プロパン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２８） １−（４−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−３，５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （２９） １−［４−シアノ−５−（４−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３０） １−［４−シアノ−５−（３−エトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３１） １−［４−シアノ−５−（３−プロポキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３２） １−［４−シアノ−５−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３３） １−［４−シアノ−５−（２−フルオロ−４−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３４） １−［４−シアノ−５−（２−フルオロ−５−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３５） １−［４−シアノ−５−（２，５−ジフルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３６） １−［４−シアノ−５−（２−フルオロ−３−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３７） １−［４−シアノ−５−（４−フルオロ−３−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３８） １−［４−シアノ−５−（２，３−ジメチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （３９） １−［４−シアノ−５−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４０） １−［４−シアノ−５−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４１） １−［４−シアノ−５−（３−クロロ−２−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４２） １−［５−（４−カルボキシフェニル）−４−シアノピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４３） １−｛４−シアノ−５−［４−（トリフルオロメチル）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４４） １−｛４−シアノ−５−［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４５） １−｛４−シアノ−５−［３−（トリフルオロメチル）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４６） １−｛４−シアノ−５−［３−（ジフルオロメトシキ）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４７） １−｛４−シアノ−５−［４−（プロパン−２−イル）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４８） １−｛４−シアノ−５−［３−（プロパン−２−イル）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （４９） １−［４−シアノ−５−（４−フルオロ−２−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５０） １−［４−シアノ−５−（４−フルオロ−２−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５１） １−［４−シアノ−５−（４−クロロ−３−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５２） １−［４−シアノ−５−（４−プロパン−２−イルオキシ）フェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５３） １−［５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−シアノピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５４） １−［４−シアノ−５−（４−フェノキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５５） １−｛４−シアノ−５−［４−（メトキシメチル）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５６） １−｛４−シアノ−５−［３−（２−メチルプロポキシ）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５７） １−［４−シアノ−５−（ナフタレン−２−イル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５８） １−［４−シアノ−５−（４−メトキシピリジン−３−イル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （５９） １−｛４−シアノ−５−［６−（ジメチルアミノ）ピリジン−３−イル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６０） １−［４−シアノ−５−（５−フルオロピリジン−３−イル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６１） １−［５−（１−ベンゾチオフェン−３−イル）−４−シアノピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６２） １−［４−シアノ−５−（ピリジン−４−イル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６３） １−｛４−シアノ−５−［４−（メチルスルファニル）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６４） １−｛４−シアノ−５−［４−（モルホリン−４−イル）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６５） １−［４−シアノ−５−（４−フェニルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６６） １−｛５−［４−（ベンジルオキシ）フェニル］−４−シアノピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６７） １−｛４−シアノ−５−［３−（ジメチルアミノ）フェニル］ピリジン−２−イル｝−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６８） １−［５−（４−アミノフェニル）−４−シアノピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （６９） １−［４−シアノ−５−（４−メタンスルホンアミドフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７０） １−（４−シアノ−５−｛４−［（モルホリン−４−イル）カルボニル］フェニル｝ピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７１） １−［５−（４−アセトフェニル）−４−シアノピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７２） １−［４−シアノ−５−（３−ニトロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７３） １−［５−（４−ベンゾイルフェニル）−４−シアノピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７４） １−［４−シアノ−５−（４−メタンスルホニルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７５） １−（５−シアノ−６−フェニルピリジン−３−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７６） １−［５−シアノ−６−（２−フルオロフェニル）ピリジン−３−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７７） １−［５−シアノ−６−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジン−３−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７８） １−［５−シアノ−６−（２−フルオロ−４−メチルフェニル）ピリジン−３−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （７９） １−［５−シアノ−６−（２−フルオロ−５−メチルフェニル）ピリジン−３−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８０） １−［５−シアノ−６−（２，５−ジフルオロフェニル）ピリジン−３−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８１） １−［５−シアノ−６−（２，３−ジフルオロフェニル）ピリジン−３−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８２） １−［５−シアノ−６−（４−フルオロ−３−メチルフェニル）ピリジン−３−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８３） １−［５−シアノ−６−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）ピリジン−３−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８４） １−［５−シアノ−６−（２−フルオロ−５−メトキシフェニル）ピリジン−３−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８５） １−（６−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８６） １−［６−シアノ−５−（２−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８７） １−［６−シアノ−５−（２−フルオロ−４−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８８） １−［６−シアノ−５−（２−フルオロ−５−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （８９） １−［６−シアノ−５−（４−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９０） １−［６−シアノ−５−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９１） １−［６−シアノ−５−（２−フルオロ−５−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９２） １−［６−シアノ−５−（３−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９３） １−［６−シアノ−５−（３−エトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９４） １−［６−シアノ−５−（４−フルオロ−３−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９５） １−［６−シアノ−５−（２，６−ジフルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９６） １−［６−シアノ−５−（２−フルオロ−６−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９７） ３−アミノ−１−（４−シアノ−５−フェニルピリジン−２−イル）−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９８） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（２−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （９９） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（４−フルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１００） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（４−クロロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１０１） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（３−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１０２） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（３−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１０３） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（２−フルオロ−４−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１０４） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（２−フルオロ−５−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１０５） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（２，４−ジフルオロフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１０６） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（４−フルオロ−３−メチルフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
    （１０７） ３−アミノ−１−［４−シアノ−５−（２−フルオロ−５−メトキシフェニル）ピリジン−２−イル］−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸
  15. 請求項１〜１４のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩と、製薬学的に許容される担体とを含む医薬組成物。
  16. 請求項１〜１４のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する、キサンチンオキシダーゼ阻害剤。
  17. 請求項１〜１４のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する、痛風、高尿酸血症、腫瘍崩壊症候群、尿路結石、高血圧症、脂質異常症、糖尿病、動脈硬化症や心不全等の心血管疾患、糖尿病性腎症等の腎疾患、慢性閉塞性肺疾患等の呼吸器疾患、炎症性腸疾患または自己免疫性疾患の治療薬または予防薬。
  18. 請求項１〜１４のいずれかに記載の化合物またはその製薬学的に許容される塩を有効成分として含有する、痛風または高尿酸血症の治療薬または予防薬。
  19. 式（ＩＩ）で表される化合物。
    Figure 2014157740
    ［式中、
    Ａは、炭素数６〜１０のアリール基またはヘテロアリール基を表し、ここで、アリール基またはヘテロアリール基は、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１〜３個の基Ｑで置換されていてもよい。
    Ｘ、ＹおよびＺは、ＣＲ５または窒素原子を表し、ここで、Ｘ、ＹおよびＺのうち１つは窒素原子を表し、残り２つはＣＲ５を表す。
    Ｒは、水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ１は、水素原子、アミノ基または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ２は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ３およびＲ４は、同一または互いに異なって、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、ここで、Ｒ３およびＲ４は一体となって、これらが結合する窒素原子と共に単環式含窒素飽和複素環を形成してもよい。
    Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ６は、カルボキシル基の保護基を表す。
    Ｗは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、またはシアノ基を表す。］
  20. 式（ＩＩＩ）で表される化合物。
    Figure 2014157740
    ［式中、
    Ｘ、ＹおよびＺは、ＣＲ５または窒素原子を表し、Ｘ、ＹおよびＺのうち１つは窒素原子を表し、残り２つはＣＲ５を表す。
    Ｒは、水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ１は、水素原子、アミノ基または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ６は、カルボキシル基の保護基を表す。
    Ｖは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、水酸基、またはベンジルオキシ基を表す。
    Ｗは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、またはシアノ基を表す。］
  21. 式（ＩＶ）で表される化合物。
    Figure 2014157740
    ［式中、
    Ａは、炭素数６〜１０のアリール基またはヘテロアリール基を表し、ここで、アリール基またはヘテロアリール基は、無置換であるか、または同一もしくは互いに異なって、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＯ２、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロゲノアルキル基、フェニル基、−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−Ｒ２、−Ｏ−炭素数１〜６のハロゲノアルキル、−Ｏ−ベンジル、−Ｏ−フェニル、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２、−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−Ｒ２、−ＣＯ−ＮＲ３Ｒ４、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ２、−ＣＯ−アリール、−Ｓ−Ｒ２、−ＳＯ２−炭素数１〜６のアルキル、および−ＳＯ２−フェニルからなる群より選択される１〜３個の基Ｑで置換されていてもよい。
    Ｘ、ＹおよびＺは、ＣＲ５または窒素原子を表し、ここで、Ｘ、ＹおよびＺのうち１つは窒素原子を表し、残り２つはＣＲ５を表す。
    Ｒ２は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｒ３およびＲ４は、同一または互いに異なって、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、ここで、Ｒ３およびＲ４は一体となって、これらが結合する窒素原子と共に単環式含窒素飽和複素環を形成してもよい。
    Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
    Ｘ２は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。］
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