WO2013118508A1 - 複合基板及びその製造方法、並びに、有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

複合基板及びその製造方法、並びに、有機エレクトロルミネッセンス素子 Download PDF

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和幸 山江
真太郎 林
裕子 鈴鹿
佐名川 佳治
太田 益幸
仁路 高野
井出 伸弘
義和 葛岡
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Definitions

  • the present invention relates to a composite substrate used for an organic electric element and a method for manufacturing the same.
  • the present invention also relates to an organic electroluminescence element.
  • organic electroluminescence elements (hereinafter also referred to as “organic EL elements”) have been applied to applications such as lighting panels.
  • organic EL elements a translucent first electrode (anode), an organic layer composed of a plurality of layers including a light emitting layer, and a second electrode (cathode) are arranged in this order on the translucent substrate.
  • a laminate formed on the surface is known.
  • the organic EL element by applying a voltage between the anode and the cathode, light emitted from the light emitting layer is extracted to the outside through the translucent electrode and the substrate.
  • the light extracted to the outside is smaller than the theoretical light emission amount.
  • the substrate is composed of a composite substrate of a plastic material and a glass material in order to improve light extraction performance. In this case, by arranging the plastic material on the light extraction side, total reflection at the interface between the substrate and the electrode is reduced, and more light can be extracted to the outside.
  • Such a composite substrate can also be applied to organic electric elements other than organic EL elements.
  • organic electric elements include organic solar cells, organic display elements (organic displays), and other organic semiconductor elements.
  • a substrate material corresponding to each organic electric element can be obtained, for example, a mixed substrate of a substrate suitable for improving the properties of the laminate and a substrate suitable for protecting the laminate. If a flexible base material is used in combination, a flexible substrate can be obtained.
  • An organic electric element is an element containing an organic substance, and when moisture enters the organic element, the organic substance changes in quality and causes deterioration of the element.
  • the light emitting layer is easily deteriorated by moisture, it is important to prevent moisture from entering the element.
  • the light emitting layer deteriorates due to moisture, it causes light emission failure and the like, and reduces the reliability of the organic EL element.
  • the composite substrate is formed using a material having a relatively high moisture permeability, such as plastic or resin, as a base material that enhances the light extraction property, the penetration of moisture into the inside through this material is further increased. This is a problem (see Patent Document 1). Therefore, in the case of using a resin substrate, it is required to suppress the ingress of moisture from the resin substrate by covering with a highly moisture-proof film or disposing a highly moisture-proof substrate on the outside side. However, if even a part of the resin substrate is exposed to the outside, moisture may enter the inside through the exposed portion.
  • the substrate may be cut and individualized to form one element.
  • a composite substrate having a large area on which a plurality of elements can be formed is individualized, and the composite substrate is cut into one element.
  • the composite substrate is formed by bonding at least two kinds of materials. Therefore, when cutting a composite substrate, such as when individualizing a large-area composite substrate or individualizing elements, different forces act on each material at the cut portion of the composite substrate, so that the cut portion of the composite substrate There is a risk that the substrates may be displaced or the cut surface between the substrates may be defective. If the interface between the substrates is shifted or the shape of the cut end face of the composite substrate is not good, the element cannot be formed satisfactorily, which may result in a product defect.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a composite substrate capable of forming an organic electric element that effectively suppresses moisture ingress and reduces deterioration. It is. It is another object of the present invention to provide a composite substrate that can be manufactured without defects in cut surfaces between the substrates. Another object of the present invention is to provide a composite substrate that is excellent in manufacturability, excellent in light extraction properties, effectively suppresses the ingress of moisture, and forms a highly reliable organic electroluminescence element with reduced deterioration. is there. It is another object of the present invention to provide a highly reliable organic electroluminescence device having good manufacturability, excellent light extraction properties, effectively suppressing moisture intrusion, and reducing deterioration.
  • the composite substrate according to the present invention is a composite substrate including a moisture-proof substrate and a resin substrate bonded to the surface of the moisture-proof substrate,
  • the resin substrate is formed smaller than the moisture-proof substrate in plan view,
  • the side surface of the end portion of the resin substrate is formed as an inclined surface inclined inward.
  • the end portion of the resin substrate has rounded corners from the surface to the side surface.
  • the composite substrate is provided with an organic laminate on the surface of the resin substrate, and the organic laminate is sealed with a sealing material.
  • the first electrode lead-out portion drawn from the inner side in the plan view of the composite substrate and the first electrode lead-out portion are insulated from the inner side in the plan view of the composite substrate on the end surface of the composite substrate.
  • a second electrode lead portion drawn out is provided,
  • a moisture-proof film that suppresses intrusion of moisture is formed on at least a part of the surface of the resin substrate where the first electrode lead portion and the second electrode lead portion are not formed.
  • the moisture-proof film is formed at least on a portion of the resin substrate that protrudes from the sealing material.
  • the moisture-proof film is formed at least in a region sealed with the sealing material.
  • the moisture-proof film is formed on the entire surface of the end surface of the resin substrate where the first extraction electrode and the second extraction electrode are not formed.
  • the first electrode lead portion and the second electrode lead portion are formed on the surface of the moisture-proof film.
  • the end side surface of the moisture-proof film on the inner side of the element is formed as an inclined surface inclined toward the outer side of the element with respect to the surface of the resin substrate.
  • the composite substrate is provided with an organic laminate on the surface of the resin substrate, and the organic laminate is sealed with a sealing material.
  • the first electrode lead-out portion drawn from the inner side in the plan view of the composite substrate and the first electrode lead-out portion are insulated from the inner side in the plan view of the composite substrate on the end surface of the composite substrate.
  • a second electrode lead portion drawn out is provided,
  • An adhesive gap filled with a resin material for adhering the sealing material is formed between the first electrode lead portion and the second electrode lead portion, and the adhesive gap is formed from the outside side to the inside side in a plan view. It is formed in a linear shape that can be drawn with a single stroke,
  • the bonding gap is formed to have a leading portion that proceeds in a direction from the outside to the inside and a return portion that proceeds in a direction from the inside to the outside.
  • a method for manufacturing a composite substrate according to the present invention is a method for manufacturing a composite substrate including a moisture-proof substrate and a resin substrate bonded to the surface of the moisture-proof substrate, Using a composite plate material in which a moisture-proof plate material for forming a plurality of moisture-proof substrates and a resin material for forming a plurality of resin substrates are bonded together, the resin material of the composite plate material is divided and divided A resin-slicing and tilting step in which an end side surface of the resin substrate is formed into an inclined surface; It manufactures by the process which has the moisture-proof board parting process which parts the said moisture-proof board
  • the method includes a step of coating the outer peripheral end of the resin substrate with a moisture-proof film.
  • the resin dividing tilting step is performed by laser irradiation.
  • the laser irradiation is performed by condensing the laser with an objective lens having a numerical aperture of 0.5 or more.
  • the composite substrate has a residue removal step of removing a processing residue generated by the resin dividing and tilting step.
  • the residue removing step is performed by gas blowing.
  • the composite plate material is obtained by bonding a sealing plate material for forming a plurality of sealing substrates on the surface on the resin material side,
  • the resin dividing inclination step is performed by irradiating a laser that passes through the sealing plate material,
  • the sealing plate material is divided.
  • An organic electroluminescence device includes a first electrode and an organic light emitting device on a surface of the resin substrate in a composite substrate including a moisture-proof substrate and a resin substrate bonded to the surface of the moisture-proof substrate.
  • An organic electroluminescent element comprising an organic light emitting laminate having a layer and a second electrode, wherein the organic light emitting laminate is sealed with a sealing material,
  • the resin substrate is formed smaller than the moisture-proof substrate in plan view,
  • the side surface of the end portion of the resin substrate is formed as an inclined surface inclined inward,
  • the first electrode lead-out portion drawn from the inner side in the plan view of the composite substrate and the first electrode lead-out portion are insulated from the inner side in the plan view of the composite substrate on the end surface of the composite substrate.
  • a second electrode lead portion drawn out is provided, The first electrode lead portion is electrically connected to the first electrode, and the second electrode lead portion is electrically connected to the second electrode;
  • a moisture-proof film that suppresses intrusion of moisture is formed on at least a part of the surface of the resin substrate where the first electrode lead portion and the second electrode lead portion are not formed.
  • the composite substrate according to the present invention it is possible to obtain a composite substrate capable of forming an organic electrical element in which deterioration of moisture is reduced by effectively suppressing moisture intrusion.
  • a composite substrate that can be manufactured without defects in the cut surface between the substrates can be obtained.
  • the method for manufacturing a composite substrate according to the present invention it is possible to easily manufacture a composite substrate capable of forming an organic electrical element in which deterioration of deterioration is effectively suppressed by intrusion of moisture.
  • organic electroluminescent element According to the organic electroluminescent element according to the present invention, a highly reliable organic electroluminescent element having good manufacturability, excellent light extraction performance, effectively suppressing moisture intrusion, and reducing deterioration can be obtained. .
  • FIG. 2A is a plan view
  • FIG. 2B is a cross-sectional view
  • FIG. 2C is an enlarged cross-sectional view.
  • FIG. 6A is an enlarged cross-sectional view illustrating an example of a composite substrate
  • FIG. 6A shows a composite substrate without a moisture-proof film
  • FIG. 6B shows a composite substrate with a moisture-proof film.
  • FIG. 6A is an enlarged cross-sectional view illustrating an example of a composite substrate
  • FIG. 6A shows a composite substrate without a moisture-proof film
  • FIG. 6B shows a composite substrate with a moisture-proof film.
  • FIG. 7A is an enlarged cross-sectional view illustrating an example of a composite substrate
  • FIG. 7A shows a composite substrate without a moisture-proof film
  • FIG. 7B shows a composite substrate with a moisture-proof film
  • FIG. 8A is an enlarged cross-sectional view illustrating a reference example of a composite substrate
  • FIG. 8A shows a composite substrate without a moisture-proof film
  • FIGS. 8B and 8C show a composite substrate with a moisture-proof film
  • 9A and 9B are enlarged cross-sectional views illustrating an example of a composite substrate provided with a moisture-proof film. It is a top view explaining an example of the composite substrate provided with the moisture proof film. It is an expanded sectional view explaining an example of the composite substrate provided with the moisture proof film.
  • FIG. 19A is a plan view and FIG. 19B is an X-X ′ cross-sectional view of FIG.
  • FIG. 19A showing an example of an organic electroluminescence element.
  • 20A, 20B, and 20C are enlarged cross-sectional views illustrating an example of a composite substrate provided with a moisture-proof film.
  • FIG. 21A, FIG. 21B, FIG. 21C, FIG. 21D, FIG. 21E, and FIG. 21F are enlarged sectional views for explaining an example of a composite substrate provided with a moisture-proof film.
  • 22A, 22B, 22C, and 22D are enlarged cross-sectional views illustrating an example of a composite substrate provided with an electrode lead portion.
  • FIG. 23A, FIG. 23B, FIG. 23C, FIG. 23D, FIG. 23E, and FIG. 23F are enlarged plan views illustrating an example of a composite substrate provided with an electrode lead portion.
  • 24A and 24B are enlarged plan views illustrating an example of a composite substrate provided with an electrode lead portion.
  • 25A and 25B are enlarged plan views for explaining an example of a composite substrate provided with an electrode lead portion.
  • FIG. 26A, FIG. 26B, FIG. 26C, and FIG. 26D are enlarged plan views illustrating an example of a composite substrate provided with an electrode lead portion.
  • 27A, 27B, 27C, and 27D are cross-sectional views illustrating an example of cutting the composite substrate.
  • 28A, 28B, 28C, and 28D are cross-sectional views illustrating an example of cutting the composite substrate.
  • 29A, 29B, 29C, 29D, and 29E are cross-sectional views illustrating an example of cutting the composite substrate.
  • 30A, 30B, 30C, and 30D are cross-sectional views illustrating an example of cutting the composite substrate.
  • 31A and 31B are cross-sectional views showing an example of forming a moisture-proof film. It is sectional drawing which shows an example of a laser. It is a perspective view which shows an example of the cutting
  • FIG. 35A, FIG. 35B, and FIG. 35C are perspective views showing an example of forming a moisture-proof film.
  • 36A, 36B, 36C, 36D, 36E, and 36F are plan views illustrating an example of manufacturing an organic electroluminescence element.
  • 37A, 37B, 37C, 37D, 37E, and 37F are plan views illustrating an example of manufacturing an organic electroluminescence element. It is an expanded sectional view showing an example of an embodiment of a composite substrate.
  • FIG. 1 shows an example of an organic electric element using the composite substrate of the present invention.
  • a composite substrate 3 including a moisture-proof substrate 1 and a resin substrate 2 is used as a substrate for forming the organic laminate 5.
  • the organic laminate 5 is provided on the surface of the resin substrate 2 in the composite substrate 3 and is sealed with a sealing material 7.
  • FIG. 2 is an example of a composite substrate used for the organic electric element having the form as shown in FIG. It can also be said that the composite substrate 3 is extracted from the organic electric element and illustrated. That is, in the composite substrate, an appropriate organic laminate 5 (electric device) is formed on the surface of the composite substrate 3 to form an organic electrical element.
  • the composite substrate structure is a structure having the structure of the composite substrate 3 of FIG.
  • the composite substrate 3 itself in which the organic laminate 5 is not formed is also included in the composite substrate structure. In that case, the organic laminated body 5 can be formed in the composite substrate 3, and an organic electrical element can be formed.
  • the composite substrate 3 includes a moisture-proof substrate 1 and a resin substrate 2 bonded to the surface of the moisture-proof substrate 1.
  • the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2 are bonded and bonded together by an adhesive layer 4.
  • the resin substrate 2 is formed smaller than the moisture-proof substrate 1 in a plan view (when viewed from a direction perpendicular to the substrate surface). Thereby, the surface 1a of the outer peripheral end portion of the moisture-proof substrate 1 is exposed.
  • the edges (outer peripheral edges) of the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2 are not aligned. Therefore, when the composite substrate 3 (composite plate material 13 to be described later) having a plurality of composite substrates 3 is cut to produce the individual composite substrate 3, the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1 are combined. It will be cut separately.
  • the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1 are not cut at the same time, and it is possible to prevent a defect from occurring on the cut surface. Further, when the size of the resin substrate 2 is smaller than that of the moisture-proof substrate 1, it is possible to easily cover the end side surface 2b of the resin substrate 2 with the laminated layers.
  • the end side surface (circumferential side surface) 2b of the resin substrate 2 is formed as an inclined surface inclined inward. That is, the resin substrate 2 has a substantially trapezoidal cross section, and is bonded to the moisture-proof substrate 1 on the lower side of the trapezoid with the upper side of the trapezoid as the outer surface.
  • the end side surface 2b of the resin substrate 2 is an inclined surface, the layer is laminated on the inclined surface when a layer such as a moisture-proof film 6 is formed on the end surface of the resin substrate 2, so that the resin substrate 2 Therefore, it is possible to form a layer without any defective separation.
  • the moisture-proof substrate 1 protrudes from the resin substrate 2 at the outer peripheral portion, and the surface 1a of the moisture-proof substrate 1 is exposed.
  • the layers can be formed by layering over the boundary portion between the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1, and the layers are laminated so that the interface between the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1 does not communicate with the outside. And can be coated.
  • the inclination angle ⁇ on the end side surface 2b of the resin substrate 2 that has become an inclined surface is smaller than 90 degrees, but is more preferably 80 degrees or less, 75 degrees or less, or 70 degrees or less. At this time, the inclination angle is an acute angle. When the inclination angle ⁇ is within this range, layer breakage can be effectively reduced. In order to further reduce the step break, the inclination angle ⁇ may be set to 60 degrees or less or 45 degrees or less. However, if the tilt angle ⁇ is too small, the end side surface 2b is close to the side-down state and there is a possibility that the region of the end side surface 2b is too wide. Therefore, the tilt angle ⁇ is 30 degrees or more, 45 degrees or more, or It can be in an appropriate range such as 60 degrees or more.
  • the resin substrate 2 has rounded corners 2c from the surface 2a to the side surface 2b at the end. That is, at the end of the resin substrate 2, the edge (boundary portion) between the surface 2a and the side surface 2b is curved from the surface 2a to the side surface 2b.
  • the corner portion 2c is a boundary portion between the surface 2a of the resin substrate 2 and the inclined side surface 2b. If the corner portion 2c is sharp, the layer is cut off when the layers are stacked. May be disrupted. However, if the corner 2c at the end of the resin substrate 2 is rounded, a layer is smoothly formed across the corner 2c, so that the layer breakage at the corner 2c can be reduced. The layers can be stacked without any separation failure.
  • the moisture-proof substrate 1 a transparent substrate that is moisture-proof and has optical transparency can be used. Among these, it is preferable to use a glass substrate as the moisture-proof substrate 1.
  • a glass substrate As the moisture-proof substrate 1, a transparent substrate that is moisture-proof and has optical transparency can be used.
  • a glass substrate As the moisture-proof substrate 1, a transparent substrate that is moisture-proof and has optical transparency can be used.
  • a glass substrate As the moisture-proof substrate 1, a transparent substrate that is moisture-proof and has optical transparency can be used.
  • a glass substrate As the moisture-proof substrate 1, a transparent substrate that is moisture-proof and has optical transparency can be used.
  • a glass substrate As the moisture-proof substrate 1, a transparent substrate that is moisture-proof and has optical transparency can be used.
  • a glass substrate As the moisture-proof substrate 1, a transparent substrate that is moisture-proof and has optical transparency can be used.
  • a glass substrate As the moisture-proof substrate 1, a transparent substrate that is moisture-proof and has optical transparency can be used.
  • a flexible substrate may be used for the moisture-proof substrate 1.
  • flexible glass and moisture-proof resin are exemplified.
  • the moisture-proof substrate 1 has flexibility, a flexible organic electric element can be obtained.
  • the resin substrate 2 can be constituted by a plastic substrate, for example.
  • a plastic substrate a molded plate (sheet, film, etc.) obtained by molding and curing a synthetic resin as a plastic raw material can be used.
  • the plastic material include those formed of a plastic material such as PET (polyethylene terephthalate) and PEN (polyethylene naphthalate). The forming may be rolling forming.
  • the resin substrate 2 has flexibility. Since the resin substrate 2 has flexibility, the roll-shaped resin substrate 2 (resin material 12 described later) can be sent out to produce the composite substrate 3 (composite plate material 13), and the composite substrate 3 can be manufactured with good manufacturability. Can be produced. Further, when the resin substrate 2 having flexibility is used, a flexible organic electric element can be obtained.
  • Resin substrate 2 and moisture-proof substrate 1 may be bonded together with an appropriate adhesive.
  • the adhesive layer 4 is formed from the adhesive.
  • the resin substrate 2 may be attached to the moisture-proof substrate 1 by thermocompression bonding.
  • the adhesive layer 4 may be formed by a part of the resin substrate 2 (part to which adhesiveness is imparted by heat).
  • the adhesive layer 4 is omitted and illustrated in the form described later, it goes without saying that the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1 are bonded.
  • the composite substrate 3 may be one in which an organic laminate 5 is provided on the surface of the resin substrate 2 and the organic laminate 5 is sealed with a sealing material 7. That is, the composite substrate 3 for forming the organic laminate 5.
  • an organic laminate 5 is provided on the surface of the resin substrate 2 in the composite substrate 3 as shown in FIG. 2, and the organic laminate 5 is sealed with a sealing material 7.
  • a moisture-proof film 6 that suppresses the entry of moisture is formed on the surface of the resin substrate 2.
  • the portion where the moisture-proof film 6 is provided may be a part of the surface of the resin substrate 2.
  • the composite substrate 3 with the moisture-proof film 6 can be used.
  • the structure of the composite substrate 3 with the moisture-proof film 6 can be formed.
  • the electrode lead-out portion 8 drawn from the inner side in the plan view of the composite substrate 3 is formed on the end surface of the composite substrate 3.
  • the electrode lead portion 8 is shown in the organic EL element of FIG.
  • the electrode lead-out part 8 is divided into a first electrode lead-out part 8a and a second electrode lead-out part 8b that is insulated from the first electrode lead-out part 8a.
  • the moisture-proof film 6 is formed on at least a part of the surface of the resin substrate 2 where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not formed.
  • the electrode lead portion 8 can be formed by patterning an electrode film. Therefore, in order to produce an organic electrical element, the composite substrate 3 with an electrode film can be used. Moreover, in the organic electric element, the structure of the composite substrate 3 with an electrode film can be formed. Moreover, the composite substrate 3 with a moisture-proof film-coated electrode film can be used. Moreover, the structure of the composite substrate 3 with a moisture-proof film-coated electrode film can be formed.
  • the moisture-proof film 6 is formed at least in a portion protruding from the sealing material 7 of the resin substrate 2.
  • the surface of the portion of the resin substrate 2 that protrudes from the sealing material 7 is covered with the moisture-proof film 6.
  • the moisture-proof film 6 since the moisture-proof film 6 is formed across the boundary between the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1, the interface between the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1 does not communicate with the outside. Therefore, it is possible to suppress moisture from entering through the interface between the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1 and to suppress deterioration of the element due to moisture penetration.
  • the sealing material 7 is formed on the surface of the moisture-proof film 6. That is, the organic laminate 5 is sealed with the sealing material 7 after the moisture-proof film 6 is formed, and the moisture-proof film 6 straddles the edge of the sealing material 7 (the edge of the sealing region). Is formed. As described above, when the moisture-proof film 6 is formed across the edge of the sealing region, the resin substrate 2 can be covered with the moisture-proof film 6 from the outside to the inside of the sealing region. Water intrusion can be suppressed to a higher level. Alternatively, the moisture-proof film 6 may be formed after sealing with the sealing material 7, and the resin substrate 2 protruding from the sealing material 7 may be covered with the moisture-proof film 6.
  • the moisture-proof film 6 is lower in moisture permeability than the resin substrate 2. Thereby, it is possible to suppress moisture from entering the resin substrate 2. Therefore, the moisture-proof film 6 can be formed of a material having a moisture permeability lower than that of the resin substrate 2. Moreover, it is preferable that the moisture-proof film 6 has an insulating property. In an organic electric element, it is necessary to provide electrode terminals (plus and minus) for electrical connection with the organic laminate 5, but in that case, the electrode terminals may be provided in contact with the moisture-proof film 6. If it does not have insulation, there is a risk of short circuit. Therefore, the moisture-proof film 6 can be formed of a material having insulating properties and moisture-proof properties.
  • the moisture-proof film 6 can be formed of, for example, a material mainly containing an inorganic component. Since the inorganic component is the main component, the intrusion of moisture can be suppressed to a high level.
  • the material containing an inorganic component as a main component may contain an organic component or a resin for the purpose of a binder or the like, but more preferably does not contain an organic component or a resin. Thereby, the suppression effect of moisture permeation can be further enhanced.
  • the inorganic component for example, at least one selected from SiO 2 , SiNx, SiN, MoO 3 , and SiC can be used. By using these materials, the barrier property against moisture can be improved. In order to form a layer only with an inorganic material, for example, if a vapor deposition layer is used, the moisture-proof film 6 can be easily formed.
  • the moisture-proof film 6 is composed of a glass particle-containing composition or coated glass.
  • the glass particle-containing composition is obtained by dispersing glass particles in a fluid medium.
  • the coated glass is a flowable glass material.
  • a coated glass layer is formed from the coated glass.
  • the moisture-proof film 6 can be formed by solidifying the flowable glass material or glass composition. If glass is used as the material, the moisture-proof film 6 having low moisture permeability can be easily formed. If the moisture-proof film 6 is a glass material in the case of manufacturing an organic electric element by a method of dividing and individualizing as described later, the material to be divided can be aligned with the glass material, so that individualization is easy. can do.
  • the glass composition When the glass composition is heated and fluidized, it is preferably fluidized at a temperature lower than the heat resistant temperature of the resin substrate 2.
  • a material for the coated glass a mixture of a glass material and a binder may be used.
  • the binder an organic binder or an inorganic binder can be used.
  • the moisture-proof film 6 By making the moisture-proof film 6 into a coated glass layer, the intrusion of moisture can be effectively suppressed.
  • the coated glass layer may contain the inorganic material. Thereby, the barrier property with respect to moisture increases. Further, if a glass that can be formed on the surface of the resin substrate 2 at room temperature or low temperature is used as the coated glass, the moisture-proof film 6 can be easily formed on the surface of the resin substrate 2.
  • the moisture-proof film 6 can also be formed of a moisture-proof resin composition.
  • the moisture-proof resin composition may contain a desiccant or a filler. When a paste-like resin composition is used, the moisture-proof film 6 can be easily formed by coating.
  • a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin can be used as the resin. When using a thermosetting resin, the curing temperature is preferably lower than the heat-resistant temperature of the resin substrate 2. Examples of the thermosetting resin include epoxy resins. Examples of the ultraviolet curable resin include acrylic resins.
  • the moisture-proof film 6 is preferably a cured resin layer.
  • the cured resin layer is a layer composed of a curable resin composition.
  • the curability may be thermosetting or photocuring such as ultraviolet curing. In the case of thermosetting, it is preferable to cure at a temperature lower than the heat resistant temperature of the resin substrate 2.
  • the cured resin layer can be formed by applying and curing a fluid resin composition (paste).
  • a fluid resin composition paste
  • an epoxy resin or an acrylic resin can be used alone or together with an appropriate additive (such as a curing agent or a polymerization initiator). Further, if a cured resin that can be formed on the surface of the resin substrate 2 at room temperature or low temperature is used, the moisture-proof film 6 can be easily formed on the surface of the resin substrate 2.
  • the resin substrate 2 is formed of a synthetic resin, a barrier property against moisture is hardly expected. That is, since the resin substrate 2 is not moisture-proof, it cannot prevent moisture from entering, and conversely, moisture easily enters from the resin substrate 2.
  • the cured resin layer formed as the moisture-proof film 6 is a layer containing a resin, it is a layer for suppressing the ingress of moisture and is formed as a layer having a high barrier property. Therefore, it is possible to prevent moisture from entering the element.
  • the moisture-proof film 6 can be formed by coating or vapor deposition.
  • the moisture-proof film 6 can be efficiently formed by coating or vapor deposition. Moreover, when forming by application
  • an electrode terminal for connecting to an external electric wiring in order to pass electricity through the organic laminated body 5 or to take out electricity from the organic laminated body 5.
  • the electrode terminal must be electrically connected to the organic laminate 5 in a region (sealing region) sealed with the sealing material 7 and exposed outside the sealing region.
  • a plurality of electrode terminals are necessary to conduct with the anode and the cathode in the organic laminate 5.
  • an electrode terminal is provided by cutting out a part of the moisture-proof film 6, an electrode terminal is provided along the surface of the moisture-proof film 6, or between the moisture-proof film 6 and the moisture-proof substrate 1.
  • An electrode terminal can be provided by protruding from the end. In this case, it is preferable to have a structure in which the resin substrate 2 is not exposed to the outside. If the resin substrate 2 is exposed to the outside, moisture may easily enter from the exposed portion.
  • the composite substrate can be applied to various organic electric elements.
  • the organic electric element include an organic electroluminescence element, an organic solar battery, an organic display element (organic display), and other organic semiconductor elements. If it is a composite substrate, a substrate material corresponding to each organic electric element can be obtained, for example, a mixed substrate of a substrate suitable for improving the properties of the laminate and a substrate suitable for protecting the laminate. If a flexible base material is used in combination, a flexible substrate can be obtained.
  • organic electric element is an organic electroluminescence element (organic EL element).
  • organic EL element the organic stacked body 5 is composed of the organic light emitting stacked body 10 including the first electrode 14, the organic layer 15, and the second electrode 16.
  • FIG. 3 shows an example of the organic EL element.
  • the composite substrate 3 described above is used as a substrate for forming the organic light emitting laminate 10.
  • the composite substrate 3 includes a moisture-proof substrate 1 and a resin substrate 2 bonded to the surface of the moisture-proof substrate.
  • an organic light emitting laminate 10 having a first electrode 14, an organic layer 15, and a second electrode 16 in this order is provided.
  • the organic light emitting laminate 10 is sealed with a sealing material 7. A region sandwiched between the sealing materials 7 becomes a sealing region.
  • the structure of the composite substrate 3 is the same as the structure shown in FIG. That is, the resin substrate 2 is formed smaller than the moisture-proof substrate 1 in plan view. Moreover, the edge part side surface 2b of the resin substrate 2 is formed as an inclined surface inclined inward. Moreover, the corner
  • the moisture-proof film 6 is formed in a portion where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not provided. In this embodiment, the portion of the resin substrate 2 that protrudes from the sealing material 7 is covered with the moisture-proof film 6.
  • the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2 are transparent light-transmitting substrates, and the first electrode 14 of the organic light emitting laminate 10 is a transparent light-transmitting electrode. Therefore, light emitted from the organic layer 15 in the organic light emitting laminate 10 is extracted outside through the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1.
  • the first electrode 14 constitutes an anode and the second electrode 16 constitutes a cathode, but the reverse may be possible.
  • the second electrode 16 may be a light reflective electrode. In that case, the light generated in the organic layer 15 can be reflected by the second electrode 16 and extracted outside.
  • the second electrode 16 may be a light transmissive electrode, and a reflective layer may be provided on the surface of the second electrode 16 opposite to the organic layer 15.
  • the organic layer 15 is a layer having a function of causing light emission, and includes a plurality of layers appropriately selected from a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, an intermediate layer, and the like. It is.
  • the sealing material 7 fills a sealing side wall 18 that surrounds the outer periphery of the organic light emitting laminate 10, a sealing substrate 9 that is bonded to the composite substrate 3 by the sealing side wall 18, and a region surrounded by the sealing side wall 18. And the filler 19 to be formed.
  • the sealing side wall 18 is formed of a moisture-proof material, and is made of, for example, glass or moisture-proof resin.
  • the sealing substrate 9 is formed of a moisture-proof material, and is made of, for example, glass or moisture-proof resin.
  • the filler 19 can be formed of a moisture-proof resin.
  • the sealing side wall 18 can function as a dam material that dams the filler 19.
  • the sealing side wall 18 can function as a spacer for ensuring the thickness of the organic light emitting laminate 10.
  • the organic light emitting laminate 10 is provided on the surface of the composite substrate 3, and light generated in the organic layer 15 enters the moisture-proof substrate 1 through the first electrode 13 and the resin substrate 2, and then The light is emitted from the moisture-proof substrate 1 to the outside. Therefore, when light passes through the resin substrate 2, more light can be extracted to the outside. Light emitted from the light-emitting layer reaches the substrate directly or reflected, but if the refractive index difference at this interface is large, a large amount of light cannot be extracted by total reflection.
  • the first electrode 14 is directly provided on the surface of the moisture-proof substrate 1, the difference in refractive index increases, and the amount of light extracted outside decreases.
  • the substrate is composed of the composite substrate 3 of the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2, and the resin substrate 2 having a refractive index close to that of the first electrode 14 is disposed on the light extraction side of the first electrode 14. I am doing so. Therefore, the refractive index difference between the first electrode 14 and the composite substrate 3 can be relaxed, and the total light can be suppressed and the light extraction property can be improved.
  • the resin substrate 2 has the same refractive index as that of the first electrode 14 in order to improve the light extraction property.
  • the difference in refractive index between the resin substrate 2 and the first electrode 14 can be made 1 or less.
  • the resin substrate 2 may be formed of a high refractive index plastic base material.
  • a light extraction structure may be provided at the interface between the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2.
  • the light diffusion layer 20 is provided as a light extraction structure on the surface of the resin substrate 2 on the moisture-proof substrate 1 side.
  • the light diffusion layer 20 can be provided by forming a concavo-convex structure at the interface between two layers or by forming a layer containing light diffusion particles.
  • the light extraction structure may be formed by providing fine surface irregularities on the surface of the moisture-proof substrate 1. When fine surface irregularities are provided, light incident on the surface is scattered and the traveling direction of the light changes, so that total reflection is suppressed and more light can be extracted.
