JPWO2014122938A1 - 有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置 - Google Patents

Abstract

有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板１と、光透過性電極２と発光層を含む機能層３と対電極４とを有する有機発光体５と、封止材６とを備えている。有機発光体５は封止材６によって覆われて封止されている。光透過性電極２に接して配線材８によりグリッド状のパターンの補助電極７が設けられている。有機エレクトロルミネッセンス素子は、補助電極７を構成するグリッド状のパターンの交差位置に、配線材８が設けられていない光透過可能部１５を有する。機能層３の補助電極７側の表面には、平面視において補助電極７と重複する位置に絶縁膜１０が設けられている。

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子及びそれを用いた照明装置に関する。

一般的な構造を有する有機エレクトロルミネッセンス素子（以下「有機ＥＬ素子」ともいう）として、光透過性の基板の表面に、光透過性電極、発光層を含む機能層、対電極が積層されたものが知られている。そして、このような有機ＥＬ素子を利用して面状発光素子（照明パネル）を得ることが知られている。有機ＥＬ素子では、陽極と陰極の間に電圧を印加することによって有機発光層で発した光は、光透過性電極、基板を通して取り出される。

特開２００６−３３１９２０号公報

有機ＥＬ素子では、光透過性と導電性とを有する材料（ＩＴＯなど）で光透過性電極を形成しているが、通常、光透過性電極の材料は比抵抗が高く、通電性があまりよくない。特に発光効率の向上のために電極層を薄膜化した場合や、素子の発光面積を大面積化した場合にはシート抵抗が大きくなる。そこで、光透過性電極よりも導電性の高い材料でグリッド状の補助電極を形成し、この補助電極で光透過性電極の電気伝導性を補って電極の通電性を高めることが行われる場合がある。例えば、特許文献１には、光透過性の電極と導通するように配線を設けた有機エレクトロルミネッセンス表示装置が開示されている。

しかしながら、補助電極が形成された部分は、通常、透明ではなく光を取り出すことができない部分であるため、補助電極に対応してグリッド状の非発光形状が視認される場合がある。そして、非発光の形状が確認されると、照明用途などにおいて意匠性を低下させるなどの問題が発生するおそれがある。また、補助電極の形成された部分は光を取り出すことができないため、この部分で生じた発光は外部に取り出すことができず無駄になって、発光効率が低下するおそれがある。

本発明の目的は、補助電極によって効率よく電気伝導性を向上させることができるとともに、補助電極の非発光の形状が視認されることを抑制することができ、光取り出し性の優れた有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置を提供することにある。

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板と、光透過性電極と発光層を含む機能層と対電極とを有する有機発光体と、封止材とを備えている。前記有機発光体は前記封止材によって覆われて封止されている。前記光透過性電極に接して配線材によりグリッド状のパターンの補助電極が設けられている。有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記補助電極を構成する前記グリッド状のパターンの交差位置に、前記配線材が設けられていない光透過可能部を有している。前記機能層の前記補助電極側の表面には、平面視において前記補助電極と重複する位置に絶縁膜が設けられている。

前記光透過可能部は、前記交差位置において前記配線材が離間していることにより形成されていることが好ましい一態様である。

前記補助電極は、前記交差位置において、前記配線材が繋がって前記交差位置を通過する配線連続部を有し、前記配線連続部は、前記交差位置において屈曲形状を有することが好ましい一態様である。

前記補助電極は、前記交差位置において、前記配線材が繋がって前記交差位置を通過する配線連続部を有し、前記配線連続部は、前記交差位置において略直線形状を有することが好ましい一態様である。

前記補助電極は、前記光透過性電極の前記機能層側とは反対側の表面に接するように形成されており、側面が傾斜面となっていることが好ましい一態様である。

前記交差位置又はその近傍において、前記配線材間を接続する接続配線が設けられていることが好ましい一態様である。

本発明に係る照明装置は、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子を備える。

本発明によれば、補助電極によって効率よく電気伝導性を向上させることができるとともに、補助電極の非発光の形状が視認されることを抑制することができ、光取り出し性の優れた有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置を得ることができる。

図１は図１Ａ及び図１Ｂから構成される。図１は、有機エレクトロルミネッセンス素子の実施形態の一例を示す。図１Ａは断面図である。図１Ｂは一部を分解した平面図である。 図２は図２Ａ及び図２Ｂから構成される。図２Ａは補助電極の形態の一例を示す平面図である。図２Ｂは補助電極が設けられた部分の拡大断面図である。 図３は図３Ａ及び図３Ｂから構成される。図３は、有機エレクトロルミネッセンス素子の実施形態の他の一例を示す。図３Ａは断面図である。図３Ｂは補助電極が設けられた部分の拡大断面図である。 図４は図４Ａ及び図４Ｂから構成される。図４は、有機エレクトロルミネッセンス素子の実施形態の他の一例を示す。図４Ａは一部を分解した平面図である。図４Ｂは補助電極を示す平面図である。 図５は、有機エレクトロルミネッセンス素子の実施形態の他の一例を示し、一部を分解した平面図である。 図６は図６Ａ〜図６Ｆから構成される。図６Ａは補助電極のパターンの一例である。図６Ｂは補助電極のパターンの一例である。図６Ｃは補助電極のパターンの一例である。図６Ｄは補助電極のパターンの一例である。図６Ｅは補助電極のパターンの一例である。図６Ｆは補助電極のパターンの一例である。 図７は図７Ａ、図７Ｂ及び図７Ｃから構成される。図７Ａは補助電極のパターンの一例である。図７Ｂは補助電極のパターンの一例である。図７Ｃは補助電極のパターンの一例である。 図８は図８Ａ及び図８Ｂから構成される。図８はグリッドの説明図である。図８Ａは四角格子の一例である。図８Ｂは六角格子の一例である。 照明装置の一例を示す斜視図である。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）は、基板１と有機発光体５と封止材６とを備えている。有機発光体５は、光透過性電極２と、発光層を含む機能層３と、対電極４とを有する。有機発光体５は封止材６によって覆われて封止されている。光透過性電極２に接して配線材８によりグリッド状のパターンの補助電極７が設けられている。有機ＥＬ素子は、補助電極７を構成するグリッド状のパターンの交差位置に、配線材８が設けられていない光透過可能部１５を有している。機能層３の補助電極７側の表面には、平面視において補助電極７と重複する位置に絶縁膜１０が設けられている。

図１は、有機ＥＬ素子の実施の形態の一例を示している。図１は図１Ａ及び図１Ｂから構成される。この有機ＥＬ素子は、基板１の表面に、光透過性電極２と発光層を含む機能層３と対電極４とを有する有機発光体５が形成されている。有機発光体５は封止材６によって覆われて封止されている。光透過性電極２に接して配線材８によりグリッド状のパターンの補助電極７が設けられている。ただし、この配線材８は、補助電極７を構成するグリッド状のパターンの交差位置において途切れている。交差位置には、配線材８が設けられないことにより、光透過可能部１５が形成されている。また、機能層３の補助電極７側の表面には、平面視において補助電極７と重複する位置に絶縁膜１０が設けられている。このように、本形態の有機ＥＬ素子では、補助電極７が設けられているため、補助電極７によって光透過性電極２の通電性を高めることができる。また、補助電極７を構成する配線材８は、グリッド状のパターンの交差位置で途切れて、光を透過させる光透過可能部１５が形成されているため、非発光の形状を視認させにくくすることができる。また、補助電極７の位置に絶縁膜１０が形成されているため、外部に光を取り出せる補助電極７のない部分に電気をより供給して発光させることができ、効率よく発光を行うことができる。そのため、補助電極７によって効率よく電気伝導性を向上させることができるとともに、補助電極７の非発光の形状が視認されることを抑制することができ、光取り出し性の優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができるものである。以下、さらに説明する。

図１Ａは、有機ＥＬ素子の断面図を示している。図１Ａでは素子の構成が分かりやすいように、左側に第１電極引き出し部１２ａ側の端部を図示し、右側に第２電極引き出し部１２ｂ側の端部を図示している。図１Ｂは、図１Ａの有機ＥＬ素子を平面視（基板１の表面に垂直な方向から見た場合）した様子を示している。図１Ｂでは、素子の内部構成が分かりやすいように、封止材６を取り除いて図示し、封止材６が接着される領域に設けられる封止接着部１４を斜線で示している。また、図１Ｂでは、隠れている補助電極７（補助電極７を構成する複数の配線材８）を破線で示している。

基板１としては、光透過性を有する透明な基板であることが好ましい。本形態では、基板１は、ガラス基板で構成することができる。基板１がガラスで構成されることにより、ガラスは水分の透過性が低いので、基板１側からの水分の浸入を抑制することができる。また、基板１は、ガラスと他の材料との複合材によって構成されていてもよい。例えば、ガラス表面に光取り出し性の樹脂層を設けた基板１を用いた場合、光取り出し性を効果的に高めることができる。この樹脂層は基板１の有機発光体５側の面に設けられるものであってよい。光取り出し性の樹脂層としては、散乱構造を有する層などが例示される。樹脂層はプラスチック材の貼り付けにより設けてもよい。プラスチック材料としては、ＰＥＴ、ＰＥＮなどを用いることができる。また、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系などの材料を用いてもよい。あるいは、樹脂層は、高屈折率層と低屈折率層の複層構造にしたり、さらにその複層構造の界面に微細な凹凸構造を設けたりした層であってもよい。

有機発光体５は、光透過性電極２、機能層３及び対電極４の積層体によって形成されている。光透過性とは、光を透過させることが可能なことであり、完全に透明な場合及び半透明な場合を含む。光透過性は透光性を含む。有機発光体５の設けられる領域は、平面視（基板表面と垂直な方向から見た場合）において、基板１の中央部の領域である。有機発光体５は、有機発光体５を取り囲む外周の位置において基板１に接合される封止材６によって覆われて封止されており、有機発光体５は封止領域の内部に配置されている。本形態では、基板１側から、光透過性電極２、機能層３及び対電極４がこの順で設けられているが、その逆に、いわゆる逆層構造として、基板１側から、対電極４、機能層３及び光透過性電極２がこの順で設けられた素子であってもよい。

