JPWO2013011893A1 - （メタ）アクリレート化合物、ラジカル重合性組成物、硬化物及びプラスチックレンズ - Google Patents

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Abstract

その硬化物が高い屈折率を示すことから、光学材料用途に好適に用いることができる新規の（メタ）アクリレート化合物、及びこれを用いて得られるプラスチックレンズを提供すること。分子構造中にフルオレン骨格を有し、該フルオレン骨格上の置換基として（メタ）アクリロイル基を有する構造部位を有する化合物。

Description

本発明はその硬化物が高い屈折率を示すことから、光学材料用途に好適に用いることができる新規の（メタ）アクリレート化合物、該化合物を含有するラジカル重合性組成物、その硬化物及びプラスチックレンズに関する。
液晶ディスプレイの急速な需要拡大に伴い、薄型化、高鮮明化、省エネ化などのさらなる性能の向上が進められている。ディスプレイの表示をより鮮明なものとし、更に省エネ化を進める手段として、プリズムシートの屈折率を高め、集光力を向上させることにより、バックライトの光を効率的に利用して、より少ない光量で高い輝度を得る方法が検討されている。
プリズムシート用の高屈折率材料は、例えば、ビフェニル骨格を有するアクリレートとフルオレン骨格を有するアクリレートとの組成物（特許文献１参照）や、ビフェニル骨格を有するアクリレート化合物（特許文献２参照）が知られている。しかしながら、液晶ディスプレイの高輝度化の要求は、昨今益々高まっており、より高屈折な光学材料の開発が求められている。
特開２００９−１３２８４２号公報 特開２００３−０６４０２５号公報
従って、本発明の課題は、その硬化物が高い屈折率を示すことから、光学材料用途に好適に用いることができる新規の（メタ）アクリレート化合物、及びこれを用いて得られるプラスチックレンズを提供することにある。
本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意検討した結果、分子構造中にフルオレン骨格を有し、該フルオレン骨格上の置換基として（メタ）アクリロイル基を有する構造部位を有する化合物は、その硬化物が非常に高い屈折率を示すことを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、下記一般式（１）
Figure 2013011893
 ［一般式（１）において、Ｒ1は下記一般式（２）
Figure 2013011893
 〔一般式（２）において、Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、ｌは１〜５のいずれかの整数である。〕
で表される構造部位であり、Ｒ２は水素原子又は上記一般式（２）で表される構造部位であり、Ｘはメチレン基、酸素原子、硫黄原子、下記一般式（３−１）
Figure 2013011893
 〔一般式（３−１）において、Ｙ及びＺはそれぞれ独立してメチレン基又は硫黄原子であり、ｍは０〜４のいずれかの整数である。〕
で表される構造部位、又は下記一般式（３−２）
Figure 2013011893
 〔一般式（３−２）において、ｎは０〜４のいずれかの整数である。〕
で表される構造部位のいずれかである。］
で表される（メタ）アクリレート化合物に関する。
更に、本発明は前記（メタ）アクリレートを含有するラジカル重合性組成物に関する。
更に、本発明は前記ラジカル重合性組成物の硬化物に関する。
更に、本発明は前記ラジカル重合性組成物を硬化させてなるプラスチックレンズに関する。
本発明によれば、その硬化物が高い屈折率を示すことから、光学材料用途に好適に用いることができる新規の（メタ）アクリレート化合物、該化合物を含有するラジカル重合性組成物、その硬化物及びプラスチックレンズを提供することができる。
本発明の（メタ）アクリレート化合物は、下記一般式（１）
Figure 2013011893
 で表される構造部位を有し、該一般式（１）において、Ｒ１は下記一般式（２）
Figure 2013011893
 〔一般式（２）において、Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、ｌは１〜５のいずれかの整数である。〕
で表される構造部位であり、Ｒ２は水素原子又は上記一般式（２）で表される構造部位である。
上記一般式（２）で表される構造部位は、具体的には、以下に列挙する構造式で表されるものが挙げられる。尚、下記構造式中の＊は式（１）のベンゼン環への結合部位を示す。
Figure 2013011893
これらの中でも、硬化物の屈折率がより高い化合物となることから、前記一般式（２）中のｌが１であるものが好ましい。
本発明の（メタ）アクリレート化合物を表す前記一般式（１）において、Ｘはメチレン基、酸素原子、硫黄原子、下記一般式（３−１）
Figure 2013011893
 〔一般式（３−１）において、Ｙ及びＺはそれぞれ独立してメチレン基又は硫黄原子であり、ｍは０〜４のいずれかの整数である。〕
で表される構造部位、又は下記一般式（３−２）
Figure 2013011893
 〔一般式（３−２）において、ｎは０〜４のいずれかの整数である。〕
で表される構造部位のいずれかである。
本発明の（メタ）アクリレート化合物は、ビフェニル上の二つのフェニル基が炭素・酸素・硫黄などの原子またはスピロ構造で架橋された構造を有することにより、高屈折率な重合性化合物となる。
前記一般式（１）におけるＸがメチレン基、酸素原子又は硫黄原子のいずれかである場合、前記一般式（１）は、具体的には下記のような構造となる。
Figure 2013011893
前述の通り、より屈折率の高い化合物となることから、前記一般式（２）中のｌは１であることが好ましく、したがって、Ｘがメチレン基、酸素原子又は硫黄原子である場合、前記一般式（１）のより好ましい形態は、以下のような構造が挙げられる。
Figure 2013011893
Figure 2013011893
Figure 2013011893
Figure 2013011893
前記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物のうち、Ｘがメチレン基、酸素原子又は硫黄原子のいずれかである化合物は、例えば、以下の工程１−１及び工程１−２を経る方法により得られる化合物が挙げられる。