  • an electrode terminal that is electrically connected to each of the first electrode 14 and the second electrode 16 so as to be drawn outside the sealing region.
  • the electrode terminal is a terminal for electrically connecting to the external electrode.
  • an electrode terminal is constituted by an electrode lead portion 8 that is electrically connected to each electrode.
  • the electrode lead portion 8 includes a first electrode lead portion 8 a that is electrically connected to the first electrode 14, and a second electrode 16. And a second electrode lead portion 8b that is electrically connected.
  • the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are electrically insulated so as not to be short-circuited.
  • the electrode lead-out portion 8 is exposed to the outside as an electrode terminal by cutting out a part of the moisture-proof film 6 or providing a hole that penetrates the moisture-proof film 6 outside the sealing region.
  • the voltage can be applied by exposing the electrode terminal to the outside.
  • the electrode terminals are preferably exposed to the outside so that the resin substrate 2 is not exposed to the outside. If the resin substrate 2 is exposed to the outside, moisture may easily enter from the exposed portion.
  • the moisture-proof film 6 is formed by laminating, if the moisture-proof film 6 is formed in a pattern that exposes a part of the electrode lead portion 8, the electrode terminal can be exposed and the resin substrate 2 can be formed.
  • the resin substrate 2 can be coated without being exposed.
  • the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6 at a portion protruding from the sealing region formed by sealing the sealing material 7.
  • the organic light-emitting laminated body 10 is sandwiched and sealed between a moisture-proof substrate 1 having moisture resistance and a sealing substrate 9, but when the composite substrate 3 has the resin substrate 2, the resin substrate 2.
  • the intrusion of moisture through the wall becomes a problem. That is, when the resin substrate 2 is exposed to the outside, moisture enters the inside of the resin substrate 2 from the exposed portion of the outside, and the entered moisture passes through the resin substrate 2 and the organic layer 15 inside the sealing region. There is a risk of reaching.
  • the portion that protrudes outside the sealing region of the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6.
  • the moisture-proof film 6 may be provided at least in the region of the resin substrate 2 exposed to the outside when it is assumed that the moisture-proof film 6 does not exist outside the sealing region.
  • the moisture-proof film 6 preferably covers the boundary portion between the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1. In that case, since the resin substrate 2 is smaller than the moisture-proof substrate 1 in plan view, the moisture-proof film 6 is formed in contact with the surface 1 a of the outer peripheral end of the moisture-proof substrate 1. If the boundary between the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2 is exposed to the outside, moisture may enter from the interface between the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2, but the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate. 2 is covered with the moisture-proof film 6, the interface between the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2 is not exposed to the outside, so that the entry of moisture from the outside can be further suppressed.
  • the moisture-proof film 6 need not be provided in the central region of the composite substrate 3 in plan view.
  • the central region of the composite substrate 3 is a region where a light emitting region is formed by providing the organic light emitting laminate 10, and if the moisture-proof film 6 is provided in this portion, the light extraction property may not be improved. . Further, if the moisture-proof film 6 is provided only on the outer peripheral end portion of the composite substrate 3, the moisture-proof film 6 is not formed in the light emitting region, so that the moisture-proof film 6 can be easily formed.
  • the resin substrate 2 is not exposed to the outside and is blocked from the external space. That is, the surface of the resin substrate 2 opposite to the organic light emitting laminate 10 is covered with the moisture-proof substrate 1 and is blocked from the external space. Further, the surface of the resin substrate 2 on the organic light emitting laminate 10 side is blocked from the external space by sealing the central region with the sealing material 7 in a plan view. Further, the outer peripheral end of the resin substrate 2 outside the sealing region is covered with the prevention film 6 and the electrode lead-out portion 8 so as to be blocked from the external space. Therefore, the resin substrate 2 is not exposed to the outside as a whole. Therefore, the resin substrate 2 does not come into contact with the external space, and it is possible to effectively suppress moisture from entering the resin substrate 2 from the outside.
  • FIG. 4 shows an example of a state in which the organic EL element is viewed in plan (when viewed from a direction perpendicular to the substrate surface).
  • the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are separated and alternately arranged at the end portion (upper and lower end portions in this figure) of the moisture-proof substrate 1.
  • the sealing side wall 18 is provided so that the outer periphery of the organic light emitting laminated body 10 may be enclosed.
  • the sealing side wall 18 is formed of an adhesive material.
  • the sealing substrate 9 is attached to the moisture-proof substrate 1 on the surface side of the moisture-proof substrate 1 (the organic light emitting laminate 10 side) by the sealing sidewall 18.
  • the description of the sealing substrate 9 is omitted, and a region where the sealing sidewall 18 is provided is indicated by a broken line. At this time, the sealing region is a region whose outer periphery is surrounded by the sealing side wall 18.
  • substrate end portions left and right end portions in FIG. 4 where the electrode lead portions 8 are not formed separately may be formed. . It may be considered that the first electrode lead portion 8a extends to the end portion of the substrate.
  • the organic light emitting laminate 10 is sealed by the sealing substrate 9 bonded to the composite substrate 3 by the sealing sidewall 18, but the composite substrate 3 having the resin substrate 2 on the surface is used. In such a case, intrusion of moisture through the resin substrate 2 becomes a problem. Therefore, in the organic EL element, it is preferable to form the moisture-proof film 6 that suppresses moisture intrusion on the surface of the resin substrate 2 where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not formed. Thereby, since the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6, the intrusion of moisture is suppressed.
  • the moisture-proof film 6 is a layer that barriers moisture and can be said to be a barrier layer.
  • FIG. 5 shows an example of the moisture-proof film 6 provided on the composite substrate 3.
  • FIG. 5 shows the moisture-proof film 6 in the organic EL element.
  • the moisture-proof film 6 is represented by a hatched portion.
  • the edge of the second electrode 16 is indicated by a dotted line, and the organic layer 15 is indicated by a one-dot broken line.
  • the sealing side wall 18 is shown with the broken line.
  • a conductive layer is formed in a pattern on the surface of the resin substrate 2 at the end of the substrate to form a first electrode lead portion 8a and a second electrode lead portion 8b.
  • membrane 6 is formed in the surface of the resin substrate 2 in the part in which the 1st electrode extraction part 8a and the 2nd electrode extraction part 8b are not formed (shaded area).
  • the moisture-proof film 6 is provided outside the sealing side wall 18 including the sealing side wall 18.
  • the conductive layer (transparent electrode layer) formed on the surface of the resin substrate 2 is a layer having a barrier property that makes it difficult for moisture to enter than the resin. Therefore, the resin substrate 2 may be covered with the conductive layer and the moisture-proof film 6.
  • each electrode lead-out portion 8 can function as an electrode terminal of each corresponding electrode.
  • the first electrode lead portion 8a is branched from the central portion 8c of the conductive layer that is disposed on the central side and integrated with the conductive layer constituting the first electrode 14, and extends to the end portion side. Is formed.
  • the first electrode lead portion 8a protrudes outside the sealing region and can function as an electrode terminal of the first electrode 14.
  • the second electrode lead portion 8b is formed across the region of the sealing side wall 18, protrudes outside the sealing region, and can function as an electrode terminal of the second electrode 16.
  • auxiliary electrodes 22 for assisting the conductivity of each electrode lead portion 8 may be provided on the surfaces of the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b. .
  • the auxiliary electrode 22 can be formed using a material having higher conductivity than the conductive layers constituting the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b.
  • the conductive layer can be formed of a transparent metal oxide layer such as ITO, and the auxiliary electrode 22 can be formed of a metal layer.
  • the auxiliary electrode 22 may be composed of a plurality of layers such as a material having good adhesion and a metal layer having high conductivity.
  • the auxiliary electrode 22 may not be transparent.
  • the auxiliary electrode 22 may be provided in a region other than the sealing sidewall 18. In FIG. 1, the auxiliary electrode 22 is formed on the surface of the electrode leading portion 8 outside the sealing region, but the auxiliary electrode 22 may be formed on the surface of the electrode leading portion 8 inside the sealing region. .
  • the auxiliary electrode 22 provided outside the sealing region can function as an electrode pad.
  • FIG. 6 shows an example of the vicinity of the end of the composite substrate 3.
  • FIG. 6A shows the composite substrate 3 in which the resin substrate 2 is formed on the surface of the moisture-proof substrate 1.
  • the moisture-proof film 6 is laminated on the surface of the end portion of the composite substrate 3.
  • substrate 3 which made the edge part side surface 2b of the resin substrate 2 into the inclined surface which inclined inside is shown.
  • the moisture-proof film 6 is laminated on the composite substrate 3, the moisture-proof film 6 is formed on the surface of the inclined surface as shown in FIG. 6B, so that the moisture-proof film 6 is prevented from being disconnected. It is possible to suppress the resin substrate 2 from being exposed to the outside.
  • FIG. 7 shows an example of the vicinity of the end of the composite substrate 3.
  • the form of FIG. 7A is a composite in which the end surface 2b of the resin substrate 2 is inclined to the inside, and the corner 2c, which is the edge between the surface 2a and the side surface 2b of the resin substrate 2, is formed in a curved shape. This is an example of the substrate 3.
  • the moisture proof film 6 is formed on the composite substrate 3 as shown in FIG. 7B, the moisture proof film 6 is formed on the surface of the inclined surface while straddling the corner portion 2c having rounded corners. It is possible to further reduce the disconnection of the step 6 and to prevent the resin substrate 2 from being exposed to the outside.
  • FIG. 8 shows a reference example near the end of the composite substrate 3.
  • FIG. 8A shows the composite substrate 3 in which the resin substrate 2 is formed on the surface of the moisture-proof substrate 1.
  • the side surface of the resin substrate 2 is perpendicular to the surface of the moisture-proof substrate 1.
  • the moisture-proof film 6 covers the side surface 2b of the resin substrate 2 as shown in FIG. 8B, the entire end portion of the resin substrate 2 can be covered.
  • FIG. 8C if the side surface of the moisture-proof film 6 is a vertical surface, the moisture-proof film 6 may not be laminated properly. There is a possibility that the divided portion 6x of the moisture-proof film 6 is formed.
  • the case where the thickness of the resin substrate 2 is considerably thicker than the thickness of the moisture-proof film 6 can be considered.
  • the moisture-proof film 6 is divided, the resin substrate 2 is exposed to the outside, and moisture may easily enter from this portion.
  • the moisture-proof film 6 is thin even if the moisture-proof film 6 is not divided, if the moisture-proof film 6 is thin, the barrier property against moisture in the portion becomes insufficient, and moisture may easily enter. is there. Therefore, as shown in FIGS. 6 and 7, the end surface 2 b of the resin substrate 2 can be inclined so that the moisture-proof film 6 can be sufficiently covered.
  • FIG. 9A and FIG. 9B are examples of the moisture-proof film 6 in the separation portion between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b.
  • a sealed space 7 a that is a space is formed between the composite substrate 3 in which the organic light emitting laminate 10 is housed and the sealing substrate 9. That is, the organic EL element has a hollow structure that is not filled with the filler 19.
  • the inner edge of the moisture-proof film 6 is indicated by E2.
  • FIG. 9B is an example in which the sealing substrate 9 is bonded to the composite substrate 3 in a region where the moisture-proof film 6 is not provided.
  • the sealing side wall 18 is provided inside the inner edge E ⁇ b> 2 of the moisture-proof film 6, and the inner edge E ⁇ b> 2 of the moisture-proof film 6 is disposed outside the outer edge of the sealing side wall 18.
  • the resin substrate 2 exists in the gap between the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b, and the sealing sidewall 18 is formed on the surface of the resin substrate 2. Then, as shown in FIG.
  • a gap is easily formed between the sealing sidewall 18 and the moisture-proof film 6, and the exposed portion 2x is formed as a portion where the resin substrate 2 is exposed to the outside by forming the gap.
  • the moisture-proof film 6 is formed on the side surface of the sealing side wall 18. Since it will be interrupted, there is a risk that moisture may easily enter the resin substrate 2 from the interface between the moisture-proof film 6 and the sealing sidewall 18.
  • FIG. 9A is an example in which the sealing substrate 9 is bonded to the composite substrate 3 in the region where the moisture-proof film 6 is provided.
  • the sealing side wall 18 is provided outside the inner edge E ⁇ b> 2 of the moisture-proof film 6, and the inner edge E ⁇ b> 2 of the moisture-proof film 6 is disposed inside the inner edge of the sealing side wall 18.
  • the moisture-proof film 6 exists in the gap between the first electrode lead-out part 8 a and the second electrode lead-out part 8 b, and the sealing side wall 18 is formed on the surface of the moisture-proof film 6. As shown in FIG.
  • the moisture-proof film 6 is provided continuously between the inside and outside of the sealing region across the region of the sealing side wall 18, so that the sealing side wall as in FIG. Intrusion of moisture from the side portions of the 18 can be prevented. Therefore, by forming the sealing side wall 18 in the region where the moisture-proof film 6 is provided, the intrusion of moisture can be effectively suppressed.
  • FIG. 10 shows another example of the moisture-proof film 6 in the structure of the composite substrate 3.
  • an organic EL element is shown.
  • the moisture-proof film 6 is represented by a hatched portion. It is a preferable aspect that the moisture-proof film 6 is formed at least in a region sealed by the sealing material 7.
  • a moisture-proof film that suppresses the intrusion of moisture in a portion of the surface of the resin substrate 2 in the sealing region where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not formed. 6 is formed.
  • the moisture-proof film 6 may be formed at least in a region sealed by the sealing substrate 9.
  • a conductive layer is formed in a pattern on the surface of the resin substrate 2 at the end of the substrate inside the sealing region, and a first electrode lead portion 8a and a second electrode lead portion 8b are formed.
  • membrane 6 is formed in the surface of the resin substrate 2 in the part in which the 1st electrode extraction part 8a and the 2nd electrode extraction part 8b are not formed.
  • the conductive layer (transparent electrode layer) formed on the surface of the resin substrate 2 is a layer having a barrier property that makes it difficult for moisture to enter compared to the resin. Therefore, the resin substrate 2 may be covered with the conductive layer and the moisture-proof film 6.
  • the moisture-proof film 6 extends over the entire gap between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b extending in the electrode lead direction and the direction perpendicular to the electrode lead direction. Is formed. Therefore, the moisture-proof film 6 is formed including between the integrated central portion 8c before the first electrode lead portion 8a branches at the end portion and the second electrode lead portion 8b. Thereby, since it is suppressed that the organic layer 15 contacts the resin substrate 2 directly, deterioration by a water
  • FIG. 11 is a cross-sectional view showing an example of the structure of the boundary portion between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b.
  • a moisture-proof film 6 is provided between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b so as to be in contact with the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b. ing.
  • the resin substrate 2 is blocked from the sealed space 7 a by the moisture-proof film 6. Therefore, the moisture-proof film 6 covers the portion where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not provided, and prevents moisture from entering from this portion.
  • a region where the sealing side wall 18 is provided is indicated by a broken line. Therefore, in the embodiment of FIG. 10, the sealing sidewall 18 is provided on the surface of the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b and the surface of the moisture-proof film 6. In this embodiment, the edge of the moisture-proof film 6 between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b is at the same position as the outer edge of the sealing sidewall 18.
  • the sealing sidewall 18 is provided on the surface of the moisture-proof film 6 so that the sealing sidewall 18 does not come into contact with the resin substrate 2, the resin substrate 2 can be covered more with the moisture-proof film 6. Therefore, it is possible to further suppress the intrusion of moisture.
  • the bonding strength of the sealing substrate 9 can be increased.
  • the outer edge of the moisture-proof film 6 may be disposed inside the outer edge of the sealing sidewall 18, but in that case, the outer edge of the moisture-proof film 6 is the same as the inner edge of the sealing sidewall 18. It is preferable to arrange it outside. Thereby, the moisture-proof film 6 and the sealing side wall 18 come into contact with each other, and the resin substrate 2 can be covered so as not to be exposed at the boundary portion between the moisture-proof film 6 and the sealing side wall 18, thereby suppressing the ingress of moisture. Can do.
  • the moisture-proof film 6 is provided on the surface of the resin substrate 2 where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not formed. That is, the moisture-proof film 6 is formed in a portion where the conductive layer for forming the first electrode 14, the first electrode lead portion 8a, and the second electrode lead portion 8b is not formed.
  • the moisture-proof film 6 is preferably provided on the entire portion of the surface of the resin substrate 2 where the conductive layer is not formed in the sealing region.
  • the organic layer 15 can be formed on the surface of the first electrode 14 and the surface of the moisture-proof film 6, the organic layer 15 can be formed so as not to contact the resin substrate 2. Therefore, it is possible to further suppress the intrusion of moisture into the organic layer 15.
  • membrane 6 should just be a thing which can coat
  • the resin substrate 2 may be covered by providing the moistureproof film 6 and the extending portion of the organic layer 15 in a portion where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not formed. The substrate 2 can be prevented from being exposed.
  • the layer in contact with the first electrode 14 in the organic layer 15 is preferably a moisture-proof layer.
  • the moisture-proof first organic layer 15a can be formed, for example, by applying a moisture-proof material.
  • the edge of the 2nd electrode 16 is shown with the dotted line, and the organic layer 15 is shown with the dashed-dotted line. Therefore, in the form of FIG. 10, the second electrode 16 is connected to the second electrode lead portion 8 b across the moisture-proof film 6 at a portion extending to the end side. That is, the second electrode 16 is not in contact with the resin substrate 2.
  • the second electrode 16 is formed by vapor deposition, if the second electrode 16 is directly formed on the surface of the resin substrate 2, moisture enters from the interface where the second electrode 16 and the resin substrate 2 are in contact with each other. There is a risk that moisture may easily pass through.
  • the layer formed by vapor deposition of the electrode material has a low density, and thus there is a possibility that the barrier property against moisture may be lowered.
  • the second electrode 16 and the resin substrate 2 are not in contact with each other, it is possible to prevent moisture from entering through the second electrode 16.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view showing an example of an organic EL element.
  • the electrode lead-out structure at the end is the same as the structure shown in FIG.
  • a moisture-proof film 6 is formed between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b inside the sealing region. For this reason, it is possible to suppress the ingress of moisture.
  • FIGS. 13 and 14 show an organic EL element in which the moisture-proof film 6 is not provided.
  • the moisture-proof film 6 since the moisture-proof film 6 is not provided, moisture easily enters the inside of the resin substrate 2. Further, as indicated by the white arrow, the moisture that has entered the inside of the resin substrate 2 is likely to be released to the inside through a gap formed between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b. Therefore, as shown in FIGS. 10 to 12, it is preferable to provide a moisture-proof film 6 inside the sealing region in order to suppress the ingress of moisture.
  • a light extraction portion 23 is provided on the outer surface of the moisture-proof substrate 1.
  • the light extraction portion 23 can be formed by providing a concavo-convex structure on the surface or providing a light scattering layer containing a light scattering material.
  • the organic layer 15 is described by being divided into three parts: a first organic layer 15a, a second organic layer 15b, and a third organic layer 15c. ing.
  • the organic layer 15 may have a laminated structure of three or more layers.
  • FIG. 15A, FIG. 15B, and FIG. 15C are examples of the laminated state of the moisture-proof film 6.
  • the moisture-proof film 6 is thicker than the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b.
  • the moisture-proof film 6 is also formed on the end surface of the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b. That is, the moisture-proof film 6 is formed on the electrode lead portion 8.
  • the form of FIG. 15A can be formed by laminating the moisture-proof film 6 with a mask pattern in a slightly larger region than the region where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not formed.
  • the moisture-proof film 6 overflows from the gap of the conductive layer and is deposited on the surface of the edge of the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b. If it does, it can form. In the case of this form, since the amount of the moisture-proof film 6 is increased, the intrusion of moisture can be further suppressed.
  • the moisture-proof film 6 is formed so as to span the end portions of the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b. Therefore, since the moisture-proof film 6 covers the resin substrate 2 and covers the side surfaces and the surface at the end portions of the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b, the barrier property against moisture can be further improved.
  • the moisture-proof film 6 is thinner than the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b.
  • the barrier property against moisture becomes high. Further, since the thickness of the moisture-proof film 6 can be reduced, the material efficiency can be increased.
  • the moisture-proof film 6 is thinner than the first electrode lead-out part 8a and the second electrode lead-out part 8b, but the moisture-proof film 6 includes the first electrode lead-out part 8a and the second electrode. It is also formed on the end surface of the lead portion 8b.
  • the moisture-proof film 6 is formed so as to straddle between the end portions of the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b. Therefore, since the moisture-proof film 6 covers the resin substrate 2 and covers the side surfaces and the surface at the ends of the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b, the barrier property against moisture can be improved. Further, since the thickness of the moisture-proof film 6 can be reduced, the material efficiency can be increased.
  • the thickness T1 of the moisture-proof film 6 shown in FIGS. 15A, 15B, and 15C is the thickness (conductive layer) of the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b as shown in FIG.
  • the thickness may be substantially the same as T2, or may be different as in each form of FIG.
  • the thickness of the moisture-proof film 6 is increased to further increase the barrier property. Can be increased.
  • the upper limit of the thickness of the moisture-proof film 6 is not particularly limited.
  • the thickness of the moisture-proof film 6 can be 100 times or less the thickness of the conductive layer. Further, as shown in FIGS. 15B and 15C, the moisture-proof film 6 may be thinner than the conductive layer. For example, the moisture-proof film 6 has a thickness of 0.05 times or more the thickness of the conductive layer. Also good. In short, the thickness of the moisture-proof film 6 can be set as appropriate so that a barrier property against moisture can be secured.
  • the thickness T2 of the conductive layer (the first electrode 14, the first electrode lead portion 8a, and the second electrode lead portion 8b) can be, for example, in the range of 10 to 500 nm, but is not limited thereto. Absent.
  • the thickness T1 of the moisture-proof film 6 can be set in the range of 5 nm to 50 ⁇ m, for example, but is not limited thereto.
  • the corner portion of the end portion of the moisture-proof film 6 is tapered, It is preferable to provide roundness at the corners of the part. In the case of a taper shape, it is preferable that the taper angle (the angle formed between the substrate surface and the taper surface) is small.
  • FIGS. 16, 17 and 18 are other examples of the composite substrate 3 provided with the moisture-proof film 6.
  • the moisture-proof film 6 is represented by a hatched portion.
  • the moisture-proof film 6 is formed up to the edge of the substrate outer peripheral side of the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b (the edge of the conductive layer) or the vicinity thereof. May be. At this time, the moisture-proof film 6 extends from the inside of the sealing region to the outside across the region of the sealing member 6. Thereby, since the area which coat
  • the amount of material can be reduced as compared with the case where the moisture-proof film 6 is formed on the entire surface exposed to the outside of the resin substrate 2, and the area of the moisture-proof film 6 is also reduced, so that it is easier and more efficient.
  • a moisture-proof film 6 can be formed.
  • the moisture-proof film 6 is further formed on the entire surface of the end surface of the resin substrate 2 where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not formed.
  • the moisture-proof film 6 is formed not only on the inside of the sealing region but also on the surface of the resin substrate 2 outside the sealing region.
  • the surface of the resin substrate 2 can be covered with the moisture proof film 6 so as not to be exposed to the outside, so that moisture can be prevented from entering the resin substrate 2 from the outside. It is possible to further suppress the intrusion into the water.
  • the moisture-proof film 6 is added to the entire surface 2 a of the surface of the resin substrate 2 where the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b are not formed. Alternatively, it may be formed also on the side surface 2b of the resin substrate 2.
  • the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6 so as not to be exposed to the outside at all. In that case, the resin substrate 2 can be covered so that the entire side including the side surface 2b is not exposed to the outside, and the ingress of moisture from the outside can be blocked, so that the ingress of moisture can be further suppressed. .
  • the moisture-proof film 6 includes the entire portion where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not provided, and further includes the first electrode lead portion 8a and the second electrode. More preferably, the lead portion 8b is provided so as to cover the lead portion 8b.
  • the sealing region a region where the organic layer 15 is stacked on the first electrode 14 and a region where the second electrode 16 is stacked on the second electrode lead portion 8b.
  • a moisture-proof film 6 is provided at a portion other than the above. Further, outside the sealing region, the moisture-proof film 6 is formed in the entire region other than the region where the auxiliary electrode 22 is formed.
  • the moisture-proof film 6 is provided so as to cover the end of the substrate while providing an opening for electrical connection.
  • the resin substrate 2 including the electrode lead-out portion 8 is largely covered with the moisture-proof film 6, it is possible to suppress the ingress of moisture.
  • FIG. 19 shows another example of the structure of the composite substrate 3 provided with the moisture-proof film 6.
  • the composite substrate 3 used for the organic EL element is shown.
  • a composite substrate 3 composed of a moisture-proof substrate 1 and a resin substrate 2 is used as a base material for forming a laminate.
  • the organic light emitting laminated body 10 which has the 1st electrode 14, the organic layer 15, and the 2nd electrode 16 in this order on the surface by the side of the resin substrate 2 in the composite substrate 3 is provided.
  • the organic light emitting laminate 10 is sealed with a sealing substrate 9 bonded to the composite substrate 3 at the outer peripheral portion.
  • Adhesion of the sealing substrate 9 is performed by a sealing side wall 18 formed on the surface of the outer peripheral end portion of the composite substrate 3.
  • the sealing substrate 9 is not shown, and the region where the sealing side wall 18 is provided is indicated by a hatched area surrounded by a broken line.
  • the organic layer 15 and the second electrode 16 are indicated by dotted lines, and the conductive layer forming the first electrode 14 is indicated by a solid line.
  • the outer edge F1 of the resin substrate 2 is indicated by a one-dot chain line.
  • FIG. 19B the central portion is omitted for easy understanding of the configuration of the end portion.
  • the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b are formed on the surface of the moisture-proof film 6.
  • a portion of the resin substrate 2 that protrudes from the sealing region formed by sealing the sealing substrate 9 is covered with the moisture-proof film 6.
  • the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b are formed on the surface of the moisture barrier film 6 so as to ride on the moisture barrier film 6.
  • the moisture-proof film 6 is formed as a lower layer of the electrode lead-out portion 8 at the end of the composite substrate 3. A portion of the resin substrate 2 that protrudes outside the sealing region is covered with a moisture-proof film 6. Thereby, since the resin substrate 2 is not exposed to the outside, it is possible to suppress entry of moisture from the outside.
  • the moisture-proof film 6 may be provided at least in the region of the resin substrate 2 exposed to the outside when it is assumed that the moisture-proof film 6 does not exist outside the sealing region. When the resin substrate 2 is not exposed outside the sealing region, the resin substrate 2 is not in direct contact with the external space, so that moisture can be effectively prevented from entering.
  • the moisture-proof film 6 preferably covers the boundary portion between the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1.
  • the moisture-proof film 6 is formed in contact with the surface of the outer peripheral end of the moisture-proof substrate 1 as shown in FIG. 19B. . If the boundary between the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2 is exposed to the outside, moisture may enter from the interface between the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2, but the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate. 1 is covered with the moisture-proof film 6, the interface between the moisture-proof substrate 1 and the resin substrate 2 is not exposed to the outside, so that it is possible to further suppress the intrusion of moisture from the outside.
  • the outer edge E ⁇ b> 1 of the moisture-proof film 6 is disposed outside the outer edge F ⁇ b> 1 of the resin substrate 2.
  • the moisture-proof film 6 need not be provided in the central region of the composite substrate 3 in plan view.
  • the central region of the composite substrate 3 is a region where a light emitting region is formed by providing the organic light emitting laminate 10, and if the moisture-proof film 6 is provided in this portion, the light extraction property may not be improved. . Further, if the moisture-proof film 6 is provided only on the outer peripheral edge of the composite substrate 3, the moisture-proof film 6 is not formed in the light emitting region. Therefore, the refractive index of the moisture-proof film 6 is adjusted or the moisture-proof film 6 is provided. There is no need to make it transparent, and the moisture-proof film 6 can be easily formed.
  • the moisture-proof film 6 may cover the entire gap formed by the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b. In that case, in the form as shown in FIG. 19, the inner edge E2 of the moisture-proof film 6 is disposed on the inner side of the outer edge of the conductive layer integrally forming the first electrode 14 and the first electrode lead portion 8a. It will be. That is, the moisture-proof film 6 is provided so as to extend inward from the position where the conductive layer forming the first electrode 14 branches to the first electrode lead portion 8a.
  • the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6 inside the sealing region, the resin substrate 2 and the sealing space do not come into contact with each other, and even if moisture enters the resin substrate 2, the resin substrate 2 It is possible to suppress moisture from reaching the organic light emitting laminate 10.
  • the moisture-proof film 6 may cover the entire resin substrate 2 including the central portion of the composite substrate 3.
  • the resin substrate 2 is surrounded and covered with the moisture-proof substrate 1 and the moisture-proof film 6. Then, since the resin substrate 2 is entirely covered with a moisture-proof member, there is no moisture intrusion path to the resin substrate 2, so that it is highly possible to prevent moisture from entering the organic light emitting laminate 10. it can.
  • the moisture-proof film 6 is a lower layer of the first electrode 14. Therefore, it is preferable that the moisture-proof film 6 has light transmittance.
  • the end side surface 2b of the resin substrate 2 is inclined. That is, in FIG. 19, the outer edge of the resin substrate 2 is indicated by the outer edge F1, and the side surface 2b at the end of the outer edge F1 is an inclined surface. Moreover, it is preferable that the corner
  • the end side surface 6 b on the inside of the element in the moisture-proof film 6 is inclined to the outside of the element with respect to the surface 2 a of the resin substrate 2. It is preferable that the inclined surface is formed.
  • the end side surface 6 b on the element inner side of the moisture-proof film 6 is formed as an inclined surface that is inclined to the element outer side with respect to the surface 2 a of the resin substrate 2.
  • the inner edge of the element inner side end of the moisture-proof film 6 is indicated by an inner edge E2.
  • the side surface 6b of the edge part in this inner edge E2 becomes an inclined surface.
  • the angle formed between the side surface 6b and the surface on the resin substrate 2 side is an acute angle.
  • an end portion on the element inner side of the moisture-proof film 6 has a rounded corner 6c which is an edge portion from the surface 6a to the side surface 6b. That is, it is preferable that the corner portion of the surface end portion on the inner side of the moisture-proof film 6 is formed in a curved shape.
  • FIG. 20 shows an example of the vicinity of the end of the moisture-proof film 6 on the element inner side.
  • FIG. 20A shows the composite substrate 3 in which the moisture-proof film 6 is formed on the surface of the resin substrate 2.
  • a conductive layer is laminated on the moisture-proof film 6 and the surface of the resin substrate 2 to form electrode lead portions 8 (first electrode lead portion 8a and second electrode lead portion 8b).
  • the conductive layer covers the side surface 6b of the moisture-proof film 6, and the conductive layer is not divided. Thereby, the conductivity of the electrode lead-out portion 8 is ensured.
  • FIG. 20B shows the composite substrate 3 in which the moisture-proof film 6 is formed on the surface of the resin substrate 2.
  • the conductive layers are stepped and divided, and the divided portions 8x and 8y of the electrode lead portion 8 may be formed.
  • the case where the thickness of the moisture-proof film 6 is considerably thicker than the thickness of the conductive layer can be considered.
  • the conductivity of the electrode lead-out portion 8 is hindered and may not be electrically connected to the electrode of the organic light emitting laminate 10.
  • the conductivity of the electrode lead-out portion 8 can be made sufficient by making the end side surface 6b of the moisture-proof film 6 an inclined surface or making the corner 6c curved.
  • FIG. 21 shows an example of the vicinity of the end of the moisture-proof film 6 on the element inner side.
  • the form of FIG. 21A is an example in which the end side surface 6b of the moisture-proof film 6 is formed as an inclined surface inclined outward. Then, if a conductive layer is formed by laminating the moisture-proof film 6 formed with the inner end side surface 6b as an inclined surface, a conductive layer is formed on the surface of the inclined surface as shown in FIG. 21B. It is possible to reduce the layer breakage. Therefore, the conductivity of the electrode lead portion 8 can be improved.