光透過性電極２は光透過性を有する電極である。また、対電極４は、光透過性電極２と対となる電極である。通常、光透過性電極２は陽極を構成し、対電極４は陰極を構成するが、その逆であってもよい。光透過性電極２は、光透過性を有するため、光取り出し側の電極を構成することができる。また、対電極４は光反射性を有していてもよい。その場合、対電極４側に向って発せられる発光層からの光を、対電極４で反射させて光透過性の基板１側から取り出すことができる。また、対電極４は光透過性の電極であってもよい。対電極４が光透過性の場合、封止材６側の面（背面）から光を取り出す構造にすることが可能である。あるいは、対電極４が光透過性の場合、対電極４の背面（機能層３とは反対側の面）に光反射性の層を設けることによって、対電極４の方向に進行した光を反射させて、基板１側から取り出すことが可能である。その際、光反射性の層は、散乱反射性であってもよいし、鏡面反射性であってもよい。

光透過性電極２は、透明な電極材料を用いて構成することができる。例えば、導電性の金属酸化物などを好ましく用いることができる。透明金属酸化物としては、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＺＯなどが例示される。光透過性電極２はスパッタ法などで形成され得る。光透過性電極２の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲にすることができる。

対電極４は、適宜の電極材料を用いて構成することができる。例えば、対電極４は、ＡｌやＡｇなどにより形成することができる。対電極４は蒸着法やスパッタ法などで形成され得る。対電極４の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲にすることができる。

機能層３は、発光を生じさせる機能を有する層であり、通常、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、中間層などから適宜選ばれる複数の層によって構成されるものである。機能層３の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、６０〜３００ｎｍ程度にすることができる。

機能層３の積層構造は、例えば、光透過性電極２を陽極とし、対電極４を陰極とした場合、光透過性電極２側から順に、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層とすることができる。なお、積層構造は、これに限定されるものではなく、例えば、発光層の単層としたり、ホール輸送層と発光層と電子輸送層との積層構造にしたり、ホール輸送層と発光層との積層構造にしたり、発光層と電子輸送層との積層構造にしたりすることができる。また、発光層は単層構造でも多層構造でもよく、例えば発光色が白色の場合には、発光層中に赤色、緑色、青色の３色のドーパント色素をドーピングしたり、赤、緑、青の発光層を積層させたりしてもよい。また、対となる二つの電極に挟んでこの電極間に電圧を印加した際に発光が生じる積層構造を１つの発光ユニットとした場合に、複数の発光ユニットが光透過性及び導電性を有する中間層を介して積層されたマルチユニット構造になっていてもよい。マルチユニット構造とは、対となる電極（陽極と陰極）の間に、厚み方向に重なる複数の発光ユニットを備えた構造である。

封止材６は、水分の透過性が低い基板材料を用いて形成することができる。例えば、ガラス基板などを用いることができる。具体的には、ソーダライムガラス、無アルカリガラスなどが挙げられる。これらは比較的安価なガラス材料であるため素子の製造コストを抑えることが可能になる。封止材６には、有機発光体５を収容するための凹部を有してもよいが、有していなくてもよい。本形態の封止材６では、封止材６は凹部を有しており、この凹部によって外周に封止側壁６ａが形成されている。封止材６が凹部を有している場合、有機発光体５の側方を覆って封止することができるため、水分の浸入をより抑制することができ、封止性を高めることができる。凹部を有する封止材６としては、例えば、キャップガラスを用いることが可能である。封止材６が凹部を有していない場合、封止材６の平坦な面を基板１に対向させて封止することが可能になり、また、板状の封止材６をそのまま用いることができる。ただし、封止材６が凹部を有していない場合には、封止接着部１４の厚み（高さ）を大きくして、封止接着部１４によって有機発光体５を封止するためのスペーサとなる側壁が形成されることを要する。

封止材６は、接着材料により構成される封止接着部１４により基板１に接合されている。封止接着部１４は、有機発光体５の外周を取り囲んで基板１に設けられるものである。図１Ｂにおける斜線部分で示すように、本形態では、封止接着部１４は、光透過性電極２を構成する導電層の表面と、その導電層が分断された隙間における基板１の表面とに接して設けられている。このように、封止材６が封止接着部１４によって基板１に接着されることにより、有機発光体５は、外部空間から遮断されて封止されることになる。

封止接着部１４の材料は、接着剤として機能する適宜の材料により構成されるものであり、例えば、樹脂性の接着材料を用いることができる。樹脂性の接着材料は、防湿性を有していることが好ましい。例えば、乾燥剤を含有することにより防湿性を高めることができる。樹脂性の接着材料は、熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂などを主成分とするものであってもよい。

基板１と封止材６とに挟まれて有機発光体５（及び機能層３）が封止された部分（封止内部間隙）には、充填剤が充填されていてもよいし、空洞となった封止空間が形成されていてもよい。封止内部間隙を封止空間にする場合、封止材６で簡単に封止することができ、素子を容易に作製することができる。また、封止内部間隙に充填剤が充填されずに封止空間が形成された場合、封止空間には乾燥材１３を設けることが好ましい。それにより、封止空間に水分が浸入したとしても、浸入した水分を吸収することができる。例えば、封止材６の有機発光体５側の面に貼り付けることにより乾燥材１３を封止空間内に設けることができる。あるいは、乾燥材１３は塗布により設けられてもよい。

また、基板１と封止材６とに挟まれた封止領域の封止内部間隙を充填剤で満たした場合、封止材６で封止する際に、封止材６が内側に湾曲するなどしたとしても、有機発光体５に接触したりすることを低減でき、より安全に素子を製造することができる。充填剤は乾燥剤や吸湿剤が配合された樹脂組成物で構成することができる。また、流動性を有する樹脂組成物を用いることにより、封止内部間隙に充填剤を簡単に充填することができる。充填剤は硬化するものであっても、硬化しないものであってもよい。また、充填剤が乾燥剤や吸湿剤を含有することによって、内部に水分が浸入したとしても、充填剤で水分を吸収することができ、機能層３に水分が到達することを抑制することができる。

有機ＥＬ素子では、光透過性電極２と対電極４とに電圧を印加し、機能層３において正孔と電子を結合させて発光を生じさせる。そのため、光透過性電極２及び対電極４のそれぞれと導通する電極端子を封止領域よりも外部に引き出して設ける必要がある。電極端子は、外部電極と電気的に接続するための端子である。図１の形態では、光透過性電極２を構成する導電層を基板１の端部に引き出すことにより、電極引き出し部１２を形成している。そして、この電極引き出し部１２の表面に、電極端子を構成する電極パッド１１が設けられている。

電極引き出し部１２は、基板１の端部表面に設けられている。電極引き出し部１２は、光透過性電極２と導通する第１電極引き出し部１２ａと、対電極４と導通する第２電極引き出し部１２ｂとに区分される。本形態では、電極引き出し部１２は、光透過性電極２を構成する導電層が基板１の端部側に引き出され、封止材６が設けられる領域よりも外側に延出されることによって形成されている。すなわち、光透過性電極２を構成する導電層は、第１電極引き出し部１２ａが設けられる端部では、この導電層が延伸することにより封止領域からはみ出して基板１の表面に形成されている。そして、第１電極引き出し部１２ａは、光透過性電極２の延長部分により構成されている。また、光透過性電極２を構成する導電層は、第２電極引き出し部１２ｂが設けられる端部では、この導電層が分断されるとともに分断された導電層が延伸することにより封止領域からはみ出して基板１の表面に形成されている。そして、第２電極引き出し部１２ｂは、光透過性電極２から分離した導電層の延長部分により構成されている。第２電極引き出し部１２ｂは、封止領域の内部において、積層された対電極４と接触しており、それにより第２電極引き出し部１２ｂと対電極４とが導通する構造となっている。

電極引き出し部１２の表面には、電極パッド１１が設けられている。電極パッド１１は、非発光領域に形成されるものであるため、光透過性を有さなくてもよい。電極パッド１１を設けることにより、外部電源との接続を電極パッド１１で行うことができ、電気接続性を高めることができる。また、電極パッド１１を設けることにより、光透過性電極２及び電極引き出し部１２を構成する導電層の通電性を高めることができる。電極パッド１１は、補助電極７を構成する配線材８と同じ材料の層であってよい。それにより、簡単に導通性の高い電極パッド１１を形成することができる。

なお、電極引き出し部１２の構造（電極を封止領域よりも外部に引き出す構造）は、図１の形態の構造に限られるものではなく、例えば、第１電極引き出し部１２ａ及び第２電極引き出し部１２ｂの一方又は両方を、光透過性電極２を構成する導電層とは別の導電層を用いて形成してもよい。また、基板１側に対電極４が配設され、封止材６側に光透過性電極２が配設される構造（封止材６側から光を取り出す構造）の場合、対電極４の延長部分により、電極引き出し部１２が構成されてもよい。

そして、本形態の有機ＥＬ素子では、グリッド状のパターンとなった補助電極７が光透過性電極２に接して設けられている。補助電極７は、導電材料で構成される配線材８により形成されている。補助電極７は光透過性電極２の機能層３側の表面に形成されている。補助電極７を設けることにより、光透過性電極２の通電性を高めることができ、発光面における電流分布を改善し、面内での発光がより均一になった有機ＥＬ素子を得ることができる。ここで、光透過性電極２は、光透過性を有する材料（透明金属酸化物など）で形成されるため、通常、比抵抗が高く、通電性があまりよくない。そこで、光透過性電極２よりも抵抗が低い材料で配線材８を形成し、この配線材８で補助電極７を構成することにより、光透過性電極２の電気伝導性を補って通電性をより高めることができる。例えば、ガラス基板上に膜厚５０ｎｍ程度で形成されたＩＴＯにおいてはシート抵抗が７０Ω程度となり、シート抵抗が比較的高くなるが、グリッド状の補助電極７を設けると、シート抵抗を下げることが可能になる。補助電極７がグリッド状に形成されていることにより、補助電極７の網目の間（穴）から光を基板１側に取り出すことが可能になる。