工程１−１：フルオレン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェンのいずれかを出発原料として、これと、ホルムアルデヒドと、ハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸とを、酸触媒の存在下で反応させ、ハロメチル中間体を得る工程。
工程１−２：工程１−１で得たハロメチル中間体と、前記一般式（２）で表される構造部位に対応するアクリル酸誘導体、又はメタクリル酸誘導体とをアルカリ性条件下で反応させ、目的とする（メタ）アクリレート化合物を得る工程。
前記工程１−１で用いる酸触媒は、例えば、塩酸、硫酸、リン酸に代表される無機酸や、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸に代表される有機酸が挙げられる。また、前記工程１−１で用いるホルムアルデヒドは、パラホルムアルデヒドやホルマリンなどいずれの形態のものでも良い。前記工程１−１で用いるハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸は、例えば、臭化水素、塩化水素、臭化水素酸、塩酸等が挙げられる。
前記工程１−２は、より具体的には、例えば、ハロメチル中間体、アクリル酸、水酸化カリウムをｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、フェノチアジン等の重合禁止剤の存在下に、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の溶剤を使用して行う方法が挙げられる。
前記一般式（１）中のＸが前記一般式（３−１）で表される構造部位である場合、前記一般式（１）は、具体的には下記のような構造となる。
Figure 2013011893
中でも、より硬化物の屈折率が高い化合物となることから、前記一般式（３−１）中のＹ及びＺが共に硫黄原子であるものが好ましい。また、該一般式（３−１）中のｍは、より安定な構造を有する化合物となることから、２であることが好ましい。前述の通り、より屈折率の高い化合物となることから、前記一般式（２）中のｌは１であることが好ましい。更に、より硬化性に優れる化合物となることから、前記一般式（１）中のＲ２は前記一般式（２）で表される構造部位であることが好ましい。したがって、前記一般式（１）中のＸが前記一般式（３−１）で表される構造部位である場合、前記一般式（１）のより好ましい形態は、以下のような構造が挙げられる。
Figure 2013011893
前記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物のうち、Ｘが前記一般式（３−１）で表される構造部位である化合物は、例えば、以下の工程２−１〜工程２−３を経る方法により得られる化合物が挙げられる。
工程２−１：フルオレノンを出発原料として、これと、ホルムアルデヒドと、ハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸とを、酸触媒の存在下で反応させ、ハロメチル中間体を得る工程。
工程２−２：工程２−１で得たハロメチル中間体と、グリニャール試薬又はジチオールとを反応させ、前記一般式（３−１）に相当する構造部位を形成させる工程。
工程２−３：工程２−２で得た中間体と、前記一般式（２）で表される構造部位に対応するアクリル酸誘導体、又はメタクリル酸誘導体とをアルカリ性条件下で反応させ、目的とする（メタ）アクリレート化合物を得る工程。
前記工程２−１で用いる酸触媒は、例えば、塩酸、硫酸、リン酸に代表される無機酸や、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸に代表される有機酸が挙げられる。また、前記工程２−１で用いるホルムアルデヒドは、パラホルムアルデヒドやホルマリンなどいずれの形態のものでも良い。前記工程１−１で用いるハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸は、例えば、臭化水素、塩化水素、臭化水素酸、塩酸等が挙げられる。
前記工程２−２で用いるジチオールは、１，２−エタンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，４−ブタンジチオールから、前記一般式（３−１）中のｍの値に応じて選択されるものである。
前記工程２−３は、より具体的には、例えば、中間体、アクリル酸、水酸化カリウムをｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、フェノチアジン等の重合禁止剤の存在下に、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の溶剤を使用して行う方法が挙げられる。
前記一般式（１）中のＸが前記一般式（３−２）で表される構造部位である場合、前記一般式（１）は、具体的には下記のような構造となる。
Figure 2013011893
中でも、より安定な構造を有する化合物となることから、該一般式（３−１）中のｍは０であることが好ましい。また、前述の通り、より屈折率の高い化合物となることから、前記一般式（２）中のｌは１であることが好ましい。更に、より硬化性に優れる化合物となることから、前記一般式（１）中のＲ２は前記一般式（２）で表される構造部位であることが好ましい。したがって、前記一般式（１）中のＸが前記一般式（３−２）で表される構造部位である場合、前記一般式（１）のより好ましい形態は、以下のような構造が挙げられる。
Figure 2013011893
前記一般式（１）で表される（メタ）アクリレート化合物のうち、Ｘが前記一般式（３−２）で表される構造部位である化合物は、例えば、以下の工程３−１〜工程３−３を経る方法により得られる化合物が挙げられる。
工程３−１：フルオレノンを出発原料として、これと、ホルムアルデヒドと、ハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸とを、酸触媒の存在下で反応させ、ハロメチル中間体を得る工程。