  • 21C is an example in which the corner 6c between the surface 6a and the side surface 6b of the moisture-proof film 6 is rounded and formed into a curved shape. Then, when a conductive layer is stacked on the moisture-proof film 6 formed by rounding the corners 6c, a conductive layer is formed across the corners 6c with rounded corners, as shown in FIG. 21D. It is possible to reduce disconnection. Therefore, the conductivity of the electrode lead portion 8 can be improved.
  • the end side surface 6b of the moisture-proof film 6 is formed as an inclined surface that is inclined outward, and the corner 6c between the surface 6a and the side surface 6b of the moisture-proof film 6 is rounded to form a curved shape. It is an example.
  • the moisture-proof film 6 is formed by laminating a conductive layer, as shown in FIG. 21F, the conductive layer is formed on the surface of the inclined surface across the corner 6c having rounded corners. This can be further reduced. Therefore, the conductivity of the electrode lead portion 8 can be further increased.
  • the inclination angle ⁇ of the inclined surface of the moisture-proof film 6 is appropriately set in a range smaller than 90 degrees.
  • the inclination angle is an acute angle.
  • the inclination angle ⁇ may be 30 degrees or more, 45 degrees or more, 60 degrees or more, or 75 degrees or more. Further, the inclination angle ⁇ may be 75 degrees or less or 60 degrees or less.
  • FIG. 22 shows an example in which the sealing substrate 9 is bonded to the composite substrate 3 by the sealing sidewall 18 having adhesiveness.
  • FIG. 22 shows the structure of the boundary portion between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b at the position where the sealing side wall 18 is formed.
  • FIG. 22A shows an example in which a sealing side wall 18 is formed on the surface of the electrode lead portion 8 and the composite substrate 3 at a position where the moisture-proof film 6 is not provided.
  • FIG. 22B shows an example in which the sealing sidewall 18 is formed on the surfaces of the electrode lead-out portion 8 and the moisture-proof film 6 in the composite substrate 3 provided with the moisture-proof film 6 as in the form of FIG. 15B.
  • FIG. 22C shows an example in which the sealing sidewall 18 is formed on the surfaces of the electrode lead-out portion 8 and the moisture-proof film 6 in the composite substrate 3 provided with the moisture-proof film 6 as in the form of FIG. 15C.
  • FIG. 22D corresponds to the form of FIG. 19, and in the composite substrate 3 in which the electrode lead portion 8 is formed on the surface of the moisture-proof film 6, the sealing sidewall 18 is formed on the surface of the electrode lead portion 8 and the moisture-proof film 6. An example is shown.
  • the first electrode lead portion 8 a and the second electrode are provided at the end portions (upper and lower end portions in FIG. 4) of the composite substrate 3.
  • the electrode lead portions 8b are separated and alternately arranged.
  • the sealing side wall 18 is provided so that the outer periphery of the organic light emitting laminated body 10 may be enclosed, and the sealing substrate 9 is compounded by the surface side (organic light emitting laminated body 10 side) of the moisture-proof board
  • the region where the sealing sidewall 18 is provided is a region where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are arranged, and the first electrode lead portion 8a and the second electrode are arranged. There is a gap between the lead portions 8b where the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are not formed.
  • the gap is closed as shown in FIG. 15A. For this reason, it is not necessary to consider the ingress of moisture from the position of the gap.
  • FIG. 22A and FIG. 22D since there is a gap, intrusion of moisture from the position of this gap becomes a problem.
  • FIGS. 22B and 22C when the entire gap is not filled with the moisture-proof film 6, the gap formed by the penetration of the sealing sidewall 18 remains.
  • the sealing substrate 9 includes the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b, and the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b by the sealing side wall 18. It is adhered to the lower layer of the electrode lead portion 8 or the surface of the moisture-proof film 6 in between.
  • the sealing region is a region whose outer periphery is surrounded by the sealing side wall 18.
  • the region where the sealing side wall 18 is provided is the surface of the conductive layer forming the electrode lead portion 8 and the gap between the conductive layer.
  • the moisture-proof film 6 covers the side surface of the electrode lead-out portion 8 as shown in FIG.
  • the sealing substrate 9 when the sealing substrate 9 is bonded with the sealing side wall 18, a resin material for forming the sealing side wall 18 between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b. 18a is filled. A portion where the sealing side wall 18 enters between the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b becomes an adhesive gap 21.
  • the bonding gap 21 is a gap for bonding the sealing substrate 9.
  • the bonding gap 21 is a portion to which insulation is imparted when the electrode material 8a is not formed and the resin material 18a enters. As shown in FIG.
  • the height H1 (thickness) of the sealing sidewall 18 in the region where the adhesive gap 21 is formed is equal to the sealing in the region where the first electrode leading portion 8a and the second electrode leading portion 8b are formed. It is larger than the height H2 (thickness) of the side wall 18. Therefore, since the thickness of the entire layer formed by the sealing side wall 18 is increased at the position where the adhesive gap 21 is formed, moisture enters the inside of the sealing region through the increased thickness portion. It becomes easy. This is because the resin material 18a has higher moisture resistance than the resin substrate 2, but usually has higher moisture permeability than materials such as glass constituting the substrate.
  • the adhesive gap 21 is formed in a linear shape in a plan view (when viewed from a direction perpendicular to the surface of the moisture-proof substrate 1).
  • the bonding gap 21 may be formed in a linear shape that can be drawn with a single stroke from the outside to the inside in plan view.
  • the adhesive gap 21 is formed so as to have an advance portion 21a that advances in the direction from the outside to the inside and a return portion 21b that advances in the direction from the inside to the outside.
  • the sealing side wall 18 may be comprised by the outer peripheral part of the sealing substrate 9.
  • FIG. is there. This is a case where a so-called cap-shaped sealing substrate 9 is used.
  • the resin material 18 a filled in the bonding gap 21 may be an adhesive that bonds the composite substrate 3 and the sealing substrate 9.
  • FIG. 23 shows examples of the form of the adhesive gap 21 formed at the boundary between the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b.
  • the adhesive gap 21 is indicated by a dot area.
  • the broken line has shown the area
  • FIG. 23 shows an example in which the left electrode is the first electrode lead portion 8a and the right side is the second electrode lead portion 8b. Of course, the right side is the first electrode lead portion 8a and the left side is the second electrode lead portion 8b. It may be 8b.
  • the adhesive gap 21 is drawn as a single line between the adjacent electrode lead portions 8.
  • the shape can be drawn with a single stroke.
  • the bonding gap 21 is not crossed or branched. If the bonding gap 21 has a branch, a separation portion that is not connected to either of the electrode lead portions 8 is formed.
  • the line width of the adhesive gap 21 is preferably substantially constant. When the line width becomes wider or narrower, moisture easily enters the wide portion. Further, in order to suppress the ingress of moisture, the line width is preferably as narrow as possible under the condition that the insulating properties of the first electrode lead portion 8a and the second electrode lead portion 8b are maintained.
  • the advance part 21a should just be a part which progresses from the exterior side to the interior side, and even if it progresses in a direction parallel to the advance / straight direction, it is inclined in the advance / straight direction (with an angle). It may proceed in an oblique direction.
  • the return part 21b should just be a part which progresses from the inner side to the outer side, and even if it advances in a direction parallel to the return straight-ahead direction, it is inclined in the return straight-ahead direction (with an angle). It may proceed in an oblique direction.
  • the adhesive gap 21 is roughly reversed twice when a line drawing is drawn from the outer end 21x to the inner end 21y of the adhesive gap 21 in the direction from the outer side to the inner side. It is drawn as a line meandering in an S shape.
  • a reversal in the return direction from the advance portion 21a to the return portion 21b and a reversal in the advance direction from the return portion 21b to the advance portion 21a are provided once each.
  • the bonding gap 21 is configured by arranging the advance portion 21a, the return portion 21b, and the advance portion 21a in the order from the outside to the inside. Therefore, one return portion 21b is formed.
  • the bonding gap 21 is configured by arranging the advance portion 21a, the return portion 21b, and the advance portion 21a in the order from the outside to the inside. Therefore, one return portion 21b is formed.
  • each advance portion 21a is formed in a straight line parallel to the straight advance direction
  • each return portion 21b is formed in a straight line parallel to the return straight direction.
  • a stay portion 21c that does not advance in either the advance direction or the return direction and is parallel to the outer edge of the sealing side wall 18.
  • a line is bent vertically at the boundary between the advance portion 21a and the stay portion 21c, and between the return portion 21b and the stay portion 21c.
  • the opposing end portions of the first electrode lead-out portion 8a and the second electrode lead-out portion 8b are mutually opposite ends protruding in an L shape. It is a key-shaped pattern that engages.
  • the bonding gap 21 is roughly reversed four times when a line drawing is drawn from the outer end 21x to the inner end 21y of the bonding gap 21 in the direction from the outer side to the inner side. It is drawn.
  • inversion in the return direction from the advance portion 21a to the return portion 21b and inversion in the advance direction from the return portion 21b to the advance portion 21a are provided twice.
  • the first reversal and the second reversal from the advance portion 21a to the return portion 21b are reversed by turning in the opposite directions, and the first reversal from the return portion 21b to the advance portion 21a.
  • the inversion of the second time and the inversion of the second time are reversed by turning in opposite directions.
  • the bonding gap 21 is arranged in the order of the advance portion 21a, the return portion 21b, the advance portion 21a, the return portion 21b, and the advance portion 21a in the direction from the outside to the inside. Accordingly, a plurality (two) of return portions 21b are formed. In this way, by providing the return portion 21b and forming the adhesive gap 21 in a shape that bends and returns when drawn as a line drawing, from the outer end to the inner end of the adhesive gap 21 The distance becomes longer, and the intrusion of moisture can be effectively suppressed. In the form of FIG. 23B, since a plurality of return portions 21b are formed, the distance from the outer end to the inner end in the bonding gap 21 is longer.
  • each advance portion 21a is formed in a straight line parallel to the straight advance direction
  • each return portion 21b is formed in a straight line parallel to the return straight direction.
  • a stay portion 21c that does not advance in either the advance direction or the return direction and is parallel to the outer edge of the sealing side wall 18.
  • a line is bent vertically at the boundary between the advance portion 21a and the stay portion 21c, and between the return portion 21b and the stay portion 21c.
  • the two front parts proceed in the same direction (right direction in FIG. 23B), and the two rear parts proceed in the same direction (left direction) opposite to the front two.
  • the end portion of one electrode lead-out portion 8 protrudes in a T shape and the end portion of the other electrode lead-out portion 8 has a T shape. It has a concave pattern.
  • the bonding gap 21 is roughly reversed twice when a line drawing is drawn from the outer end 21x to the inner end 21y of the bonding gap 21 in the direction from the outer side to the inner side. It is drawn as a line meandering in an S shape.
  • a reversal in the return direction from the advance portion 21a to the return portion 21b and a reversal in the advance direction from the return portion 21b to the advance portion 21a are provided once each.
  • the bonding gap 21 is configured by arranging the advance portion 21a, the return portion 21b, and the advance portion 21a in the order from the outside to the inside. Therefore, one return portion 21b is formed.
  • the bonding gap 21 is configured by arranging the advance portion 21a, the return portion 21b, and the advance portion 21a in the order from the outside to the inside. Therefore, one return portion 21b is formed.
  • each advance portion 21a is formed in a straight line parallel to the advance straight direction in portions other than the vicinity of the communicating return portion 21b.
  • the return portion 21b is formed in a straight line parallel to the straight rectilinear direction at a portion other than the vicinity of the advance portion 21a that communicates.
  • a curved portion 21d is formed at the boundary between the advance portion 21a and the return portion 21b.
  • the curved portion 21d is formed in a curved shape that smoothly reverses from the advance direction to the return direction, so that the line width of the adhesive gap 21 does not become thick even in the inverted portion, and is substantially constant.
  • the adhesive gap 21 is formed in a curved shape when it is bent, and the line width when changing the direction is not substantially thick, but is substantially the same, so that a portion of the adhesive gap 21 that is wide in plan view is reduced. , It is possible to further suppress the intrusion of moisture.
  • FIG. 24 shows the bending of the line in the bonding gap 21.
  • FIG. 24A since the line is bent at a right angle, a portion U wider than the line width W of the bonding gap 21 is formed.
  • FIG. 24B since the line is smoothly bent in a curved line, a portion wider than the line width W of the bonding gap 21 is not formed.
  • a shape having a substantially constant line width as shown in FIG. 24B is more advantageous than the shape shown in FIG. 24A. Therefore, as shown in FIG. 23C, the curved portion 21d is formed at the boundary portion between the advance portion 21a and the return portion 21b, as compared with the embodiment shown in FIG. 23A. is there.
  • the opposing ends of the first electrode lead-out portion 8a and the second electrode lead-out portion 8b are ends protruding in an L shape with rounded tips. It is a key-shaped pattern in which the parts mesh with each other.
  • the bonding gap 21 is roughly reversed four times when a line drawing is drawn from the outer end 21x to the inner end 21y of the bonding gap 21 in the direction from the outer side to the inner side. It is drawn.
  • inversion in the return direction from the advance portion 21a to the return portion 21b and inversion in the advance direction from the return portion 21b to the advance portion 21a are provided twice.
  • the first reversal and the second reversal from the advance portion 21a to the return portion 21b are reversed by turning in the opposite directions, and the first reversal from the return portion 21b to the advance portion 21a.
  • the inversion of the second time and the inversion of the second time are reversed by turning in opposite directions.
  • the bonding gap 21 is arranged in the order of the advance portion 21a, the return portion 21b, the advance portion 21a, the return portion 21b, and the advance portion 21a in the direction from the outside to the inside. Accordingly, a plurality (two) of return portions 21b are formed.
  • the return portion 21b and forming the adhesive gap 21 in a shape that is bent in the return direction when drawn as a line drawing, the end portion on the inner side from the outer end portion in the adhesive gap 21 is formed. The distance up to is long, and the intrusion of moisture can be effectively suppressed.
  • the return part 21b is formed in multiple numbers, the distance from the edge part of the outer side in the adhesion gap 21 to the edge part of the inner side becomes longer.
  • each advance portion 21a is formed in a straight line parallel to the advance straight direction in portions other than the vicinity of the communicating return portion 21b.
  • each return portion 21b is formed in a straight line parallel to the return rectilinear direction at a portion other than the vicinity of the communicating advance portion 21a.
  • a curved portion 21d is formed at the boundary between the advance portion 21a and the return portion 21b. The curved portion 21d is formed in a curved shape that smoothly reverses from the advance direction to the return direction, so that the line width of the adhesive gap 21 does not become thick even in the inverted portion, and is substantially constant.
  • the bonding gap 21 when the bonding gap 21 is bent, it is formed in a curved shape, and the line width when changing the direction is not substantially thick but is substantially the same, so that the portion of the bonding gap 21 that is wide in plan view is reduced. Therefore, as described with reference to FIG. 24, it is possible to further suppress the intrusion of moisture.
  • one end of the electrode lead-out portion 8 protrudes in a rounded T shape, and the other end of the electrode lead-out portion 8 is rounded. It is a pattern of a shape recessed in a T-shape.
  • the bonding gap 21 is roughly a plurality of times when a line drawing is drawn from the outer end portion 21x to the inner end portion 21y of the bonding gap 21 in the direction from the outer side to the inner side (see FIG. It is drawn as a meandering line that inverts (six times in 23E).
  • inversion inversion in the return direction from the advance portion 21a to the return portion 21b and inversion in the advance direction from the return portion 21b to the advance portion 21a are provided three times each.
  • all the inversions from the advance portion 21a to the return portion 21b are turned by turning in the same direction, and the inversions from the return portion 21b to the advance portion 21a are all turned in the same direction and turned. is doing. Therefore, the line drawn by the bonding gap 21 meanders across the width direction of the sealing side wall 18 in a direction parallel to the straight traveling direction, and moves in a direction (lateral direction) along the outer edge of the sealing side wall 18. .
  • the adhesive gap 21 is arranged in the order of the advance portion 21a, the return portion 21b, the advance portion 21a, the return portion 21b, the advance portion 21a, the return portion 21b, and the advance portion 21a in the direction from the outside to the inside.
  • a curved portion 21d is formed at each boundary portion between the advance portion 21a and the return portion 21b. Accordingly, a plurality of (three) return portions 21b are formed.
  • each advance portion 21a is formed in a straight line parallel to the advance straight direction in portions other than the vicinity of the communicating return portion 21b.
  • each return portion 21b is formed in a straight line parallel to the return rectilinear direction at a portion other than the vicinity of the communicating advance portion 21a.
  • a curved portion 21d is formed at the boundary between the advance portion 21a and the return portion 21b.
  • the curved portion 21d is formed in a curved shape that smoothly reverses from the advance direction to the return direction, or reverses from the return direction to the advance direction, so that the line width of the adhesive gap 21 does not increase in the inverted portion. It is constant.
  • the bonding gap 21 when the bonding gap 21 is bent, it is formed in a curved shape, and the line width when changing the direction is not substantially thick but is substantially the same, so that the portion of the bonding gap 21 that is wide in plan view is reduced. Therefore, as described with reference to FIG. 24, it is possible to further suppress the intrusion of moisture.
  • each electrode lead-out portion 8 is formed in a comb shape and has a pattern of meshing shapes.
  • the bonding gap 21 preferably includes a plurality of return portions 21b.
  • the distance from the edge part of the outer side in the adhesion gap 21 to the edge part of the inner side can be made longer, and the penetration of moisture can be further effectively suppressed.
  • the number of return portions 21b is three or more or four or more, the length of the bonding gap 21 can be made longer.
  • the adhesive gap 21 is roughly rotated when drawn from the outer end 21x to the inner end 21y of the adhesive gap 21 as a line drawing in a direction from the outer side to the inner side. It is drawn as a line to do. That is, after proceeding from the outer end portion 21x and progressing in the straight direction, it converges toward the center of the spiral while rotating, and then reverses to rotate from the center of the spiral toward the outer periphery in the reverse direction of the convergence. In the end, the light travels in parallel to the straight traveling direction and reaches the inner end 21y.
  • a plurality of advance portions 21a and return portions 21b are alternately and alternately arranged, and reversal in the return direction from the advance portion 21a to the return portion 21b and reversal in the advance direction from the return portion 21b to the advance portion 21a. It is provided multiple times.
  • the adhesive gap 21 is formed in a curved shape in the spiral portion other than the two advance portions 21a arranged on the outer end portion 21x side and the inner end portion 21y side.
  • a curved portion 21d is formed at the boundary between the advance portion 21a and the return portion 21b.
  • a plurality of curved advance portions 21a and curved return portions 21b are formed by spiraling.
  • the curvilinear advance portion 21a and the curvilinear return portion 21b forming the spiral are continuously arranged so as to form a smooth curve without a step.
  • the ends of the electrode lead-out portions 8 are formed in a spiral shape that converges while rotating in the same direction toward the center portion, and are in mesh with each other. It has become a pattern.
  • the outer end portion (outer end portion 21x) of the bonding gap 21 is substantially orthogonal to the edge of the sealing side wall 18 in plan view. Thereby, the area where the adhesion gap 21 is exposed to the outside can be reduced, and a structure in which moisture is less likely to enter can be achieved.
  • FIG. 25 shows each example of the outer end portion 21 x of the bonding gap 21.
  • the end of the adhesive gap 21 is substantially orthogonal to the edge of the sealing sidewall 18, and the width W1 of the portion where the adhesive gap 21 is exposed in plan view is substantially equal to the line width W of the adhesive gap 21.
  • the end portion of the bonding gap 21 is inclined and intersects with the end edge of the sealing sidewall 18 in an oblique direction, and the width W1 of the portion where the bonding gap 21 is exposed in plan view is It becomes larger than the line width W of the gap 21.
  • the exposed area of the bonding gap 21 is increased. Therefore, it is preferable that the end portion of the adhesive gap 21 is substantially orthogonal to the end edge of the sealing side wall 18. In addition, it is preferable that the inner end portion (inner end portion 21 y) of the bonding gap 21 is substantially orthogonal to the end edge of the sealing side wall 18. In that case, the exposed area of the adhesive gap 21 on the inner side can be reduced to further suppress the intrusion of moisture.
  • the line width W of the adhesive gap 21 is preferably 5 to 500 ⁇ m. If the line width of the bonding gap 21 is too narrow, it may be difficult to form a pattern. In addition, if the line width of the bonding gap 21 is too wide, there is a possibility that moisture penetration cannot be effectively suppressed.
  • the line width of the bonding gap 21 is the distance between the edge of the first electrode lead portion 8a and the edge of the second electrode lead portion 8b.
  • the length (full length) of the line of the adhesive gap 21 can be set to be twice or more the width of the sealing side wall 18, that is, the shortest distance from the outer edge to the inner edge of the sealing side wall 18. Thereby, the distance from the outer side edge part to the inner side edge part in the bonding gap 21 becomes long, and the intrusion of moisture can be effectively suppressed.
  • the upper limit of the line length of the adhesive gap 21 is not particularly limited, but may be, for example, 100 times or less from the viewpoint of ease of pattern formation.
  • the region width for forming the adhesive gap 21, that is, the length in the direction along the edge of the sealing sidewall 18 in the region in which the adhesive gap 21 is formed (the length V shown in FIGS.
  • the width of the sealing side wall 18 (distance from the outer edge to the inner edge) can be set to 0.5 to 1.5 mm, for example. Thereby, the sealing substrate 9 can be sufficiently bonded by the sealing side wall 18.
  • the thickness of the conductive layer (the first electrode 14, the first electrode lead portion 8a, and the second electrode lead portion 8b), that is, the depth of the recess where the adhesive gap 21 is formed (recess width) is, for example, 0.
  • the thickness may be in the range of 05 to 50 ⁇ m, but is not limited thereto.
  • the adhesion gap 21 is formed by forming a groove by forming a conductive layer for forming the first electrode 14 and each electrode lead portion 8 in a pattern.
  • the adhesive gap 21 may be formed by removing the conductive layer with an energy beam such as a laser and forming a groove in a pattern shape to cut out the second electrode lead portion 8b.
  • the bonding gap 21 is closed by the sealing side wall 18 by filling the bonding portion of the groove with the resin material 18 a of the sealing side wall 18.
  • FIG. 26 shows still another example of the bonding gap 21.
  • FIG. 26A shows a meandering direction along the edge of the sealing side wall 18 while alternately bulging in a direction along the edge of the sealing side wall 18 (retaining direction) and drawing a curve. It is an example of the adhesion
  • FIG. 26B is an example of the bonding gap 21 that is a square spiral. In this example, a stay portion 21c is formed between the advance portion 21a and the return portion 21b.
  • a stay portion 21c is formed between the advance portion 21a and the return portion 21b, and a boundary portion between the advance portion 21a and the stay portion 21c and a boundary portion between the return portion 21b and the stay portion 21c are curved.
  • the stay 21c and the curved portion 21d are formed between the advance portion 21a and the return portion 21b, and the curved portion 21d is formed at the boundary portion between the advance portion 21a and the return portion 21b. include.
  • the bonding gap 21 is formed in a substantially constant line shape by the curved portion 21d when the line is bent, without the line width being increased.
  • 26D is an example of the bonding gap 21 formed in a straight line in which the advance portion 21a and the return portion 21b advance in an oblique direction with an inclination angle with respect to the advance straight direction.
  • the adhesive gap 21 shown in each example of FIG. 26 also has the return portion 21b, the length of the adhesive gap 21 is increased, and moisture can be prevented from entering.
  • the composite substrate 3 may be manufactured by manufacturing the composite substrate 3 itself (the composite substrate 3 as a substrate material on which the organic laminate 5 or the like is not provided), or when manufacturing an organic electric element.
  • the structure of the composite substrate 3 may be formed. For example, if the structure of the composite substrate 3 is manufactured while individualizing elements by laminating a plurality of organic laminates 5 on the substrate surface and then dividing, the organic electric elements can be efficiently formed.
  • a moisture-proof plate material 11 and a resin material 12 are prepared.
  • a glass plate can be used as the moisture-proof plate 11, and a plastic sheet can be used as the resin material 12.
  • size for the some organic electrical element arranged are prepared.
  • size which the composite substrate 3 for several elements connected can be formed by affixing the resin material 12 on the surface of the moisture-proof board
  • FIG. The bonding of the resin material 12 can be performed with an adhesive.
  • the adhesive layer 4 is formed from the adhesive.
  • the bonding of the resin material 12 may be performed by, for example, bonding the plastic sheet with a component on the surface of the plastic sheet by stacking the plastic sheet on a glass substrate and thermocompression bonding.
  • a composite plate 13 is formed by bonding a moisture-proof plate 11 for forming a plurality of moisture-proof substrates 1 and a resin material 12 for forming a plurality of resin substrates 2. That is, the composite substrate 3 having a size capable of forming a plurality of organic electric elements is obtained as the composite plate material 13.
  • the composite substrate 3 can be formed by individually manufacturing a moisture-proof substrate 1 and a resin substrate 2 each having the size of one organic electric element, and bonding them together. Becomes complicated and the production efficiency may be reduced.
  • the composite substrate 3 (composite plate material 13) having a large area is prepared in advance and is individually formed to form the composite substrate 3 of each element, a plurality of composite substrates 3 can be formed simultaneously.
  • the composite substrate 3 can be manufactured efficiently. Further, a plurality of organic laminates 5 are formed on the surface of the large-area composite substrate 3 (composite plate material 13) to form a connection body of elements, and then the composite plate material 13 is cut to form an organic electric element. In this case, since a plurality of elements can be obtained at the same time, an organic electric element can be produced efficiently.
  • the structure of the composite substrate 3 is that the resin material 12 of the composite plate material 13 is divided, and the resin dividing and tilting step in which the side surface 2b of the resin substrate 2 formed by being divided is inclined, and the moisture-proof property of dividing the moisture-proof plate material 11 It can manufacture by the process which has a board parting process. That is, the moisture-proof board
  • the stress at the time of cutting can be relaxed, the occurrence of defective cutting can be suppressed, and the yield can be improved. Further, by cutting in stages, the size of the resin substrate 2 can be easily made smaller than the size of the moisture-proof substrate 1.
  • the resin cutting step is the first cutting step
  • the moisture-proof plate cutting step is the second cutting step.
  • 27 is an example of manufacturing the structure of the composite substrate 3 by cutting the composite plate material 13 provided with a plurality of organic laminates 5 on the surface.
  • FIG. 27A is an example of a resin dividing slope step.
  • the resin material 12 may be divided (cut) by a cutting tool such as a cutter, but is preferably performed by laser irradiation that irradiates a laser L at a position where the resin material 12 is divided as shown in FIG. 27A. It is an aspect. Thereby, the resin which comprises the resin material 12 is burned, the resin material 12 is parted, and each resin substrate 2 can be formed. Further, according to laser irradiation, for example, when a glass substrate is used as the moisture-proof substrate 1 (moisture-proof plate material 11), only the resin material 12 is easily cut and the moisture-proof plate material 11 is not cut. can do.
  • the resin is baked by laser irradiation, the surface of the moisture-proof substrate 1 (moisture-proof plate material 11) can be easily exposed and the resin material 12 can be divided. Further, according to the laser irradiation, the laser L can be easily tapered toward the tip by condensing the laser L, and can be cut with an inclination angle. Therefore, the resin substrate formed by dividing the resin material 12 2 end side surface 2b can be easily inclined at the same time as cutting. Further, since the resin material is burned and divided by laser irradiation, the corner portion 2c of the resin substrate 2 can be easily rounded by heat load.
  • an inclined surface can be formed by cutting the resin material 12 in an oblique direction with respect to the surface. Further, after the resin material 12 is cut perpendicularly to the surface, a process of making the end side surface 2b an inclined surface or a process of rounding the corners 2c may be performed.
  • the adhesive layer 4 does not remain in the portion where the resin is divided. In the case of laser irradiation, the adhesive layer 4 can also be burned out simultaneously to remove the adhesive layer 4. When the adhesive layer 4 is removed by cutting with a cutter or the like, the adhesive layer 4 often has a stronger adhesive force to the resin material 12 than the moisture-proof plate material 11, and therefore can be removed together with the resin material 12.
  • a dividing groove 24 is formed as a wide groove at a location where the resin material 12 is cut.
  • the dividing groove 24 is preferably a groove having a substantially trapezoidal cross section with a width decreasing toward the back of the groove. In the case of a trapezoidal groove, the side surface 2b of the resin substrate 2 becomes an inclined surface, and the surface of the moisture-proof plate 11 is exposed, so that the outer peripheral surface of the moisture-proof substrate 1 is divided when the composite substrate 3 is formed. Can be easily exposed.
  • the processing residue is derived from the resin material 12 and the adhesive layer 4.
  • the removal of the processing residue may be performed by removing at least the processing residue on the surface of the resin material 12 in the vicinity of the dividing groove 24 and the dividing groove 24. If the processing residue remains, there is a risk of causing a device defect. In particular, when the moisture-proof film 6 is formed, if a processing residue remains, there may be a defect such as a hole (pinhole) opened in the moisture-proof film 6, but by removing the processing residue, The moisture-proof film 6 can be reliably formed.
  • the residue removal step is preferably performed by gas blowing. It is possible to wash by flowing a liquid. However, in the case of spraying a gas, a treatment such as drying is not necessary as compared with the case of a liquid, and the treatment after the residue removal is simplified. Moreover, it is hard to damage the organic laminated body 5. Therefore, according to the blowing of gas, a processing residue can be easily removed, and a substrate surface suitable for forming the moisture-proof film 6 can be easily formed. Further, the residue can be removed without damaging the organic laminate 5.
  • the moisture-proof plate 11 is cut and divided by a cutting tool such as a scriber S.
  • a cutting tool such as a scriber S.
  • the moisture-proof plate 11 is cut at a position where the resin material 12 is divided (a position where the resin substrate 2 is not formed).
  • the resin material 12 is cut at the position of the dividing groove 24.
  • Cutting with the scriber S may be performed in a direction perpendicular to the substrate surface (the surface of the moisture-proof plate 11).
  • the scriber S is preferably applied to the moisture-proof plate 11 from the surface where the organic laminate 5 is not formed. When it cuts from the surface in which the organic laminated body 5 is formed, there exists a possibility that the organic laminated body 5 may become easy to get dirt and a damage
  • FIG. 27D the structure of the composite substrate 3 in which the resin substrate 2 is provided on the surface of the moisture-proof substrate 1 can be obtained.
  • the structure of the composite substrate 3 in which the organic laminated body 5 is provided on the surface is manufactured.
  • the structure of the composite substrate 3 can be formed by the same method as the method of FIG.
  • FIG. 28A is an example of a resin dividing and tilting step.
  • the resin material 12 can be divided by laser irradiation that irradiates a laser L at a position where the resin material 12 is divided.
  • the resin material 12 can be easily divided and the end side surface 2b can be inclined.
  • channel 24 can be formed easily and the surface of the moisture-proof board
  • a residue removal process can be performed after a resin parting inclination process. Further, the residue removing step can be performed by gas blowing.
  • the moisture-proof plate 1 is cut and divided by a cutting tool such as a scriber S.
  • a cutting tool such as a scriber S.
  • the structure of the composite substrate 3 in which the resin substrate 2 is provided on the surface of the moisture-proof substrate 1 can be obtained.
  • the composite substrate 3 that can be used as the substrate material is manufactured.
  • the structure of the composite substrate 3 in which the outer peripheral end portion of the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6 is manufactured.
  • the organic laminate 5 is sealed with a sealing material 7.
  • the structure of the composite substrate 3 can be formed by a method similar to the method of FIG.
