JPWO2013115162A1 - シタキセンタン誘導体 - Google Patents
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Abstract
Description
[1] 式(1−1)もしくは(1−2)で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[式中、R1は、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、n−プロピル基またはシクロプロピル基を意味し、R2は、水素原子、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、n−プロピル基またはシクロプロピル基を意味し、R3は、C1−6アルキル基またはC1−6アルコキシ基を意味し、Mは
からなる群から選択される基を意味し、式中、R4は、水素原子、メチル基、またはエチル基を意味する。]
[2] Mが、下式
で表される基である、[1]記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[3] Mが、下式
で表される基である、[1]記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[4] R1が、ハロゲン原子である、[1]ないし[3]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[5] R1が、塩素原子である、[4]記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[6] R2が、メチル基である、[1]ないし[5]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[7] R3が、C1−6アルキル基である、[1]ないし[6]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[8] R3が、メチル基である、[7]記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[9] 式(1−1)で表される化合物である、[1]ないし[8]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[10] N−(4−クロロ−3−メチル−1,2−オキサゾール−5−イル)−2−[2−(6−メチル−1,3−ジヒドロ−2−ベンゾフラン−5−イル)アセチル]チオフェン−3−スルホナミドまたはその薬理学的に許容される塩。
[11] [1]ないし[10]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容できる塩を含む医薬組成物。
[12] エンドセリン受容体アンタゴニストである、[11]記載の医薬組成物。
[13] 肺動脈性高血圧症治療剤である、[11]記載の医薬組成物。
[14] [1]ないし[10]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容できる塩を患者に投与する、エンドセリン受容体拮抗方法。
[15] [1]ないし[10]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容できる塩を患者に投与する、肺動脈性高血圧症の治療または予防方法。
[16] エンドセリン受容体拮抗に使用される、[1]ないし[10]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容できる塩。
[17] 肺動脈性高血圧症の治療または予防に使用される、[1]ないし[10]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容できる塩。
[18] エンドセリン受容体アンタゴニストを製造するための、[1]ないし[10]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容できる塩の使用。
[19] 肺動脈性高血圧症治療・予防剤を製造するための、[1]ないし[10]いずれか記載の化合物またはその薬理学的に許容できる塩の使用。
からなる群から選択される基を意味し、式中、R4は、水素原子、メチル基またはエチル基を意味する。上記各基の結合の向きに関して、左側のラジカルはフラタン環に結合しており、右側のラジカルはチオフェン環に結合している。Mは、好ましくは、
で表される基であり(カルボニル炭素がチオフェン環に結合している)、より好ましくは、
で表される基(カルボニル炭素がチオフェン環に結合している)である、
[式中、R1、R2、R3およびMは前記定義と同義である。]
化合物(1−1)または(1−2)のMが
で表される基である場合、下記工程Bによって、化合物(1−1)または(1−2)を得ることができる。なお、下記スキームは化合物(1−1)の製造方法で説明しているが、出発物質を変更することで化合物(1−2)が得られる。
[式中、R1、R2およびR3は前記定義と同義である。式中、Qは臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子などのハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基などのC1−4アルカンスルホニルオキシ基ならびにベンゼンスルホニルオキシ基およびp−トルエンスルホニルオキシ基などのスルホニルオキシ基などの脱離基を意味する。]
本工程は、溶媒存在下、還元剤を用いて化合物(4)を化合物(5)に変換する工程である。