工程３−２：工程２−１で得たハロメチル中間体と、グリニャール試薬とを反応させ、前記一般式（３−２）に相当する構造部位を形成させる工程。
工程３−３：工程３−２で得た中間体と、前記一般式（２）で表される構造部位に対応するアクリル酸誘導体、又はメタクリル酸誘導体とをアルカリ性条件下で反応させ、目的とする（メタ）アクリレート化合物を得る工程。
前記工程３−１で用いる酸触媒は、例えば、塩酸、硫酸、リン酸に代表される無機酸や、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸に代表される有機酸が挙げられる。また、前記工程３−１で用いるホルムアルデヒドは、パラホルムアルデヒドやホルマリンなどいずれの形態のものでも良い。前記工程１−１で用いるハロゲン化水素又はハロゲン化水素酸は、例えば、臭化水素、塩化水素、臭化水素酸、塩酸等が挙げられる。
前記工程３−３は、より具体的には、例えば、中間体、アクリル酸、水酸化カリウムをｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、フェノチアジン等の重合禁止剤の存在下に、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の溶剤を使用して行う方法が挙げられる。
以上に述べた本発明の（メタ）アクリレート化合物の中でも、特に屈折率の高い化合物となることから、前記一般式（１）におけるＸが硫黄原子又は前記一般式（３−２）で表される構造部位であるものが好ましい。更に、より粘度の低い化合物であることから、下記構造式で表される化合物である４−アクリロキシメチル−２−ジフェニレンスルフィドが特に好ましい。
Figure 2013011893
本発明のラジカル重合性組成物は、下記一般式（１）
Figure 2013011893
 ［一般式（１）において、Ｒ1は下記一般式（２）
Figure 2013011893
 〔一般式（２）において、Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、ｌは１〜５のいずれかの整数である。〕
で表される構造部位であり、Ｒ２は水素原子又は上記一般式（２）で表される構造部位であり、Ｘはメチレン基、酸素原子、硫黄原子、下記一般式（３−１）
Figure 2013011893
 〔一般式（３−１）において、Ｙ及びＺはそれぞれ独立してメチレン基又は硫黄原子であり、ｍは０〜４のいずれかの整数である。〕
で表される構造部位、又は下記一般式（３−２）
Figure 2013011893
 〔一般式（３−２）において、ｎは０〜４のいずれかの整数である。〕
で表される構造部位のいずれかである。］
で表される（メタ）アクリレート化合物と、重合開始剤とを必須の成分とする。
本発明で用いる重合開始剤は、光重合開始剤や熱重合開始剤のいずれでもよい。
光重合開始剤は、例えば１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
市販の光重合開始剤は、例えば、イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、イルガキュア８１９、イルガキュア９０７、イルガキュア１８７０、イルガキュア５００、イルガキュア３６９、イルガキュア１１７３、イルガキュア２９５９、イルガキュア４２６５、イルガキュア４２６３、ダロキュアＴＰＯ、イルガキュアＯＸＥ０１等（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）が挙げられる。また、イルガキュア２５０等のカチオン系光重合開始剤も使用することができる。
本発明では、光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いても良い。光増感剤は、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントンなどが挙げられる。更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
熱重合開始剤は、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、ｔ−アミルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物が挙げられる。これらはそれぞれ単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
本発明のラジカル重合性組成物は、本発明の（メタ）アクリレート化合物及び重合開始剤の他、その他の共重合可能な反応性単量体や反応性オリゴマーを含んでも良い。
反応性単量体としては、例えば、アクリレート単量体やビニル単量体が挙げられる。
前記アクリレート系単量体は、例えば、単官能アクリレート、二官能アクリレート、三官能以上の多官能アクリレート等が挙げられる。
前記単官能アクリレートは、例えば、アクリロイルモルホリン、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシジエチレングリオール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｉｓｏオクチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏステアリル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート
４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリロイルホスフェート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエンエトキシ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレンモノアクリレート、無水フタル酸−２−ＨＥＡ付加物、無水テトラヒドロフタル酸−２−ＨＰＡ付加物、無水ヘキサヒドロフタル酸−２−ＨＰＡ付加物、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ジブロモフェニル）オキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（２−ナフチロキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−ナフタレニルチオ）エチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記二官能性アクリレートは、例えば、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＣＨ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、ビスフェノールＳジチオール（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記三官能以上の多官能性アクリレートとしては、ＰＯ変性グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
前記ビニル系単量体は、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、ビニルフェノール、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクトン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルナフタレン、ジビニルベンゼンが挙げられる。
前記反応性オリゴマーは、例えば、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられ、ビスフェノールＡ−エピクロルヒドリン型／アクリル酸オリゴマー、フェノールノボラック−エピクロルヒドリン型／アクリル酸オリゴマー、脂環型／アクリル酸オリゴマーが挙げられる。
その他の反応性オリゴマーとしては、ポリオールと有機ポリイソシアネートと水酸基含有（メタ）アクリレートの反応物であるウレタン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコン（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの反応性単量体及び反応性オリゴマーは、それぞれ単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。
本発明におけるラジカル重合性組成物には、組成物の塗布作業性を改良するために、組成物の粘度を調製することを目的として有機溶剤を含有させてもよい。配合量は、発明の効果を損なわない範囲であればよく、本発明の（メタ）アクリレート化合物、前記反応性単量体及び前記反応性オリゴマーの合計を１００質量部としたときに、０．０１質量部から５００質量部の範囲であることが好ましい。有機溶剤としては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメトキシアセトアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルカプロラクタム、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、１，２−ビス（２−メトキシエトキシ）エタン、ビス〔２−（２−メトキシエトキシ）エチル〕エーテル、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、ピリジン、ピコリン、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｍ−クレゾール酸、ｐ−クロロフェノール、アニソール、アセトン、アセチルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、ブチルアセテート、イソアミルアセテート、テトラヒドロフラン、メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。
本発明のラジカル重合性組成物は、前記成分以外に界面活性剤、レベリング剤、離型剤、消泡剤、光安定剤（例えばヒンダードアミンなど）、紫外線吸収剤、酸化防止剤、重合禁止剤、帯電防止剤、着色剤（例えば染料、顔料など）、抗菌剤、シランカップリング剤、無機フィラー、有機フィラーなどの各種添加剤を併用してもよい。
界面活性剤は、市販されているものをそのまま使用することができる。具体的には、例えば、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＦ８４２８、ＤＣ５７、ＤＣ１９０、ＢＹ１６−００４（東レダウコーニング社製）、ペインタッド１９、５４（東レダウコーニング社製、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体）、ＢＹＫ ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５３０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８０（ビックケミー社製）、サイラプレーンＦＭ−４４１１、ＦＭ−４４２１、ＦＭ−４４２５、ＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、ＦＭ−７７２５、ＦＭ−０４１１、ＦＭ−０４２１、ＦＭ−０４２５、ＦＭ−ＤＡ１１、ＦＭ−ＤＡ２１、ＦＭ−ＤＡ２６、ＦＭ０７１１、ＦＭ０７２１、ＦＭ−０７２５、ＴＭ−０７０１、ＴＭ−０７０１Ｔ（チッソ社製）、ＶＰＳ−１００１（和光純薬製）、Ｔｅｇｏ Ｒａｄ ２３００、２２００Ｎ（テゴ・ケミー社製）、メガファックＦ−１１４、Ｆ４１０、Ｆ４１１、Ｆ４５０、Ｆ４９３、Ｆ４９４、Ｆ４４３、Ｆ４４４、Ｆ４４５、Ｆ４４６、Ｆ４７０、Ｆ４７１、Ｆ４７２ＳＦ、Ｆ４７４、Ｆ４７５、Ｒ３０、Ｆ４７７、Ｆ４７８、Ｆ４７９、Ｆ４８０ＳＦ、Ｆ４８２、Ｆ４８３、Ｆ４８４、Ｆ４８６、Ｆ４８７、Ｆ１７２Ｄ、Ｆ１７８Ｋ、Ｆ１７８ＲＭ、ＥＳＭ−１、ＭＣＦ３５０ＳＦ、ＢＬ２０、Ｒ０８、Ｒ６１、Ｒ９０（ＤＩＣ社製）、ディスパロンＬＦ−１９８０、ＬＦ−１９８２、ＬＦ−１９８３，ＬＦ−１９８４，ＬＦ−１９８５（楠本化成株式会社製）などが挙げられる。