  • FIG. 29A is an example of the resin dividing and tilting step, and can be performed by laser irradiation that irradiates the laser L to the position where the resin material 12 is divided, as in FIG. 27A. Then, as shown in FIG. 29B, the resin material 12 is divided and a plurality of resin substrates 2 are formed. It is preferable to perform a residue removal step after the resin dividing slope step. Moreover, it is preferable to perform a residue removal process by spraying of gas.
  • the moisture-proof film 6 is formed in the part of the dividing groove 24 formed between the adjacent resin substrates 2 and 2 so as to cover the dividing groove 24, and then the moisture-proof film 6 is formed.
  • the organic laminate 5 is sealed with a sealing material 7 so as to cover a part of the surface.
  • the resin substrate 2 when manufacturing an organic electrical element, it is preferable to have a step of coating the outer peripheral end of the resin substrate 2 with a moisture-proof film 6. Accordingly, the resin substrate 2 can be prevented from being exposed to the outside, and moisture can be effectively prevented from entering through the resin substrate 2. If the moisture-proof film 6 is provided so as to straddle the adjacent resin substrates 2 and 2 as in this embodiment, the end of the resin substrate 2 can be efficiently and reliably covered with the moisture-proof film 6.
  • the moisture-proof plate 1 is cut and divided by a cutting tool such as a scriber S.
  • a cutting tool such as a scriber S.
  • the structure of the composite substrate 3 in which the resin substrate 2 is provided on the surface of the moisture-proof substrate 1 can be obtained.
  • the organic laminated body 5 is sealed, and the outer peripheral edge of the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6 so that an organic electric element that is not exposed to the outside is obtained.
  • organic laminated body 5 it is necessary to form the organic laminated body 5 on the surface of the resin substrate 2, and the organic laminated body 5 is formed on the surface of the composite substrate 3 (composite plate material 13) at an appropriate timing. It may be formed.
  • the organic laminated body 5 is formed in this state to obtain the state shown in FIG. 27B.
  • plate material 11 can be cut
  • the organic laminate 5 may be formed in this state to obtain the state shown in FIG. 29B.
  • the moisture-proof film 6, sealing with the sealing material 7, and cutting of the moisture-proof plate 11 are performed to form a composite substrate constituting a part of the organic electric element Three structures can be formed.
  • the organic laminate 5 can be formed into the form as shown in FIG. 27D.
  • the moisture-proof film 6 and the organic laminated body 5 are formed, and further sealed to form as shown in FIG. 29E. it can.
  • the method of cutting the moisture-proof plate 11 after forming the organic laminate 5 can simultaneously form a plurality of organic electric elements, so that the productivity can be improved.
  • the composite substrate 3 is manufactured by dividing an organic EL element connector and manufacturing the organic EL element.
  • the structure of the composite substrate 3 can be formed by a method similar to the method of FIG.
  • the laser L is irradiated after the organic laminated body 5 (organic light emitting laminated body 10) is sealed.
  • FIG. 30A is an example of a combined organic EL element in which a plurality of organic EL elements are connected.
  • a plurality of organic EL elements are connected in a plane direction to form an organic EL element connection body, and the organic EL element connection body is divided and manufactured individually. Can do. Thereby, a plurality of organic EL elements can be formed simultaneously, and the production efficiency can be increased.
  • the composite plate member 13 has a sealing plate member 17 for forming a plurality of sealing substrates 9 bonded to the surface on the resin member 12 side.
  • the organic EL element connection body is formed by arranging a plurality of organic light emitting laminates 10 in parallel between the composite plate material 13 and the sealing plate material 17.
  • the parallel may be planar parallel or linear parallel.
  • the composite plate 13 is composed of a moisture-proof plate 11 and a resin material 12.
  • a first electrode 14, an organic layer 15, and a second electrode 16 are formed on the surface of the composite plate 13 in this order.
  • a sealing sidewall 18 is provided around the outer periphery of the organic light emitting laminate 10, and a region 19 surrounded by the sealing sidewall 18 is filled with a filler 19.
  • the composite plate material 17 is bonded to the composite plate material 13 by the sealing side wall 18.
  • the organic light emitting laminate 10 is sealed by the sealing sidewall 18, the filler 19, and the sealing plate material 17. It is possible to manufacture an organic EL element by dividing
  • FIG. 30B is an example of a resin dividing slope step.
  • the resin dividing inclination step similarly to FIG. 27A, it can be performed by laser irradiation that irradiates the position where the resin material 12 is divided with the laser L.
  • the laser L since the laser L is irradiated after sealing, it is possible to reduce the damage of the organic light emitting laminate 10 due to the processing residue, and it is possible to manufacture the element more safely.
  • the resin material 12 is divided and a plurality of resin substrates 2 are formed by irradiation with the laser L.
  • a dividing groove 24 is formed in which the end surface (end side surface 2 b) of the resin substrate 2 formed by being divided is an inclined surface.
  • angular part 2c of the resin substrate 2 has roundness.
  • the dividing groove 24 may be the same as that shown in FIG.
  • the moisture-proof plate member 11 and the sealing plate member 17 are cut at appropriate positions and cut by a cutting tool such as a scriber S.
  • the cutting position of the moisture-proof plate 11 can be set to the position of the dividing groove 24.
  • the cutting position of the sealing plate material 17 can be set to the position of the outer edge of the sealing side wall 18 or a position slightly outside of it.
  • the individualized organic EL element is obtained.
  • this organic EL element a structure of a composite substrate 3 in which a resin substrate 2 is provided on the surface of a moisture-proof substrate 1 is formed.
  • the outer peripheral end portion protruding from the sealing region in the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6. .
  • the moisture-proof film 6 can be formed without disconnection.
  • the resin substrate 2 can be covered with the moisture-proof film 6 so as to cover the boundary portion between the resin substrate 2 and the moisture-proof substrate 1. Thereby, it is possible to effectively prevent moisture from entering the inside through the resin substrate 2 and to form a highly moisture-proof structure.
  • organic electric elements other than an organic EL element can also be manufactured by the same method.
  • FIG. 31 shows an example of a process for forming the moisture-proof film 6 on the composite substrate 3.
  • the formation process of the moisture-proof film 6 can be applied in each of the above embodiments.
  • FIG. 31A shows an example of the composite substrate 3 after being divided and provided with the dividing groove 24. In the dividing groove 24, the end portion side surface 2b of the resin substrate 2 is exposed. In addition, it is preferable that a gap such as a dividing groove 24 is formed between the individual resin substrates 2 and 2. When the end side surfaces 2b and 2b of the adjacent resin substrates 2 and 2 are in close contact with each other, it is difficult for the material of the moisture-proof film 6 to enter this portion, and the end of the resin substrate 2 can be covered with the moisture-proof film 6. There is a risk that it will not be possible.
  • the shape of the end of the resin substrate 2 is formed by cutting in the process of dividing the resin material 12. Therefore, by appropriately performing the cutting process, the end portion side surface 2b of the resin substrate 2 can be formed into an inclined surface, or the corner portion 2c of the end portion of the resin substrate 2 can be rounded and formed into a curved shape.
  • the shape of the end can be adjusted by adjusting the energy beam irradiation angle in the case of dividing by irradiation with an energy beam such as a laser.
  • it can be performed by using a cutting tool whose tip is an inclined surface.
  • it can carry out by adjusting a cutting angle at the time of cutting.
  • the material of the moisture-proof film 6 is supplied to the part where the resin substrate 2 is divided, and the end portions of the individualized resin substrates 2 are covered with the moisture-proof film 6. This is the coating process.
  • the material of the moisture-proof film 6 can be supplied by coating or vapor deposition.
  • FIG. 31B shows an example of the composite substrate 3 on which the moisture-proof film 6 is formed, and the formation of the moisture-proof film 6 is not limited to this.
  • the moisture-proof film 6 is formed by being laminated so as to fill the dividing groove 24. Further, the moisture-proof film 6 is formed across the end portions of the adjacent resin substrates 2. In this way, when the moisture-proof film 6 is formed across the adjacent resin substrates 2, the manufacturing efficiency can be improved.
  • membrane 6 may be coat
  • each end portion of the moisture-proof film 6 formed on the surface of the resin substrate 2 becomes an end portion of the moisture-proof film 6 disposed on the inside of the element when individualized. Therefore, the shape of the end of the moisture-proof film 6 on the surface of the resin substrate 2 can be adjusted by appropriately adjusting the coating method and the vapor deposition method. Thereby, the end side surface 6b of the moisture-proof film 6 can be inclined, or the corner 6c of the end part of the moisture-proof film 6 can be curved.
  • the moisture-proof film 6 can easily cover the side surface 2b. Moreover, since the corner
  • FIG. 32 is an example of a laser L used for cutting the resin material 12.
  • the laser L can be condensed by the objective lens 30.
  • the laser irradiation is preferably performed by condensing the laser L with the objective lens 30 having a numerical aperture of 0.5 or more.
  • the laser L is condensed in a conical shape (isosceles cross section), and the laser L can be incident obliquely from both sides with respect to the dividing position on the substrate surface.
  • the cut side surface 2b can be easily formed into an inclined surface.
  • the emission direction of the laser L may be a direction perpendicular to the substrate surface. Even if the laser L travels perpendicularly to the substrate surface, it is condensed toward the focal point by the objective lens 30, so that it is possible to perform a taper process that produces an inclined surface.
  • the condensing angle ⁇ of the laser L is preferably 30 degrees or more.
  • the condensing angle ⁇ is an angle at which the outer edge of the laser L is inclined by condensing, and as shown in FIG. 32, an angle formed between the traveling direction of the emitted laser L and the outer edge of the laser L condensed by the objective lens 30.
  • NA numerical aperture
  • the upper limit of the numerical aperture is as close as possible to 1.0, but may be substantially 0.9 or less or 0.8 or less.
  • the condensing angle ⁇ may be 45 degrees or more, or 60 degrees or more. Further, the condensing angle ⁇ may be 75 degrees or less, 60 degrees or less, or 45 degrees or less.
  • FIG. 33 shows another example of a method for cutting the resin material 12.
  • it is cut by a cutting tool having a blade with a sharp tip.
  • a cutting plotter 31 having a cutter 31a at the tip can be used.
  • the cutting plotter 31 can easily divide the resin material 12.
  • an energy irradiation device such as a laser may be used as a cutting tool, and the resin material 12 may be burned out with energy rays.
  • the dividing groove 24 is formed as a groove between the individual resin substrates 2 and 2.
  • the resin plate material 12 in the composite plate material 13 is cut, and the moisture-proof plate material 11 is not cut. Like that. Thereby, the resin substrate 2 divided and individualized is formed on the surface of the integrated moisture-proof plate 11. If the resin material 12 (resin substrate 2) is cut (precut) in advance without cutting the moisture-proof plate 11, the organic EL element can be easily cut at the precut portion.
  • FIG. 34 shows an example of a method for forming the moisture-proof film 6.
  • a dispenser 32 is used as a coating device, and the material of the coating type moisture-proof film 6 is supplied from the dispenser 32 along the dividing groove 24 to the surface of the composite substrate 3.
  • the moisture-proof film 6 can be formed after the formation of the conductive layer that constitutes the first electrode 14, or can be formed before the formation of the conductive layer that constitutes the first electrode 14.
  • FIG. 35 shows another example of a method for forming the moisture-proof film 6.
  • a resist 33 is formed in a region other than the region where the moisture-proof film 6 is formed in the composite substrate 3 (composite plate material 13).
  • the material of the moisture-proof film 6 is laminated on the entire surface of the composite substrate 3.
  • membrane 6 is formed is shown with the oblique line.
  • the lamination of the moisture-proof film 6 can be performed by applying a material for the coating-type moisture-proof film 6.
  • the moisture-proof film 6 may be laminated by vapor-depositing the material of the vapor-deposited moisture-proof film 6. Further, it may be performed by sputtering. When lamination of the moisture-proof film 6 is performed by coating, it can be performed by, for example, die coating. Then, as shown in FIG. 35C, the moisture-proof film 6 formed on the surface of the resist 33 is removed by removing (lifting off) the resist 33. Then, when the conductive layer is not formed on the surface of the composite plate material 13, the surface of the resin substrate 2 is exposed as shown in FIG. 35C. That is, the composite substrate 3 (composite plate material 13) is exposed. When a conductive layer is formed on the surface of the composite plate material 13, the conductive layer is exposed. Thereby, the moisture-proof film
  • the composite substrate 3 in which the end portion of the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6 when divided and individualized is obtained.
  • membrane 6 is not restricted to said method, For example, you may form by vapor-depositing using a mask pattern.
  • FIG. 36A to 36F show an example of manufacturing an organic EL element.
  • FIG. 36A shows the surface of the resin substrate 2 provided with the dividing grooves 24.
  • an electrode material is laminated on the surface of the resin substrate 2.
  • the first electrode 14 is formed in the central region on the surface of the resin substrate 2 and the electrode lead portion 8 is formed on the surface of the end portion of the resin substrate 2 by laminating in a pattern.
  • Pattern formation may be a method of forming the pattern on the entire surface and then removing it in a pattern, or a method of laminating electrode materials in a pattern using a pattern mask or the like.
  • the composite substrate 3 may be formed using the resin substrate 2 provided with the electrode film on the surface in advance, and then the electrode film may be partially removed to perform electrode patterning.
  • the electrode material may be a material for the transparent conductive layer.
  • a transparent metal oxide such as ITO can be used.
  • the conductive layer can be formed by vapor deposition, sputtering, coating, or the like.
  • the shape of the pattern can be a shape for forming the first electrode 14, the first electrode lead portion 8a, and the second electrode lead portion 8b.
  • the shape of the adhesion gap 21 can be adjusted by patterning the electrodes.
  • the moisture-proof film 6 is laminated and formed.
  • FIG. 36C, FIG. 36D, FIG. 36E, and FIG. 36F the area
  • the moisture-proof film 6 may be formed in a pattern corresponding to the form.
  • the moisture-proof film 6 is formed across the dividing groove 24, and the resin substrate 2 whose ends are covered with the moisture-proof film 6 can be obtained. Further, the moisture-proof film 6 is not formed in the range of the first electrode 14, so that the organic light-emitting laminate 10 can be formed.
  • the electrode lead-out portion 8 it is not formed in a region where the auxiliary electrode 22 is provided and a portion where the second electrode 16 extends and the second electrode lead-out portion 8b is connected. Thus, the moisture-proof film 6 is formed with an opening. Therefore, electrical connection becomes possible.
  • the organic layer 15 is laminated and formed on the surface of the first electrode 14 which is the central region of the transparent conductive layer.
  • the organic layer 15 can be formed by sequentially laminating each layer constituting the organic layer 15 by vapor deposition or coating.
  • the organic layer 15 is laminated in a pattern such that the second electrode 16 does not contact the first electrode 14 when the second electrode 16 is laminated.
  • the exposed surface of the resin substrate 2 may be covered with the organic layer 15.
  • the second electrode 16 is laminated on the surface of the organic layer 15. At this time, the second electrode 16 is not in contact with the first electrode 14 and the first electrode lead portion 8a, and is also laminated on the surface of the second electrode lead portion 8b. Thereby, the organic light emitting laminate 10 is formed on the surface of the composite substrate 3.
  • a sealing adhesive for forming the sealing side wall 18 is provided, and the sealing substrate 9 is bonded to the sealing side wall 18.
  • a sealing plate material 17 that is an integrated continuous base material can be used.
  • the sealing adhesive an adhesive having moisture resistance and insulation is used. In this way, the composite substrate 3 and the sealing substrate 9 are bonded to each other with the sealing side wall 18, the individual organic light emitting laminates 10 are sealed, and the organic EL element assembly is manufactured.
  • the organic EL elements can be individualized by cutting and separating the moisture-proof plate 11 and the sealing plate 17 at the end of each organic EL element.
  • the moisture-proof film 6 is also cut at the same time. Therefore, the moisture-proof film 6 is preferably formed of a material that can be easily cut. If the resin substrate 2 is integrated, cutting may not be easily performed. However, since the resin substrate 2 is pre-cut as described above, it is easy to cut at the end of each organic EL element. it can.