図１Ｂに示すように、本形態では、補助電極７は、複数の短冊状の配線材８により形成されている。短冊状とは、長辺が短辺に比べてはるかに長い（例えば１０倍以上）ものとなった四角形形状であってよい。また、個々の配線材８は、直線状の配線であってよい。個々の配線材８はグリッドパターンを構成する格子の四角形形状の各辺に配置されている。

図２Ａは、補助電極７の拡大図である。図２は図２Ａ及び図２Ｂから構成される。補助電極７においては、配線材８は、補助電極７を構成するグリッド状のパターンの交差位置において途切れている。配線材８が設けられていない部分は、光透過可能部１５となる。すなわち、図２Ａに示すように、本形態では、個々の線状の配線材８は、グリッドパターンの交差する位置である交差部Ｃの位置に重複しないように配置されており、この交差部Ｃには配線材８の材料は設けられていない。補助電極７は、いわば複数の格子線の交差点において線が分断されている不完全なグリッド形状となっていると言える。

グリッド状のパターンの交差位置（交差部Ｃ）に補助電極７が設けられた場合、補助電極７は、光を遮断し非発光の部分となるため、有機ＥＬ素子を駆動した際には、格子形状の交差位置が非発光となり、非発光の部分が目立ちやすくなるおそれがある。しかしながら、本形態では、交差位置（交差部Ｃ）に、補助電極７を構成する配線材８が設けられていない光透過可能部１５を設けるようにしているため、交差位置において光が遮られないようにすることができる。そのため、グリッドパターンの交差位置から光を取り出すことができるので、非発光形状を目立ちにくくすることができる。

光透過可能部１５は発光層から生じた光を透過させることができる部分である。配線材８は光透過性を有さないことが多く、もしくは光透過性が低いため、配線材８が存在する部分においては、光が透過できないか、もしくは光透過性が低い。しかしながら、光透過可能部１５は、配線材８が存在していないため、光を透過させることができ、発光層からの光を基板側に伝えることができる。

ここで、交差位置とは、配線材８が繋がっていると仮定したときに、配線材８が交差して通る部分（図２Ａの交差部Ｃ）及びその近傍を意味する。図２Ａには、交差位置の範囲を交差位置７ａとして図示している。交差位置７ａの中に、光透過可能部１５が形成されている。図２Ａの例は、交差部Ｃにおいて配線材８が全く設けられていない例であると言える。

光透過可能部１５は、交差位置において配線材８が離間していることにより形成されていることが好ましい。それにより、効率よく交差位置における発光性を高めることができ、補助電極７を視認しにくくすることができる。

図１Ｂに示されるように、補助電極７のグリッドパターンは、縦横に延伸する直線が等間隔で配置されて構成されているものであってよい。ここで、補助電極７のグリッドパターンとは、配線材８を分断しないで繋いだときのパターン形状がグリッドのパターンとなるものであってよい。

ここで、図８によりグリッドパターンを説明する。図８は、グリッドの形状の説明図である。図８は、図８Ａ及び図８Ｂにより構成される。グリッドは四角格子又は六角格子であってよい。図８Ａは、四角格子の説明図である。四角格子のグリッドでは、全体形状が、図８Ａのような四角格子（グリッドＧ４）となる。図８Ｂは、六角格子の説明図である。六角格子のグリッドでは、全体形状が図８Ｂのような六角格子（グリッドＧ６）となる。図８は、グリッドの説明のために、完全なグリッド状を示している。図８Ａ及び図８Ｂでは、グリッドパターンの交差位置が、交差位置ｇで示されている。グリッドパターンは網目状のパターンであってよい。図８の説明図により、各形態のグリッドパターンが理解されるであろう。

図１Ｂのグリッド形状は四角格子である。四角格子は六角格子よりも形成が容易であり得る。図１Ｂの形態では、縦５本、横５本の直線によって、１６個の矩形の穴が設けられてグリッドの網目が形成されているが、網目の個数や線の本数は、これに限定されるものではない。図１Ｂではグリッドパターンの概略を示しており、実際には、より密にグリッドパターンが構成されていてよい。例えば、縦横それぞれ１０〜１００本の範囲などの適宜の数であってもよい。具体的には、例えば、発光する領域の形状が、縦１０〜１０００ｍｍ、横１０〜１０００ｍｍの長方形又は正方形である場合には、グリッドを構成する直線が縦１０〜１００本×横１０〜１００本のようなパターンにすることができる。

本形態の有機ＥＬ素子では、機能層３の補助電極７側の表面に絶縁膜１０が設けられている。この絶縁膜１０は、部分的に設けられており、平面視において補助電極７と重複する位置に設けられている。ここで、補助電極７が設けられた部分は、通常、補助電極７は光透過性を有していないため、光を取り出すことができないので、この部分で発光が生じると、発光のロスが生じ、発光効率が低下するおそれがある。しかしながら、絶縁膜１０を設けると、補助電極７が設けられた部分では発光が生じないようし、光取り出し可能な補助電極７以外の領域（格子の網目）に電流をより多く流すことができるため、発光ロスを低減して発光効率を向上させることができる。また、補助電極７と対電極４との間で直接電気が流れると、補助電極７の部分で過剰発光が生じ、光透過性電極２と対電極４と間の発光が適切に得られなくなるおそれがある。しかしながら、絶縁膜１０を設けると、補助電極７が設けられた部分で過剰発光が生じるのを抑制することができ、光透過性電極２と対電極４とに電気を流して、面状の発光を適切に得ることができる。

また、図１の有機ＥＬ素子では、補助電極７は光透過性電極２の表面で盛り上がって形成されている。そのため、この表面に機能層３及び対電極４を直接形成した際には、層が分断されたり薄くなったりして、電気的にショートしやすくなるおそれがある。しかしながら、本形態では、補助電極７が絶縁膜１０によって電気的に絶縁されているので、たとえ補助電極７の位置で機能層３が途切れて対電極４が積層されたとしても、絶縁膜１０によって光透過性電極２と対電極４とが直接接することがない。そのため、電気的にショートすることを防ぐことができる。

絶縁膜１０は補助電極７と略同じ形状のパターンで設けられるものであってよい。すなわち、グリッド状のパターンで設けられるものであってよい。このとき、グリッド状のパターンの線の交差位置には、絶縁膜１０が設けられてもよいし、設けられていなくてもよい。グリッド状のパターンの線の交差位置に絶縁膜１０が設けられる場合、絶縁膜１０のパターンが簡単になって形成が容易になる。グリッド状のパターンの線の交差位置に絶縁膜１０が設けられると、絶縁膜１０は完全なグリッドパターンになり得る。この場合、交差位置では絶縁膜１０が設けられているため直接発光は生じないが、交差位置では光透過性を有さない配線材８が設けられていないため、周囲で生じた光を透明な絶縁膜１０を通して外部に取り出すことができる。しかし、より好ましくは、絶縁膜１０は、補助電極７と同じように、グリッド状のパターンの線の交差位置に設けられていない形態である。その場合、グリッドの交差位置で線が分断した不完全なグリッド形状の絶縁膜１０となる。グリッドパターンの線の交差位置に絶縁膜１０が設けられていないと、この交差位置（交差部Ｃ）において、電流を流して発光することができ、この部分を発光させて光を取り出すことができるため、非発光部分をより視認させにくくすることができる。また、交差部Ｃにおいては、配線材８がグリッドの網目の内部よりも近くに配置されることになり、また、４本の配線が放射状になって配置された中心となるため、光透過性電極２の抵抗をより小さくすることができる。そのため、交差部Ｃにおいて電流をより多く流すことが可能になり、この部分の発光性を高め、グリッドの網目の内部よりも強く光らせて輝度を向上することができる。そのため、非発光形状をより視認させにくくすることができる。

図２Ｂに示すように、本形態では、補助電極７は、光透過性電極２に接していない部分が、絶縁膜１０によって被覆されている。すなわち、補助電極７の上には補助電極７を覆うように絶縁膜１０が積層され、補助電極７は表面だけでなく側面７ｓも絶縁膜１０に被覆されている。このように補助電極７が絶縁膜１０によって被覆されていると、層の分断を生じにくくすることができるとともに、絶縁性を確保できるため、ショート不良をさらに抑制することができる。また、光をより取り出しやすい補助電極７以外の部分に電流を多く流すことができるため、発光効率をさらに高めることができる。絶縁膜１０の側面１０ｓは傾斜していることが好ましい。それにより、層の分断をより一層抑制することができる。

補助電極７は、電極材料で構成される層である。透明性は有さなくてもよい。補助電極７は、例えば、導電性の金属材料で形成することができる。具体的には、銅、銀、金、アルミ、ニッケル、モリブデン、クロムなどが例示される。

補助電極７の好ましい材料の一つは、ＭＡＭと称せられるモリブデン／アルミニウム／モリブデン積層体（Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ）である。ＭＡＭを用いた場合、光透過性電極２の導電性を効果的に補助して向上することができる。ＭＡＭでは、例えばシート抵抗を０．０７Ωにすることができる。また、補助電極７は、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒなどで構成することもできる。その場合も、低抵抗化することが可能である。

補助電極７の好ましい他の材料としては、金属粒子が挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀粒子、銅粒子などが好ましい。金属粒子は、後述するように、例えば、印刷法によって好適に塗布され得る。