本発明のラジカル重合性組成物において、重合開始剤、光増感剤および各種添加剤の配合量は、発明の効果を損なわない程度であれば良く、本発明の（メタ）アクリレート化合物、前記反応性単量体及び前記反応性オリゴマーの合計を１００質量部としたときに、それぞれ０．０１〜５０質量部の範囲内で用いることが好ましい。
本発明のラジカル重合性組成物を硬化させてなる硬化物は、非常に高い屈折率を有することから、液晶テレビ、ノートパソコン、カーナビゲーションシステム、携帯電話、携帯用ゲーム機などの液晶表示パネルの輝度向上を目的とした集光フィルム（プリズムシート）の成形に好適に使用できる。また、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、レンズアレイ、マイクロレンズ、グレーティングレンズ、眼鏡レンズ、コンタクトレンズ、人口水晶体レンズ、眼科用レンズ、カメラレンズなどプラスチックレンズ用途にも好適に使用できる。また、光ディスク用コーティング材、光ファイバー用コーティング材、ホログラム、光造形、導光板、光半導体、光部品用接着剤、光回路、太陽電池用部材、照明装置用部材などにも好適に使用可能である。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、以下断りのない場合、「％」は「質量％」を、「部」は「質量部」を、「ＤＭＦ」は「Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド」を、「ＭＥＨＱ」は「ｐ−メトキシフェノール」をそれぞれ示すものとする。
本発明の実施例において、（メタ）アクリレート化合物の屈折率は、アッべ屈折率計（アタゴ社製「ＮＡＲ−３Ｔ」）を用いて測定した。２５℃で液体のものは２５℃で、２５℃で固体のものに関しては、融点付近で屈折率を測定した。
本発明の実施例において、水素原子のＮＭＲは、日本電子株式会社製のＮＭＲ「ＧＳＸ２７０」を用い、３００ＭＨｚ、重クロロホルム溶媒の条件下で測定した。
本発明の実施例にいて、ガスクロマトグラフによるマススペクトルは、ガスクロマトグラフ質量分析計（ＧＣ−ＭＳ）（島津社製「ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０」、カラム：島津社製「ＺｅｂｒｏｎＺＢ−５」）を用い、Ｈｅキャリアガス、流量１．４７ｍＬ／ｍｉｎ、カラムオーブン５０度、気化室３００度、昇温５０度から３００度（２５度／ｍｉｎ）の条件下で測定した。
本発明の実施例において、ガスクロマトグラム（ＧＣ）分析は、ガスクロマトグラフ（Ａｇｉｌｅｎｔ社製「６８５０Ｓｅｒｉｅｓ」、カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ社製「Ａｇｉｌｅｎｔ ＤＢ−１」）を用い、Ｈｅキャリアガス、流速１ｍＬ／ｍｉｎ、注入温度３００度、検出温度３００度、昇温５０度から３２５度（２５度／ｍｉｎ）の条件下で行った。
実施例 １ ４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレンメタンの合成
Figure 2013011893
中間体（４，４’−ジブロモメチル−２−ジフェニレンメタン）の合成
撹拌機、温度計、冷却管、アルカリ性トラップ（水酸化ナトリウム水溶液）を具備した３つ口フラスコに２５％臭化水素酢酸溶液３９．０部、フルオレン１０．３部、パラホルムアルデヒド部を添加後、７０℃で２時間加熱撹拌した。室温まで除熱後、反応液を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液２００部に注ぎ、沈殿物を回収した。クロロホルム１２０部を添加し、不溶部をろ別後、可溶部を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液で水層がアルカリ性になるまで中和洗浄した。有機層に硫酸マグネシウムを添加後、室温で１時間撹拌した。硫酸マグネシウムをろ別後、有機層を濃縮し、４，４’−ジブロモメチル−２−ジフェニレンメタンを含有する中間反応物１を得た（収量：１５．７部、収率：７４％）。
４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレンメタンの合成
撹拌機、温度計、冷却管、塩化カルシウム管を具備した３つ口フラスコに、上記で得られた中間反応物１を１５．７部、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ） ９０．０部、炭酸カリウム７．４０部およびヒドロキノンモノメチルエーテル（ＭＥＨＱ）を全量に対して濃度が３００ ｐｐｍになるように添加した。反応溶液を４０℃に昇温後、アクリル酸３．８６部を反応溶液に滴下した。滴下終了後、発泡状態に従い９５℃まで昇温し、３時間加熱撹拌した。反応液を室温まで除熱後、ジクロロメタン１６５部を添加し、不溶部をろ別した。可溶部を水 ３６０部で２回洗浄後、有機層に硫酸マグネシウムを添加し、室温で１時間撹拌した。硫酸マグネシウムをろ別後、有機層を濃縮して粘性物を回収した。得られた粘性物をトルエンに溶解し、シリカゲルカラムで精製後、液状の４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレンメタンを得た（収量：２．４部、収率：１７％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ ７．８２−７．７５ （ｍ， ２Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．４８−７．３１ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ６．５０−６．４３ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２３−６．１２ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８８−５．８４ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２７ （ｓ， ４Ｈ ｏｆ ＣＨ２−Ｐｈ）， ４．１２ （ｓ， ２Ｈ ｏｆ Ｐｈ−ＣＨ２−Ｐｈ）．
ＧＣ−ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３５、屈折率（ｎＤ、２５℃）：１．５９６