  • FIG. 37A to FIG. 37F show another example of manufacturing an organic EL element.
  • FIG. 37 shows an example in which the electrode lead portion 8 is formed on the surface of the moisture-proof film 6.
  • FIG. 37A shows the surface of the resin substrate 2 provided with the dividing grooves 24.
  • the resin substrate 2 whose ends are covered with the moisture-proof film 6 can be obtained as shown in FIG. 37B.
  • FIG. 37B, FIG. 37C, FIG. 37D, FIG. 37E, and FIG. 37F the region where the moisture-proof film 6 is formed is indicated by hatching.
  • an electrode material is laminated on the surface of the composite substrate 13 in which the end portion of the resin substrate 2 is covered with the moisture-proof film 6.
  • the first electrode 14 is formed in the central region on the surface of the resin substrate 2 and the electrode lead portion 8 is formed on the surface of the end portion of the resin substrate 2 by laminating in a pattern.
  • Pattern formation may be a method of forming the pattern on the entire surface and then removing it in a pattern, or a method of laminating electrode materials in a pattern using a pattern mask or the like.
  • the electrode material may be a material for the transparent conductive layer. For example, a transparent metal oxide such as ITO can be used.
  • the conductive layer can be formed by vapor deposition, sputtering, coating, or the like.
  • the shape of the pattern can be a shape for forming the first electrode 14, the first electrode lead portion 8a, and the second electrode lead portion 8b.
  • the first electrode is formed on the surface of the moisture-proof film 6.
  • a lead portion 8a and a second electrode lead portion 8b can be provided.
  • the conductive layer may be laminated in a pattern in which the outer edge of the conductive layer in which the first electrode 14 and the first electrode lead portion 8 a are integrated and continuous is positioned outside the edge of the moisture-proof film 6.
  • the first electrode lead portion 8 a and the second electrode lead portion 8 b can be provided in the surface region of the moisture-proof film 6.
  • the shape of the adhesion gap 21 can be adjusted by patterning the electrodes.
  • the organic layer 15 is laminated
  • the organic layer 15 can be formed by sequentially laminating each layer constituting the organic layer 15 by vapor deposition or coating.
  • the organic layer 15 is laminated in a pattern such that the second electrode 16 does not contact the first electrode 14 when the second electrode 16 is laminated. Further, the exposed surface of the resin substrate 2 may be covered with the organic layer 15. Thereby, it is possible to prevent the resin substrate 2 from being exposed.
  • the second electrode 16 is laminated on the surface of the organic layer 15. At this time, the second electrode 16 is not in contact with the first electrode 14 and the first electrode lead portion 8a, and is also laminated on the surface of the second electrode lead portion 8b. Thereby, the organic light emitting laminate 10 is formed on the surface of the composite substrate 3.
  • a sealing adhesive is provided, and the sealing substrate 9 is bonded to the sealing side wall 18.
  • a sealing plate material 17 that is an integrated continuous base material can be used.
  • the sealing side wall 18 is provided on the surface of the moisture-proof film 6 in a region between the end portion of the first electrode lead portion 8a and the end portion of the second electrode lead portion 8b.
  • the sealing adhesive an adhesive having moisture resistance and insulation is used. In this way, the composite substrate 3 and the sealing substrate 9 are bonded to each other with the sealing side wall 18, the individual organic light emitting laminates 10 are sealed, and the organic EL element assembly is manufactured.
  • the organic EL element is individualized by cutting and separating the moisture-proof plate material 11 (moisture-proof substrate 1) and the sealing plate material 17 (sealing substrate 9) at the end of each organic EL element. Can do.
  • the moisture-proof film 6 is also cut at the same time. Therefore, the moisture-proof film 6 is preferably formed of a material that can be easily cut. If the resin substrate 2 is integrated, cutting may not be easily performed. However, since the resin substrate 2 is pre-cut as described above, it is easy to cut at the end of each organic EL element. it can.
  • FIG. 38 shows another example of the embodiment of the composite substrate 3. The same components as those in the embodiment of FIG. 38.
  • the end surface 1b of the outer periphery of the moisture-proof substrate 1 is formed as an inclined surface inclined inward. That is, the moisture-proof substrate 1 has a trapezoidal shape.
  • the inclination angle ⁇ of the side surface 1b of the moisture-proof substrate 1 only needs to be smaller than 90 degrees, and can be 80 degrees or less, 70 degrees or less, or 60 degrees or less.
  • substrate 1 will spread too much if the inclination
  • the inclination angle ⁇ is an angle formed between the surface 1d of the moisture-proof substrate 1 opposite to the resin substrate 2 and the end side surface 1b of the moisture-proof substrate 1.
  • the side surface 1b of the moisture-proof substrate 1 is an inclined surface, the element can be easily attached to the housing of the lighting device.
  • the inclination angle ⁇ at which the side surface 2b of the resin substrate 2 is inclined is preferably smaller than the inclination angle ⁇ at which the side surface 1b of the moisture-proof substrate 1 is inclined. That is, the side surface 2b of the resin substrate 2 is in a state of approaching a sideways fall compared to the side surface 1b of the moisture-proof substrate 1.
  • the moisture-proof film 6 can be formed without being divided when the moisture-proof film 6 is formed.
  • the structure of the composite substrate 3 in FIG. 38 is manufactured by processing the side surface 1b of the moisture-proof substrate 1 to be an inclined surface after cutting with the scriber S in the method for manufacturing the structure of the composite substrate 3 described above. Can do. Alternatively, it can be manufactured by applying the scriber S to the moisture-proof substrate 1 in an oblique direction and cutting it.
  • the structure of the composite substrate 3 in the form of FIG. 38 can be used as a substrate for an organic electric element (organic EL element) as in the form described above.

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Abstract

 複合基板は、防湿性基板1と、この防湿性基板1の表面に貼り合わされた樹脂基板2とを含んで構成される。樹脂基板2は、平面視において防湿性基板1よりも小さく形成されている。樹脂基板2の端部側面2bは、内側に傾斜する傾斜面として形成されている。有機エレクトロルミネッセンス素子は、樹脂基板2の表面に設けられた有機発光積層体10が封止材7によって封止されており、樹脂基板2は、電極引き出し部8が形成されていない部分の少なくとも一部が防湿膜6により被覆されている。水分の浸入を効果的に抑制して劣化を低減した有機電気素子を形成することができる。信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。

Description

複合基板及びその製造方法、並びに、有機エレクトロルミネッセンス素子
 本発明は、有機電気素子に用いられる複合基板及びその製造方法に関する。また、本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
 近年、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下「有機EL素子」ともいう)が照明パネルなどの用途に応用されている。有機EL素子としては、透光性の第1電極(陽極)と、発光層を含む複数の層により構成される有機層と、第2電極(陰極)とが、この順で透光性基板の表面に積層形成されたものが知られている。有機EL素子では、陽極と陰極の間に電圧を印加することによって、発光層で発した光が透光性の電極及び基板を通して外部に取り出される。
 有機EL素子では、一般的に、発光層の光は基板での吸収や層界面での全反射などによって光量が減少するため、外部に取り出される光は理論上の発光量よりも少なくなる。例えば、ガラスを基板材料に使用した場合、通常、ガラスは有機層よりも屈折率が低いために、この界面で全反射が発生し、光取り出し効率が低下する。そのため、有機EL素子においては、高輝度化のために光取り出し効率を高めることが課題の一つとなっている。その方策として、光取り出し性を高めるために、基板をプラスチック材とガラス材との複合基板で構成することが考えられる。この場合、光取り出し側にプラスチック材が配置されることにより、基板と電極との界面における全反射が低減されて、光をより多く外部に取り出すことが可能になる。
 このような複合基板は、有機EL素子以外の有機電気素子にも適用可能である。有機電気素子としては、有機太陽電池、有機表示素子(有機ディスプレイ)、その他の有機半導体素子などが挙げられる。複合基板であれば、積層体の特性を向上させるのに適した基板と積層体の保護に適した基板との混合基板にするなど、各有機電気素子に応じた基板材料を得ることができる。また、可撓性のある基材を複合して用いれば、フレキシブルな基板を得ることが可能である。
特開2007-317671号公報
 有機電気素子においては、通常、内部に水分が浸入しないことが求められる。有機電気素子は有機物を含んだ素子であり、水分が内部に浸入すると有機物が変質するなどして素子の劣化を招いてしまう。
 特に、有機EL素子においては、発光層が水分によって劣化しやすいため、素子内部に水分を浸入させないようにすることが重要である。水分によって発光層が劣化すると、発光不良等の原因となり、有機EL素子の信頼性を低下させてしまう。そして、光取り出し性を高める基材として、プラスチックや樹脂など、水分の透過性が比較的高い材料を用いて複合基板を形成した場合は、この材料を介しての内部への水分の浸入がさらに問題となる(特許文献1参照)。そのため、樹脂基板を用いる場合には、防湿性の高い膜で覆ったり、防湿性の高い基板を外部側に配置したりして、樹脂基板からの水分の浸入を抑制することが求められる。しかしながら、樹脂基板が外部に一部でも露出していると、その露出部分を介して水分が内部に浸入するおそれがある。
 ところで、有機電気素子の製造においては、基板上に、複数個の素子(積層体)を形成した後に、基板を切断し個別化して1つの素子を形成する場合がある。また、複数の素子を形成することが可能な面積の大きい複合基板を個別化し、素子1つの大きさに複合基板を切り出す場合もある。ここで、複合基板では、少なくとも2種類の材料が貼り合わされるなどして形成されている。そのため、大面積の複合基板を個別化したり素子を個別化したりするときなど、複合基板を切断する際に、複合基板の切断部分において材料ごとに異なる力が作用して、複合基板の切断部分が基板でずれたり、基板間の切断面が不良になったりするおそれがある。基板同士の界面がずれたり、複合基板の切断端面の形状が良好でなかったりすると、良好に素子が形成することができなくなり、製品不良となってしまうおそれがある。
 本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、水分の浸入を効果的に抑制して劣化を低減した有機電気素子を形成することができる複合基板を提供することを目的とするものである。また、基板間の切断面の不良がなく製造することができる複合基板を提供することを目的とするものである。また、製造性がよく、光取り出し性に優れ、水分の浸入を効果的に抑制し、劣化を低減した信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を形成する複合基板を提供することを目的とするものである。また、製造性がよく、光取り出し性に優れ、水分の浸入を効果的に抑制し、劣化を低減した信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを目的とするものである。
 本発明に係る複合基板は、防湿性基板と、この防湿性基板の表面に貼り合わされた樹脂基板とを含んで構成される複合基板であって、
 前記樹脂基板は、平面視において前記防湿性基板よりも小さく形成されており、
 前記樹脂基板の端部側面は、内側に傾斜する傾斜面として形成されていることを特徴とする。
 複合基板の好ましい態様では、前記樹脂基板の端部は、表面から側面にかけて角部が丸みを有している。
 複合基板の好ましい態様では、前記複合基板は、前記樹脂基板の表面に有機積層体が設けられ、この有機積層体が封止材によって封止されるものであり、
 前記複合基板の端部表面に、前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第1電極引き出し部と、前記第1電極引き出し部とは絶縁されて前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第2電極引き出し部とが設けられ、
 前記樹脂基板の表面における前記第1電極引き出し部及び前記第2電極引き出し部が形成されていない部分の少なくとも一部に、水分の浸入を抑制する防湿膜が形成されている。
 上記の場合、好ましい一態様では、前記防湿膜は、前記樹脂基板の前記封止材からはみ出す部分に少なくとも形成されている。
 上記の場合、好ましい一態様では、前記防湿膜は、前記封止材により封止される領域において少なくとも形成されている。
 上記の場合、好ましい一態様では、前記防湿膜は、前記樹脂基板の端部表面における前記第1引き出し電極及び前記第2引き出し電極が形成されていない部分の全体に形成されている。
 上記の場合、好ましい一態様では、前記第1電極引き出し部及び前記第2電極引き出し部が、前記防湿膜の表面に形成されている。
 さらに好ましくは、前記防湿膜における素子内部側の端部側面は、前記樹脂基板の表面に対して素子外部側に傾斜した傾斜面として形成されている。
 複合基板の好ましい態様では、前記複合基板は、前記樹脂基板の表面に有機積層体が設けられ、この有機積層体が封止材によって封止されるものであり、
 前記複合基板の端部表面に、前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第1電極引き出し部と、前記第1電極引き出し部とは絶縁されて前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第2電極引き出し部とが設けられ、
 前記第1電極引き出し部と前記第2電極引き出し部との間に、前記封止材を接着する樹脂材料が充填される接着間隙が形成され、この接着間隙は、平面視において外部側から内部側まで一筆書き可能な線状に形成されており、
 前記接着間隙は、外部側から内部側に向かう方向に進行する進み部と、内部側から外部側に向かう方向に進行する戻り部とを有するように形成されている。
 本発明に係る複合基板の製造方法は、防湿性基板と、この防湿性基板の表面に貼り合わされた樹脂基板とを含んで構成される複合基板の製造方法であって、
 複数の前記防湿性基板を形成するための防湿性板材と、複数の前記樹脂基板を形成するための樹脂材とが貼り合わされた複合板材を用い、この複合板材の前記樹脂材を分断するとともに分断されてできる前記樹脂基板の端部側面を傾斜面にする樹脂分断傾斜工程と、
 前記防湿性板材を分断する防湿性板分断工程とを有する工程により、製造することを特徴とする。
 複合基板の製造方法の好ましい一態様では、前記樹脂基板の外周端部を防湿膜で被覆する工程を有する。
 複合基板の製造方法の好ましい一態様では、前記樹脂分断傾斜工程は、レーザ照射により行うものである。
 複合基板の製造方法の好ましい一態様では、前記レーザ照射は、開口数0.5以上の対物レンズによりレーザを集光して行うものである。
 複合基板の製造方法の好ましい一態様では、前記樹脂分断傾斜工程によって発生する加工残渣を除去する残渣除去工程を有する。
 複合基板の製造方法の好ましい一態様では、前記残渣除去工程は、気体の吹き付けにより行うものである。
 複合基板の製造方法の好ましい一態様では、前記複合板材は、前記樹脂材側の表面に、複数の封止基板を形成するための封止板材が接着されたものであり、
 前記樹脂分断傾斜工程は、前記封止板材を透過するレーザを照射して行い、
 前記防湿性板分断工程において、前記封止板材を分断する。
 本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、防湿性基板と、この防湿性基板の表面に貼り合わされた樹脂基板とを含んで構成される複合基板における前記樹脂基板の表面に、第1電極と有機発光層と第2電極とを有する有機発光積層体が設けられ、この有機発光積層体が封止材によって封止された有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
 前記樹脂基板は、平面視において前記防湿性基板よりも小さく形成されており、
 前記樹脂基板の端部側面は、内側に傾斜する傾斜面として形成され、
 前記複合基板の端部表面に、前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第1電極引き出し部と、前記第1電極引き出し部とは絶縁されて前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第2電極引き出し部とが設けられ、
 前記第1電極引き出し部は前記第1電極と導通するとともに、前記第2電極引き出し部は前記第2電極と導通しており、
 前記樹脂基板の表面における前記第1電極引き出し部及び前記第2電極引き出し部が形成されていない部分の少なくとも一部に、水分の浸入を抑制する防湿膜が形成されていることを特徴とする。
 本発明に係る複合基板によれば、水分の浸入を効果的に抑制して劣化を低減した有機電気素子を形成することができる複合基板を得ることができる。また、基板間の切断面の不良がなく製造することができる複合基板を得ることができる。また、製造性がよく、光取り出し性に優れ、水分の浸入を効果的に抑制し、劣化を低減した信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を形成する複合基板を得ることができる。
 本発明に係る複合基板の製造方法によれば、水分の浸入を効果的に抑制して劣化を低減した有機電気素子を形成することができる複合基板を容易に作製することができる。
 本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子によれば、製造性がよく、光取り出し性に優れ、水分の浸入を効果的に抑制し、劣化を低減した信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。
本発明の複合基板を用いた有機電気素子の一例を示す断面図である。 複合基板の実施の形態の一例を示し、図2Aは平面図、図2Bは、断面図、図2Cは拡大断面図である。 有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す断面図である。 複合基板及び有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す平面図である。 防湿膜が設けられた複合基板の一例を示す平面図である。 複合基板の一例を説明する拡大断面図であり、図6Aは防湿膜が設けられていない複合基板、図6Bは防湿膜が設けられた複合基板を示す。 複合基板の一例を説明する拡大断面図であり、図7Aは防湿膜が設けられていない複合基板、図7Bは防湿膜が設けられた複合基板を示す。 複合基板の参考例を説明する拡大断面図であり、図8Aは防湿膜が設けられていない複合基板、図8B及び図8Cは防湿膜が設けられた複合基板を示す。 図9A及び図9Bは、防湿膜が設けられた複合基板の一例を説明する拡大断面図である。 防湿膜が設けられた複合基板の一例を説明する平面図である。 防湿膜が設けられた複合基板の一例を説明する拡大断面図である。 有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す断面図である。 複合基板の参考例を説明する拡大断面図である。 有機エレクトロルミネッセンス素子の参考例を示す断面図である。 図15A、図15B及び図15Cは、防湿膜が設けられた複合基板の一例を説明する拡大断面図である。 防湿膜が設けられた複合基板の一例を説明する平面図である。 防湿膜が設けられた複合基板の一例を説明する平面図である。 防湿膜が設けられた複合基板の一例を説明する平面図である。 有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示し、図19Aは平面図、図19Bは、図19AのX-X’断面図である。 図20A、図20B及び図20Cは、防湿膜が設けられた複合基板の一例を説明する拡大断面図である。 図21A、図21B、図21C、図21D、図21E及び図21Fは、防湿膜が設けられた複合基板の一例を説明する拡大断面図である。 図22A、図22B、図22C及び図22Dは、電極引き出し部が設けられた複合基板の一例を説明する拡大断面図である。 図23A、図23B、図23C、図23D、図23E及び図23Fは、電極引き出し部が設けられた複合基板の一例を説明する拡大平面図である。 図24A及び図24Bは、電極引き出し部が設けられた複合基板の一例を説明する拡大平面図である。 図25A及び図25Bは、電極引き出し部が設けられた複合基板の一例を説明する拡大平面図である。 図26A、図26B、図26C及び図26Dは、電極引き出し部が設けられた複合基板の一例を説明する拡大平面図である。 図27A、図27B、図27C及び図27Dは、複合基板の切断の一例を示す断面図である。 図28A、図28B、図28C及び図28Dは、複合基板の切断の一例を示す断面図である。 図29A、図29B、図29C、図29D及び図29Eは、複合基板の切断の一例を示す断面図である。 図30A、図30B、図30C及び図30Dは、複合基板の切断の一例を示す断面図である。 図31A及び図31Bは、防湿膜の形成の一例を示す断面図である。 レーザの一例を示す断面図である。 複合基板の切断の一例を示す斜視図である。 防湿膜の形成の一例を示す斜視図である。 図35A、図35B及び図35Cは、防湿膜の形成の一例を示す斜視図である。 図36A、図36B、図36C、図36D、図36E及び図36Fは、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造の一例を示す平面図である。 図37A、図37B、図37C、図37D、図37E及び図37Fは、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造の一例を示す平面図である。 複合基板の実施形態の一例を示す拡大断面図である。
 図1は、本発明の複合基板を用いた有機電気素子の一例を示している。この有機電気素子は、防湿性基板1と樹脂基板2とを含んで構成される複合基板3が、有機積層体5を形成するための基板として用いられている。有機積層体5は、複合基板3における樹脂基板2の表面に設けられ、封止材7により封止されている。
 図2は、図1のような形態の有機電気素子に用いる複合基板の一例である。また、有機電気素子から複合基板3を抽出して図示したものであると言える。すなわち、複合基板においては、適宜の有機積層体5(電気デバイス)が複合基板3の表面に形成されて有機電気素子が形成されるものであり、図2では、その有機電気素子の中の複合基板3を取り出して示している。本明細書では、複合基板構造は、図2の複合基板3の構造を有する構造のことである。もちろん、図2のように、有機積層体5が形成されていない複合基板3自体も、複合基板構造に含まれる。その場合、複合基板3に有機積層体5を形成して、有機電気素子を形成することができる。
 複合基板3は、防湿性基板1と、この防湿性基板1の表面に貼り合わされた樹脂基板2とを含んで構成される。防湿性基板1と樹脂基板2とは、接着層4によって接着されて貼り合わされている。
 図2Aに示すように、複合基板3では、樹脂基板2は、平面視(基板表面に垂直な方向から見た場合)において防湿性基板1よりも小さく形成されている。それにより、防湿性基板1の外周端部の表面1aが露出している。このように、樹脂基板2が防湿性基板1よりも小さいと、防湿性基板1と樹脂基板2との端縁(外周縁)が揃わなくなる。そのため、複数の複合基板3を有する大きさの複合基板3(後述する複合板材13)を切断して、個別化された複合基板3を作製する際に、樹脂基板2と防湿性基板1とを別々に切断することになる。したがって、樹脂基板2と防湿性基板1とを同時に切断することがなくなり、切断面において不良が発生するのを防止することができる。また、防湿性基板1よりも樹脂基板2の大きさが小さいと、積層させた層で樹脂基板2の端部側面2bを覆いやすくすることができる。
 図2B及び図2Cに示すように、樹脂基板2の端部側面(周側面)2bは、内側に傾斜する傾斜面として形成されている。すなわち、樹脂基板2は断面が略台形状であり、この台形の上辺を外部表面側にして台形の下辺側で防湿性基板1に貼り合わされている。樹脂基板2の端部側面2bが傾斜面となると、樹脂基板2の端部表面に防湿膜6などの層を積層して形成する場合に、層が傾斜面に積層されるので、樹脂基板2の端縁で段切れなどして分断するようなことがなく、分断不良なく層を形成することができる。また、樹脂基板2が防湿性基板1よりも平面視において面積が小さいため、防湿性基板1が外周部で樹脂基板2よりもはみ出しており、防湿性基板1の表面1aが露出しているので、層を形成する際に、この防湿性基板1の表面1aにも層を形成することが可能である。そのため、樹脂基板2と防湿性基板1との境界部分を跨って層を積層して形成することが可能となり、樹脂基板2と防湿性基板1との界面が外部と連通しないように層を積層させて被覆することが可能である。
 傾斜面となった樹脂基板2の端部側面2bにおける傾斜角度θは、90度よりも小さいものであるが、80度以下、75度以下、又は、70度以下にすることがさらに好ましい。このとき、傾斜角は鋭角となる。傾斜角度θがこの範囲であると、層の段切れを効果的に低減することができる。さらに段切れを低減するためには、傾斜角度θを60度以下又は45度以下にしてもよい。ただし、傾斜角度θが小さすぎると、端部側面2bが横倒れした状態に近くなって端部側面2bの領域が広がりすぎるおそれがあるため、傾斜角度θは、30度以上、45度以上又は60度以上などの適宜の範囲にすることができる。
 本形態では、樹脂基板2は、端部において、表面2aから側面2bにかけて角部2cが丸みを有している。すなわち、樹脂基板2の端部では、表面2aと側面2bとの縁部(境界部)が、表面2aから側面2bにかけて曲線状になっている。角部2cは、樹脂基板2の表面2aと傾斜面になった側面2bとの境界部分であるが、この角部2cが尖っていると、層を積層したときに段切れするなどして層が分断されるおそれがある。しかしながら、樹脂基板2の端部の角部2cが丸みを帯びていると、角部2cを跨って滑らかに層が形成されるため、角部2cでの層の段切れを低減することができ、分断不良なく層を積層させることができる。
 防湿性基板1としては、防湿性があり、光透過性を有する透明な基板を用いることができる。そのなかでも防湿性基板1としてガラス基板を用いることが好ましい。防湿性基板1をガラス基板で構成した場合、ガラスは水分の透過性が低いので、有機電気素子を封止した際に、封止領域の内部に水分が浸入することを抑制することができる。また、防湿性基板1の材料に防湿性樹脂を用いてもよい。
 また、防湿性基板1に可撓性の基板を用いてもよい。例えば、フレキシブルガラスや防湿性樹脂が例示される。防湿性基板1が可撓性を有する場合、フレキシブルな有機電気素子を得ることが可能になる。
 樹脂基板2は、例えば、プラスチック基板により構成することができる。プラスチック基板は、プラスチックの原料となる合成樹脂が成形されて硬化した成形板(シート、フィルムなど)を用いることができる。プラスチック材としては、PET(ポリエチレンテレフタラート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)などのプラスチック材料により形成されたものが例示される。成形は圧延成形であってよい。
 樹脂基板2は可撓性を有することが好ましい。樹脂基板2が可撓性を有することにより、ロール状の樹脂基板2(後述する樹脂材12)を送り出して、複合基板3(複合板材13)を作製することができ、製造性よく複合基板3を作製することができる。また、可撓性を有する樹脂基板2を用いた場合、フレキシブルな有機電気素子を得ることが可能になる。
 樹脂基板2と防湿性基板1とは、適宜の接着剤により貼り合わせられていてよい。接着剤から接着層4が形成される。また、樹脂基板2は、熱圧着によって防湿性基板1に貼り付けられていてもよい。その場合、接着層4は、樹脂基板2の一部(熱で接着性が付与される部分)により形成されるものであってもよい。なお、後述の形態では、接着層4を省略して図示しているものもあるが、樹脂基板2と防湿性基板1とは接着していることは言うまでもない。
 複合基板3は、樹脂基板2の表面に有機積層体5が設けられ、この有機積層体5が封止材7によって封止されるものであってよい。すなわち、有機積層体5の形成用の複合基板3である。図1の有機電気素子においては、図2のような複合基板3における樹脂基板2の表面に、有機積層体5が設けられ、この有機積層体5が封止材7によって封止されている。
 樹脂基板2の表面には、水分の浸入を抑制する防湿膜6が形成されていることが好ましい。防湿膜6が設けられる部分は、樹脂基板2の表面の一部であってよい。本形態においては、防湿膜6付き複合基板3を用いることができる。また、防湿膜6付き複合基板3の構造を形成することができる。
 有機電気素子においては、通常、有機積層体5と導通するための電極端子(プラスとマイナス)を設けることを要する。そのため、複合基板3の端部表面に、複合基板3の平面視における内部側から引き出された電極引き出し部8が形成されることが好ましい。電極引き出し部8は、図3の有機EL素子に示されている。電極引き出し部8は、第1電極引き出し部8aと、第1電極引き出し部8aとは絶縁されて引き出された第2電極引き出し部8bとに区分されて設けられる。このとき、防湿膜6は、樹脂基板2の表面における第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されていない部分の少なくとも一部に形成されていることが好ましい。
 電極引き出し部8は、電極膜のパターニングによって形成され得る。そのため、有機電気素子を作製するために、電極膜付き複合基板3を用いることができる。また、有機電気素子では、電極膜付き複合基板3の構造を形成することができる。また、防湿膜被覆電極膜付き複合基板3を用いることができる。また、防湿膜被覆電極膜付き複合基板3の構造を形成することができる。
 防湿膜6は、樹脂基板2の封止材7からはみ出す部分に少なくとも形成されていることが好ましい。図1の形態では、樹脂基板2の封止材7からはみ出した部分の表面が、防湿膜6により被覆されている。このように、防湿膜6によって被覆されて樹脂基板2が外部に露出していないと、樹脂基板2から水分が内部に浸入するのを抑制することができる。そのため、封止領域の内部に設けられた有機積層体5に水分が到達しにくくなり、素子の劣化を効果的に低減することができる。また、本形態では、樹脂基板2と防湿性基板1との境界部分を跨って防湿膜6が形成されているので、樹脂基板2と防湿性基板1との界面が外部と連通しなくなる。そのため、樹脂基板2と防湿性基板1との界面をつたって水分が浸入すること抑制することができ、水分の浸入によって素子が劣化するのを抑制することができる。
 図1の有機電気素子では、封止材7は防湿膜6の表面に形成されている。すなわち、有機積層体5は、防湿膜6が形成された後に、封止材7によって封止されており、防湿膜6は封止材7の縁部(封止領域の縁部)を跨るように形成されている。このように、防湿膜6が封止領域の縁部を跨って形成されると、樹脂基板2を封止領域の外部から内部にかけて防湿膜6で被覆することができるため、樹脂基板2からの水分の浸入をより高く抑制することができる。なお、封止材7で封止した後に防湿膜6を形成して、封止材7からはみ出した樹脂基板2を防湿膜6で被覆するようにしてもよい。
 防湿膜6は、樹脂基板2よりも水分透過性が低いものである。それにより、樹脂基板2に水分が浸入するのを抑制できる。したがって、防湿膜6は、樹脂基板2よりも水分透過性の低い材料で形成することができる。また、防湿膜6は、絶縁性を有することが好ましい。有機電気素子においては有機積層体5と導通するための電極端子(プラスとマイナス)を設けることを要するが、その際、防湿膜6に接触して電極端子を設ける場合があり、防湿膜6が絶縁性を有していないと、ショートするおそれがある。したがって、防湿膜6は、絶縁性と防湿性を有する材料により形成することができるものである。
 防湿膜6は、例えば、無機成分を主成分とする材料により形成することができる。無機成分が主成分となることで水分の浸入を高く抑制することができる。無機成分を主成分とする材料には、バインダーなどの目的で有機成分や樹脂を含んでもよいが、有機成分や樹脂を含まないことがより好ましい。それにより、水分の浸入の抑制効果をさらに高めることができる。無機成分としては、例えば、SiO、SiNx、SiN、MoO、SiCから選ばれる少なくとも1種以上を用いることができる。これらの材料を用いることにより、水分に対するバリア性を高めることができる。無機材料のみで層を構成するには、例えば、蒸着層にすれば、容易に防湿膜6を形成することができる。
 また、防湿膜6をガラス粒子含有組成物や塗布ガラスにより構成することも好ましい。ガラス粒子含有組成物はガラス粒子が流動媒体に分散されたものである。また、塗布ガラスは、流動性のあるガラス材料である。塗布ガラスからは塗布ガラス層が形成される。流動性のあるガラス材料又はガラス組成物が固化することにより、防湿膜6を形成することができる。材料としてガラスを用いれば、簡単に水分透過性の低い防湿膜6を形成することができる。なお、後述のように分断して個別化する方法で有機電気素子を製造する場合において防湿膜6がガラス材料であれば、分断する材料をガラス材料に揃えることができるので、個別化を容易にすることができる。ガラス組成物を加熱して流動化させる場合は、樹脂基板2の耐熱温度よりも低い温度で流動化することが好ましい。塗布ガラスの材料としては、ガラス材料とバインダーとを混合したものを用いてもよい。バインダーとしては有機バインダー又は無機バインダーを用いることができる。防湿膜6を塗布ガラス層にすることによって、水分の浸入を効果的に抑制することができる。この場合、塗布ガラス層は、前記の無機材料を含有してもよい。それにより、水分に対するバリア性が高まる。また、塗布ガラスとして、樹脂基板2の表面に常温又は低温で成膜することができるものを用いれば、簡単に樹脂基板2表面に防湿膜6を形成することができる。