絶縁膜１０は、絶縁性を有する材料によって構成される。例えば、絶縁性樹脂又は無機材料により形成される。絶縁性の樹脂としては、アクリル樹脂、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂などが例示される。無機材料としては、Ｓｉ系材料などが例示される。

本形態では、グリッドパターンの交差位置（交差部Ｃ）において、補助電極７を構成する配線材８が離間している。すなわち、配線材８が交差部Ｃに設けられない構造としては、配線材８の端部が交差部Ｃの外縁に位置する構造も可能であるが、本形態では、図２Ａに示すように、交差部Ｃよりも外側に配線材８の端部が配置されている。そのため、垂直な方向に延伸する配線材８同士は、互いに接触していない。このように、配線材８を離間させることにより交差部Ｃに配線材８が形成されないようにすると、簡単に交差位置に配線材８を形成しないパターンを形成することができる。また、配線材８が離間していると、絶縁膜１０を塗布して形成する際に、絶縁膜１０を塗布しやすくすることができる。例えば、絶縁膜１０は、絶縁材料が全面に塗布された後に、部分的に硬化され不要部分が除去されて形成され得るが、その際に配線材８が離間していると、絶縁材料がグリッドパターンの網目に溜まって広がりにくくなることが抑制される。つまり、配線材８が離間していると、配線材８の壁が途切れて、交差位置においてグリッドの網目が連通し、そのため、交差位置を通して網目間で塗布液を広げることができるのである。したがって、絶縁膜１０を容易に形成することができる。

図２Ａに示すように、グリッドパターンを構成する線のピッチＰは、隣り合う線の中心間の距離として表される。このピッチＰは、例えば、２００〜４０００μｍの範囲にすることができ、好ましくは４００〜２０００μｍの範囲にすることができる。補助電極７を構成する配線材８の配線幅Ｗは、例えば、１０〜５０μｍの範囲にすることができ、例えば、３０μｍにすることができる。グリッド線が延伸する方向で隣り合う二つの配線材８の端部間の距離Ｔは、配線材８の幅Ｗよりも大きいことが好ましい。すなわち、Ｔ＞Ｗの関係になる。この距離Ｔは、例えば、配線幅Ｗの２倍以上であってよく、あるいは配線幅Ｗの３倍以上であってよく、もしくは配線幅Ｗの５倍以上であってもよい。ただし、配線材８間の距離Ｔが大きくなりすぎると、電極を補助する作用が小さくなるおそれがある。そのため、例えば、距離Ｔは、例えば、配線幅Ｗの２０倍以下であってよく、または配線幅Ｗの１０倍以下であってもよい。

補助電極７を構成する配線材８の膜厚は、例えば、１００〜１０００ｎｍの範囲にすることができる。例えば、ＭＡＭで補助電極７を構成する場合、膜厚２０〜８０ｎｍのＭｏと膜厚２００〜８００ｎｍのＡｌと膜厚２０〜８００ｎｍのＭｏとの積層構造にすることができる。具体的には、膜厚５０ｎｍのＭｏと膜厚５００ｎｍのＡｌと膜厚５０ｎｍのＭｏとの積層構造にすることができる。

絶縁膜１０は、補助電極７を構成する配線材８に対して平面視においてはみ出して設けられていることが好ましい。図２Ｂに示すように、絶縁膜１０のはみ出し量Ｓは、配線材８の配線幅Ｗの半分以下が好ましく、３分の１以下がより好ましい。このはみ出し量Ｓは、例えば、１０μｍ未満にすることができる。また、絶縁膜１０の厚みは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがより好ましい。例えば、絶縁膜１０の厚みは１μｍにすることができる。

図２Ｂに示すように、断面形状において絶縁膜１０の側面１０ｓは基板１の表面に対して傾斜していることが好ましい。この場合、絶縁膜１０の側面１０ｓは傾斜面となる。絶縁膜１０の側面１０ｓが傾斜面となることにより、層の段切れを抑制することができる。補助電極７は、光透過性電極２の表面に盛り上がって形成されるため、補助電極７の形状に沿って機能層３及び対電極４を積層して形成した際には、層が分断されたり薄くなったりして、電気的にショートしやすくなるおそれがある。特に機能層３は薄膜の積層構造で構成され得るものであり、層の分断が発生しやすくなるおそれがある。しかしながら、絶縁膜１０の側面１０ｓを傾斜するようにすると、傾斜面に機能層３及び対電極４を積層させることができるため、層の分断を生じにくくすることができる。絶縁膜１０の側面１０ｓの傾斜角θは、例えば、１５〜７５°又は３０〜６０°の範囲に設定することができる。

本形態では、断面形状において補助電極７（配線材８）の側面７ｓは基板１の表面に対して傾斜していることが好ましい。この場合、配線材８の側面は傾斜面となる。配線材８の側面が傾斜面となることにより、層の段切れを簡単に抑制することができる。補助電極７の側面７ｓを傾斜するようにすると、簡単に絶縁膜１０の側面１０ｓを傾斜させることができる。それにより、傾斜面に機能層３及び対電極４を積層させることができるため、層の分断を生じにくくすることができる。補助電極７（配線材８）の側面の傾斜角φは、例えば、１５〜７５°又は３０〜６０°の範囲に設定することができる。

本形態では、配線材８の側面が傾斜面となり、その形状に沿って絶縁膜１０が形成されて傾斜面となった例を示しているが、傾斜面の形成は、これに限定されるものではない。例えば、補助電極７の側面が基板１の表面に対して略垂直な面となって、その上に形成される絶縁膜１０の側面が傾斜面となっていてもよい。また、例えば、補助電極７の側面が基板１の表面に対して急傾斜の面となって、その上に形成される絶縁膜１０の側面が補助電極７の傾斜よりも緩やかな傾斜の傾斜面となっていてもよい。例えば、傾斜角は、θ＜φの関係になるが、もちろん、θ＞φの関係になってもよい。

図１の形態では、基板１の表面（光透過性電極２側の表面及び光透過性電極２とは反対側の表面のいずれか一方又は両方）に、光散乱構造が設けられていてもよい。補助電極７を構成する配線材８の部分は、通常、光透過性を有していないため、この部分からは光を取り出すことができない。しかしながら、基板１の表面に光散乱構造が設けられると、光が散乱されるため、補助電極７によって形成される非発光の領域に光を拡散することができる。そのため、補助電極７による非発光を失くしたり目立たなくしたりして、より自然な発光を得ることができる。光散乱構造は、光散乱層が設けられたり、基板１に凹凸構造が設けられたりして形成されていてよい。光散乱層の具体的な構成は、前述した通りである。

図３は、有機ＥＬ素子の実施の形態の他の一例を示している。図３は図３Ａ及び図３Ｂから構成される。図３の形態では、補助電極７が基板１光透過性電極２との間に形成され、絶縁膜１０が光透過性電極２と機能層３との間に形成されている点で、図１の形態とは異なる。それ以外の構成は、図１の形態と同様である。図３の有機ＥＬ素子の平面図は、図１Ｂであると考えてよい。図２Ａは、図３の有機ＥＬ素子の補助電極７の拡大図でもあると考えてよい。図１の形態と同様の構成には同じ符号を付して説明を省略する。

図３の有機ＥＬ素子は、図１の形態と同様に、基板１の表面に、光透過性電極２と発光層を含む機能層３と対電極４とを有する有機発光体５が形成されている。有機発光体５は封止材６によって覆われて封止されている。光透過性電極２に接して配線材８によりグリッド状のパターンの補助電極７が設けられている。補助電極７のパターンは、図１Ｂの形状と同様のパターンになっており、補助電極７を構成するグリッド状のパターンの交差位置において、配線材８が途切れている。そして、配線材８が設けられていないことにより、光透過可能部１５が形成されている（図１Ｂ参照）。補助電極７はいわば不完全なグリッド状に形成されている。機能層３の補助電極７側の表面には、平面視において補助電極７と重複する位置に絶縁膜１０が設けられている。このように、本形態の有機ＥＬ素子では、補助電極７が設けられているため、補助電極７によって光透過性電極２の通電性を高めることができる。また、補助電極７を構成する配線材８は、グリッド状のパターンの交差位置で途切れて、光を透過させる光透過可能部１５が形成されているため、非発光の形状を視認させにくくすることができる。また、補助電極７の位置に絶縁膜１０が形成されているため、外部に光を取り出せる部分に電気をより供給して発光させることができ、効率よく発光を行うことができる。そのため、補助電極７によって効率よく電気伝導性を向上させることができるとともに、補助電極７の非発光の形状が視認されることを抑制することができ、光取り出し性の優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。

本形態では、光透過性電極２の基板１側に、補助電極７が設けられている。補助電極７は、図１の形態の補助電極７と、同じ材料、同じパターン形状で形成されるものであってよい。すなわち、補助電極７は、図１Ｂ及び図２Ａに示すような、不完全なグリッド状のパターンであってよい。補助電極７を設けることにより、通電性を高めることができ、面内において電流分布を改善し、面内での発光がより均一になった有機ＥＬ素子を得ることができる。光透過性電極２は、光透過性を有する材料（透明金属酸化物など）で形成されるため、通常、比抵抗が高く、通電性があまりよくない。そこで、光透過性電極２よりも通電性の高い材料で配線を構成し、この配線で補助電極７を形成することにより、光透過性電極２の電気伝導性を補って通電性をより高めることができる。補助電極７と光透過性電極２とは接触して設けられている。それにより、光透過性電極２の通電性を高めることができる。

図３に示すように、本形態では、補助電極７は、基板１の表面に接して設けられている。このように、基板１の表面に補助電極７を設けると、補助電極７を基板１表面に直接形成することができ、補助電極７のパターニングが簡単になって、効率よく容易に補助電極７を形成することができる。もちろん、基板１の有機発光体５が設けられる側の表面には光散乱構造が設けられていてもよい。光散乱構造は、樹脂層により構成されてもよい。その場合も、容易に補助電極７を形成することができる。