実施例 ２ ４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレンオキサイドの合成
Figure 2013011893
中間体（４，４’−ジクロロメチル−２−ジフェニレンオキサイド）の合成
撹拌機、温度計、冷却管、アルカリ性トラップ（水酸化ナトリウム水溶液）を具備した３つ口フラスコにジベンゾフラン１８．４部、パラホルムアルデヒド１１．０部、酢酸１３．０部、濃塩酸２１．４部を添加し、８５℃まで昇温後、８５％リン酸水溶液１４部を１５分で滴下した。滴下終了後、６０時間加熱撹拌した。反応液を室温まで除熱後、反応液にジクロロメタン８０部を添加し、蒸留水、１０％炭酸水素ナトリウム、蒸留水の順で水層が中性になるまで洗浄した。有機層に硫酸マグネシウムを添加後、室温で１時間撹拌した。硫酸マグネシウムをろ別後、有機層を濃縮し、反応物を得た。該反応物をエタノールを溶媒として再結晶することにより、４，４’−ジクロロメチル−２−ジフェニレンオキサイドを含有する固形の中間反応物２を得た（収量：７．３部、収率２５％）。
４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレンオキサイドの合成
実施例１において、中間体反応物１ １５．７部を、中間反応物２ １１．８部にした以外は同様に合成した。ジクロロメタンにより抽出した固形物をエタノールから再結晶し、固形物として４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレンオキサイドを得た（収量：５．２部、収率：３５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ ７．８２−７．７５ （ｍ， ２Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．３０−７．０６ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ６．５０−６．４３ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２３−６．１２ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８８−５．８４ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２７ （ｓ， ４Ｈ ｏｆ ＣＨ２−Ｐｈ）．
ＧＣ−ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３３７、屈折率（ｎＤ）：１．５９３、融点：８２℃
実施例 ３ ４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレンスルフィドの合成
Figure 2013011893
中間体（４，４’−ジクロロメチル−２−ジフェニレンスルフィド）の合成
実施例２において、ジベンゾフラン１８．４部をジベンゾチオフェン２０．２部にした以外は同様にして反応させ、反応物を得た。該反応物をジクロロメタンにより抽出し、得られた固形物をジクロロメタンを用いて再結晶させ、中間反応物３を得た（収量：８．０部、収率：２６％）。
４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレンスルフィドの合成
実施例１において、中間反応物１ １５．７部を中間反応物３ ８．０部にした以外は同様に反応させ、反応物を得た。該反応物をジクロロメタン及び酢酸エチルを溶離液として、シリカゲルカラムで精製し、液体である４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレンスルフィドを得た（収量：１．３部、収率：１３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ ７．９８−７．８２ （ｍ， ２Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．７９−７．０６ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ６．５０−６．４３ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２３−６．１２ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８８−５．８４ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２７ （ｓ， ４Ｈ ｏｆ ＣＨ２−Ｐｈ）．
ＧＣ−ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３５３、屈折率（ｎＤ）：１．６１４、融点：１１０℃
実施例 ４ ４−アクリロキシメチル−２−ジフェニレンスルフィドの合成
Figure 2013011893
中間体（４−クロロメチル−２−ジフェニレンスルフィド）の合成
実施例３において、パラホルムアルデヒドの仕込み量を５．５部にした以外は同様にして、反応物を得た。蒸留水での洗浄し、中間反応物４を得た。（収量：１８．６部、収率：６４％）。
４−アクリロキシメチル−２−ジフェニレンスルフィドの合成
実施例３において、中間反応物３を中間反応物４に、炭酸カリウム７．４０部を３．７部、アクリル酸３．８６部を１．９３部にした以外は同様にして反応物を得た。該反応物をジクロロメタン／シクロヘキサン＝１／５（ｖｏｌ／ｖｏｌ）を溶離液として、シリカゲルカラムで精製し、液体の４−アクリロキシメチル−２−ジフェニレンスルフィドを得た（収量：１．１部、収率：１５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ ８．４５−８．３２ （ｍ， １Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．９８−７．９１ （ｍ， ２Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．７９−７．７１ （ｍ， １Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．５２−７．４１ （ｍ， ３Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ６．５０−６．４３ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２３−６．１２ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８８−５．８４ （ｑ， １Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２７ （ｓ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ２−Ｐｈ）．