 また、防湿膜6を防湿性の樹脂組成物で形成することもできる。防湿性の樹脂組成物は、乾燥剤や充填剤を含有していてもよい。ペースト状の樹脂組成物を用いると、塗布によって簡単に防湿膜6を形成することができる。樹脂としては、熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂を用いることができる。熱硬化性樹脂を用いる場合は、硬化温度が樹脂基板2の耐熱温度よりも低いことが好ましい。熱硬化性樹脂としてはエポキシ系樹脂などが例示される。紫外線硬化樹脂としてはアクリル系樹脂などが例示される。
 防湿膜6は硬化樹脂層であることが好ましい一態様である。硬化樹脂層は、硬化性の樹脂組成物により構成される層である。硬化性は、熱硬化性であってもよく、紫外線硬化などの光硬化性であってもよい。熱硬化の場合は、樹脂基板2の耐熱温度よりも低い温度で硬化することが好ましい。硬化樹脂層は、流動性のある樹脂組成物(ペースト)を塗布して硬化させることにより形成することができる。防湿膜6を硬化樹脂層にすることによって、水分の浸入を効果的に抑制することができる。この硬化樹脂層は、前記の無機材料を含有してもよい。それにより、水分に対するバリア性が高まる。また、硬化樹脂層は乾燥剤を含んでいてもよい。それにより、水分に対するバリア性を高めることができる。樹脂材料としては、例えば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などを、単独で、又は適宜の添加剤(硬化剤、重合開始剤など)とともに、使用することができる。また、硬化樹脂として、樹脂基板2の表面に常温又は低温で成膜することができるものを用いれば、簡単に樹脂基板2表面に防湿膜6を形成することができる。
 ところで、樹脂基板2は合成樹脂により形成されるものであるが、水分に対するバリア性はほとんど期待できないものである。すなわち、樹脂基板2は防湿性がないために水分の浸入を防ぐことはできず、逆に樹脂基板2から水分が浸入しやすくなる。しかしながら、防湿膜6として形成される硬化樹脂層は、樹脂を含む層であっても、水分の浸入を抑制するための層であり、バリア性の高い層として形成される。したがって、素子内部に水分が浸入することを抑制できるものである。
 防湿膜6は、塗布や蒸着によって形成することができるものである。塗布や蒸着により、効率よく防湿膜6を形成することができる。また、塗布により形成する場合、製造プロセスがより安価で簡単になる。なお、その他の方法、例えば、スパッタなどによって形成してもよい。
 有機電気素子では、有機積層体5に電気を流したり、反対に、有機積層体5から電気を取り出したりするために、外部の電気配線と接続するための電極端子を設ける必要がある。電極端子は、封止材7によって封止された領域(封止領域)において有機積層体5と導通するとともに、封止領域の外部において露出しなければならない。この電極端子は、有機積層体5における陽極及び陰極と導通するために、複数(少なくとも陽極及び陰極の二つ以上)必要である。図1の有機電気素子においては、防湿膜6の一部を切り欠いて電極端子を設けたり、防湿膜6の表面に沿って電極端子を設けたり、防湿膜6と防湿性基板1との間からはみ出させて電極端子を設けたりすることができる。この場合、樹脂基板2が外部に露出しない構造にすることが好ましい。樹脂基板2が外部に露出していると、露出部分から水分が浸入しやすくなるおそれがある。
 複合基板は、種々の有機電気素子に適用可能である。有機電気素子としては、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機太陽電池、有機表示素子(有機ディスプレイ)、その他の有機半導体素子などが挙げられる。複合基板であれば、積層体の特性を向上させるのに適した基板と積層体の保護に適した基板との混合基板にするなど、各有機電気素子に応じた基板材料を得ることができる。また、可撓性のある基材を複合して用いれば、フレキシブルな基板を得ることが可能である。
 有機電気素子の好ましい一例は、有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)である。有機EL素子では、有機積層体5が、第1電極14、有機層15及び第2電極16を含んだ有機発光積層体10で構成されることになる。
 図3は、有機EL素子の一例を示している。この有機EL素子では、上記で説明した複合基板3が有機発光積層体10を形成するための基板として用いられている。複合基板3は、防湿性基板1と、この防湿性基板の表面に貼り合わされた樹脂基板2とを含んで構成されるものである。複合基板3における樹脂基板2の表面には、第1電極14、有機層15及び第2電極16をこの順で有する有機発光積層体10が設けられている。有機発光積層体10は、封止材7により封止されている。この封止材7に挟まれた領域が、封止領域となる。
 複合基板3の構造は、図2に示す構造と同様の構造となっている。すなわち、樹脂基板2は、平面視において防湿性基板1よりも小さく形成されている。また、樹脂基板2の端部側面2bは、内側に傾斜する傾斜面として形成されている。また、樹脂基板2の角部2cは丸みを有している。
 そして、有機EL素子では、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが設けられていない部分に防湿膜6が形成されている。本形態では、樹脂基板2の封止材7からはみ出した部分が、防湿膜6により被覆されている。
 防湿性基板1及び樹脂基板2は透明な光透過性の基板であり、また、有機発光積層体10の第1電極14は透明な光透過性の電極である。したがって、有機発光積層体10における有機層15の発光は、樹脂基板2及び防湿性基板1を通して外部に取り出される。通常、第1電極14は陽極を構成し、第2電極16は陰極を構成するが、その逆であってもよい。また、第2電極16は光反射性の電極であってよい。その場合、有機層15で生じた光を第2電極16で反射させて外部に取り出すことが可能になる。あるいは、第2電極16を光透過性の電極にし、第2電極16の有機層15とは反対側の表面に反射層を設けるようにしてもよい。
 有機層15は、発光を生じさせる機能を有する層であり、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層、中間層などから適宜選ばれる複数の層によって構成されるものである。
 封止材7は、有機発光積層体10の外周を取り囲む封止側壁18と、封止側壁18によって複合基板3に接着される封止基板9と、封止側壁18に囲まれた領域に充填される充填材19と、により構成されている。封止側壁18は防湿性のある材料で形成されるものであり、例えば、ガラスや防湿性樹脂などで構成される。また、封止基板9は防湿性のある材料で形成されるものであり、例えば、ガラスや防湿性樹脂などで構成される。また、充填材19は防湿性の樹脂で形成することができる。封止側壁18は、充填材19を堰き止めるダム材として機能することができる。封止側壁18は、有機発光積層体10の厚みを確保するためのスペーサとして機能することができる。
 有機EL素子では、複合基板3の表面に有機発光積層体10が設けられており、有機層15で生じた光は、第1電極13及び樹脂基板2を通って防湿性基板1に入り、その後、防湿性基板1から外部に出射することになる。そのため、樹脂基板2を光が通過することによって、光を外部側へより多く取り出すことができる。発光層において発光した光は直接又は反射して基板に到達するが、この界面における屈折率差が大きいと全反射によって光を多く取り出せなくなる。ここで、防湿性基板1の表面に第1電極14を直接設けた場合は、屈折率差が大きくなり、外部に取り出す光は少なくなってしまう。そこで、本形態では、基板を防湿性基板1と樹脂基板2との複合基板3で構成し、第1電極14の光取り出し側に、第1電極14の屈折率に近い樹脂基板2を配置するようにしている。そのため、第1電極14と複合基板3との屈折率差を緩和することができ、全反射を抑制して光取り出し性を高めることができるものである。
 樹脂基板2は、光取り出し性を高めるために、その屈折率は、第1電極14と同程度であることが好ましい。樹脂基板2の屈折率が第1電極14の屈折率に近づくことにより、屈折率差による全反射を抑制することができる。例えば、樹脂基板2の屈折率と第1電極14との屈折率差を1以下にすることができる。屈折率差を小さくするために、高屈折率プラスチック基材により樹脂基板2を構成してもよい。
 防湿性基板1と樹脂基板2との界面には光取り出し構造が設けられていてもよい。例えば、図3の形態では、樹脂基板2の防湿性基板1側の表面に光拡散層20が光取り出し構造として設けられている。光拡散層20を設けることにより、光拡散層20を入射する光が拡散して光の進行方向が変化するため、全反射が抑制されて光をより多く取り出すことができる。光拡散層20は、二層の界面の凹凸構造によって形成したり、光拡散粒子を含有する層を形成したりすることによって設けることができる。また、光取り出し構造は、防湿性基板1の表面に微細な表面凹凸を設けることにより形成したものであってもよい。微細な表面凹凸が設けられると、この表面に入射する光が散乱して光の進行方向が変化するため、全反射が抑制されて光をより多く取り出すことができる。
 有機EL素子では、第1電極14と第2電極16とに電圧を印加し、有機層15において正孔と電子を結合させて発光を生じさせる。そのため、第1電極14及び第2電極16のそれぞれと導通する電極端子を封止領域よりも外部に引き出して設ける必要がある。電極端子は、外部電極と電気的に接続するための端子である。図3の形態においては、各電極と導通する電極引き出し部8により電極端子が構成されている、電極引き出し部8は、第1電極14と導通する第1電極引き出し部8aと、第2電極16と導通する第2電極引き出し部8bとにより構成されている。第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとはショートしないように電気的に絶縁された構造になっている。
 本形態では、封止領域より外側において、防湿膜6の一部が切り欠かれたり防湿膜6に貫通する穴部が設けられたりするなどして、電極引き出し部8が電極端子として外部に露出されている。電極端子が外部に露出することにより、電圧の印加が可能になる。このとき、樹脂基板2が外部に露出しないように電極端子を外部に露出させることが好ましい。樹脂基板2が外部に露出していると、この露出部分から水分が浸入しやすくなるおそれがある。例えば、防湿膜6を積層して形成する場合には、電極引き出し部8の一部を露出させるようなパターンで防湿膜6を形成すれば、電極端子を露出して形成できるとともに樹脂基板2を露出しないようにして、樹脂基板2を被覆することができる。
 本形態の有機EL素子では、樹脂基板2は、封止材7の封止により形成された封止領域からはみ出した部分が、防湿膜6によって被覆されている。有機発光積層体10は、防湿性を有する防湿性基板1と封止基板9とにより挟まれて封止されるものであるが、複合基板3が樹脂基板2を有する場合には、樹脂基板2を介しての水分の浸入が問題となる。すなわち、樹脂基板2が外部に露出していると、この外部の露出部分から樹脂基板2の内部に水分が浸入し、浸入した水分は樹脂基板2を通って封止領域の内部の有機層15に到達するおそれがある。そこで、本形態の有機EL素子では、樹脂基板2の封止領域外部にはみ出した部分を防湿膜6によって被覆するようにしている。それにより、樹脂基板2が外部に露出しなくなるので、外部からの水分の浸入を抑制することができる。この防湿膜6は、封止領域の外部において防湿膜6が存在しないと仮定した場合に外部に露出される樹脂基板2の領域に少なくとも設けられるものであってよい。封止領域の外部において樹脂基板2の露出がなくなると、樹脂基板2が外部空間に直接接触することがなくなるため、水分の浸入を効果的に抑制することができる。
 防湿膜6は、樹脂基板2と防湿性基板1との境界部分を被覆していることが好ましい。その場合、樹脂基板2は平面視において防湿性基板1よりも小さいために、防湿膜6は、防湿性基板1の外周端部の表面1aに接触して形成されることになる。防湿性基板1と樹脂基板2との境界部分が外部に露出していると、防湿性基板1と樹脂基板2との界面から水分が浸入するおそれがある、しかし、樹脂基板2と防湿性基板2との境界部分が防湿膜6によって被覆されていると、防湿性基板1と樹脂基板2との界面が外部に露出しなくなるので、外部からの水分の浸入をさらに抑制することができる。
 防湿膜6は、平面視における複合基板3の中央領域には設けられなくてよい。複合基板3の中央領域は、有機発光積層体10が設けられることにより発光領域を形成する領域であり、この部分に防湿膜6が設けられると、光取り出し性を高めることができなくなるおそれがある。また、防湿膜6を複合基板3の外周端部のみに設けるようにすれば、発光領域に防湿膜6が形成されないことになるので、防湿膜6を簡単に形成することができる。
 本形態の有機EL素子では、樹脂基板2が外部に露出しなくなり、外部空間から遮断される。すなわち、樹脂基板2における有機発光積層体10と反対側の表面は、防湿性基板1によって覆われて外部空間から遮断されている。また、樹脂基板2における有機発光積層体10側の表面は、平面視において中央領域が封止材7によって封止されることにより、外部空間から遮断されている。また、樹脂基板2における封止領域より外側の外周端部は、表面及び側面が防止膜6及び電極引き出し部8によって覆われて、外部空間から遮断されている。したがって、樹脂基板2は全体として外部に露出しなくなっている。そのため、樹脂基板2が外部空間と接触しなくなり、外部から水分が樹脂基板2に浸入することを効果的に抑制することができるものである。
 図4は、有機EL素子を平面視(基板表面に垂直な方向から見た場合)した様子の一例を示している。この有機EL素子では、防湿性基板1の端部(本図では上下両端部)には、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとが、分離して交互に配置されている。そして、封止側壁18は有機発光積層体10の外周を取り囲むように設けられている。封止側壁18は接着性の材料で形成されている。封止基板9は、この封止側壁18によって防湿性基板1の表面側(有機発光積層体10側)で防湿性基板1に貼り付けられている。なお、図4では、封止基板9の記載を省略し、封止側壁18の設けられる領域を破線で示している。このとき、封止領域は、封止側壁18によって外周が取り囲まれる領域となる。なお、図4の形態のように矩形状の防湿性基板1を用いた場合に、電極引き出し部8が分離して形成されない基板端部(図4では左右端部)が形成されていてもよい。この基板端部には、第1電極引き出し部8aが延出されていると考えてよい。
 上記のように、有機発光積層体10は、封止側壁18により複合基板3に接着される封止基板9により封止されるものであるが、表面に樹脂基板2を有する複合基板3を用いた場合には、樹脂基板2を介しての水分の浸入が問題となる。そこで、有機EL素子では、樹脂基板2の表面における第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されていない部分に、水分の浸入を抑制する防湿膜6を形成することが好ましい。それにより、樹脂基板2が防湿膜6で被覆されるので、水分の浸入が抑制される。防湿膜6は、水分をバリアする層であり、バリア層と言える。
 図5は、複合基板3に設けられる防湿膜6の一例を示している。図5では、有機EL素子における防湿膜6を示している。この図では、防湿膜6が斜線部分で表されている。また、図5においては、第2電極16の端縁を点線で示し、有機層15を一点破線で示している。また、封止側壁18を破線で示している。
 図5に示すように、基板端部における樹脂基板2の表面には、導電層がパターン状に形成されて第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとが形成されている。そして、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されていない部分における樹脂基板2の表面に、防湿膜6が形成されている(斜線領域)。本形態では、防湿膜6は、封止側壁18を含む封止側壁18より外側に設けられている。このように防湿膜6が形成されることによって、樹脂基板2は、封止領域の外部においては、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bを構成している導電層と、その導電層の隙間を埋める防湿膜6とによって被覆されることになる。そして、樹脂基板2の表面が被覆されることによって、外部からの水分の浸入経路が遮断され、素子内部への水分の浸入が抑制されるのである。なお、樹脂基板2の表面に形成される導電層(透明電極層)は、樹脂よりも水分を浸入させにくいバリア性を有する層である。したがって、導電層と防湿膜6とによって樹脂基板2を被覆すればよいものである。
 ここで、各電極引き出し部8は、対応する各電極の電極端子として機能することができるものである。図5に示すように、第1電極引き出し部8aは、中央側に配置され第1電極14を構成する導電層と一体となった導電層の中央部8cから分岐して端部側に延出して形成されている。そして、第1電極引き出し部8aは、封止領域よりも外部にはみ出しており、第1電極14の電極端子として機能することができる。また、第2電極引き出し部8bは、封止側壁18の領域を跨いで形成されて、封止領域よりも外部にはみ出しており、第2電極16の電極端子として機能することができる。
 また、図5に示すように、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの表面には、各電極引き出し部8の通電性を補助するための補助電極22が設けられていてもよい。補助電極22を設けることにより、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの通電性を高めることができる。補助電極22は、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bを構成する導電層よりも導電性の高い材料を用いて形成することができる。例えば、導電層をITOなどの透明金属酸化物層で形成し、補助電極22を金属層で形成することができる。また、導電層と補助電極22との密着性を向上させるために、補助電極22は密着性の良い材料と導電性の高い金属層等の複数層で構成されていてもよい。補助電極22は透明でなくてもよい。補助電極22は、封止側壁18以外の領域で設けられるものであってよい。図1では、封止領域の外部における電極引き出し部8の表面に補助電極22が形成されているが、封止領域の内部における電極引き出し部8の表面に補助電極22が形成されていてもよい。封止領域の外部に設けられた補助電極22は、電極パッドとして機能することができる。
 図6は、複合基板3の端部近傍の一例を示している。図6Aは、防湿性基板1の表面に樹脂基板2が形成された複合基板3を示している。上記の有機EL素子では、この複合基板3の端部の表面に防湿膜6を積層して形成する。図6Aの形態では、樹脂基板2の端部側面2bを内側に傾斜した傾斜面にした複合基板3が示されている。そして、この複合基板3に防湿膜6を積層して形成すると、図6Bに示すように、傾斜面の表面に防湿膜6が形成されるため、防湿膜6が段切れすることを低減することができ、樹脂基板2が外部に露出することを抑制することができる。
 図7は、複合基板3の端部近傍の一例を示している。図7Aの形態は、樹脂基板2の端部側面2bを内側に傾斜した傾斜面にし、さらに、樹脂基板2における表面2aと側面2bとの縁部である角部2cを曲線状に形成した複合基板3の例である。そして、この複合基板3に防湿膜6を積層して形成すると、図7Bに示すように、角が丸まった角部2cを跨りながら傾斜面の表面に防湿膜6が形成されるため、防湿膜6が段切れすることをさらに低減することができ、樹脂基板2が外部に露出することを抑制することができる。
 図8は、複合基板3の端部近傍の参考例を示している。図8Aは、防湿性基板1の表面に樹脂基板2が形成された複合基板3を示している。ただし、図8Aの形態では、樹脂基板2の側面は防湿性基板1の表面に対して垂直である。この形態では、図8Bのように、防湿膜6が樹脂基板2の側面2bを覆うと、樹脂基板2の端部全体を被覆することができる。しかしながら、図8Cに示すように、防湿膜6の側面は垂直な面となっていると、防湿膜6の積層が良好に行われないおそれがあり、その場合、防湿膜6が段切れして分断され、防湿膜6の分断部6xが形成されるおそれがある。例えば、樹脂基板2の厚みが防湿膜6の厚みに比べてかなり厚い場合などが考えられる。そして、防湿膜6が分断されると、樹脂基板2が外部に露出し、この部分から水分が浸入しやすくなるおそれがある。また、防湿膜6が分断されなくても防湿膜6の厚みが薄くなったりした場合、防湿膜6が薄いとその部分における水分に対するバリア性が十分でなくなり、水分が浸入しやくするなるおそれがある。そこで、図6及び図7で示すように、樹脂基板2の端部側面2bを傾斜面にすることによって、防湿膜6による被覆を十分なものにすることができる。
 図9A及び図9Bは、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの分離部分における防湿膜6を示す各一例である。この構造では、有機発光積層体10が収められた複合基板3と封止基板9との間には、空間となった封止空間7aが形成されている。すなわち、有機EL素子では、充填材19が充填されていない中空構造となっている。図9では、防湿膜6の内縁をE2で示している。
 図9Bは、封止基板9が、防湿膜6が設けられていない領域において、複合基板3に接着されている例である。この例では、封止側壁18が防湿膜6の内縁E2よりも内側で設けられており、防湿膜6の内縁E2は封止側壁18の外縁よりも外側に配置している。図9Bの場合、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの間隙には樹脂基板2が存在しており、封止側壁18は樹脂基板2の表面に形成されることになる。そして、図9Bに示すように、封止側壁18と防湿膜6との間において隙間ができやすくなり、隙間が形成されることによって樹脂基板2が外部に露出する部分として露出部2xが形成されてしまうおそれがある。また、防湿膜6の内縁E2と封止側壁18の側面とを密着させて樹脂基板2の露出部2xを形成しないようにした場合であっても、防湿膜6が封止側壁18の側面で途切れることになるため、防湿膜6と封止側壁18との界面から樹脂基板2に水分が浸入しやすくなるおそれがある。
 一方、図9Aは、封止基板9が、防湿膜6が設けられている領域において、複合基板3に接着されている例である。この例では、封止側壁18が防湿膜6の内縁E2よりも外側で設けられており、防湿膜6の内縁E2は封止側壁18の内縁よりも内側に配置している。図9Aの場合、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの間隙には防湿膜6が存在しており、封止側壁18は防湿膜6の表面に形成されることになる。そして、図9Aに示すように、防湿膜6が封止側壁18の領域を跨って封止領域の内部と外部とに連続して設けられているため、図9Bの場合のような封止側壁18の側部からの水分の浸入を防ぐことができる。したがって、防湿膜6が設けられている領域に封止側壁18を形成することにより、水分の浸入を効果的に抑制することができるものである。
 図10は、複合基板3の構造における防湿膜6の他の一例を示している。この図では、有機EL素子が示されている。この図では、防湿膜6が斜線部分で表されている。防湿膜6は、封止材7により封止される領域において少なくとも形成されていることが好ましい一態様である。
 本形態の複合基板3の構造では、封止領域内の樹脂基板2の表面における第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されていない部分に、水分の浸入を抑制する防湿膜6を形成している。それにより、樹脂基板2が、充填材19に接触したり、封止空間7a内で露出したりすることがなくなるので、水分の浸入が抑制される。この防湿膜6は、少なくとも封止基板9により封止された領域において形成されるものであってよい。封止された領域において樹脂基板2の露出がなくなると、中空構造では、樹脂基板2と封止空間7aとが直接接触することがなくなり、充填構造では、樹脂基板2と充填材19とが直接接触することがなくなるため、水分の浸入を効果的に抑制することができる。
 図10に示すように、封止領域内部における基板端部における樹脂基板2の表面には、導電層がパターン状に形成されて第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとが形成されている。そして、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されていない部分における樹脂基板2の表面に、防湿膜6が形成されている。このように防湿膜6が形成されることによって、樹脂基板2は、封止領域の内部においては、第1電極14、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bを構成している導電層と、その導電層の隙間を埋める防湿膜6とによって被覆されることになる。そして、樹脂基板2の表面が被覆されることによって、水分の浸入経路が遮断され、素子内部への水分の浸入が抑制されるのである。なお、樹脂基板2の表面に形成される導電層(透明電極層)は、樹脂に比べて水分を浸入させにくいバリア性を有する層である。したがって、導電層と防湿膜6とによって樹脂基板2を被覆すればよいものである。
 図10に示すように、本形態では、防湿膜6は、電極引き出し方向及び電極引き出し方向に垂直な方向に延伸する、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの間隙全体に、形成されている。そのため、第1電極引き出し部8aが端部で分岐する前の一体化した中央部8cと、第2電極引き出し部8bとの間を含んで、防湿膜6は形成されている。それにより、有機層15が樹脂基板2に直接接触することが抑制されるので、水分による劣化をさらに抑制することができる。
 図11は、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの境界部分の構造の一例を示す断面図である。この図に示すように、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの間には、防湿膜6が第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bに接触するように設けられている。この形態では、樹脂基板2は防湿膜6によって封止空間7aから遮断されることになる。したがって、防湿膜6によって、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが設けられていない部分を被覆して、この部分からの水分の浸入を防ぐことができるのである。
 図10においては、封止側壁18が設けられる領域を破線で示している。したがって、図10の形態では、封止側壁18は、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの表面と、防湿膜6の表面に設けられているものとなる。そして、本形態では、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの間における防湿膜6の端縁は、封止側壁18の外縁とほぼ同じ位置になっている。このように、封止側壁18が樹脂基板2と接触しないようにして、防湿膜6の表面に封止側壁18を設ける場合には、樹脂基板2をより多く防湿膜6で被覆することができるため、水分の浸入をさらに抑制することができる。また、封止側壁18が接着する部分の段差が少なくなると封止基板9の接着強度を高めることも可能である。なお、防湿膜6の外部側の端縁が封止側壁18の外縁よりも内側に配置されてもよいが、その場合、防湿膜6の外部側の端縁を封止側壁18の内縁と同じかそれよりも外側に配置するようにすることが好ましい。それにより、防湿膜6と封止側壁18とが接触し、防湿膜6と封止側壁18との境界部分で露出しないように樹脂基板2を被覆することができ、水分の浸入を抑制することができる。
 防湿膜6は、樹脂基板2の表面における第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されていない部分に設けられるものである。すなわち、第1電極14、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bを構成するための導電層が形成されていない部分に、防湿膜6は形成される。封止領域内に防湿膜6を形成する場合には、防湿膜6は、封止領域内において樹脂基板2の表面で導電層が形成されていない部分の全体に設けられていることが好ましい。それにより、導電層と防湿膜6とで樹脂基板2の表面を被覆することができるため、水分に対するバリア性を高めることができる。また、その場合、有機層15を第1電極14の表面と防湿膜6の表面とに形成することができるので、有機層15を樹脂基板2と接触しないように形成することが可能である。したがって、有機層15への水分の浸入をさらに抑制することができる。なお、防湿膜6は、中空構造においては、有機発光積層体10が封止されたときに、樹脂基板2を封止空間7aにおいて露出しないように被覆できるようなものであればよい。例えば、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されていない部分に、防湿膜6と有機層15の延出部とを設けて樹脂基板2を被覆するようにしても、樹脂基板2を露出しないようにすることができる。この場合、有機層15における第1電極14と接触する層(例えば第1有機層15a)は、防湿性のある層であることが好ましい。防湿性のある第1有機層15aは、例えば、防湿性のある材料を塗布することにより形成することができる。
 図10においては、第2電極16の端縁を点線で示し、有機層15を一点破線で示している。したがって、図10の形態では、第2電極16は、端部側に延出された部分が防湿膜6を跨って第2電極引き出し部8bと接続されている。つまり、第2電極16は樹脂基板2とは接触していない。第2電極16が蒸着によって形成された場合、樹脂基板2の表面に直接形成されていると、この第2電極16と樹脂基板2とが接触する界面から水分が浸入し、第2電極16を介して水分が透過しやすくなるおそれがある。電極材料を蒸着で形成した層は、密度が低いため、水分に対するバリア性が低くなるおそれがあるからである。しかしながら、本形態では、第2電極16と樹脂基板2とが接触しないことにより、第2電極16を介して水分が浸入することを防ぐことができる。
 図12は、有機EL素子の一例を示す断面図である。この有機EL素子では、端部の電極引き出し構造は、図10に示す構造と同様になっている。そして、封止領域内部における第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの間には、防湿膜6が形成されている。そのため、水分の浸入を高く抑制することができる。
 一方、図13及び図14は、防湿膜6が設けられていない有機EL素子を示している。この形態では、防湿膜6が設けられていないので樹脂基板2の内部に水分が浸入しやすくなる。また、白抜き矢印で示すように、樹脂基板2の内部に浸入した水分は、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの間に形成された隙間から内部に放出されやすくなる。そのため、図10から図12で示したように、水分の浸入を抑制するために、封止領域の内部において防湿膜6を設けることが好ましいのである。
 なお、図12の形態では、防湿性基板1の外部側の表面には光取り出し部23が設けられている。光取り出し部23は、表面に凹凸構造を設けたり、光散乱物質を含有する光散乱層を設けたりするなどして形成することができる。また、有機層15が複数の機能層からなることを表現するために、有機層15を、第1有機層15a、第2有機層15b、第3有機層15cの三つに区分して記載している。もちろん、有機層15は、三層以上の積層構造であってもよい。
 図15A、図15B及び図15Cは、防湿膜6の積層状態を示す各一例である。図15Aの形態では、防湿膜6の厚みが第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bよりも厚くなっている。また、防湿膜6は、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの端部表面にも形成されている。すなわち、防湿膜6は電極引き出し部8に乗り上げて形成されている。
 図15Aの形態は、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとが形成されていない領域よりもやや大きい領域のマスクパターンで防湿膜6を積層することにより、形成することができる。あるいは、導電層の隙間を防湿膜6の材料で埋める際に、防湿膜6を導電層の隙間から溢れさせて第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの端縁の表面にも堆積するようにすれば、形成することができる。この形態の場合、防湿膜6の量が多くなるので、水分の浸入をさらに抑制することができる。また、防湿膜6は第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの端部同士を掛け渡すように形成されている。そのため、防湿膜6が、樹脂基板2を覆うとともに、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの端部における側面と表面とを覆うので、さらに水分に対するバリア性を高めることができる。
 また、図15Bの形態では、防湿膜6の厚みが第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bよりも薄くなっている。しかし、樹脂基板2が封止空間7aで露出したり、充填材19に接触したりしないように防湿膜6で樹脂基板2を被覆しているために、水分に対するバリア性は高いものとなる。また、防湿膜6の厚みを薄くすることができるので、材料効率を高めることができる。
 また、図15Cの形態では、防湿膜6の厚みが第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bよりも薄くなっているものの、防湿膜6は、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの端部表面にも形成されている。そして、防湿膜6は、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの端部間を跨るように形成されている。そのため、防湿膜6が、樹脂基板2を覆うとともに、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの端部における側面と表面とを覆うので、水分に対するバリア性を高めることができる。また、防湿膜6の厚みを薄くすることができるので、材料効率を高めることができる。
 ここで、図15A、図15B及び図15Cに示される防湿膜6の厚みT1は、図11に示される形態のように、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの厚み(導電層の厚み)T2と略同じであってよいし、図15の各形態のように異なっていてもよい。図15Aに示すように、防湿膜6の厚みT1が、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの厚みよりも大きい場合、防湿膜6の厚みが厚くなることにより、バリア性をさらに高めることができる。このとき、防湿膜6の厚みの上限は特にないが、例えば、防湿膜6の厚みは、導電層の厚みの100倍以下にすることができる。また、防湿膜6は、図15B及び図15Cに示すように、導電層の厚みよりも薄くてもよく、例えば、防湿膜6の厚みは、導電層の厚みの0.05倍以上であってもよい。要するに、防湿膜6の厚みは水分に対するバリア性が確保できるように適宜設定することができるものである。なお、導電層(第1電極14、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8b)の厚みT2は、例えば、10~500nmの範囲にすることができるが、これに限定されるものではない。また、防湿膜6の厚みT1は、例えば、5nm~50μmの範囲にすることができるが、これに限定されるものではない。また、防湿膜6の端部が有機層15や第2電極16に覆われている場合には、ショートを抑制するために、この防湿膜6の端部の角部をテーパー状にしたり、端部の角部に丸みを設けたりすることが好ましい。テーパー状にする場合、テーパー角度(基板表面とテーパ面とのなす角度)は小さい方が好ましい。
 図16、図17及び図18は、防湿膜6が設けられた複合基板3の他の各一例である。これらの図では、防湿膜6が斜線部分で表されている。
 図16の形態のように、防湿膜6は、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの基板外周側の端縁(導電層の端縁)又はその近傍まで形成されるものであってもよい。このとき、防湿膜6は、封止部材6の領域を跨いで封止領域の内部から外部にはみ出して形成されることになる。それにより、防湿膜6で樹脂基板2を被覆する面積を大きくすることができるので、水分の浸入を抑制することができる。また、この場合、樹脂基板2の外部に露出する全体に防湿膜6を形成する場合よりも材料の量を減らすことができ、また、防湿膜6の面積も小さくなるで、より簡単に効率よく防湿膜6を形成することができる。
 図17の形態のように、防湿膜6は、樹脂基板2の端部表面における第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されていない部分の全体に形成されていることがさらに好ましい。すなわち、防湿膜6は、封止領域の内部だけではなく、封止領域の外部における樹脂基板2の表面に形成されていることがさらに好ましい。それにより、防湿膜6によって樹脂基板2の表面を被覆して外部に露出させないようにすることができるため、樹脂基板2に外部から水分が浸入することを抑制することができ、水分が素子内部に浸入するのをさらに抑制することができる。また、この場合、さらに樹脂基板2の端部側面2bを防湿膜6で被覆することが好ましい。すなわち、図6及び図7で説明したように、防湿膜6は、樹脂基板2の表面における第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されていない部分の表面2a全体に加えて、樹脂基板2の側面2bにも形成されるものであってもよい。このとき、樹脂基板2は外部に全く露出しないように防湿膜6によって被覆されることになる。その場合、樹脂基板2を、側面2bも含めてその全体が外部に露出しないように被覆することができ、外部からの水分の浸入を遮断することができるので、水分の浸入をさらに高く抑制できる。
 また、図18の形態のように、防湿膜6は、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが設けられていない部分全体を含んで、さらに第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bを被覆して設けられることがよりさらに好ましい。図18の形態では、封止領域の内部においては、第1電極14の上において有機層15が積層される領域、及び、第2電極引き出し部8bの上において第2電極16が積層される領域以外の部分で、防湿膜6が設けられている。また、封止領域の外部においては、補助電極22が形成された領域以外の領域全体に、防湿膜6が形成されている。つまり、防湿膜6は、電気接続のための開口が設けられながら、基板端部を覆うように設けられている。この形態では、電極引き出し部8も含めて樹脂基板2が防湿膜6によって大きく覆われるため、水分の浸入を高く抑制することができる。
 図19は、防湿膜6が設けられた複合基板3の構造の他の一例を示している。図19では、有機EL素子に用いられた複合基板3が示されている。図19の有機EL素子は、防湿性基板1と樹脂基板2とにより構成された複合基板3が、積層体を形成するための基材として用いられている。そして、複合基板3における樹脂基板2側の表面に、第1電極14、有機層15及び第2電極16をこの順で有する有機発光積層体10が設けられている。有機発光積層体10は、外周部において複合基板3に接着される封止基板9により封止されている。封止基板9の接着は、複合基板3の外周端部の表面に形成された封止側壁18により行われている。なお、図19Aでは、素子構成を分かりやすくするため、封止基板9の記載を省略し、封止側壁18が設けられる領域を破線に囲まれた斜線の範囲で示している。また、有機層15及び第2電極16を点線で示し、第1電極14を形成している導電層を実線で示している。また、樹脂基板2の外縁F1を一点鎖線で示している。また、図19Bでは、端部の構成を分かりやすくするため、中央部を省略している。
 複合基板3の構造では、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが、防湿膜6の表面に形成されていることが好ましい一態様である。図19の有機EL素子では、樹脂基板2は、封止基板9の封止により形成された封止領域からはみ出した部分が、防湿膜6によって被覆されている。そして、防湿膜6の上に乗り上げて、防湿膜6の表面に第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが形成されている。
 本形態の有機EL素子では、複合基板3の端部では、防湿膜6が電極引き出し部8の下層として形成されている。そして、樹脂基板2の封止領域外部にはみ出した部分が、防湿膜6によって被覆されている。それにより、樹脂基板2が外部に露出しなくなるので、外部からの水分の浸入を抑制することができる。この防湿膜6は、封止領域の外部において防湿膜6が存在しないと仮定した場合に外部に露出される樹脂基板2の領域に少なくとも設けられるものであってよい。封止領域の外部において樹脂基板2の露出がなくなると、樹脂基板2が外部空間に直接接触することがなくなるため、水分の浸入を効果的に抑制することができる。
 防湿膜6は、樹脂基板2と防湿性基板1との境界部分を被覆していることが好ましい。平面視において樹脂基板2が防湿性基板1よりも小さい場合には、図19Bに示すように、防湿膜6は、防湿性基板1の外周端部の表面に接触して形成されることになる。防湿性基板1と樹脂基板2との境界部分が外部に露出していると、防湿性基板1と樹脂基板2との界面から水分が浸入するおそれがある、しかし、樹脂基板2と防湿性基板1との境界部分が防湿膜6によって被覆されていると、防湿性基板1と樹脂基板2との界面が外部に露出しなくなるので、外部からの水分の浸入をさらに抑制することができる。図19Bでは、防湿膜6の外縁E1が樹脂基板2の外縁F1よりも外側に配置されている。
 本形態では、防湿膜6は、平面視における複合基板3の中央領域には設けられなくてよい。複合基板3の中央領域は、有機発光積層体10が設けられることにより発光領域を形成する領域であり、この部分に防湿膜6が設けられると、光取り出し性を高めることができなくなるおそれがある。また、防湿膜6を複合基板3の外周端部のみに設けるようにすれば、発光領域に防湿膜6が形成されないことになるので、防湿膜6の屈折率を調整したり、防湿膜6を透明にしたりする必要がなくなり、防湿膜6を簡単に形成することができる。
