JPWO2012018111A1 - 真空ポンプ - Google Patents

真空ポンプ Download PDF

Info

Publication number
JPWO2012018111A1
JPWO2012018111A1 JP2012527783A JP2012527783A JPWO2012018111A1 JP WO2012018111 A1 JPWO2012018111 A1 JP WO2012018111A1 JP 2012527783 A JP2012527783 A JP 2012527783A JP 2012527783 A JP2012527783 A JP 2012527783A JP WO2012018111 A1 JPWO2012018111 A1 JP WO2012018111A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pump
vacuum pump
magnetic
rotor
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012527783A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5494807B2 (ja
Inventor
筒井 慎吾
慎吾 筒井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2012527783A priority Critical patent/JP5494807B2/ja
Publication of JPWO2012018111A1 publication Critical patent/JPWO2012018111A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5494807B2 publication Critical patent/JP5494807B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • F04D19/042Turbomolecular vacuum pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D29/00Details, component parts, or accessories
    • F04D29/02Selection of particular materials
    • F04D29/023Selection of particular materials especially adapted for elastic fluid pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D29/00Details, component parts, or accessories
    • F04D29/40Casings; Connections of working fluid
    • F04D29/52Casings; Connections of working fluid for axial pumps
    • F04D29/522Casings; Connections of working fluid for axial pumps especially adapted for elastic fluid pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D29/00Details, component parts, or accessories
    • F04D29/70Suction grids; Strainers; Dust separation; Cleaning
    • F04D29/701Suction grids; Strainers; Dust separation; Cleaning especially adapted for elastic fluid pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • F04D19/048Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps comprising magnetic bearings
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05DINDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2260/00Function
    • F05D2260/95Preventing corrosion
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05DINDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2300/00Materials; Properties thereof
    • F05D2300/10Metals, alloys or intermetallic compounds
    • F05D2300/17Alloys
    • F05D2300/171Steel alloys
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05DINDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2300/00Materials; Properties thereof
    • F05D2300/50Intrinsic material properties or characteristics
    • F05D2300/507Magnetic properties
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05DINDEXING SCHEME FOR ASPECTS RELATING TO NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, GAS-TURBINES OR JET-PROPULSION PLANTS
    • F05D2300/00Materials; Properties thereof
    • F05D2300/60Properties or characteristics given to material by treatment or manufacturing
    • F05D2300/611Coating

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
  • Connection Of Motors, Electrical Generators, Mechanical Devices, And The Like (AREA)

Abstract

真空ポンプ(1)は、回転側排気機能部(32)が形成されたロータ(30)と、固定側排気機能部(22)に対してロータ(30)を回転駆動するモータ(36)と、磁性材料で形成され、ロータ(30)および固定側排気機能部(22)が内部に配置される筒状のポンプケーシング(2)と、を備える。