ＧＣ−ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝２６９、屈折率（ｎＤ、２５℃）：１．６４６
実施例 ５ ４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレン−スピロ［［１，３］ジチオラン］メタンの合成
Figure 2013011893
中間体５（２，７−ジブロモメチル−９−フルオレノン）の合成
撹拌機、温度計、冷却管、アルカリ性トラップ（水酸化ナトリウム水溶液）を具備した３つ口フラスコに９−フルオレノン４５部、パラホルムアルデヒド３０部、４８％臭化水素酸１５５部、酢酸２００部、８５％リン酸１９５部を添加し、７０℃まで昇温した。反応液の温度を８５℃に維持しながら、臭化水素ガスを反応液に８時間バブリングをした。バブリング停止後、８５℃で４８時間加熱撹拌した。反応液を室温まで除熱後、析出物を回収し、蒸留水で洗浄した。析出物を１，４−ジオキサン２５０部で再結晶し、２，７−ジブロモメチル−９−フルオレノンを含有する中間反応体５を得た（収量：６４．５部、収率：７０％）。
なお、臭化水素は４０℃で１，２，３，４，−テトラヒロドナフタレンにブロミンを滴下して合成した。
中間体６（４，４’−ジブロモメチル−２−ジフェニレン−スピロ［［１，３］ジチオラン］メタン）の合成
撹拌機、温度計、冷却管、塩化カルシウム管を具備した３つ口フラスコに、中間反応物５を３．６部、１，２−エタンジチオール１．０部、トリフルオロボラン−ジエチルエーテル０．０３６部、ジクロロメタン１００部を添加し、室温で３時間撹拌した。反応液を蒸留水で洗浄後、有機層を濃縮して、４，４’−ジブロモメチル−２−ジフェニレン−スピロ［［１，３］ジチオラン］メタンを含有する中間反応物６を得た（収量：３．０部、収率：７０％）。
４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレン−スピロ［［１，３］ジチオラン］メタンの合成
実施例１において、中間体反応物１ １５．７部を上記工程で得た中間反応物６ １９．７部にした以外は同様に反応させ、反応物を得た。該反応物をジクロロメタンにより抽出し、さらにジエチルエーテルを用いることで再結晶させ、固形４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレン−スピロ［［１，３］ジチオラン］メタンを得た（収量：５．３部、収率：２８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ ７．８０−７．７６ （ｍ， ２Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．４８−７．３１ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ６．５０−６．４３ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２３−６．１２ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８８−５．８４ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２７ （ｓ， ４Ｈ ｏｆ ＣＨ２−Ｐｈ）， ２．８１ （ｓ， ４Ｈ ｏｆ Ｓ−ＣＨ２−Ｓ）．
ＧＣ−ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４８５、屈折率（ｎＤ）：１．６３２、融点：１１５−１１６℃
実施例 ６ ４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレン−スピロ［２−ジフェニレン］メタンの合成
Figure 2013011893
中間体７（２，７−ジブロモメチル−９−ヒドロキシ−９’−（ｏ−ビフェニル）フルオレン）の合成
窒素雰囲気下で２−ブロモビフェニル２．６部、マグネシウム０．３部を脱水ＴＨＦ５０部に添加し、グリニャール試薬を調製した。実施例５で合成した中間反応物５（２，７−ジブロモメチル−９−フルオレノン）４．７部をＴＨＦ１００部に溶解後、上記グリニャール試薬に滴下した。６６℃下で４８時間加熱撹拌後、蒸留水１００部を添加した。反応溶液にジクロロメタンを添加し、蒸留水で洗浄後、下層に硫酸マグネシウムを添加し、室温で１時間撹拌した。硫酸マグネシウムをろ別後、濃縮した。生成物５．５ｇを酢酸１００部に溶解後、１００℃まで加熱撹拌した。臭化水素酸１０部を反応液に滴下し、１００℃で１時間加熱撹拌した。反応液を室温まで除熱後、蒸留水１０部を添加し、２，７−ジブロモメチル−９−ヒドロキシ−９’−（ｏ−ビフェニル）フルオレンを含有する中間反応物７を得た（収量：４．２部、収率：６８％）。
４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレン−スピロ［２−ジフェニレン］メタンの合成