図１Ｂの形態と同様に、補助電極７は、グリッド状のパターンとなっており、格子状になっている。格子状の補助電極７によってより均一な電流分布が得られる。このグリッドパターンは、縦横に延伸する直線状の線が等間隔で配置されて構成されている。グリッドパターンを構成する複数の配線材８の配置は、図１の形態で説明したものと同様であってよい。また、配線幅Ｗ、配線ピッチＰ、配線間の距離Ｔについても、図２で説明したものと同じであってよい。

補助電極７は、電極材料で構成される層である。透明性は有さなくてよい。例えば、導電性の金属材料で形成することができる。具体的には、銅、銀、金、アルミ、ニッケル、モリブデン、クロムなどが例示される。補助電極７は、図１の形態の補助電極７と同様の材料で構成されるものであってよい。

本形態では、補助電極７の基板１側の表面は、光反射性が、光透過性電極２の基板１側の面の光反射性よりも高いことが好ましい。それにより、基板１内で反射して素子内部側に戻ってきた光が光透過性電極２で吸収されるのを抑制することができるとともに、素子内部側に向かう光を補助電極７で反射させて外部側に向かう光に変換することができ、より多く外部に光を取り出すことができる。多重反射する光が光透過性電極２において減衰することを抑制することができるのである。

本形態においては、補助電極７の材料として、Ａｌ／Ｍｏの積層構造を好ましく用いることができる。この積層構造は、基板１側からＡｌとＭｏとを順に積層させた構造である。その場合、光透過性電極２の導電性を効果的に補助して向上することができるとともに、反射性を高めることができ、基板１内で反射する光をより多く外部に取り出すことができる。ここで、ＡｌとＭｏとを用いた積層構造においては、図１の形態では、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏの方が有利であるが、これは、透明電極層や樹脂層などに直接接する層がＡｌであると劣化しやすくなる傾向があるのでそれを抑制するため、Ｍｏを表面層として入れるからである。一方、本形態においては、補助電極７は防湿性の高い基板１の表面に形成されるため、基板１側の表面にＭｏを表面層（下地層）として設けなくてもよい。そして、Ａｌを基板１側に直接設けた場合、Ａｌは反射性が高いので、基板１内の光をより反射させて外部に取り出すことができる。そのため、本形態では、Ａｌ／Ｍｏの積層構造による補助電極７が好ましいのである。もちろん、Ａｌ／Ｃｒの積層構造であってもよい。その場合も、光反射性を高めることができる。

本形態では、絶縁膜１０は、機能層３の光透過性電極２側の表面に形成されている。この絶縁膜１０は、光透過性電極２における補助電極７が形成された位置の表面に形成されている。すなわち、光透過性電極２は、補助電極７の上に乗り上げて形成され、補助電極７と同じパターンで補助電極７の位置が盛り上がって形成されており、その光透過性電極２が盛り上がった部分を覆うように絶縁膜１０が積層されている。絶縁膜１０は、光透過性電極２の盛り上がった部分の表面だけでなく側面も形成されている。このように補助電極７が設けられた位置に絶縁膜１０が設けられると、層の分断を生じにくくすることができるとともに、絶縁性を確保できるため、ショート不良をさらに抑制することができる。また、光をより取り出しやすい補助電極７以外の部分に電流を多く流すことができるため、発光効率をさらに高めることができる。

補助電極７の側面７ｓは傾斜していることが好ましい。すなわち、図３Ｂに示すように、補助電極７を構成する配線材８の側面が傾斜面となっていることが好ましい。それにより、層の分断を抑制することができる。補助電極７は、基板１の表面に盛り上がって形成されるため、補助電極７の形状に沿って機能層３及び対電極４を積層して形成した際には、層が分断されたり薄くなったりして、電気的にショートしやすくなるおそれがある。特に機能層３は薄膜の積層構造で構成され得るものであり、層の分断が発生しやすくなるおそれがある。しかしながら、補助電極７の側面７ｓを傾斜するようにすると、傾斜面に機能層３及び対電極４を積層させることができるため、層の分断を生じにくくすることができる。補助電極７（配線材８）の側面７ｓの傾斜角φは、例えば、１５〜７５°又は３０〜６０°の範囲に設定することができる。

絶縁膜１０の側面１０ｓは傾斜していることが好ましい。それにより、層の分断をより一層抑制することができる。補助電極７は、基板１の表面に盛り上がって形成されるため、補助電極７の形状に沿って機能層３及び対電極４を積層して形成した際には、層が分断されたり薄くなったりして、電気的にショートしやすくなるおそれがある。しかしながら、補助電極７の位置に設けられた絶縁膜１０の側面１０ｓを傾斜するようにすると、傾斜面に機能層３及び対電極４を積層させることができるため、層の分断を生じにくくすることができる。また、補助電極７の位置は絶縁膜１０が形成されて電気的に絶縁されているので、たとえ補助電極７の位置で機能層３が途切れて対電極４が積層されたとしても、絶縁膜１０によって光透過性電極２と対電極４とが直接接することがない。そのため、電気的にショートすることを防ぐことができる。ここで、補助電極７が設けられた部分は、通常、補助電極７は光透過性を有していないため、光を取り出すことができないので、この部分で発光が生じると、発光のロスが生じ、発光効率が低下するおそれがある。しかしながら、本形態のように絶縁膜１０を設けていると、補助電極７が設けられた部分では発光が生じないようし、光取り出し可能な補助電極７以外の領域（網目）に、電流をより多く流すことができるため、発光ロスを低減して発光効率を向上させることができる。絶縁膜１０の側面１０ｓの傾斜角θは、例えば、１５〜７５°又は３０〜６０°の範囲に設定することができる。

本形態では、配線材８の側面が傾斜面となり、その形状に沿って光透過性電極２及び絶縁膜１０が形成されて傾斜面となった例を示しているが、傾斜面の形成は、これに限定されるものではない。例えば、補助電極７の側面が基板１の表面に対して略垂直な面となって、その上に形成される絶縁膜１０の側面が傾斜面となっていてもよい。また、例えば、補助電極７の側面が基板１の表面に対して急傾斜の面となって、その上に形成される絶縁膜１０の側面が補助電極７の傾斜よりも緩やかな傾斜の傾斜面となっていてもよい。例えば、傾斜角は、θ＜φの関係になるが、もちろん、θ＞φの関係になってもよい。

絶縁膜１０は、図１の形態で説明した材料と同様の材料を用いて形成することができる。また、絶縁膜１０のパターンも、図１の形態と同様であってよい。すなわち、絶縁膜１０は、完全なグリッド形状であってもよく、あるいは、グリッド線の交差位置で分断した不完全なグリッド形状であってもよい。このうち、絶縁膜１０は、グリッド線の交差位置で分断した不完全なグリッド形状である方が好ましい。絶縁膜１０の側面の傾斜角θは、例えば、１５〜７５°又は３０〜６０°に設定することができる。

図４は、有機ＥＬ素子の実施の形態の他の一例を示している。図４は図４Ａ及び図４Ｂから構成される。図４の形態では、補助電極７のパターン形状が、図１の形態とは異なる。それ以外の構成は、図１の形態と同様である。図１の形態と同様の構成には同じ符号を付して説明を省略する。

図４の有機ＥＬ素子は、図１の形態と同様の断面形状を有する。したがって、図１Ａは、図４の有機ＥＬ素子の断面図と考えてよい。図４の有機ＥＬ素子は、基板１の表面に、光透過性電極２と発光層を含む機能層３と対電極４とを有する有機発光体５が形成されている。有機発光体５は封止材６によって覆われて封止されている。光透過性電極２に接して配線材８によりグリッド状のパターンの補助電極７が設けられている。

図４Ｂで示すように、補助電極７のパターンは、補助電極７を構成するグリッド状のパターンの交差位置（交差部Ｃ）において、配線材８が途切れている。そして、配線材８が設けられていないことにより、光透過可能部１５が形成されている。補助電極７は不完全なグリッド状に形成されている。配線材８は、図４の例では、グリッドパターンの線に沿った部分に形成されている。機能層３の補助電極７側の表面には、平面視において補助電極７と重複する位置に絶縁膜１０が設けられている。このように、本形態の有機ＥＬ素子では、補助電極７が設けられているため、補助電極７によって光透過性電極２の通電性を高めることができる。また、補助電極７を構成する配線材８は、グリッド状のパターンの交差位置で途切れて、光を透過させる光透過可能部１５が形成されているため、非発光の形状を視認させにくくすることができる。また、補助電極７の位置に絶縁膜１０が形成されているため、外部に光を取り出せる部分に電気をより供給して発光させることができ、効率よく発光を行うことができる。そのため、補助電極７によって効率よく電気伝導性を向上させることができるとともに、補助電極７の非発光の形状が視認されることを抑制することができ、光取り出し性の優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。

本形態では、グリッドパターンの交差位置（交差部Ｃ）又はその近傍において、補助電極７を構成する配線材８間を接続する接続配線９が設けられている。接続配線９が設けられることにより、交差部Ｃに電流をより多く流すことができ、交差部Ｃをより発光させることができるので、非発光の形状をより視認させにくくすることができる。また、複数の配線材８が接続配線９で電気的に接続されるため、補助電極７自体の通電性をより高めることができ、電極の補助機能をより高めることができる。図４の形態では、接続配線９は交差部Ｃの近傍に設けられていると考えてよい。接続配線９は、交差位置に設けられていてもよいし、交差位置の近傍に設けられていてもよい。

接続配線９の配線幅Ｗ１は、配線材８の配線幅Ｗよりも小さいことが好ましい。例えば、接続配線９の配線幅Ｗ１は、配線材８の配線幅Ｗの半分以下又は３分の１以下にすることができる。具体的には、接続配線９の配線幅Ｗ１は５〜２０μｍにすることができる。