 防湿膜6は、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bによって形成される間隙の全体を被覆するものであってもよい。その場合、図19のような形態においては、防湿膜6の内縁E2は、第1電極14及び第1電極引き出し部8aを一体的に形成している導電層の外縁よりも内側に配置されることになる。つまり、防湿膜6は、第1電極14を形成している導電層が第1電極引き出し部8aに分岐する位置よりも内部側に延出して設けられることになる。それにより、封止領域の内部において樹脂基板2を防湿膜6で被覆するため、樹脂基板2と封止空間とが接触することがなくなり、樹脂基板2に水分が浸入したとしても、樹脂基板2から有機発光積層体10に水分が到達するのを抑制することができる。
 また、防湿膜6は、複合基板3の中央部分を含めて樹脂基板2の全体を被覆していてもよい。この場合、樹脂基板2は、防湿性基板1と防湿膜6とに囲まれて被覆されることになる。すると、樹脂基板2は防湿性の部材により全体が覆われることになるため、樹脂基板2への水分の浸入経路がなくなるので、有機発光積層体10に水分が浸入することを高く抑制することができる。樹脂基板2の全体を防湿膜6で被覆する場合、防湿膜6は、第1電極14の下層となる。そのため、防湿膜6は、光透過性を有することが好ましい。
 本形態においても、樹脂基板2の端部側面2bは傾斜している。すなわち、図19では、樹脂基板2の外縁を外縁F1で示しており、この外縁F1における端部の側面2bが傾斜面となっている。また、樹脂基板2の端部における側面2bと表面2aとの境界部分の角部2cは丸まっていることが好ましい。樹脂基板2の側面2bが傾斜面であることが好ましく、さらに角部2cが丸まっていることが好ましい理由は、図6、図7及び図8で説明した通りである。また、本形態においても、封止側壁18を跨って防湿膜6が形成されていることが好ましい。その理由は、図9で説明した通りである。図19Bでは、防湿膜6の内縁E2が樹脂基板2の封止側壁18の内縁よりも内側に配置されている。
 複合基板3においては、防湿膜6の表面に電極引き出し部8が形成される場合、防湿膜6における素子内部側の端部側面6bは、樹脂基板2の表面2aに対して素子外部側に傾斜した傾斜面として形成されていることが好ましい。図19の有機EL素子では、防湿膜6における素子内部側の端部側面6bは、樹脂基板2の表面2aに対して素子外部側に傾斜した傾斜面として形成されている。図19Bでは、防湿膜6における素子内部側の端部の内縁が内縁E2で示されている。そして、この内縁E2における端部の側面6bが傾斜面となっていることが好ましいのである。このとき、防湿膜6においては、側面6bと樹脂基板2側の表面とのなす角は、鋭角となる。
 また、防湿膜6における素子内部側の端部は、表面6aから側面6bにかけての縁部である角6cが丸まっていることが好ましい。すなわち、防湿膜6の内部側の表面端部の角部が曲線状に形成されていることが好ましい。
 図20は、防湿膜6の素子内部側の端部近傍の一例を示している。図20Aは、樹脂基板2の表面に防湿膜6が形成された複合基板3を示している。有機電気素子を形成する場合、防湿膜6と樹脂基板2の表面に導電層を積層して電極引き出し部8(第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8b)を形成する。その際、図20Bのように、積層が良好になされると、導電層が防湿膜6の側面6bを覆って、導電層が分断しなくなる。それにより、電極引き出し部8の導通性が確保される。しかしながら、図20Cのように、導電層の積層が良好に行われない場合、導電層が段切れして分断され、電極引き出し部8の分断部8x、8yが形成されるおそれがある。例えば、防湿膜6の厚みが導電層の厚みに比べてかなり厚い場合などが考えられる。そして、導電層が分断されると、電極引き出し部8の導通性が阻害されて、有機発光積層体10の電極と電気的に接続されなくなるおそれがある。また、導電層が分断されなくても導電層の厚みが薄くなったりした場合、導電層が薄いとその部分における電気的抵抗が高くなり、良好な通電性を得られなくなるおそれがある。そこで、防湿膜6の端部側面6bを傾斜面にしたり、角6cを曲線状にしたりすることによって、電極引き出し部8の導通性を十分なものにすることができる。
 図21は、防湿膜6の素子内部側の端部近傍の一例を示している。図21Aの形態は、防湿膜6の端部側面6bを外側に傾斜した傾斜面にして形成した例である。そして、内部側の端部側面6bが傾斜面として形成された防湿膜6に導電層を積層して形成すると、図21Bに示すように、傾斜面の表面に導電層が形成されるため、導電層が段切れすることを低減することができる。そのため、電極引き出し部8の導通性を高めることができる。
 図21Cの形態は、防湿膜6における表面6aと側面6bとの角6cを丸まらせて曲線状に形成した例である。そして、角6cが丸まって形成された防湿膜6に導電層を積層して形成すると、図21Dに示すように、角が丸まった角6cを跨って導電層が形成されるため、導電層が段切れすることを低減することができる。そのため、電極引き出し部8の導通性を高めることができる。
 図21Eの形態は、防湿膜6の端部側面6bを外側に傾斜した傾斜面にして形成し、さらに、防湿膜6における表面6aと側面6bとの角6cを丸まらせて曲線状に形成した例である。そして、この防湿膜6に導電層を積層して形成すると、図21Fに示すように、角が丸まった角6cを跨りながら傾斜面の表面に導電層が形成されるため、導電層が段切れすることをさらに低減することができる。そのため、電極引き出し部8の導通性をさらに高めることができる。
 なお、防湿膜6の内側の端部側面6bを傾斜させる場合、防湿膜6の傾斜面の傾斜角φは、90度より小さい範囲で適宜に設定されるものである。傾斜角は鋭角となる。傾斜角φは、30度以上、45度以上、60度以上又は75度以上であってもよい。また、傾斜角φは、75度以下又は60度以下であってもよい。
 図22は、封止基板9が、接着性を有する封止側壁18によって複合基板3に接着されている各一例を示している。図22では、封止側壁18が形成される位置における第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの境界部分の構造が示されている。図22Aは、防湿膜6が設けられていない位置において、電極引き出し部8及び複合基板3の表面に、封止側壁18が形成された例を示している。図22Bは、図15Bの形態のように防湿膜6が設けられた複合基板3において、電極引き出し部8及び防湿膜6の表面に、封止側壁18が形成された例を示している。図22Cは、図15Cの形態のように防湿膜6が設けられた複合基板3において、電極引き出し部8及び防湿膜6の表面に、封止側壁18が形成された例を示している。図22Dは、図19の形態に対応し、防湿膜6の表面に電極引き出し部8が形成された複合基板3において、電極引き出し部8及び防湿膜6の表面に、封止側壁18が形成された例を示している。
 ここで、図4で示したように、複合基板3及びそれを用いた有機EL素子では、複合基板3の端部(図4では上下両端部)には、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとが、分離して交互に配置されている。そして、封止側壁18は有機発光積層体10の外周を取り囲むように設けられ、封止基板9は、この封止側壁18によって防湿性基板1の表面側(有機発光積層体10側)で複合基板3に貼り付けられることになる。そして、図4に示すように、封止側壁18が設けられる領域は、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとが配置された領域となり、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの間には、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとが形成されていない隙間が存在している。この隙間は防湿膜6で全て埋められていると、図15Aのように間隙は塞がれる。そのため、この間隙の位置からの水分の浸入はあまり考慮しなくてよい。しかしながら、図22A及び図22Dの場合は、間隙が存在するため、この間隙の位置からの水分の浸入が問題となる。また、図22B及び図22Cのように、間隙の全てが防湿膜6で埋められていない場合、封止側壁18が侵入して形成される間隙は残存することになる。
 図22Aでは、封止側壁18の位置において、防湿膜6が設けられていないことにより、間隙が存在する。図22B及び図22Cでは、封止側壁18の位置において、間隙が防湿膜6で埋められていないことにより、間隙が存在する。図22Dでは、防湿膜6の上に電極引き出し部8が形成されている形態であるために、間隙が存在する。したがって、図22のように、封止基板9は、封止側壁18により、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bと、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの間における電極引き出し部8の下層又は防湿膜6の表面とに接着されることになる。このとき、封止領域は、封止側壁18によって外周が取り囲まれる領域となる。要するに、防湿膜6で間隙が埋められていない場合、封止側壁18が設けられる領域は、電極引き出し部8を形成している導電層の表面と、この導電層の隙間であると言ってよい。また、図22Cのように、防湿膜6が電極引き出し部8の側面を被覆している場合、防湿膜6の隙間であると言ってよい。
 図22で示すように、封止基板9を封止側壁18で接着すると、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの間には、封止側壁18を形成するための樹脂材料18aが充填される。封止側壁18が第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの間に侵入する部分は、接着間隙21となる。接着間隙21は、封止基板9の接着を行う間隙である。接着間隙21は、電極引き出し部8が形成されておらず樹脂材料18aが侵入することによって絶縁性が付与される部分となる。図22で示すように、接着間隙21が形成された領域における封止側壁18の高さH1(厚み)は、第1電極引き出し部8aや第2電極引き出し部8bが形成された領域における封止側壁18の高さH2(厚み)よりも大きい。したがって、接着間隙21が形成されたところでは、封止側壁18によって形成される層全体の厚みが大きくなるため、この厚みの大きくなった部分を介して、封止領域の内部に水分が浸入しやすくなる。樹脂材料18aは、樹脂基板2よりは防湿性が高いものの、通常、基板を構成するガラスなどの材料よりも水分の透過性が高いからである。
 そこで、複合基板3の好ましい態様においては、接着間隙21を平面視(防湿性基板1表面に垂直な方向から見た場合)において線状に形成する。この接着間隙21は、平面視において外部側から内部側まで一筆書き可能な線状に形成されたものであってよい。そして、さらに、接着間隙21を、外部側から内部側に向かう方向に進行する進み部21aと、内部側から外部側に向かう方向に進行する戻り部21bとを有するように形成する。それにより、接着間隙21が配置される封止側壁18の厚みが厚い線状の領域は、封止領域の外部から内部へとたどったときに、迂回して距離が長くなることになり、水分の浸入を抑制することができる。なお、封止基板9が有機発光積層体10(有機積層体5)を収容する凹部を中央に有している場合、封止側壁18は、封止基板9の外周部で構成されることがある。いわゆるキャップ状の封止基板9を用いる場合である。その場合、接着間隙21に充填される樹脂材料18aは、複合基板3と封止基板9とを接着する接着剤であってよい。
 図23は、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bとの境界部分に形成される接着間隙21の形態の各一例である。接着間隙21はドットの領域で示されている。また、破線は封止側壁18が設けられる領域(接着領域)を示している。図23では、左側を第1電極引き出し部8aとし、右側を第2電極引き出し部8bとした例を示しているが、もちろん、右側を第1電極引き出し部8aとし、左側を第2電極引き出し部8bとしていてもよい。
 図23に示すように、接着間隙21は隣り合う電極引き出し部8間において、一本の線として描かれている。すなわち、外部側から内部側に向かう方向(白抜き矢印の方向)に接着間隙21を線画として描いたときに一筆書き可能な形状となっている。また、接着間隙21は、線が交差しておらず、分岐もしていない。接着間隙21が分岐を有したりすると、どちらの電極引き出し部8にも接続されない分離部分ができてしまうことになる。接着間隙21の線幅は、略一定であることが好ましい。線幅が広くなったり狭くなったりすると、幅広の部分で水分が浸入しやすくなる。また、水分の浸入を抑制するために、第1電極引き出し部8aと第2電極引き出し部8bの絶縁性が保持される条件の下で、線幅はできるだけ狭くするほどよい。
 以下、線状の接着間隙21について、封止側壁18の縁部(図23の破線)と直交して外部側から内部側に向かう方向(白抜き矢印の方向)を「進み直進方向」として説明する。進み方向とは逆の方向を「戻り直進方向」として説明する。進み直進方向及び戻り直進方向に垂直な方向を「留まり方向」として説明する。なお、進み部21aは、外部側から内部側に進行する部分であればよく、進み直進方向と平行な方向に進むものであっても、進み直進方向に傾斜して(角度を有して)斜め方向に進むものであってもよい。また、戻り部21bは、内部側から外部側に進行する部分であればよく、戻り直進方向と平行な方向に進むものであっても、戻り直進方向に傾斜して(角度を有して)斜め方向に進むものであってもよい。
 図23Aの形態では、接着間隙21は、概略すると、外部側から内部側に向かう方向に、接着間隙21の外端部21xから内端部21yまでを線画として描いたときに、二回反転するS字状に蛇行する線として描かれている。この反転としては、進み部21aから戻り部21bへの戻り方向への反転と、戻り部21bから進み部21aへの進み方向への反転とが各一回設けられている。
 本形態では、接着間隙21は、外部側から内部側に向かう方向において、進み部21a、戻り部21b、進み部21aの順に配置されて構成されている。したがって、戻り部21bは一個形成されている。このように、戻り部21bを設けて、線画として描いたときに戻り方向に折れ曲がって進行する形状で接着間隙21を形成することにより、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離が長いものとなり、水分の浸入を効果的に抑制できる。
 本形態においては、各進み部21aは、進み直進方向に平行な直線状に形成されており、各戻り部21bは、戻り直進方向に平行な直線状に形成されている。進み部21aと戻り部21bとの間には、進み方向にも戻り方向にも進まず、封止側壁18の外縁と平行な留まり部21cが設けられている。進み部21aと留まり部21c、及び、戻り部21bと留まり部21cとの境界部においては、線が垂直に折れ曲がっている。
 なお、図23Aの形態では、電極引き出し部8の形状に着目すると、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの対向する端部は、L字状に突出する端部同士が相互に噛み合うカギ状のパターンとなっている。
 図23Bの形態では、接着間隙21は、概略すると、外部側から内部側に向かう方向に、接着間隙21の外端部21xから内端部21yまでを線画として描いたときに、四回反転して描かれている。この反転としては、進み部21aから戻り部21bへの戻り方向への反転と、戻り部21bから進み部21aへの進み方向への反転とが各二回設けられている。ただし、進み部21aから戻り部21bへの第1回目の反転と第2回目の反転とは方向が逆方向に旋回して反転しており、また、戻り部21bから進み部21aへの第1回目の反転と第2回目の反転とは方向が逆方向に旋回して反転している。このように逆方向に旋回して反転させて接着間隙21を形成することによって、進み直進方向に垂直な方向において、進んだり戻ったりすることができる。そのため、接着間隙21の外端部21xと内端部21yとにおける位置を、封止側壁18の外縁と垂直な方向で合わせて接着間隙21を形成することが容易になり、封止領域の外部側と内部側とで各電極引き出し部8の端縁の位置を揃えることが可能になる。
 本形態では、接着間隙21は、外部側から内部側に向かう方向において、進み部21a、戻り部21b、進み部21a、戻り部21b、進み部21aの順に配置されている。したがって、戻り部21bは複数(二個)形成されている。このように、戻り部21bを設けて、線画として描いたときに折れ曲がって戻る方向に進む形状で接着間隙21を形成することにより、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離が長いものとなり、水分の浸入を効果的に抑制できる。そして、図23Bの形態では、戻り部21bが複数形成されているため、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離がより長いものとなる。
 本形態においては、各進み部21aは、進み直進方向に平行な直線状に形成されており、各戻り部21bは、戻り直進方向に平行な直線状に形成されている。進み部21aと戻り部21bとの間には、進み方向にも戻り方向にも進まず、封止側壁18の外縁と平行な留まり部21cが設けられている。進み部21aと留まり部21c、及び、戻り部21bと留まり部21cとの境界部においては、線が垂直に折れ曲がっている。留まり部21cは、前二つが同じ方向(図23Bでは右方向)で進行し、後ろ二つが、前二つとは逆方向で同じ方向(左方向)に進行している。それにより、進み直進方向に垂直な方向(留まり方向)において、進んだり戻ったりすることができため、接着間隙21の外端部21xと内端部21yとにおける位置を、封止側壁18の外縁と垂直な方向で合わせて接着間隙21を形成することが容易になる。
 なお、図23Bの形態では、電極引き出し部8の形状に着目すると、一方の電極引き出し部8の端部がT字状に突出するとともに、他方の電極引き出し部8の端部がT字状に凹んだ形状のパターンとなっている。
 図23Cの形態では、接着間隙21は、概略すると、外部側から内部側に向かう方向に、接着間隙21の外端部21xから内端部21yまでを線画として描いたときに、二回反転するS字状に蛇行する線として描かれている。この反転としては、進み部21aから戻り部21bへの戻り方向への反転と、戻り部21bから進み部21aへの進み方向への反転とが各一回設けられている。
 本形態では、接着間隙21は、外部側から内部側に向かう方向において、進み部21a、戻り部21b、進み部21aの順に配置されて構成されている。したがって、戻り部21bは一個形成されている。このように、戻り部21bを設けて、線画として描いたときに戻り方向に折れ曲がって進行する形状で接着間隙21を形成することにより、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離が長いものとなり、水分の浸入を効果的に抑制できる。
 本形態においては、各進み部21aは、連通する戻り部21bの近傍以外の部分では進み直進方向に平行な直線状に形成されている。また、戻り部21bは、連通する進み部21aの近傍以外の部分では戻り直進方向に平行な直線状に形成されている。そして、進み部21aと戻り部21bとの境界部分には曲線部21dが形成されている。曲線部21dは、滑らかに進み方向から戻り方向に反転する曲線状に形成されており、それにより反転部分においても接着間隙21の線幅が太くならず略一定になっている。このように接着間隙21が曲がる際に曲線状に形成されて、方向転換する際の線幅が太くならず略同一となることにより、接着間隙21において平面視において幅広となる部分が少なくなるため、より水分の浸入を抑制することができる。
 図24は、接着間隙21における線の折れ曲がりを示している。図24Aでは、線が直角に折れ曲がるため、接着間隙21の線幅Wよりも幅広の部分Uが形成されている。一方、図24Bでは、線が曲線状に滑らかに折れ曲がっているため、接着間隙21の線幅Wよりも幅広の部分が形成されることがない。水分の浸入を抑制するためには、図24Aの形状よりも、図24Bのように線幅の略一定な形状の方が有利になる。したがって、図23Aの形態よりも図23Cの形態のように、進み部21aと戻り部21bとの境界部分に曲線部21dが形成された方が、水分の浸入をより抑制することができるものである。
 なお、図23Cの形態では、電極引き出し部8の形状に着目すると、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bの対向する端部は、先端が丸みを帯びたL状に突出する端部同士が相互に噛み合うカギ状のパターンとなっている。
 図23Dの形態では、接着間隙21は、概略すると、外部側から内部側に向かう方向に、接着間隙21の外端部21xから内端部21yまでを線画として描いたときに、四回反転して描かれている。この反転としては、進み部21aから戻り部21bへの戻り方向への反転と、戻り部21bから進み部21aへの進み方向への反転とが各二回設けられている。ただし、進み部21aから戻り部21bへの第1回目の反転と第2回目の反転とは方向が逆方向に旋回して反転しており、また、戻り部21bから進み部21aへの第1回目の反転と第2回目の反転とは方向が逆方向に旋回して反転している。このように逆方向に旋回して反転させて接着間隙21を形成することによって、進み直進方向に垂直な方向において、進んだり戻ったりすることができる。そのため、接着間隙21の外端部21xと内端部21yとにおける位置を、封止側壁18の外縁と垂直な方向で合わせて接着間隙21を形成することが容易になり、封止領域の外部側と内部側とで各電極引き出し部8の端縁の位置を揃えることが可能になる。
 本形態では、接着間隙21は、外部側から内部側に向かう方向において、進み部21a、戻り部21b、進み部21a、戻り部21b、進み部21aの順に配置されている。したがって、戻り部21bは複数(二個)形成されている。このように、戻り部21bを設けて、線画として描いたときに戻り方向に折れ曲がって進行する形状で接着間隙21を形成することにより、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離が長いものとなり、水分の浸入を効果的に抑制できる。そして、図23Dの形態では、戻り部21bが複数形成されているため、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離がより長いものとなる。
 本形態においては、各進み部21aは、連通する戻り部21bの近傍以外の部分では進み直進方向に平行な直線状に形成されている。また、各戻り部21bは、連通する進み部21aの近傍以外の部分では戻り直進方向に平行な直線状に形成されている。そして、進み部21aと戻り部21bとの境界部分には曲線部21dが形成されている。曲線部21dは、滑らかに進み方向から戻り方向に反転する曲線状に形成されており、それにより反転部分においても接着間隙21の線幅が太くならず略一定になっている。このように接着間隙21が曲がる際に曲線状に形成されて、方向転換する際の線幅が太くならず略同一となることにより、接着間隙21において平面視において幅広となる部分が少なくなる。そのため、図24で説明したように、より水分の浸入を抑制することができる。
 なお、図23Dでは、電極引き出し部8の形状に着目すると、一方の電極引き出し部8の端部が丸みを帯びたT字状に突出するとともに、他方電極引き出し部8の端部が丸みを帯びたT字状に凹んだ形状のパターンとなっている。
 図23Eの形態では、接着間隙21は、概略すると、外部側から内部側に向かう方向に、接着間隙21の外端部21xから内端部21yまでを線画として描いたときに、複数回(図23Eでは六回)反転する蛇行した線として描かれている。この反転としては、進み部21aから戻り部21bへの戻り方向への反転と、戻り部21bから進み部21aへの進み方向への反転とが各三回設けられている。この形態では、進み部21aから戻り部21bへの反転は、全て同方向に旋回して反転しており、また、戻り部21bから進み部21aへの反転も、全て同方向に旋回して反転している。したがって、接着間隙21の描く線は、進み直進方向と平行な方向で封止側壁18の幅方向に亘って蛇行し、封止側壁18の外縁に沿った方向(横方向)に移動している。
 本形態では、接着間隙21は、外部側から内部側に向かう方向において、進み部21a、戻り部21b、進み部21a、戻り部21b、進み部21a、戻り部21b、進み部21a、の順に配置されている。進み部21aと戻り部21bとの各境界部分には曲線部21dが形成されている。したがって、戻り部21bは複数(三個)形成されている。このように、戻り部21bを設けて、線画として描いたときに戻り方向に折れ曲がって進行する形状で接着間隙21を形成することにより、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離が長いものとなり、水分の浸入を効果的に抑制できる。そして、図23Eの形態では、戻り部21bが複数形成されているため、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離がより長いものとなる。また、図23Eの形態では、線が折り返される部分である進み部21aと戻り部21bの境界部分が、封止側壁18の端縁近傍に形成されているため、迂回する距離をさらに長くすることができる。
 本形態においては、各進み部21aは、連通する戻り部21bの近傍以外の部分では進み直進方向に平行な直線状に形成されている。また、各戻り部21bは、連通する進み部21aの近傍以外の部分では戻り直進方向に平行な直線状に形成されている。そして、進み部21aと戻り部21bとの境界部分には曲線部21dが形成されている。曲線部21dは、滑らかに進み方向から戻り方向に、又は、戻り方向から進み方向に反転する曲線状に形成されており、それにより反転部分においても接着間隙21の線幅が太くならずに略一定になっている。このように接着間隙21が曲がる際に曲線状に形成されて、方向転換する際の線幅が太くならず略同一となることにより、接着間隙21において平面視において幅広となる部分が少なくなる。そのため、図24で説明したように、より水分の浸入を抑制することができる。
 なお、図23Eでは、電極引き出し部8の形状に着目すると、各電極引き出し部8は、櫛状に形成されて相互に噛み合った形状のパターンとなっている。
 ここで、図23B、図23D及び図23Eの形態が示すように、接着間隙21は、戻り部21bを複数有することが好ましい。それにより、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離をより長くすることができ、水分の浸入をさらに効果的に抑制できる。例えば、戻り部21bを三個以上又は四個以上にすれば、接着間隙21の長さをより長くすることが可能になる。
 図23Fの形態では、接着間隙21は、概略すると、外部側から内部側に向かう方向に、接着間隙21の外端部21xから内端部21yまでを線画として描いたときに、渦巻き状に回転する線として描かれている。すなわち、外端部21xから進み直進方向に進行した後、回転しながら渦巻きの中心部に向かって収束し、その後、反転して収束時とは逆回転で渦巻きの中心部から外周に向かって径方向に放散し、最後に、進み直進方向と平行に進行して内端部21yに到達している。そして、進み部21a及び戻り部21bが繰り返し交互に複数配置されて、進み部21aから戻り部21bへの戻り方向への反転と、戻り部21bから進み部21aへの進み方向への反転とが複数回設けられている。
 本形態では、外端部21x側と内端部21y側に配置される二つの進み部21a以外の渦巻き部分においては、接着間隙21が曲線状に形成されている。そして、進み部21aと戻り部21bとの境界部分には曲線部21dが形成されている。それにより、接着間隙21の線幅を太くせずに略一定にすることができる。
 また、本形態では、渦巻き状になることによって、曲線状の進み部21a及び曲線状の戻り部21bが複数形成されている。そして、渦巻きを形成している曲線状の進み部21a及び曲線状の戻り部21bは、段差のない滑らかな曲線となるよう連続して配置されている。このように、戻り部21bを設けて、線画として描いたときに戻り方向に折れ曲がって進行する形状で接着間隙21を形成することにより、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離が長いものとなり、水分の浸入を効果的に抑制できる。そして、図23Fの形態では、戻り部21bが複数形成されているため、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離がより長いものとなる。
 なお、図23Fでは、電極引き出し部8の形状に着目すると、各電極引き出し部8の端部は、中心部に向かって同方向で回転しながら収束する渦巻状に形成されて相互に噛み合った形状のパターンとなっている。
 ここで、接着間隙21においては、接着間隙21の外部側の端部(外端部21x)は、平面視において封止側壁18の端縁と略直交していることが好ましい。それにより、接着間隙21が外部に露出する面積を減らすことができ、水分がより浸入しにくい構造にすることができる。
 図25は、接着間隙21の外端部21xの各一例を示している。図25Aでは、接着間隙21の端部が封止側壁18の端縁と略直交しており、平面視において接着間隙21が露出する部分の幅W1は、接着間隙21の線幅Wとほぼ等しい。一方、図25Bでは、接着間隙21の端部が封止側壁18の端縁に傾斜して斜め方向になって交差しており、平面視において接着間隙21が露出する部分の幅W1は、接着間隙21の線幅Wよりも大きくなる。このように、接着間隙21の端部が封止側壁18の端縁に対して斜め方向に形成されると、接着間隙21の露出面積が大きくなってしまう。したがって、接着間隙21の端部は封止側壁18の端縁と略直交していることが好ましいのである。なお、接着間隙21の内部側の端部(内端部21y)においても、封止側壁18の端縁と略直交していることが好ましい。その場合、内部側の接着間隙21の露出面積を小さくして、水分の浸入をさらに抑制できる。
 接着間隙21の線幅Wは、5~500μmであることが好ましい。接着間隙21の線幅が狭すぎるとパターン形成しにくくなるおそれがある。また、接着間隙21の線幅が広すぎると水分の浸入を効果的に抑制できなくなるおそれがある。接着間隙21の線幅は、第1電極引き出し部8aの端縁と第2電極引き出し部8bの端縁との間の距離となる。
 接着間隙21の線の長さ(全長)は、封止側壁18の幅、すなわち封止側壁18の外縁から内縁までの最短距離よりも、2倍以上の長さにすることができる。それにより、接着間隙21における外部側の端部から内部側の端部までの距離が長いものとなり、水分の浸入を効果的に抑制できる。なお、接着間隙21の線の長さの上限は特に限定されないが、パターン形成の作りやすさの観点から、例えば100倍以下であってよい。また、接着間隙21を形成する領域幅、すなわち接着間隙21が形成される領域における封止側壁18の端縁に沿った方向の長さ(図23E及び図23Fに示す長さV)は、例えば、20~2000μmにすることができる。なお、封止側壁18の幅(外縁から内縁までの距離)は、例えば、0.5~1.5mmにすることができる。それにより、封止側壁18により封止基板9を十分に接着することができる。なお、導電層(第1電極14、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8b)の厚み、すなわち、接着間隙21が形成される凹部の深さ(凹み幅)は、例えば、0.05~50μmの範囲にすることができるが、これに限定されるものではない。
 接着間隙21は、第1電極14及び各電極引き出し部8を形成するための導電層をパターン状に形成して溝を作製することで形成される。あるいは、接着間隙21は、導電層をレーザなどのエネルギー線で除去して、第2電極引き出し部8bを切り出すようなパターン状に溝を形成することで形成されてもよい。封止基板9を接着する際に、その溝の接着部分に封止側壁18の樹脂材料18aを充填することにより、接着間隙21は封止側壁18で閉塞される。
 図26は、接着間隙21のさらに他の例を示している。図26Aは、封止側壁18の端縁に沿った方向(留まり方向)に交互に膨らんで曲線を描きながら、封止側壁18の端縁と沿った方向で蛇行して、封止側壁18の外側から内側に進む形状の接着間隙21の例である。図26Bは、四角形状の渦巻きとなった接着間隙21の例である。この例では、進み部21aと戻り部21bとの間には留まり部21cが形成されている。図26Cは、進み部21aと戻り部21bとの間に留まり部21cが形成され、進み部21aと留まり部21cとの境界部分、及び、戻り部21bと留まり部21cとの境界部分には曲線部21dが形成されている接着間隙21の例である。このように、進み部21aと戻り部21bとの間に留まり部21cと曲線部21dとが形成されたものも、進み部21aと戻り部21bとの境界部分に曲線部21dが形成されたものに含まれる。そして、接着間隙21は、図24に示すように、線が曲がる際に曲線部21dによって線幅が太くならず略一定の線状に形成されることになる。図26Dは、進み部21a及び戻り部21bが進み直進方向に対して傾斜角度をもって斜め方向に進む直線状に形成されている接着間隙21の例である。そして、図26の各例に示す接着間隙21においても、戻り部21bを有するため、接着間隙21の長さが長くなり、水分の浸入を抑制することができるものである。
 次に、複合基板の製造方法について説明する。図27、図28、図29及び図30は、複合基板3を製造する方法の各一例を示している。
 上記の複合基板3の製造は、複合基板3自体(有機積層体5などが設けられていない基板材料としての複合基板3)を製造するものであってもよいし、有機電気素子を製造する際に、複合基板3の構造が形成されるものであってもよい。例えば、基板表面に複数の有機積層体5を積層した後に、分断することにより素子を個別化しながら複合基板3の構造を製造するようにすれば、効率よく有機電気素子を形成することができる。
 複合基板3の製造にあたっては、防湿性板材11と樹脂材12を準備する。防湿性板材11としてはガラス板を用いることができ、樹脂材12としてはプラスチックシートを用いることができる。このとき、複数の有機電気素子が並んだ分の大きさ以上の防湿性板材11及び樹脂材12を準備する。
 そして、防湿性板材11の表面に樹脂材12を貼り付けることによって、複数の素子分の複合基板3が連結した大きさの複合板材13を形成することができる。樹脂材12の貼り合わせは、接着剤により行うことができる。接着剤から、接着層4が形成される。あるいは、樹脂材12の貼り合わせは、例えば、プラスチックシートをガラス基板に重ねて熱圧着することにより、プラスチックシートの表面の成分によって接着させるようにしてもよい。
 複数の防湿性基板1を形成するための防湿性板材11と、複数の樹脂基板2を形成するための樹脂材12とが貼り合わされることによって、複合板材13が形成される。すなわち、複数の有機電気素子を形成することのできる大きさの複合基板3が、複合板材13として得られる。複合基板3は、例えば、有機電気素子1個分の大きさの防湿性基板1と樹脂基板2とを個別に作製し、これらを貼り合わせて形成することも可能であるが、その場合、作業が煩雑となり、製造効率が低下するおそれがある。しかしながら、大面積の複合基板3(複合板材13)をあらかじめ作製しておき、これを個別化して個々の素子の複合基板3を形成するようにすると、複数の複合基板3を同時に形成することができ、効率よく複合基板3を作製することができる。さらに、大面積の複合基板3(複合板材13)の表面に有機積層体5を複数形成して素子の連結体を形成した後に、複合板材13を切断して有機電気素子を形成するようにすれば、同時に複数の素子を得ることができるので、効率よく有機電気素子を製造することができる。
 複合基板3の構造は、複合板材13の樹脂材12を分断するとともに分断されてできる樹脂基板2の端部側面2bを傾斜面にする樹脂分断傾斜工程と、防湿性板材11を分断する防湿性板分断工程とを有する工程により、製造することができる。すなわち、防湿性板材11と樹脂材12とを別々に段階的に分断するようにする。防湿性板材11と樹脂材12とを一括で切断した場合、防湿性板材11と樹脂材12との間で界面剥離が発生しやすくなり、歩留まりが下がるおそれがある。しかしながら、複合基板3を材質ごとに段階的に切断することにより、切断時の応力が緩和され、切断不良が発生するのを抑制し、歩留まりを向上することができる。また、段階的に切断することにより、樹脂基板2の大きさを防湿性基板1の大きさよりも容易に小さくすることができる。通常、樹脂分断傾斜工程は第1の切断工程となり、防湿性板分断工程は第2の切断工程となる。
 図27の形態は、複数の有機積層体5が表面に設けられた複合板材13を切断して、複合基板3の構造を製造する例である。
 図27Aは、樹脂分断傾斜工程の一例である。樹脂材12の分断(切断)は、カッタなどの切断具によって切断してもよいが、図27Aのように、樹脂材12の分断する位置にレーザLを照射するレーザ照射により行うことが好ましい一態様である。それにより、樹脂材12を構成する樹脂を焼ききって樹脂材12を分断し、個々の樹脂基板2を形成することができる。また、レーザ照射によれば、例えば、ガラス基板を防湿性基板1(防湿性板材11)として用いた場合には、容易に樹脂材12のみを切断して、防湿性板材11を切断しないようにすることができる。また、レーザ照射によれば、樹脂を焼ききるので、簡単に防湿性基板1(防湿性板材11)の表面を露出させて樹脂材12を分断することができる。また、レーザ照射によれば、レーザLを集光させることにより先端に向かって簡単に先細りさせて傾斜角度を付与して切断することができるので、樹脂材12が分断されて形成される樹脂基板2の端部側面2bを、切断と同時に容易に傾斜面にすることができる。また、レーザ照射によれば、樹脂材料を焼き切って分断するので、熱の負荷によって簡単に樹脂基板2の角部2cに丸みを設けることができる。なお、カッタなどで切断する場合は、樹脂材12を表面に対して斜め方向に切断すれば傾斜面を形成することができる。また、樹脂材12を表面に垂直に切断した後に、端部側面2bを傾斜面にする加工や角部2cを丸める加工を施してもよい。
 樹脂分断傾斜工程においては、樹脂が分断された部分には接着層4が残存しないことが好ましい。レーザ照射の場合、接着層4も同時に焼ききって接着層4を除去することができる。カッタなどで切断して除去した場合、接着層4は防湿性板材11よりも樹脂材12に対しての接着力の方が強いことが多いので、樹脂材12と一緒に除去することができる。
 図27Bに示すように、樹脂材12が切断された箇所には、幅のある溝として分断溝24が形成されることが好ましい。分断溝24が形成されることによって、隣り合う樹脂基板2、2の間には隙間が形成されるので、防湿性板材1を分断しやすくすることができる。また、分断溝24は、溝の奥になるほど幅が小さくなった断面が略台形状の溝であることが好ましい。台形状の溝であれば、樹脂基板2の側面2bが傾斜面となり、また、防湿性板材11の表面が露出するので、分断して複合基板3を形成したときに防湿性基板1の外周表面を容易に露出させることができる。
 樹脂分断傾斜工程の後には、樹脂分断傾斜工程によって発生する加工残渣を除去する残渣除去工程を行うことが好ましい。加工残渣は樹脂材12や接着層4に由来するものである。加工残渣の除去は、少なくとも分断溝24と分断溝24近傍の樹脂材12の表面における加工残渣を除去するものであってよい。加工残渣が残存していると、素子の不良の原因となるおそれがある。特に、防湿膜6を形成する場合に、加工残渣が残っていると、防湿膜6に穴(ピンホール)が開くなどして欠陥が生じするそれがあるが、加工残渣を除去することにより、防湿膜6を確実に形成することができる。
 残渣除去工程は、気体の吹き付けにより行うことが好ましい。液体を流して洗浄することも可能であるが、気体の吹き付けの場合、液体の場合に比べ、乾燥するなどの処置が不要になり、残渣除去後の処理が簡便となる。また、有機積層体5を傷付けにくい。よって、気体の吹き付けによれば、簡単に加工残渣を除去することができ、防湿膜6の形成に適した基材表面を容易に形成することができる。また、有機積層体5を傷付けずに、残渣を除去することができる。
 次に、図27Cに示すようにスクライバSなどの切断具によって、防湿性板材11を切断して分断する。このとき、樹脂材12が分断された位置(樹脂基板2が形成されていない位置)で防湿性板材11を切断するようにする。樹脂材12は分断溝24の位置で切断される。スクライバSでの切断は、基板表面(防湿性板材11表面)に垂直な方向に切断してよい。また、スクライバSは、有機積層体5が形成されていない面から防湿性板材11に当てることが好ましい。有機積層体5が形成されている面から切断すると、有機積層体5に汚れや傷がつきやすくなるおそれがある。これにより、図27Dに示すように、防湿性基板1の表面に樹脂基板2が設けられた複合基板3の構造を得ることができる。図27Dの形態では、有機積層体5が表面に設けられた複合基板3の構造が製造される。
 図28の形態は、有機積層体5が表面に設けられていない複合板材13を切断して、複合基板3自体を製造する例である。有機積層体5が設けられていないこと以外は、図27の方法と同様の方法で複合基板3の構造を形成することができる。
 図28Aは、樹脂分断傾斜工程の一例であり、図27Aと同様に、樹脂材12の分断する位置にレーザLを照射するレーザ照射により樹脂材12の分断を行うことができる。それにより、図28Bに示すように、簡単に樹脂材12を分断するとともに端部側面2bを傾斜面にすることができる。また、容易に台形状の分断溝24を形成し、防湿性板材11の表面を露出させることができる。樹脂分断傾斜工程の後には、残渣除去工程を行うことができる。また、残渣除去工程は、気体の吹き付けにより行うことができる。
 次に、図28Cに示すようにスクライバSなどの切断具によって、防湿性板材1を切断して分断する。これにより、図28Dに示すように、防湿性基板1の表面に樹脂基板2が設けられた複合基板3の構造を得ることができる。図28Dの形態では、基板材料として使用可能な複合基板3が製造される。
 図29の形態は、樹脂基板2の外周端部が防湿膜6で被覆された複合基板3の構造を製造する例である。また、この例では、有機積層体5は封止材7によって封止されている。切断の具体的な手法は、図27の方法と同様の方法で複合基板3の構造を形成することができる。
 図29Aは、樹脂分断傾斜工程の一例であり、図27Aと同様に、樹脂材12の分断する位置にレーザLを照射するレーザ照射により行うことができる。すると、図29Bに示すように、樹脂材12が分断されて樹脂基板2が複数形成されたものが得られる。樹脂分断傾斜工程の後には、残渣除去工程を行うことが好ましい。また、残渣除去工程は、気体の吹き付けにより行うことが好ましい。
 次に、図29Cに示すように、隣り合う樹脂基板2、2の間に形成された分断溝24の部分に、分断溝24を覆うように防湿膜6を形成し、その後、防湿膜6の表面の一部を覆うように封止材7で有機積層体5を封止する。
 図29Cに示すように、有機電気素子を製造する際には、樹脂基板2の外周端部を防湿膜6で被覆する工程を有することが好ましい。それにより、樹脂基板2を外部に露出させないようにすることができ、樹脂基板2を通して内部に水分が浸入するのを効果的に抑制することができる。また、本形態のように、防湿膜6を隣り合う樹脂基板2、2を跨って設けるようにすれば、樹脂基板2の端部を防湿膜6で効率よく確実に被覆することができる。