本工程は化合物(5)のホルミル基を1,3−プロパンジチオールでジチアンに変換した後、塩基を用いてジチアンにアニオンを生成させ、次いで化合物(6)と反応させることにより化合物(7)を得る工程である。よい結果を得るためにジチアンへの変換の際にルイス酸を添加してもよい。
本工程は化合物(7)のジチアン環をカルボニル基に変換することで、化合物(1−3)すなわちMが
で表される基である化合物(1−1)を得る工程である。一般的なジチアン環の脱保護反応、例えば硝酸銀などの酸化剤との反応、により本工程を行うことができる。
(1)光親和性標識基(例えば、ベンゾイル基、ベンゾフェノン基、アジド基、カルボニルアジド基、ジアジリジン基、エノン基、ジアゾ基およびニトロ基等)および化学親和性基(例えば、アルファー炭素原子がハロゲン原子で置換されたケトン基、カルバモイル基、エステル基、アルキルチオ基、α、β−不飽和ケトン、エステル等のマイケル受容体、およびオキシラン基等)等のタンパク質標識基、
(2)−S−S−、−O−Si−O−、単糖(グルコース基、ガラクトース基等)または二糖(ラクトース等)等の開裂可能なリンカー、および酵素反応で開裂可能なオリゴペプチドリンカー、
(3)ビオチン、3−(4,4−ジフルオロ−5,7−ジメチル−4H−3a,4a−ジアザ−4−ボラ−s−インダセン−3−イル)プロピオニル基等のフィッシングタグ基、
(4)125I、32P、3H、14Cなどの放射性標識基;フルオレセイン、ローダミン、ダンシル、ウンベリフェロン、7−ニトロフラザニル、3−(4,4−ジフルオロ−5,7−ジメチル−4H−3a,4a−ジアザ−4−ボラ−s−インダセン−3−イル)プロピオニル基等の蛍光標識基;ルミフェリン、ルミノール等の化学発光基;ランタノイド金属イオン、ラジウムイオン等の重金属イオン等の検出可能なマーカーまたは
(5)ガラスビーズ、ガラスベット、マイクロタイタープレート、アガロースビーズ、アガロースベッド、ポリスチレンビーズ、ポリスチレンベッド、ナイロンビーズ、ナイロンベッド等の固相担体と結合させる基等。
製造例1−7に記載のN−(4−クロロ−3−メチル−1,2−オキサゾール−5−イル)−2−{2−[(6−メチル−1,3−ジヒドロ−2−ベンゾフラン−5−イル)メチル]−1,3−ジチアン−2−イル}チオフェン−3−スルホナミド(300mg、0.55mmol)、メタノール(20mL)、水(2mL)、および硝酸銀(940mg、5.5mmol)の混合物を55℃で3日間攪拌した。反応混合物を室温とし、同温でテトラヒドロフラン(40mL)と飽和食塩水(1mL)を加え、セライトを用いてろ過した。ろ液に酢酸エチル(200mL)、水(100mL)、飽和クエン酸水溶液(1mL)を加え、抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(メタノール:酢酸エチル=1:9)で精製後、さらにシリカゲル薄層クロマトグラフィー(メタノール:酢酸エチル=1:32)で精製し、標記化合物(45mg、18%収率)を得た。
1H−NMR Spectrum
(DMSO-d6)δ(ppm):1.99(3H, s), 2.13(3H, s), 4.89(2H, s),
4.92(2H, s), 4.95(2H, s), 7.07(1H, s), 7.09(1H, s), 7.42(1H, d, J=5.1 Hz),
7.77(1H, d, J=5.1 Hz).
水素化ナトリウム(60%、2.1g、52mmol)とテトラヒドロフラン(20mL)の混合物に、0℃で4−クロロ−3−メチル−1,2−オキサゾール−5−アミン(3.0g、23mmol)とテトラヒドロフラン(20mL)の混合物を加え、同温で30分間攪拌した。反応混合物に、同温でメチル 3−(クロロスルホニル)チオフェン−2−カルボキシレート(5.3g、22mmol)を加え、0℃で1時間攪拌し、次いで、室温で4時間攪拌した。反応混合物に、室温でヘキサン(100mL)を加え、析出した固体をろ取した。固体にメタノール(20mL)を加え、次いで、2N水酸化ナトリウム水溶液(20mL)を加え、反応混合物を室温で5時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に氷水(20mL)を加え、次いで、2N塩酸水溶液(20mL)を加えた。析出した固体をろ取することにより、標記化合物(2.5g、35%収率)を得た。
1H−NMR Spectrum
(DMSO-d6)δ(ppm): 2.16
(3H, d, J=1.8 Hz), 7.45 (1H, dd, J=1.3, 5.3 Hz), 7.95 (1H, dd, J=0.9, 5.3 Hz).
製造例1−1に記載の3−[(4−クロロ−3−メチル−1,2−オキサゾール−5−イル)スルファモイル]チオフェン−2−カルボキシリック アシド(2.5g、7.8mmol)とテトラヒドロフラン(25mL)の混合物に、室温で1,1’−カルボニルジイミダゾール(2.0g、12mmol)を加え、同温で30分間攪拌した。反応混合物に、室温でイミダゾール(1.1g、16mmol)とN,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(1.2g、12mmol)を順次加え、同温で5時間攪拌した。反応混合物に1N塩酸水溶液(50mL)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=9:1)で精製し、標記化合物(1.5g、53%収率)を得た。
1H−NMR Spectrum
(CDCl3)δ(ppm): 2.23
(3H, s), 3.45 (3H, s), 3.74 (3H, s), 7.47 (1H, d, J=5.3 Hz), 7.53 (1H, d, J=5.3
Hz).