接続配線９は、グリッドパターンの交差位置の近傍において、４本の配線材８の端部間を繋ぐように設けられることが好ましい。さらに、接続配線９は、グリッドパターンの線の交差位置（交差部Ｃ）を囲むように枠状に設けられることが好ましい。それにより、パターンが簡単になるとともに、交差位置における通電性を効果的に高めることができる。本形態では、接続配線９は、枠状の配線構造として設けられ、グリッドの交差位置が枠の中心となるように配置されている。枠状の接続配線９の中に、光透過可能部１５が形成されている。接続配線９は、補助電極７を構成する配線材８の端部と連結されている。枠状の接続配線９のパターン形状は、四角形形状（正方形又は長方形の形状）であってもよく、円状であってもよい。接続配線９が正方形の場合、配線材８の端部間の距離Ｔは、接続配線９の枠の内縁で構成される正方形の一辺の長さであってよい。また、接続配線９が円形の場合、配線材８の端部間の距離Ｔは、接続配線９の内縁で構成される円形の直径の長さであってよい。配線材８の端部間距離Ｔ、すなわち、枠状の接続配線９の対向する線の距離は、例えば、２０〜３００μｍにすることができ、好ましくは５０〜１００μｍにすることができる。

接続配線９の厚み（高さ）は、補助電極７を構成する配線材８の厚み（高さ）と同じであってよい。それにより、簡単に接続配線９を形成することができる。また、配線材８と同じ厚みで接続配線９を設けることにより、グリッドパターンの交差位置において高く通電を補助することができる。もちろん、接続配線９の高さは、配線材８の高さと異なっていてもよく、配線材８の高さよりも低くてもよいし、高くてもよい。

接続配線９は補助電極７と一体に形成されていてよい。すなわち、補助電極７を構成する配線材８の一部が飛び出して接続配線９が形成されていてよい。また、接続配線９と配線材８とが一体になって補助電極７としての機能を有するものであってよい。

接続配線９は、補助電極７を構成する配線材８と同じ材料で形成されていることが好ましい。それにより、簡単に接続配線９を形成することができる。

本形態では、絶縁膜１０は、接続配線９の位置にも設けられることが好ましい。光透過性電極２の上に接続配線９を形成し、その上に絶縁膜１０を形成した場合、接続配線９は絶縁膜１０によって被覆される。それにより、電力効率をさらに高めることができる。ただし、接続配線９は、配線材８よりも細い線で構成され得るものであり、この部分の発光による発光効率の低下がそれほど多くなければ、接続配線９の位置に絶縁膜１０が設けられていなくてもよい。接続配線９の位置に絶縁膜１０を設けない場合、絶縁膜１０のパターン形成が容易になる。

ところで、図４の形態では、図１の形態のように補助電極７が光透過性電極２と機能層３との間に形成された形態において、接続配線９が設けられた例を示したが、接続配線９を設ける形態はこれに限定されるものではない。接続配線９は、図３の形態のように補助電極７が基板１と光透過性電極２との間に形成された形態において設けられるようにしてもよい。この場合、接続配線９は基板１と光透過性電極２との間に設けられる。この形態は、断面図が図３Ａであり、平面図が図４Ａであると考えてよい。また、図４Ｂが補助電極７の拡大図と考えてよい。接続配線９が設けられた位置における光透過性電極２の表面には、配線材８の位置と同じように、絶縁膜１０が設けられてもよいし、設けられなくてもよいが、電気効率向上のためには、設けられる方が好ましい。なお、図４の形態で説明した接続配線９は、以降の形態においても適用することができる。

図５は、有機ＥＬ素子の実施の形態の他の一例を示している。図５の形態では、補助電極７のパターン形状が、図１の形態とは異なる。それ以外の構成は、図１の形態と同様である。図１の形態と同様の構成には同じ符号を付して説明を省略する。図５の形態の断面図は、図１Ａと考えてよい。図２Ｂは、図５の形態における補助電極７の拡大図と考えてよい。

有機ＥＬ素子においては、光透過可能部１５は、交差位置において配線材８が離間していることにより形成されていることが好ましい。ここで、交差位置とは、グリッド状のパターンが繋がったと仮定した際に、配線材８が交差した部分（交差部Ｃ）とその部分の近傍を意味している。したがって、グリッドパターンの線が交差する部分（交差部Ｃ）において配線材８が繋がっていても、交差部Ｃの近傍を含めた交差位置において配線材８が設けられていない部分を有していれば、その部分により光透過可能部１５を構成し得る。図５の形態は、交差位置において配線材８が繋がった部分を有する形態の一例である。交差位置において配線材８が繋がった部分は、配線連続部１６となる。グリッド状のパターンの交差位置は、図２Ａの交差位置７ａで理解される。

図５の形態では、補助電極７は、交差位置において、配線材８が繋がって交差位置を通過する配線連続部１６を有している。配線連続部１６を有することにより、補助電極７を構成する配線材８に電気が通りやすくなるため、光透過性電極２に対する補助効果をより高めることができる。また、面内の発光をより均一にすることができる。

図５の形態では、配線連続部１６は、交差位置において屈曲形状を有している。屈曲形状を有する場合、直線状の場合に比べて、配線材８が繋がった部分の面内での広がりを大きくすることができる。そのため、面内に電気をより均一に流すことができる。屈曲形状は、平面視におけるパターン形状において、配線材８が曲がる形状であってよい。

図５では、配線材８は、ジグザグ状となっている。配線材８は、角張った波状であるといってもよい。一つの繋がった配線材８は、斜め方向に延伸している。具体的には、縦方向に延伸する部分８ａと、横方向に延伸する部分８ｂとが交互に配置されている。縦方向及び横方向は、直交する二つの方向を図面に合わせて便宜的に表現したものであり、実際の配置においては、縦及び横が入れ替わってもよい。縦方向に延伸する部分８ａと、横方向に延伸する部分８ｂとの境界部分は、屈曲しており、この部分が配線連続部１６となっている。そして、交差位置においては、隣接する配線材８の配線連続部１６同士が接近している。このようなパターン形状となることにより、全体としてはグリッド状のパターンとなりながら、交差位置においては配線材８を離間させて光透過可能部１５を有する補助電極７を得ることができる。図５の補助電極７のパターン例はギザギザ状といってもよい。あるいは、三角波状といってもよい。

隣り合う配線材８の最も接近した部分の距離は、図２Ａで説明した距離Ｔと同じであってよい。

一つの配線材８が繋がった部分は一筆書き可能であることが好ましい。それにより、補助電極７のパターン形成が容易になり得る。パターン形成方法の詳細については、後述する。配線材８は、有機ＥＬ素子における一の端部から他の端部まで一筆書き可能なことがより好ましい。それにより、パターン形成がより容易になる。図５では、配線材８が斜め方向に延伸するため、上側と右側との端部で、及び、左側と下側との端部で、一筆書き可能であり得る。配線材８が一筆書き可能である場合、絶縁膜１０が一筆書き可能であることが好ましい。絶縁膜１０は配線材８に対応した形状になり得る。

なお、図５では、配線材８の縦方向に延伸する部分８ａについて、複数の部分８ａを縦方向に沿って見たときに、横方向にずれている様子が示されているが、実際の有機ＥＬ素子においては、隣り合う配線材８の間隔に比べて、配線材８の幅は小さい。そのため、このずれはほとんど無視できる。したがって、補助電極７は全体としてグリッド状のパターンとなる。また、図５は、有機ＥＬ素子を簡略化して記載しており、実際の配線材８の本数は、例えば、１００本以上などにすることができる。

ここで、図５の形態は、図１の形態において補助電極７のパターン形状を変更したものとして説明したが、図３の形態のように、補助電極７が光透過性電極２の基板１側に形成されたものであってもよい。その場合、図３Ａを図５の形態の断面図と考え、図３Ｂを図５の形態の拡大図と考えることができる。以降の形態においても、補助電極７は光透過性電極２のどちらの面に形成されていてもよい。

図６は、補助電極７のパターン例を説明する説明図である。図６は、図６Ａ〜図６Ｆから構成される。補助電極７が配線連続部１６を有する形態は、図５の形態に限られない。補助電極７は、適宜のパターンで形成され得る。なお、図６の縦及び横は、図面での配置に合わせて便宜上設定したものであり、縦と横が入れ替わってももちろんよい。

図６Ａは、図５の形態の補助電極７のパターンの変形例である。図６Ａでは、複数の平行四辺形により格子が形成されている。この例では、配線材８の縦方向に延伸する部分８ａは、縦方向に対して傾斜して斜め方向に延伸している。配線材８における縦方向に延伸する部分８ａと横方向に延伸する部分８ｂとの境界部分により、配線連続部１６が構成されている。配線連続部１６は屈曲形状を有している。隣り合う配線材８は離間している。この離間部分により光透過可能部１５が形成されている。このパターンでは、縦方向に延伸する部分８ａと横方向に延伸する部分８ｂとの境界部分（配線連続部１６）は、複数の配線材８において、縦方向に沿って見たときに、横方向の位置が揃っている。図５のパターンでは、配線材８が多くなると、配線材８の配置が横方向にずれて、全体として格子模様の縦線が斜めに延伸する平行四辺形の格子状になる可能性があるが、図６Ａのパターンでは、縦方向に延伸する部分８ａが斜め方向に延伸することによって、ずれを吸収している。そのため、全体としてずれのない長方形又は正方形の格子模様を形成することが容易である。