実施例１において、中間体１ １５．７部を上記工程で得た中間反応物７ ２２．４部にした以外は同様にして反応させ、反応物を得た。該反応物をジクロロメタンにより抽出し、得られた固形物をトルエンに溶解し、シリカゲルカラムで精製後、固体である４，４’−ジアクリロキシメチル−２−ジフェニレン−スピロ［２−ジフェニレン］メタンを得た（収量：５．６部、収率：２６％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ ７．８０−７．７５ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．４８−７．４２ （ｍ， ２Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．３５−７．３１ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．１９−７．１６ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ６．５０−６．４３ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２３−６．１２ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８８−５．８４ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２７ （ｓ， ４Ｈ ｏｆ ＣＨ２−Ｐｈ）．
ＧＣ−ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝４２５、屈折率（ｎＤ）：１．６２５、融点：８５−９５℃
比較例 １ ４，４’−ジアクリロキシメチル−ジフェニルの合成
Figure 2013011893
実施例１において、中間体１ １５．７部を４，４’−クロロメチルビフェニル１１．２部にした以外は同様にして反応させ、反応物を得た。該反応物をジクロロメタンにより抽出、さらにエタノールで再結晶し、白色固形物を得た（収量：１４．５部、収率：７２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ ７．６７−７．４６ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ）， ７．４４−７．２８ （ｍ， ４Ｈ ｏｆ Ｐｈ） ， ６．５０−６．４３ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ６．２３−６．１２ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．８８−５．８４ （ｑ， ２Ｈ ｏｆ ＣＨ＝ＣＨ）， ５．２７ （ｓ， ４Ｈ ｏｆ ＣＨ２−Ｐｈ）．
ＧＣ−ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］＋＝３２３、屈折率（ｎＤ）：１．５７８、融点：６１−６２℃
比較例２ ４，４’−ジアクリロキシエチルオキシル−ジフェニルの合成
特開２００３−０６４０２５実施例１を参考に合成した。
Figure 2013011893
実施例７〜実施例１２ 組成物の調整及び硬化物の作製
実施例１〜実施例６で得られたアクリル酸誘導体各５０質量部とシクロヘキサノン２４６質量部を配合して組成物を得た。この組成物にイルガキュア１８４（チバスペシャリティ・ケミカルズ社製）の６質量部とディスパロンＬＦ−１９８５（楠本化成株式会社製）２質量部を配合し、７６μｍのアプリケーターを用いてＰＥＴ基材状に塗布し、５００ｍＪ／ｃｍ２の高圧水銀灯を用いて、窒素雰囲気下、紫外線を照射することにより、硬化物として基板つきフィルムを得た。該フィルムを基板から剥離し、アッベ屈折率計にフィルムを挟み込んで、硬化物の屈折率を測定した。測定した硬化物の屈折率（ｎＤ、２５℃）を表１に示す。
比較例３〜比較例４ 組成物の調整及び硬化物の作製
実施例７〜実施例１２で調整した組成物において、（メタ）アクリル酸誘導体のかわりに、比較例１から比較例２で得られた化合物を使用した以外は同様にして比較例３〜比較例４を行った。得られた硬化物の屈折率を表２に示す。
比較例５ 組成物の調整
Figure 2013011893
実施例７〜実施例１２で調整した組成物において、（メタ）アクリル酸誘導体のかわりに、ジベンゾフラン（東京化成工業（株）製、屈折率１．６０８、融点９９．３度）を用いた。ジベンゾフランは単独での屈折率が１．６０８と比較的高い化合物であるものの、アクリロイル基を有さない為に硬化物を得ることができなかった。結果を表２に示す。
Figure 2013011893
Figure 2013011893
本発明における新規（メタ）アクリル酸誘導体は、高屈折率であることから、光学材料として良好に利用可能であり、プリズムシートといったプラスチックレンズ用途に好適に使用可能であり、光ディスク用コーティング材、光ファイバー用コーティング材、ホログラム、光造形、導光板、光半導体、光部品用接着剤、光回路、太陽電池用部材、照明装置用部材などにも好適に使用可能である。

Claims (5)

  1. 下記一般式（１）
    Figure 2013011893
     ［一般式（１）において、Ｒ1は下記一般式（２）
    Figure 2013011893
     〔一般式（２）において、Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、ｌは１〜５のいずれかの整数である。〕
    で表される構造部位であり、Ｒ２は水素原子又は上記一般式（２）で表される構造部位であり、Ｘはメチレン基、酸素原子、硫黄原子、下記一般式（３−１）
    Figure 2013011893
     〔一般式（３−１）において、Ｙ及びＺはそれぞれ独立してメチレン基又は硫黄原子であり、ｍは０〜４のいずれかの整数である。〕
    で表される構造部位、又は下記一般式（３−２）
    Figure 2013011893
     〔一般式（３−２）において、ｎは０〜４のいずれかの整数である。〕
    で表される構造部位のいずれかである。］
    で表される（メタ）アクリレート化合物。
  2. 請求項１記載の（メタ）アクリレート化合物及び重合開始剤を必須の成分として含有するラジカル重合性組成物。
  3. 請求項１記載の（メタ）アクリレート化合物、フェニルベンジル（メタ）アクリレート、及び重合開始剤を必須の成分として含有するラジカル重合性組成物。
  4. 請求項２又は３に記載のラジカル重合性組成物の硬化物。
  5. 請求項２又は３に記載のラジカル重合性組成物を硬化させてなるプラスチックレンズ。
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