製造例1−2に記載の3−[(4−クロロ−3−メチル−1,2−オキサゾール−5−イル)スルファモイル]−N−メトキシ−N−メチルチオフェン−2−カルボキサミド(8.0g、22mmol)とテトラヒドロフラン(160mL)の混合物に、−78℃でジイソブチルアルミニウム ヒドリド(46mL、48mmol、1.0M n−ヘキサン溶液)を滴下し、0℃で30分間攪拌した。反応混合物に、0℃で飽和塩化アンモニウム水溶液を滴下し、反応混合物を徐々に室温とし、同温で1時間攪拌した。反応混合物をセライトを用いてろ過し、ろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:メタノール=30:1)で精製し、標記化合物(5.1g、75%収率)を得た。
1H−NMR Spectrum
(DMSO-d6)δ(ppm): 1.97
(3H, s), 7.35 (1H, d, J=5.1 Hz), 7.97 (1H, d, J=5.1 Hz), 10.52 (1H, d, J=1.1
Hz).
1,2,4,5−テトラキス−(ブロモメチル)−ベンゼン(150g、0.33mol)と1,4−ジオキサン(2L)の混合物に、55%テトラブチルアンモニウム ヒドロキシド水溶液(640mL)を室温で加え、90℃で6時間攪拌した。反応混合物を室温とし、2N塩酸水溶液(2L)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:9)で精製し、標記化合物(35g、63%収率)を得た。
1H−NMR Spectrum
(CDCl3)δ(ppm): 5.10(8H,
s), 7.08(2H, s).
リチウム パウダー(15g、2.1mol)、4,4’−ジ−tert−ブチルビフェニル(5.0g、0.021mol)とテトラヒドロフラン(200mL)の混合物に、製造例1−4に記載の5,11−ジオキサトリシクロ[7.3.0.0^{3,7}]ドデカ−1,3(7),8−トリエン(35g、0.21mol)とテトラヒドロフラン(100mL)の混合物を−78℃で加え、同温で4時間攪拌した。反応混合物に同温で水(10mol)を加え、よく攪拌した。反応混合物を室温とし、2N塩酸水溶液(500mL)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=3:7)で精製し、標記化合物(10g、30%収率)を得た。
1H−NMR Spectrum
(DMSO-d6)δ(ppm): 2.24(3H,
s), 4.48(2H, d, J=5.3 Hz), 4.96(4H, s), 5.10(1H, t, J=5.3 Hz), 7.07(1H, s), 7.29(1H,
s).
製造例1−5に記載の(6−メチル−1,3−ジヒドロ−2−ベンゾフラン−5−イル)メタノール(1.0g、6.1mmol)およびジクロロメタン(10mL)の混合物に、氷冷下で、トリエチルアミン(1.7mL、12mmol)を加え、ついで同温でメタンスルホニル クロリド(470μL、6.1mmol)を加えた。反応混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘプタン=1:10)で精製し、標記化合物(680mg、61%収率)を得た。
1H−NMR Spectrum
(CDCl3)δ(ppm): 2.44
(3H, s), 4.63 (2H, s), 5.08 (4H, s), 7.09 (1H, s), 7.20 (1H, s).