図６Ｂは、図５の形態の補助電極７のパターンの変形例である。この例では、配線材８における縦方向に延伸する部分８ａと横方向に延伸する部分８ｂとの境界部分（配線連続部１６）が斜め方向に延伸している。図６Ｂでは、配線材８の縦の部分８ａと配線材８の横の部分８ｂとの境界部分（配線連続部１６）における角が丸まることで、配線連続部１６が斜め方向に進行している。配線連続部１６は曲線状となっている。配線材８は、配線連続部１６の部分ではカーブして延伸している。もちろん、配線連続部１６は、配線材８の縦の部分８ａと配線材８の横の部分８ｂとの間に、斜め方向に進行する直線状の部分として設けられていてもよい。また、配線連続部１６は、Ｗ状に形成されたり、蛇行した形状に形成されたりしてもよい。隣り合う配線材８は離間しており、この離間部分により光透過可能部１５が形成されている。このパターンでは、配線材８の縦方向に延伸する部分８ａは、複数の部分８ａで縦横の位置が揃っている。また、配線材８の横方向に延伸する部分８ｂは、複数の部分８ｂで縦横の位置がそろっている。図５のパターンでは全体として平行四辺形の格子状になる可能性があり、図６Ａのパターンでは個々の格子が平行四辺形になる可能性があるが、図６Ｂのパターンでは、配線連続部１６が斜め方向に延伸することによって、格子形状の縦横の線の位置を整えている。そのため、全体としてずれのない長方形又は正方形の格子模様を形成することが容易である。図６Ｂのパターンは、波状と言ってよい。図６Ｂのパターンでは、交差部Ｃ（図２Ａ参照）に配線材８を形成しないことが可能である。

図６Ｃは、補助電極７のパターンの変形例である。図６Ｃでは、配線材８は、縦方向に延伸する部分８ａと横方向に延伸する部分８ｂとが交互に配置されている。ただし、図６Ｃでは、縦方向に延伸する部分８ａにおいて、隣り合う部分８ａは逆方向に延伸している。そのため、一つの繋がった配線材８は、縦方向に行ったり来たりしながら全体として横方向に延伸している。配線材８における縦方向に延伸する部分８ａと横方向に延伸する部分８ｂとの境界部分により、配線連続部１６が構成されている。配線連続部１６は屈曲形状を有している。隣り合う配線材８は離間している。この離間部分により光透過可能部１５が形成されている。交差位置においては、配線連続部１６が接近している。このようなパターンとなることにより、補助電極７は全体としてグリッド状のパターンとなる。図６Ｃでも、一つの繋がった配線材８は、好ましくは、一筆書き可能である。図６Ｃでは、左右の両端部の間で一筆書き可能であり得る。図６Ｃのパターン例は、凸凹状といってもよい。あるいは、歯状といってもよい。あるいは、矩形波状といってもよい。

ここで、図６Ａ、図６Ｂ及び図６Ｃでは、配線材８が一筆書き可能である。図６Ａ及び図６Ｂでは、配線材８が斜め方向に延伸するため、面内の発光の均一性をより高めることができる利点がある。図６Ｃでは、配線材８が横方向に延伸するため、精度よくパターン形成しやすいという利点がある。

図６Ｄは、補助電極７のパターン全体に亘って横方向に延伸する複数の配線材８の部分８ｂと、この横方向に延伸する複数の配線材８の部分８ｂの間で、縦方向に延伸する複数の配線材８の部分８ａとにより、補助電極７のグリッドパターンが構成されている。縦方向の複数の配線材８の部分８ａは、横方向に所定の間隔で並んで配置されている。複数の縦方向の配線材８の部分８ａは、全体形状が、縦方向に沿うように、縦方向に並んで配置されている。横方向に延伸する配線材８の部分８ｂと、縦方向に延伸する配線材８の部分８ａとは離間している。この離間した部分により、光透過可能部１５が形成されている。図６Ｄのパターンは、はしご状といってもよい。図６Ｄのパターン例でも、光透過可能部１５が形成されるため、補助電極７を視認させにくくすることができる。

図６Ｅは、補助電極７のパターン全体に亘って横方向に延伸する配線材８の部分８ｂに、複数の縦方向に延伸する配線材８の部分８ａの一端が繋がることにより、補助電極７のグリッドパターンが構成されている。縦方向に延伸する配線材８の部分８ａの他端は、横方向に延伸する配線材８の部分８ｂとは離間している。この離間した部分により、光透過可能部１５が形成されている。図６Ｅのパターンは、櫛状といってもよい。図６Ｅのパターン例でも、光透過可能部１５が形成されるため、補助電極７を視認させにくくすることができる。

図６Ｆは、補助電極７のパターン全体に亘って横方向に延伸する配線材８の部分８ｂに、複数の縦方向に延伸する配線材８の部分８ａの一端が繋がることにより、補助電極７のグリッドパターンが構成されている。ただし、図６Ｅでは、縦方向に延伸する複数の配線材８の部分８ａの同じ側の端部が繋がっているのに対し、図６Ｆでは、複数の縦方向に延伸する配線材８の部分８ａにおいては、その一方の端部と他方の端部とが交互に繋がっている。縦方向に延伸する配線材８の部分８ａの先端部は、隣り合う配線材８の横方向に延伸する部分８ｂとは離間している。この離間した部分により、光透過可能部１５が形成されている。図６Ｆのパターン例でも、光透過可能部１５が形成されるため、補助電極７を視認させにくくすることができる。

図６Ｄ〜図６Ｆのパターンでは、配線連続部１６は、交差位置において略直線形状を有している。そのため、パターン形成が容易になり得る。図６Ｅ及び図６Ｆのパターンでは、配線連続部１６は、交差位置において略直線形状を有するとともに、屈曲形状を有している。そのため、電気的な補助効果を高めることができる。

図７は、グリッド状の補助電極７のパターンの他の例を示している。図７は、図７Ａ〜図７Ｃにより構成される。

上記の各形態においては、グリッド状として四角格子状のものを説明した。グリッド状（格子状）は、四角格子には限られない。グリッド状の他の格子形状の例としては、六角格子が挙げられる。六角格子は、六角形が面状に配置された形状である。六角格子は、ハニカム状とも呼ばれる。六角格子は蜂の巣状とも呼ばれる。グリッドとは、四角格子及び六角格子を含むものであってよい。

図８に、グリッド形状が示されている。上記で説明した四角格子のグリッド状では、全体形状が、図８Ａのような四角格子（グリッドＧ４）となる。図７における六角格子のグリッド状では、全体形状が図８Ｂのような六角格子（グリッドＧ６）となる。図８では、グリッドパターンの交差位置が、交差位置ｇで示されている。

図７Ａ〜図７Ｃにおいても、グリッド状のパターンの交差位置には、配線材８が設けられていない部分を有する。この部分により、光透過可能部１５が形成されている。光透過可能部１５は、配線材８の離間により形成されている。

図７Ａは、交差位置（交差部Ｃ）において、配線材８が全く設けられていない例である。図７Ａでは、交差位置における発光性を高めることができる点に利点がある。

図７Ｂ及び図７Ｂは、交差位置において、配線連続部１６を有する例である。配線連続部１６は屈曲形状を有する。図７Ｂでは、配線材８は横方向に延伸している。図７Ｃでは、配線材８は斜め方向に延伸している。

図７Ａ〜図７Ｃのように、六角格子のグリッド状の場合も、光透過可能部１５を有することにより、補助電極７を視認させにくくすることができる。ただし、六角格子よりも、四角格子の方がパターン形成には有利である。

以下、有機ＥＬ素子の製造について説明する。以下の説明では、光透過性電極２と補助電極７とがこの順で積層される形態を中心に説明する。図３のように、補助電極７が光透過性電極２の基板１側に形成された形態の製造は、光透過性電極２と補助電極７との積層順を入れ替えることで理解できる。製造方法の説明にあたっては、図１、図４、図５及び図６等を適宜参照されたい。

有機ＥＬ素子を製造するにあたっては、まず、基板１の表面に透明導電層を設け、この透明導電層をパターニングする。透明導電層の中央部分は光透過性電極２となり、透明導電層の端部は電極引き出し部１２となる。光透過性電極２の領域は有機発光体５が形成される領域となる。

そして、この透明導電層のうちの有機発光体５が形成される領域に、グリッド状の補助電極７を導電材料によって形成する。補助電極７のパターニングは適宜の方法により行うことができる。

補助電極７の形成はスパッタで行うことが好ましい一態様である。その場合、パターニングは、マスクスパッタやフォトリソ法により行うことができる。この方法では、特に、図１〜４のような形態を好適にパターン形成できる。もちろん、この方法は、その他の形態にも適用可能である。パターン形成では、例えば、グリッドの交差位置で途切れたパターンのマスクを用いれば、不完全なグリッドのパターニングを容易に行うことができる。スパッタでは、ＭＡＭなどの積層構造の補助電極７において、好適にパターン形成することができる。また、補助電極７のパターニングは、例えば、全面塗布した後、不要部分を除去して行ってもよい。不要部分の除去は、エッチングにより行うことができる。エッチングは、エッチング液を用いる湿式の方法などを用いることができる。

補助電極７は、印刷法により形成することが好ましい他の一態様である。印刷法により、補助電極７のパターニングを容易に行うことができる。印刷は塗布の一種である。印刷はパターンに沿って塗布するものであってよい。この方法では、図５〜７のような形態を好適にパターン形成できる。もちろん、この方法は、その他の形態にも適用可能である。図５〜図７に示すような、配線連続部１６を有する補助電極７においては、連続してパターンに沿った印刷をすることができる。そのため、補助電極７は、塗布によって好ましくパターン形成され得る。特に、インクノズルをパターン状に動かす塗布法が好ましい。配線材８が一筆書き可能な形状では、インクノズルをパターンに従って動かして塗布できるため、効率よくパターン形成が可能である。一つの配線材８が繋がった部分が、一筆書き可能であると、インクノズルから塗布液を連続して吐出して印刷できるため、塗布液の吐出の開始及び停止の回数を減らすことができる。そのため、配線材８は、有機ＥＬ素子における一の端部から他の端部まで一筆書き可能なことがより好ましい。一筆書き可能な形状は、静電塗布による直接描画において、特に効果的である。また、この方法では、配線材８は交差しないことが好ましい。配線材８が交差すると、交差した部分が盛り上がって形成されやすくなるため、絶縁膜１０によって被覆しにくくなったり、層が段切れしやすくなったりするおそれがある。