 次に、図29Dに示すようにスクライバSなどの切断具によって、防湿性板材1を切断して分断する。これにより、図29Eに示すように、防湿性基板1の表面に樹脂基板2が設けられた複合基板3の構造を得ることができる。図29Eの形態では、有機積層体5が封止され、樹脂基板2の外周端部が防湿膜6によって被覆されて外部に露出しない有機電気素子が得られる。
 ここで、有機電気素子を形成するにあたっては、樹脂基板2の表面に有機積層体5を形成する必要があるが、有機積層体5は適宜のタイミングで複合基板3(複合板材13)の表面に形成されるものであってよい。
 例えば、図28A及び図28Bのように、有機積層体5を設けない状態で樹脂材12を分断した後、この状態で有機積層体5を形成して図27Bのような状態とし、その後は、図27C及び図27Dのように防湿性板材11を切断することができる。
 また、図28A及び28Bのように、有機積層体5を設けない状態で樹脂材12を分断した後、この状態で有機積層体5を形成して図29Bのような状態にしてもよい。その後は、図29C、図29D及び図29Eに従って、防湿膜6の形成、封止材7による封止、及び、防湿性板材11の切断を行って、有機電気素子の一部を構成する複合基板3の構造を形成することができる。
 また、図28A及び図28Bのように、有機積層体5を設けない状態で樹脂材12を分断した後、この状態で、防湿膜6を形成し、その後、有機積層体5を形成してもよい。そして、封止材7で有機積層体5を封止すれば、図29Cの状態となり、その後は、図29D及び図29Eに従って、防湿性板材11を切断し、複合基板3の構造を形成することができる。あるいは、有機積層体5の封止は、防湿性板材11を切断した後に行ってもよい。
 ところで、図28Dのように1個の素子分の複合基板3を形成した後に、有機積層体5を形成して図27Dのような形態にすることもできる。また、図28Dのように1個の素子分の複合基板3を形成した後に、防湿膜6及び有機積層体5を形成し、さらに封止して、図29Eのような形態にしたりすることもできる。しかしながら、有機積層体5を形成した後に防湿性板材11を切断する方が、複数の有機電気素子を同時に形成することができるので、製造性を高めることができる。
 図30の形態は、有機EL素子の連結体を分断して有機EL素子を製造することにより、複合基板3を製造する例である。切断の具体的な手法は、図27の方法と同様の方法で複合基板3の構造を形成することができる。ただし、本形態では、有機積層体5(有機発光積層体10)を封止した後にレーザLを照射している。
 図30Aは、複数の有機EL素子が連結した有機EL素子連結体の一例である。有機EL素子の製造では、複数の有機EL素子が面方向に縦横に連結して並んだ有機EL素子連結体を形成し、この有機EL素子連結体を分断して個別化することで製造することができる。それにより、複数の有機EL素子を同時に形成することができ、製造効率を高めることができる。
 図30Aの有機EL素子連結体では、複合板材13は、樹脂材12側の表面に、複数の封止基板9を形成するための封止板材17が接着されている。また、この有機EL素子連結体は、複合板材13と封止板材17との間に、複数の有機発光積層体10が並列して形成されたものである。並列は、面状の並列であっても線状の並列であってもよい。複合板材13は防湿性板材11と樹脂材12とにより構成されている。有機発光積層体10は、第1電極14と有機層15と第2電極16とがこの順で複合板材13の表面に形成されたものである。有機発光積層体10の外周には、封止側壁18が取り囲んで設けられ、この封止側壁18に囲まれた領域には充填材19が充填されている。複合板材17は、封止側壁18によって複合板材13に接着されている。そして、封止側壁18、充填材19、及び、封止板材17によって、有機発光積層体10が封止されている。このような有機EL素子連結体を分断して個別化することにより、有機EL素子を製造することが可能である。例えば、図3のような形態の有機EL素子が形成される。
 図30Bは、樹脂分断傾斜工程の一例である。樹脂分断傾斜工程では、図27Aと同様に、樹脂材12の分断する位置にレーザLを照射するレーザ照射により行うことができる。このとき、本形態では、封止板材17を透過するレーザLを照射して樹脂材12を分断することができる。レーザLは焦点が樹脂材12に合うように設定されているので、封止板材17を切断することはない。また、封止板材17としてガラス材を用いれば、容易にレーザLを透過させて樹脂材12に照射することができる。本形態では、封止した後にレーザLを照射しているので、加工残渣によって有機発光積層体10が傷ついたりすることを低減することができ、より安全に素子を製造することが可能である。
 レーザLの照射により、図30Cに示すように、樹脂材12が分断されて樹脂基板2が複数形成されたものが得られる。そして、隣り合う樹脂基板2、2の間には、分断されて形成された樹脂基板2の端面(端部側面2b)が傾斜面となった分断溝24が形成されている。また、樹脂基板2の角部2cは丸みを有している。この分断溝24は、図27等の形態と同様のものであってよい。
 次に、図30Cに示すように、スクライバSなどの切断具によって、防湿性板材11及び封止板材17を適宜の位置で切断して分断する。防湿性板材11の切断位置は分断溝24の位置にすることができる。封止板材17の切断位置は封止側壁18の外縁の位置又はそれよりもやや外側の位置にすることができる。これにより、図30Dに示すように、個別化された有機EL素子が得られる。この有機EL素子では、防湿性基板1の表面に樹脂基板2が設けられた複合基板3の構造が形成されている。
 図30の方法で製造された複合基板3及び有機EL素子では、好ましくは、図30Dの状態の後、樹脂基板2における封止領域からはみ出した外周端部を防湿膜6によって被覆するようにする。それにより、樹脂基板2が防湿性の高い防湿膜6により被覆されて外部に露出しないようにすることができる。このとき、本形態の複合基板3では、樹脂基板2の端部側面2bが傾斜面となっているので、段切れすることなく防湿膜6を形成することができる。また、防湿性基板1の端部表面1aが露出しているので、樹脂基板2と防湿性基板1との境界部分を覆って樹脂基板2を防湿膜6で被覆することができる。それにより、樹脂基板2を通して内部に水分が浸入するのを効果的に抑制することができ、防湿性の高い構造を形成することが可能である。以上の工程により、有機EL素子が得られる。
 なお、図30では有機EL素子を製造する例を示したが、有機EL素子以外の有機電気素子も同様の方法で製造することが可能である。
 図31は、複合基板3に防湿膜6を形成する工程の一例を示している。防湿膜6の形成工程は、上記の各形態において適用され得る。図31Aでは、分断して分断溝24を設けた後の複合基板3の一例が示されている。分断溝24においては、樹脂基板2の端部側面2bが露出している。なお、個別化された樹脂基板2、2との間には、分断溝24のような溝ができる程度の隙間が形成されることが好ましい。隣り合う樹脂基板2、2の端部側面2b、2bが密着していると、この部分に防湿膜6の材料が侵入しにくくなり、樹脂基板2の端部を防湿膜6で被覆することができなくなるおそれがある。
 樹脂基板2の端部の形状は、樹脂材12を分断する工程の際の切断により形成されるものである。したがって、切断加工を適宜に行うことによって、樹脂基板2の端部側面2bを傾斜面にしたり、樹脂基板2の端部の角部2cを丸めて曲線状に形成したりすることができる。端部の形状の調整は、例えば、前述したように、レーザなどのエネルギー線を照射して分断する場合には、エネルギー線照射角度を調整することで行うことができる。あるいは、分断加工をする際に、先端が傾斜面となった切断具を用いることにより行うことができる。また、カッティングする際にカッティング角度を調整することで行うことができる。なお、樹脂材12を分断する工程とは別の工程で、端部の形状を調整する工程を行ってもよい。
 次に、図31Bに示すように、樹脂基板2が分断された部位に防湿膜6の材料を供給して、個別化された樹脂基板2の端部を防湿膜6で被覆する。これが被覆工程となる。防湿膜6の材料の供給は、塗布や蒸着などによって行うことができる。
 図31Bは、防湿膜6が形成された複合基板3の一例を示しているものであり、防湿膜6の形成は、これに限定されるものではない。図31Bの形態では、防湿膜6は、分断溝24を充填するように積層して形成されている。また、防湿膜6は、隣り合う樹脂基板2の端部の間を跨って形成されている。このように、隣り合う樹脂基板2を跨いで防湿膜6を形成すると製造効率を向上することができる。もちろん、隣り合う樹脂基板2の端部ごとに防湿膜6が被覆されていてもよい。つまり、一方の樹脂基板2を被覆する防湿膜6と、他方の樹脂基板2を被覆する防湿膜6とが分離していてもよい。
 図31Bに示すように、樹脂基板2の表面に形成された防湿膜6の各端部は、個別化されたときに素子内部側に配置する防湿膜6の端部となる。したがって、適宜に塗布方法や蒸着方法を調整することにより、樹脂基板2の表面における防湿膜6の端部の形状を調整することができる。それにより、防湿膜6の端部側面6bを傾斜面にしたり、防湿膜6の端部の角6cを曲線状にしたりすることができる。
 図31Bでは、樹脂基板2の側面2bが傾斜面となっているため、この側面2bを防湿膜6が被覆しやすくなっている。また、樹脂基板2の表面2aと側面2bとの縁部である角部2cが丸まっているため、防湿膜6が段切れしにくくなっている。
 図32は、樹脂材12の切断において使用するレーザLの一例である。レーザLは、対物レンズ30により集光することができる。このとき、レーザ照射は、開口数0.5以上の対物レンズ30によりレーザLを集光して行うことが好ましい。それにより、レーザLが円錐形(断面二等辺三角形)となって集光することになり、基板表面の分断位置に対して両側から斜め方向にレーザLを入射させることができるので、樹脂基板2の切断された側面2bを容易に傾斜面にすることができる。レーザLの出射方向は、基板表面と垂直な方向であってよい。レーザLが基板表面に垂直に進行しても対物レンズ30によって焦点に向かって集光するので、傾斜面を作製するようなテーパ加工を行うことが可能である。
 レーザLの集光角度λは30度以上であることが好ましい。集光角度θが30度以上になることによって、テーパ加工の加工精度及び加工効率が向上し、傾斜面を確実に効率よく形成することができる。集光角度λは、集光によりレーザLの外縁が傾斜する角度であり、図32に示すように、出射したレーザLの進行方向と対物レンズ30により集光するレーザLの外縁とのなす角度である。ここで、開口数(NA)は、式「NA=nSinλ」で表される。この式において、nは、レンズと被加工物との間の媒質の屈折率である。空気の場合は屈折率n=1となる。開口数は、1.0に限りなく近い値が上限であるが、実質的には、0.9以下又は0.8以下であってよい。また、集光角度λは、45度以上、又は、60度以上であってもよい。また、集光角度λは、75度以下、60度以下、又は、45度以下であってもよい。
 図33は、樹脂材12を切断する方法の他の一例である。本形態では、先端が尖った刃を有する切断具により切断されている。例えば、カッタ31aを先端に有するカッティングプロッタ31などを用いることができる。カッティングプロッタ31では簡単に樹脂材12を分断することができる。もちろん、切断具としてレーザなどのエネルギー照射装置を用い、エネルギー線で樹脂材12を焼き切ってもよい。樹脂材12を分断する工程により、個別化された樹脂基板2、2間の溝として分断溝24が形成される。
 切断具により切断し、樹脂板材12を複数に分断して樹脂基板2の端部側面2bを露出させる際には、複合板材13における樹脂板材12を切断するようにし、防湿性板材11を切断しないようにする。それにより、一体化している防湿性板材11の表面に、分断して個別化された樹脂基板2が形成される。防湿性板材11を切断せずに、樹脂材12(樹脂基板2)をあらかじめ切断(プリカット)しておくと、有機EL素子を個別化する際に、プリカット部分において切断しやすくすることができる。
 図34は、防湿膜6を形成する方法の一例を示している。図34の方法では、塗布装置としてディスペンサー32を用い、このディスペンサー32から塗布型の防湿膜6の材料を、分断溝24に沿って、複合基板3の表面に供給している。このようにディスペンサー32を用いると効率よく防湿膜6を形成することができる。防湿膜6は、第1電極14を構成する導電層の形成後に形成することができるし、第1電極14を構成する導電層の形成前に形成することもできる。
 図35は、防湿膜6を形成する方法の別の一例を示している。図35の方法では、まず、図35Aに示すように、複合基板3(複合板材13)における防湿膜6を形成する領域以外の領域に、レジスト33を形成する。次に、図35Bに示すように、防湿膜6の材料を複合基板3の表面全体に積層する。図35B及び図35Cでは、防湿膜6が形成される領域は、斜線で示されている。防湿膜6の積層は、塗布型の防湿膜6の材料を塗布することにより行うことができる。あるいは、防湿膜6の積層は、蒸着型の防湿膜6の材料を蒸着することにより行ってもよい。また、スパッタにより行ってもよい。防湿膜6の積層を塗布で行う場合、例えば、ダイコートで行うことができる。そして、図35Cに示すように、レジスト33を除去(リフトオフ)することにより、レジスト33表面に形成された防湿膜6が除去される。すると、複合板材13の表面に導電層が形成されていない場合は、図35Cで示すように、樹脂基板2の表面が露出する。すなわち、複合基板3(複合板材13)が露出する。複合板材13の表面に導電層が形成されている場合は、導電層が露出する。これにより、所望の領域に防湿膜6を形成することができる。
 このようにして、分断されて個別化された際に樹脂基板2の端部が防湿膜6で被覆された複合基板3が得られる。なお、防湿膜6の形成は、上記の方法に限られるものではなく、例えば、マスクパターンを用いて蒸着して形成したりしてもよい。
 図36Aから図36Fは、有機EL素子の製造の一例を示している。図36Aは、分断溝24が設けられた樹脂基板2の表面を示している。
 まず、図36Bに示すように、樹脂基板2の表面に、電極材料を積層する。その際、パターン状に積層して、樹脂基板2の表面における中央領域に第1電極14を形成するとともに、樹脂基板2の端部の表面に電極引き出し部8を形成する。これが電極形成工程となる。なお、パターン形成は、全面に形成した後、パターン状に除去する方法であってもよく、あるいは、パターンマスクなどによって電極材料をパターン状に積層させる方法であってもよい。あるいは、表面にあらかじめ電極膜が設けられた樹脂基板2を用いて複合基板3を形成し、その後、電極膜を部分的に除去して電極のパターニングを行ってもよい。電極材料は、透明導電層の材料であってよい。例えば、ITOなどの透明金属酸化物を用いることができる。導電層の形成は、蒸着、スパッタ、塗布などにより行うことができる。パターンの形状は、第1電極14、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bを形成するための形状にすることができる。電極のパターニングにより接着間隙21の形状を調整することができる。
 次に、図36Cで示すように、防湿膜6を積層させて形成する。図36C、図36D、図36E及び図36Fでは、防湿膜6が形成された領域を斜線で示している。防湿膜6は、複合基板3の各形態で示したように、その形態に対応するようなパターン状に形成されるものであってよい。本形態では、分断溝24を跨って防湿膜6を形成しており、各端部が防湿膜6で被覆された樹脂基板2を得ることができる。また、第1電極14の範囲には防湿膜6が形成されておらず、有機発光積層体10を形成できるようなパターンとなっている。また、電極引き出し部8においては、補助電極22が設けられる領域と、第2電極16が延伸して第2電極引き出し部8bが繋がる部分には形成されていない。このように、防湿膜6は、開口が設けられて形成されている。そのため、電気接続が可能になる。
 次いで、図36Dに示すように、透明導電層の中央領域である第1電極14の表面に、有機層15を積層して形成する。有機層15は、蒸着や塗布により、有機層15を構成する各層を順次に積層することにより形成することができる。有機層15は、第2電極16が積層されたときに、第2電極16が第1電極14に接触しないようなパターンで積層する。樹脂基板2の表面が露出している場合には、有機層15で樹脂基板2の露出する表面を被覆するようにしてもよい。
 次に、図36Eに示すように、有機層15の表面に第2電極16を積層する。このとき、第2電極16は、第1電極14及び第1電極引き出し部8aとは接触しないようにするとともに、第2電極引き出し部8bの表面にも積層させるようにする。これにより、有機発光積層体10が複合基板3の表面に形成される。
 そして、図36Fに示すように、封止側壁18を形成する封止用の接着剤を設け、封止基板9を封止側壁18で接着する。封止基板9としては、防湿性基板1と同様に、一体化された連続する基材である封止板材17を用いることができる。封止用の接着剤は防湿性と絶縁性を有する接着剤を用いるようにする。このようにして、複合基板3と封止基板9とが封止側壁18で接着されて、個々の有機発光積層体10が封止され、有機EL素子連結体が製造される。
 最後に、各有機EL素子の端部において、防湿性板材11及び封止板材17を切断して分離することにより、有機EL素子を個別化することができる。このとき、防湿膜6も同時に切断するようにする。したがって、防湿膜6は切断しやすい材料で形成されていることが好ましい。なお、樹脂基板2が一体化されていると切断が容易にできないおそれがあるが、上記のように樹脂基板2はプリカットされているので、各有機EL素子の端部において切断することが簡単にできる。
 図37Aから図37Fは、有機EL素子の製造の他の一例を示している。図37では、防湿膜6の表面に電極引き出し部8が形成される例が示されている。
 図37Aは、分断溝24が設けられた樹脂基板2の表面を示している。上記で説明したように、分断溝24に沿って防湿膜6を形成することによって、図37Bに示すように、各端部が防湿膜6で被覆された樹脂基板2を得ることができる。図37B、図37C、図37D、図37E及び図37Fでは、防湿膜6が形成された領域を斜線で示している。
 次に、図37Cに示すように、樹脂基板2の端部が防湿膜6で被覆された複合基板13の表面に、電極材料を積層する。その際、パターン状に積層して、樹脂基板2の表面における中央領域に第1電極14を形成するとともに、樹脂基板2の端部の表面に電極引き出し部8を形成する。これが電極形成工程となる。なお、パターン形成は、全面に形成した後、パターン状に除去する方法であってもよく、あるいは、パターンマスクなどによって電極材料をパターン状に積層させる方法であってもよい。電極材料は、透明導電層の材料であってよい。例えば、ITOなどの透明金属酸化物を用いることができる。導電層の形成は、蒸着、スパッタ、塗布などにより行うことができる。パターンの形状は、第1電極14、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bを形成するための形状にすることができる。このとき、本形態では、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bが防湿膜6の縁部を乗り越えて跨ぐように導電層を積層すれば、防湿膜6の表面に、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bを設けることができる。あるいは、第1電極14及び第1電極引き出し部8aが一体化して連続する導電層の外縁を、防湿膜6の縁部よりも外側に位置するパターンにして導電層を積層してもよい。その場合、防湿膜6の表面領域内に、第1電極引き出し部8a及び第2電極引き出し部8bを設けることができる。電極のパターニングにより接着間隙21の形状を調整することができる。
 そして、図37Dに示すように、透明導電層の中央領域である第1電極14の表面に、有機層15を積層して形成する。有機層15は、蒸着や塗布により、有機層15を構成する各層を順次に積層することにより形成することができる。有機層15は、第2電極16が積層されたときに、第2電極16が第1電極14に接触しないようなパターンで積層する。また、有機層15で樹脂基板2の露出する表面を被覆するようにしてもよい。それにより、樹脂基板2を露出しないようにすることができる。
 次に、図37Eに示すように、有機層15の表面に第2電極16を積層する。このとき、第2電極16は、第1電極14及び第1電極引き出し部8aとは接触しないようにするとともに、第2電極引き出し部8bの表面にも積層させるようにする。これにより、有機発光積層体10が複合基板3の表面に形成される。
 そして、図37Fに示すように、平面視において防湿膜6が設けられている領域における、第1電極引き出し部8a、第2電極引き出し部8b、及び、その間で露出する防湿膜6の表面に、封止用の接着剤を設け、封止基板9を封止側壁18で接着する。封止基板9としては、防湿性基板1と同様に、一体化された連続する基材である封止板材17を用いることができる。このとき、第1電極引き出し部8aの端部と第2電極引き出し部8bの端部との間の領域では、防湿膜6の表面に封止側壁18が設けられる。封止用の接着剤は防湿性と絶縁性を有する接着剤を用いるようにする。このようにして、複合基板3と封止基板9とが封止側壁18で接着されて、個々の有機発光積層体10が封止され、有機EL素子連結体が製造される。
 最後に、各有機EL素子の端部において、防湿性板材11(防湿性基板1)及び封止板材17(封止基板9)を切断して分離することにより、有機EL素子を個別化することができる。このとき、防湿膜6も同時に切断するようにする。したがって、防湿膜6は切断しやすい材料で形成されていることが好ましい。なお、樹脂基板2が一体化されていると切断が容易にできないおそれがあるが、上記のように樹脂基板2はプリカットされているので、各有機EL素子の端部において切断することが簡単にできる。
 図38は、複合基板3の実施の形態の他の一例である。図2の形態と同様の構成には同じ符合を付して説明を省略する。
 図38の形態では、防湿性基板1の外周の端部側面1bが内側に傾斜する傾斜面となって形成されている。すなわち、防湿性基板1は台形状になっている。防湿性基板1の側面1bの傾斜角度γは、90度より小さければよく、80度以下、70度以下、又は、60度以下にすることができる。また、傾斜角度γは、小さくなると防湿性基板1の端部1bの領域が広がりすぎるので、45度以上、60度以上、又は、70度以上であってよい。傾斜角度λは、防湿性基板1の樹脂基板2とは反対側の表面1dと防湿性基板1の端部側面1bとの間のなす角度である。防湿性基板1の側面1bが傾斜面となることによって、素子を照明装置の筐体などに取り付けやすくすることができる。
 この形態においては、樹脂基板2の側面2bが傾斜する傾斜角度θは、防湿性基板1の側面1bが傾斜する傾斜角度γよりも小さいことが好ましい。すなわち、樹脂基板2の側面2bが、防湿性基板1の側面1bよりも横倒れに近づく状態である。樹脂基板2の側面2bをより傾斜角度の小さい傾斜面にすることによって、防湿膜6を形成したときに、分断されることなく防湿膜6を形成することができる。
 図38の複合基板3の構造は、上記で説明した複合基板3の構造の製造方法において、スクライバSでの切断後に、防湿性基板1の側面1bを傾斜面にする加工を施して製造することができる。あるいは、スクライバSを防湿性基板1に対して斜め方向にして当てて切断することにより製造することができる。
 図38の形態の複合基板3の構造は、上記で説明した形態と同様に、有機電気素子(有機EL素子)の基板として用いることが可能である。
 1   防湿性基板
 2   樹脂基板
 2a  樹脂基板の表面
 2b  樹脂基板の側面
 2c  樹脂基板の角部
 3   複合基板
 4   接着層
 5   有機積層体
 6   防湿膜
 6a  防湿膜の表面
 6b  防湿膜の端部側面
 6c  防湿膜の角部
 7   封止材
 7a  封止空間
 8   電極引き出し部
 8a  第1電極引き出し部
 8b  第2電極引き出し部
 9   封止基板
 10  有機発光積層体
 11  防湿性板材
 12  樹脂材
 13  複合板材
 14  第1電極
 15  有機層
 16  第2電極
 17  封止板材
 18  封止側壁
 18a 樹脂材料
 19  充填材
 20  光拡散層
 21  接着間隙
 21a 進み部
 21b 戻り部
 21c 留まり部
 21d 曲線部
 22  補助電極
 23  光取り出し部
 24  分断溝
 30  対物レンズ
 31  カッタ
 32  レジスト
 L   レーザ
 S   スクライバ

Claims (17)

  1.  防湿性基板と、この防湿性基板の表面に貼り合わされた樹脂基板とを含んで構成される複合基板であって、
     前記樹脂基板は、平面視において前記防湿性基板よりも小さく形成されており、
     前記樹脂基板の端部側面は、内側に傾斜する傾斜面として形成されていることを特徴とする、複合基板。
  2.  前記樹脂基板の端部は、表面から側面にかけて角部が丸みを有していることを特徴とする、請求項1に記載の複合基板。
  3.  前記複合基板は、前記樹脂基板の表面に有機積層体が設けられ、この有機積層体が封止材によって封止されるものであり、
     前記複合基板の端部表面に、前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第1電極引き出し部と、前記第1電極引き出し部とは絶縁されて前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第2電極引き出し部とが設けられ、
     前記樹脂基板の表面における前記第1電極引き出し部及び前記第2電極引き出し部が形成されていない部分の少なくとも一部に、水分の浸入を抑制する防湿膜が形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の複合基板。
  4.  前記防湿膜は、前記樹脂基板の前記封止材からはみ出す部分に少なくとも形成されていることを特徴とする、請求項3に記載の複合基板。
  5.  前記防湿膜は、前記封止材により封止される領域において少なくとも形成されていることを特徴とする、請求項3に記載の複合基板。
  6.  前記防湿膜は、前記樹脂基板の端部表面における前記第1引き出し電極及び前記第2引き出し電極が形成されていない部分の全体に形成されていることを特徴とする、請求項3に記載の複合基板。
  7.  前記第1電極引き出し部及び前記第2電極引き出し部が、前記防湿膜の表面に形成されていることを特徴とする、請求項3に記載の複合基板。
  8.  前記防湿膜における素子内部側の端部側面は、前記樹脂基板の表面に対して素子外部側に傾斜した傾斜面として形成されていることを特徴とする、請求項7に記載の複合基板。
  9.  前記複合基板は、前記樹脂基板の表面に有機積層体が設けられ、この有機積層体が封止材によって封止されるものであり、
     前記複合基板の端部表面に、前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第1電極引き出し部と、前記第1電極引き出し部とは絶縁されて前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第2電極引き出し部とが設けられ、
     前記第1電極引き出し部と前記第2電極引き出し部との間に、前記封止材を接着する樹脂材料が充填される接着間隙が形成され、この接着間隙は、平面視において外部側から内部側まで一筆書き可能な線状に形成されており、
     前記接着間隙は、外部側から内部側に向かう方向に進行する進み部と、内部側から外部側に向かう方向に進行する戻り部とを有するように形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の複合基板。
  10.  防湿性基板と、この防湿性基板の表面に貼り合わされた樹脂基板とを含んで構成される複合基板の製造方法であって、
     複数の前記防湿性基板を形成するための防湿性板材と、複数の前記樹脂基板を形成するための樹脂材とが貼り合わされた複合板材を用い、この複合板材の前記樹脂材を分断するとともに分断されてできる前記樹脂基板の端部側面を傾斜面にする樹脂分断傾斜工程と、
     前記防湿性板材を分断する防湿性板分断工程とを有する工程により、製造することを特徴とする、複合基板の製造方法。
  11.  前記樹脂基板の外周端部を防湿膜で被覆する工程を有することを特徴とする、請求項10に記載の複合基板の製造方法。
  12.  前記樹脂分断傾斜工程は、レーザ照射により行うものであることを特徴とする、請求項10に記載の複合基板の製造方法。
  13.  前記レーザ照射は、開口数0.5以上の対物レンズによりレーザを集光して行うものであることを特徴とする、請求項12に記載の複合基板の製造方法。
  14.  前記樹脂分断傾斜工程によって発生する加工残渣を除去する残渣除去工程を有することを特徴とする、請求項10に記載の複合基板の製造方法。
  15.  前記残渣除去工程は、気体の吹き付けにより行うものであることを特徴とする、請求項14に記載の複合基板の製造方法。
  16.  前記複合板材は、前記樹脂材側の表面に、複数の封止基板を形成するための封止板材が接着されたものであり、
     前記樹脂分断傾斜工程は、前記封止板材を透過するレーザを照射して行い、
     前記防湿性板分断工程において、前記封止板材を分断することを特徴とする請求項10に記載の複合基板の製造方法。
  17.  防湿性基板と、この防湿性基板の表面に貼り合わされた樹脂基板とを含んで構成される複合基板における前記樹脂基板の表面に、第1電極と有機発光層と第2電極とを有する有機発光積層体が設けられ、この有機発光積層体が封止材によって封止された有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
     前記樹脂基板は、平面視において前記防湿性基板よりも小さく形成されており、
     前記樹脂基板の端部側面は、内側に傾斜する傾斜面として形成され、
     前記複合基板の端部表面に、前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第1電極引き出し部と、前記第1電極引き出し部とは絶縁されて前記複合基板の平面視における内部側から引き出された第2電極引き出し部とが設けられ、
     前記第1電極引き出し部は前記第1電極と導通するとともに、前記第2電極引き出し部は前記第2電極と導通しており、
     前記樹脂基板の表面における前記第1電極引き出し部及び前記第2電極引き出し部が形成されていない部分の少なくとも一部に、水分の浸入を抑制する防湿膜が形成されていることを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015049151A1 (en) * 2013-10-03 2015-04-09 Koninklijke Philips N.V. Voltage-light conversion device
CN105374946A (zh) * 2015-11-18 2016-03-02 上海天马微电子有限公司 一种柔性显示装置及其制备方法
JP2016100314A (ja) * 2014-11-26 2016-05-30 パイオニア株式会社 発光装置
CN110600636A (zh) * 2019-08-26 2019-12-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种柔性显示面板制备方法及柔性显示面板
US11121351B2 (en) 2019-08-26 2021-09-14 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Flexible display panel and preparation method thereof

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104509206B (zh) 2012-09-13 2017-04-26 松下知识产权经营株式会社 有机电致发光元件
EP2975910A4 (en) 2013-03-13 2016-04-20 Panasonic Corp ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND LIGHTING DEVICE USING THE SAME
ES2690735T3 (es) * 2014-08-08 2018-11-22 Kaneka Corporation Panel emisor de luz plano y revestimiento elástico
JP2016072127A (ja) * 2014-09-30 2016-05-09 ソニー株式会社 有機el表示装置およびその製造方法、並びに電子機器
JP2018022781A (ja) 2016-08-03 2018-02-08 パナソニックIpマネジメント株式会社 光学機器
CN108206196A (zh) * 2016-12-16 2018-06-26 京东方科技集团股份有限公司 一种有机电致发光显示装置
CN113534522A (zh) * 2016-12-23 2021-10-22 群创光电股份有限公司 显示设备
JP6887799B2 (ja) * 2016-12-26 2021-06-16 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN109152214B (zh) * 2017-06-19 2023-02-24 松下知识产权经营株式会社 布线基板及其制造方法
CN111801721B (zh) 2018-03-08 2022-03-22 夏普株式会社 可弯曲性显示装置的制造方法以及非可弯曲性基板
CN110970462B (zh) * 2018-09-29 2022-10-14 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制造方法、显示装置
TWI677123B (zh) * 2018-11-29 2019-11-11 機光科技股份有限公司 去定位器及使用該去定位器的發光裝置
JP7460453B2 (ja) * 2020-06-08 2024-04-02 スタンレー電気株式会社 半導体発光装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002107704A (ja) * 2000-10-04 2002-04-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 樹脂基板を用いた液晶表示パネルの切断方法
JP2002170669A (ja) * 2000-12-01 2002-06-14 Tdk Corp 有機el表示装置およびその製造方法
WO2004057920A1 (ja) * 2002-12-19 2004-07-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. 表示装置及び表示装置の作製方法
JP2004281380A (ja) * 2003-02-24 2004-10-07 Sony Corp 表示装置およびその製造方法
JP2006054111A (ja) * 2004-08-12 2006-02-23 Sony Corp 表示装置
JP2008218419A (ja) * 1998-04-02 2008-09-18 Cambridge Display Technol Ltd 有機デバイスのための可撓性基体、有機デバイスおよびその製造方法
JP2009037798A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Sumitomo Chemical Co Ltd バリア層つき基板、表示素子および表示素子の製造方法
JP2009522593A (ja) * 2005-12-30 2009-06-11 エルジー・ケム・リミテッド フレキシブルディスプレイ装置およびその製造方法
JP2011227369A (ja) * 2010-04-22 2011-11-10 Hitachi Displays Ltd 画像表示装置及びその製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5472914A (en) * 1994-07-14 1995-12-05 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Wafer joined optoelectronic integrated circuits and method
JP2003133070A (ja) 2001-10-30 2003-05-09 Seiko Epson Corp 積層膜の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、及び電子機器
JP3650101B2 (ja) * 2003-02-04 2005-05-18 三洋電機株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置およびその製造方法
US7745832B2 (en) 2004-09-24 2010-06-29 Epistar Corporation Semiconductor light-emitting element assembly with a composite substrate
JP4508160B2 (ja) * 2005-10-14 2010-07-21 セイコーエプソン株式会社 表示装置及び電子機器
JP4508219B2 (ja) 2007-07-19 2010-07-21 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示素子の封止方法
JP2009083465A (ja) 2007-09-14 2009-04-23 Fujifilm Corp ガスバリアフィルムおよびこれを用いた表示素子
WO2010092725A1 (ja) * 2009-02-10 2010-08-19 シャープ株式会社 接続端子及び該接続端子を備えた表示装置
JP5731830B2 (ja) 2010-01-19 2015-06-10 パナソニック株式会社 面状発光装置
JP5418351B2 (ja) 2010-03-24 2014-02-19 日本ゼオン株式会社 ガスバリア積層体及び面光源装置
TW201242414A (en) 2011-01-25 2012-10-16 Panasonic Corp Planate light emitting device
WO2013094617A1 (ja) 2011-12-19 2013-06-27 パナソニック株式会社 面状発光素子

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008218419A (ja) * 1998-04-02 2008-09-18 Cambridge Display Technol Ltd 有機デバイスのための可撓性基体、有機デバイスおよびその製造方法
JP2002107704A (ja) * 2000-10-04 2002-04-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 樹脂基板を用いた液晶表示パネルの切断方法
JP2002170669A (ja) * 2000-12-01 2002-06-14 Tdk Corp 有機el表示装置およびその製造方法
WO2004057920A1 (ja) * 2002-12-19 2004-07-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. 表示装置及び表示装置の作製方法
JP2004281380A (ja) * 2003-02-24 2004-10-07 Sony Corp 表示装置およびその製造方法
JP2006054111A (ja) * 2004-08-12 2006-02-23 Sony Corp 表示装置
JP2009522593A (ja) * 2005-12-30 2009-06-11 エルジー・ケム・リミテッド フレキシブルディスプレイ装置およびその製造方法
JP2009037798A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Sumitomo Chemical Co Ltd バリア層つき基板、表示素子および表示素子の製造方法
JP2011227369A (ja) * 2010-04-22 2011-11-10 Hitachi Displays Ltd 画像表示装置及びその製造方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015049151A1 (en) * 2013-10-03 2015-04-09 Koninklijke Philips N.V. Voltage-light conversion device
KR20160065919A (ko) * 2013-10-03 2016-06-09 오엘이디워크스 게엠베하 전압-광 변환 디바이스
CN105874627A (zh) * 2013-10-03 2016-08-17 Oled工厂有限责任公司 电压-光转换装置
US20160254478A1 (en) * 2013-10-03 2016-09-01 Oledworks Gmbh Voltage-light conversion device
JP2016533614A (ja) * 2013-10-03 2016-10-27 オーエルイーディーワークス ゲーエムベーハーOLEDWorks GmbH 電圧‐光変換デバイス
US9882159B2 (en) * 2013-10-03 2018-01-30 Oledworks Gmbh Voltage-light conversion device
KR102174809B1 (ko) 2013-10-03 2020-11-06 오엘이디워크스 게엠베하 전압-광 변환 디바이스
JP2016100314A (ja) * 2014-11-26 2016-05-30 パイオニア株式会社 発光装置
CN105374946A (zh) * 2015-11-18 2016-03-02 上海天马微电子有限公司 一种柔性显示装置及其制备方法
CN110600636A (zh) * 2019-08-26 2019-12-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种柔性显示面板制备方法及柔性显示面板
US11121351B2 (en) 2019-08-26 2021-09-14 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Flexible display panel and preparation method thereof

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