製造例1−3に記載のN−(4−クロロ−3−メチル−1,2−オキサゾール−5−イル)−2−ホルミルチオフェン−3−スルホナミド(4.9g、16mmol)およびジクロロメタン(100mL)の混合物に、氷冷下で、ボロン トリフルオリド ジエチル エーテレート(8.1mL、64mmol)と1,3−プロパンジチオール(1.9mL、19mmol)を順次加え、室温で90分間攪拌した。反応混合物に氷冷下で水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製し、N−(4−クロロ−3−メチル−1,2−オキサゾール−5−イル)−2−(1,3−ジチアン−2−イル)チオフェン−3−スルホナミドを粗体として得た。粗体のN−(4−クロロ−3−メチル−1,2−オキサゾール−5−イル)−2−(1,3−ジチアン−2−イル)チオフェン−3−スルホナミドとテトラヒドロフラン(50mL)の混合物に、−78℃でn−ブチルリチウム(9.7mL、16mmol、1.6M n−ヘキサン溶液)を滴下し、内温−35℃で20分間攪拌した。反応混合物を−78℃に冷却し、同温で、製造例1−6に記載の5−(クロロメチル)−6−メチル−1,3−ジヒドロ−2−ベンゾフラン(960mg、5.3mmol)を加え、0℃で1時間攪拌した。反応混合物を−78℃に冷却し、同温で、酢酸(0.90mL、16mmol)とテトラヒドロフラン(7mL)の混合物を加えた。反応混合物を徐々に室温とし、同温で、水とクエン酸水溶液を加え、酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘプタン=4:1)で精製し、標記化合物(1.6g、54%収率)を得た。
1H−NMR Spectrum
(DMSO-d6)δ(ppm):
1.68-1.76(1H, m), 2.01-2.05(1H, m), 2.15(3H, s), 2.20(3H, s), 2.80-2.85(4H, m),
3.73(2H, s), 4.79(2H, s), 4.90(2H, s), 6.64(1H, s), 7.02(1H, s), 7.44(1H, d,
J=5.5 Hz), 7.54(1H, d, J=5.5 Hz).
シタキセンタンおよび実施例1化合物のエンドセリン受容体A(EDNRA)に対する抑制効果
CYP阻害作用
シタキセンタンおよび実施例1化合物のCYP阻害作用は、以下の2通りの方法で試験した。
シタキセンタンおよび実施例1化合物について、5つのCYP分子種(CYP1A2,2C9,2C19,2D6および3A4)に対する時間依存的阻害能を評価した。
又は非存在下において30分間37℃でプレインキュベーションした。被験物質の最終濃度は、0.1、0.2、0.4、0.5、1、2、10または50μMとした。また、補酵素はNADPH生成系(3.6mM β−NADP+、90mM グルコース 6−リン酸、 1Unit/mL グルコース 6−リン酸脱水素酵素を含む60mM MgCl2溶液を5分間インキュベーションすることによりNADPHを生成させた溶液)を用いた。プレインキュベーション後、反応液を一部採取し、モデル基質溶液とNADPH生成系との混合により10倍に希釈した後、10分間37℃でインキュベーションした。アセトニトリルとメタノールの混合溶液(1:1,内標準として0.05μM Dextrophanまたは0.05μM Propranololを含む)を等量添加することにより反応を終了させ、反応液中のモデル基質代謝物をLC−MS/MSで測定した。各CYP分子種のモデル基質およびモデル基質代謝物について表1に示す。対象実験として被験物質非添加時においても同様の実験を行った。対象実験におけるモデル基質代謝物の量に対する比を残存活性とした。NADPH非存在下における残存活性に対するNADPH存在下の残存活性の比を評価し、80%以下であれば“+”、80%より大きければ“−”と定義した。結果を表2に示す。
シタキセンタンおよび実施例1化合物について、5つのCYP分子種(CYP1A2、2C9、2C19、2D6および3A4)に対する競合阻害に基づく阻害能を調べた。
Claims (13)
- 式(1−1)もしくは(1−2)で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩。
[式中、R1は、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、n−プロピル基またはシクロプロピル基を意味し、R2は、水素原子、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、n−プロピル基またはシクロプロピル基を意味し、R3は、C1−6アルキル基またはC1−6アルコキシ基を意味し、Mは
からなる群から選択される基を意味し、式中、R4は、水素原子、メチル基、またはエチル基を意味する。] - Mが、下式
で表される基である、請求項1記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。 - Mが、下式
で表される基である、請求項1記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。 - R1が、ハロゲン原子である、請求項1ないし3いずれか1項記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
- R1が、塩素原子である、請求項4記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
- R2が、メチル基である、請求項1ないし5いずれか1項記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
- R3が、C1−6アルキル基である、請求項1ないし6いずれか1項記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
- R3が、メチル基である、請求項7記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
- 式(1−1)で表される化合物である、請求項1ないし8いずれか1項記載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。
- N−(4−クロロ−3−メチル−1,2−オキサゾール−5−イル)−2−[2−(6−メチル−1,3−ジヒドロ−2−ベンゾフラン−5−イル)アセチル]チオフェン−3−スルホナミドまたはその薬理学的に許容される塩。
- 請求項1ないし10いずれか1項記載の化合物またはその薬理学的に許容できる塩を含む医薬組成物。
- エンドセリン受容体アンタゴニストである、請求項11記載の医薬組成物。
- 肺動脈性高血圧症治療・予防剤である、請求項11記載の医薬組成物。
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