印刷法で補助電極７を形成する場合、塗布法としては、静電塗布、インクジェット印刷塗布などが例示される。静電塗布による印刷がより好ましい。塗布法では、導電性の粒子を溶剤に分散させたペースト材を好ましく用いることができる。導電性の粒子としては、金属粒子を好ましく用いることができる。金属粒子を塗布することにより、導電層のパターン形成が容易となり、補助電極７を精度高く効率よく形成することができる。金属粒子として、特に、銀粒子が好ましい。なかでも銀ナノ粒子は補助電極７の材料として好適である。ナノ金属粒子を溶剤に分散させたナノペーストを用いると、効率よく精度高くパターン形成ができる。ペースト材による補助電極７の形成では、塗布後に加熱焼成することが好ましい。それにより、導電性粒子が密着して導電層ができやすくなるため、光透過性電極２よりも抵抗の低い金属配線を容易に得ることができる。

補助電極７の形成の際には、電極引き出し部１２の上に補助電極７と同じ導電材料を積層させて、電極パッド１１を形成することが好ましい。補助電極７と電極パッド１１とを同時に形成するようにすると、製造効率が向上する。もちろん、電極パッド１１と補助電極７は、同時に形成されなくてもよい。

ここで、図４のように、接続配線９を有する有機ＥＬ素子では、補助電極７の形成の際に、グリッドパターンの線の交差位置近傍に接続配線９のパターンを設けて、補助電極７を形成することにより、製造することができる。

補助電極７の形成後、絶縁膜１０を形成する。絶縁膜１０は補助電極７の形状に対応した形状で形成される。そのパターニングは適宜の方法であってよい。

絶縁膜１０の形成は、塗布後に不要な部分を除去する方法が好ましい一態様である。この方法では、特に、図１〜４のような形態を好適にパターン形成できる。もちろん、この方法は、その他の形態にも適用可能である。この方法では、まず、絶縁膜１０を形成する材料を基板１の補助電極７が設けられた面に塗布する。例えば、スピンコートにより塗布することができる。塗布は全面塗布であってよい。このとき、グリッドパターンの交差位置（交差部Ｃ）に配線材８が設けられず、配線材８が離間していると、塗布液は、グリッドの網目に溜らずに、交差位置を通って複数のグリッドの網目に広がることができる。そのため、より均一な塗布が容易になる。そして、フォトリソ法により、補助電極７の位置と同じ位置を硬化させるとともにそれ以外の部分を除去してパターニングすることにより、グリッドパターンとなった絶縁膜１０を形成する。不完全なグリッド形状で絶縁膜１０を設ける場合、絶縁膜１０はグリッドパターンの交差位置には設けられないようにする。もし完全なグリッド形状で絶縁膜１０を設ける場合には、絶縁膜１０は完全なグリッドパターンであってよい。パターン形状は、マスクパターンの開口形状により調整することができる。塗布及びフォトリソ法により絶縁膜１０を形成すると、精度よく絶縁膜１０を形成することができる。絶縁膜１０は樹脂膜などで構成され得る。なお、塗布に変えて蒸着によって絶縁膜１０を形成してもよい。

ここで、絶縁膜１０を塗布で形成する場合、絶縁膜１０の材料の塗布性を上げるためには、図４のように接続配線９が設けられた形態よりも、接続配線９が設けられていない図４以外の形態の方が有利である。接続配線９が設けられていないと、グリッドの交差位置とグリッドの網目との間に、接続配線９で構成される壁ができないので、塗布液が広がりやすくなるからである。もちろん、交差位置の通電性向上のためには、接続配線９を設けた方が有利である。なお、図４の形態において、接続配線９の高さを配線材８の高さよりも低くしても、絶縁膜１０の材料の塗布性を高めることは可能である。接続配線９で構成される壁が低くなって、塗布液が広がりやすくなるからである。

絶縁膜１０の形成は、印刷法で行うことが好ましい他の一態様である。印刷法により、絶縁膜１０のパターニングを容易に行うことができる。印刷は塗布の一種である。印刷はパターンに沿って塗布するものであってよい。この方法では、図５〜７のような形態を好適にパターン形成できる。もちろん、この方法は、その他の形態にも適用可能である。図５〜図７に示すような、配線連続部１６を有する補助電極７においては、絶縁膜１０も連続して形成されるため、パターンに沿った印刷をすることができる。そのため、絶縁膜１０は、塗布によって好ましくパターン形成され得る。特に、インクノズルをパターン状に動かす塗布法が好ましい。絶縁膜１０が一筆書き可能な形状では、インクノズルをパターンに従って動かして塗布できるため、効率よくパターン形成が可能である。一つの絶縁膜１０が繋がった部分が、一筆書き可能であると、インクノズルから塗布液を連続して吐出して印刷できるため、塗布液の吐出の開始及び停止の回数を減らすことができる。そのため、絶縁膜１０は、有機ＥＬ素子における一の端部から他の端部まで一筆書き可能なことがより好ましい。一筆書き可能な形状は、静電塗布による直接描画において、特に効果的である。また、この方法では、絶縁膜１０は交差しないことが好ましい。絶縁膜１０が交差すると、交差した部分が盛り上がって形成されやすくなるため、層が段切れしやすくなるおそれがある。

印刷法で絶縁膜１０を形成する場合、塗布法としては、静電塗布、インクジェット印刷塗布などが例示される。静電塗布による印刷がより好ましい。塗布法では、材料として樹脂組成物を好ましく用いることができる。なお、絶縁膜１０は、パターン状に蒸着されて形成されてもよい。

絶縁膜１０の形成後、機能層３の各層、対電極４を順次に積層して有機発光体５を形成する。積層方法は、例えば、蒸着などを利用することができる。その後、封止材６で有機発光体５を覆いながら、封止接着部１４で封止材６を基板１に接着する。封止材６としては、あらかじめ凹部に乾燥材１３が設けられたものを用いることができる。乾燥材１３は、吸湿性シートの貼り付けや、吸湿材料の塗布により設けることができる。これにより、有機ＥＬ素子を形成することができる。

ところで、図３の形態のように、補助電極７が光透過性電極２の基板１側に形成された有機ＥＬ素子の製造では、上記の製造方法を次のように変更する。まず、基板１の表面に補助電極７を形成する。形成方法は、上記の説明における補助電極７の形成方法と同じであってよい。補助電極７の形成後に、光透過性電極２及び電極引き出し部１２を形成する。そして、光透過性電極２が補助電極７によって盛り上がった部分に絶縁膜１０を形成する。絶縁膜１０の形成方法は、上記の説明での方法と同じであってよい。その後は、上記と同様に、機能層３及び対電極４を積層形成し、封止材６により封止する。これにより、図３の形態の有機ＥＬ素子を形成することができる。

図１〜図７で示す形態の有機ＥＬ素子は、発光特性に優れており、特に発光面積の大きい素子として利用することができる。そのため、面状の発光素子、特に照明パネルとして有用である。

上記の有機ＥＬ素子により、照明装置を得ることができる。照明装置は、上記の有機ＥＬ素子を備える。それにより、光取り出し性に優れ、省電力の照明装置を得ることができる。照明装置は、複数の有機ＥＬ素子が面状に配置されたものであってよい。照明装置は、一つの有機ＥＬ素子で構成される面状の照明体であってもよい。照明装置は、有機ＥＬ素子に給電するための配線構造を備えるものであってよい。照明装置は、有機ＥＬ素子を支持する筐体を備えるものであってよい。照明装置は、有機ＥＬ素子と電源とを電気的に接続するプラグを備えるものであってよい。照明装置は、パネル状に構成することができる。照明装置は、厚みを薄くすることができるため、省スペースの照明器具を提供することが可能である。

図９は、照明装置１００の一例である。この照明装置は、有機ＥＬ素子１０１と、筐体１０２と、プラグ１０３と、配線１０４とを有する。図９では、複数（４つ）の有機ＥＬ素子１０１が面状に配設されている。有機ＥＬ素子１０１は、筐体１０２に収容されている。プラグ１０３及び配線１０４を通して電気が供給されて有機ＥＬ素子１０１が発光し、照明装置１００から光を発することができる。

１ 基板
２ 光透過性電極
３ 機能層
４ 対電極
５ 有機発光体
６ 封止材
７ 補助電極
８ 配線材
９ 接続配線
１０ 絶縁膜
１１ 電極パッド
１２ 電極引き出し部
１４ 封止接着部
１５ 光透過可能部
１６ 配線連続部

Claims (7)

1. 基板と、光透過性電極と発光層を含む機能層と対電極とを有する有機発光体と、封止材とを備え、前記有機発光体は前記封止材によって覆われて封止されている有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
   前記光透過性電極に接して配線材によりグリッド状のパターンの補助電極が設けられ、
   前記補助電極を構成する前記グリッド状のパターンの交差位置に、前記配線材が設けられていない光透過可能部を有し、
   前記機能層の前記補助電極側の表面には、平面視において前記補助電極と重複する位置に絶縁膜が設けられていることを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。
2. 前記光透過可能部は、前記交差位置において前記配線材が離間していることにより形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
3. 前記補助電極は、前記交差位置において、前記配線材が繋がって前記交差位置を通過する配線連続部を有し、
   前記配線連続部は、前記交差位置において屈曲形状を有することを特徴とする、請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
4. 前記補助電極は、前記交差位置において、前記配線材が繋がって前記交差位置を通過する配線連続部を有し、
   前記配線連続部は、前記交差位置において略直線形状を有することを特徴とする、請求項２又は３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
5. 前記補助電極は、前記光透過性電極の前記機能層側とは反対側の表面に接するように形成されており、側面が傾斜面となっていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
6. 前記交差位置又はその近傍において、前記配線材間を接続する接続配線が設けられていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた照明装置。

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