Description

本発明は、高速回転するロータを有する真空ポンプであって、磁場中での使用に適した真空ポンプに関する。
ターボ分子ポンプでは、固定側のタービン翼に対して、タービン翼が形成されたロータを高速回転することで気体を排気している。これらの固定側タービン翼およびロータは、吸気口フランジが形成されたポンプケーシング内に配置されている(例えば、特許文献1参照)。
日本国特開2008−038844号公報
ターボ分子ポンプのポンプケーシングの材料には、腐食性ガスを排気する場合の耐食性や、ロータ破断時の安全性等を顧慮して、耐食性および引張り強さにおいて優れているオーステナイト系ステンレス鋼(例えば、SUS304)が一般的に用いられている。しかしながら、ターボ分子ポンプを磁場中で使用した場合、オーステナイト系ステンレス鋼は非磁性材料であるためポンプケーシングを磁力線が透過し、高速回転するロータに渦電流が発生し、ジュール熱によりロータ温度が過熱し、アルミ合金で形成されたロータのクリープ破断を招くおそれがあった。
本発明の第1の態様によると、真空ポンプは、回転側排気機能部が形成されたロータと、固定側排気機能部に対してロータを回転駆動するモータと、磁性材料で形成され、ロータおよび固定側排気機能部が内部に配置される筒状のポンプケーシングと、を備える。
本発明の第2の態様によると、第1の態様の真空ポンプにおいて、回転側排気機能部は、ポンプケーシングの内側空間に配置された複数の回転側タービン翼段と、回転側タービン翼段の下流側に設けられて内側空間から外れて配置された円筒状のドラッグポンプ回転部とを有し、固定側排気機能部は、複数の固定側タービン翼段と、ドラッグポンプ回転部の外周側を囲むように隙間を介して配置されるとともに磁性材料で形成された円筒状のドラッグポンプ固定部と、を有することが好ましい。
本発明の第3の態様によると、第1または第2の態様の真空ポンプにおいて、ロータの軸方向の支持を行うスラスト磁気軸受およびロータの径方向の支持を行うラジアル軸受を有する磁気軸受装置と、磁気軸受装置が設けられ、非磁性材料で形成されたポンプベース部と、ロータの軸方向位置を検出するアキシャルセンサと、ロータの径方向位置を検出するラジアルセンサと、磁性材料で形成され、ポンプケーシングの吸気口に設けられて吸気口を介した外部磁場のポンプ内への侵入を低減する第1の磁気遮蔽部材と、磁性材料で形成され、ポンプベース部に設けられて磁気軸受装置への外部磁場の影響を低減する第2の磁気遮蔽部材と、を備えることが好ましい。
本発明の第4の態様によると、第3の態様の真空ポンプにおいて、第2の磁気遮蔽部材は、少なくともアキシャルセンサが収容される真空容器を構成していることが好ましい。
本発明の第5の態様によると、第4の態様の真空ポンプにおいて、非磁性材料で形成されたポンプベース部の外周を覆うように第2の磁気遮蔽部材からポンプケーシングの方向に延在する、磁性材料で形成された第3の磁気遮蔽部材を備えることが好ましい。
本発明の第6の態様によると、第5の態様の真空ポンプにおいて、第2の磁気遮蔽部材と第3の磁気遮蔽部材とを一体に形成することが好ましい。
本発明の第7の態様によると、第3乃至第6のいずれかの態様の真空ポンプにおいて、磁気シールド部材は、円板部と、円板部を吸気口の中央に支持する支持梁とを有することが好ましい。
本発明の第8の態様によると、第7の態様の真空ポンプにおいて、ロータは回転側排気機能部として複数のタービン翼を有し、円板部の外径Dを、ラジアルセンサの外径Ds以上、かつ、ロータの周方向に形成された複数のタービン翼の各翼付け根を通る円の直径Dri以下に設定することが好ましい。
本発明の第9の態様によると、第1乃至第8のいずれかの態様の真空ポンプにおいて、ポンプケーシングの吸気口にボルト固定され、ポンプ内への異物侵入を防止する保護ネットをさらに備え、ポンプケーシングには、ボルト固定用の貫通したネジ孔が形成されていることが好ましい。
本発明の第10の態様によると、第3乃至第6のいずれかの態様の真空ポンプにおいて、第1の磁気遮蔽部材は、ポンプケーシングの吸気口に設けられてポンプ内への異物侵入を防止する保護ネットを兼用することが好ましい。
本発明の第11の態様によると、第1乃至第10のいずれかの態様の真空ポンプにおいて、磁性材料として炭素鋼または合金鋼を用いることが好ましい。
本発明の第12の態様によると、第11の態様の真空ポンプにおいて、ポンプケーシングを炭素鋼であるS45Cで形成することが好ましい。
本発明の第13の態様によると、第11または第12の態様の真空ポンプにおいて磁性材料の表面は、N−Pメッキ処理を含む耐食処理が施されていることが好ましい。
本発明によれば、渦電流に起因するロータ過熱の防止等、外部磁場に対する安定性を向上させることができる。
ターボ分子ポンプを構成するポンプ本体1の断面図である。 外部磁場中にポンプ本体1を配置したときの磁力線の状況を模式的に示す図。 代表的な磁性材料の引張り強さを示す図。 機械構造用合金鋼の引張り強さを示す図。 機械構造用炭素鋼の引張り強さを示す図。 保護ネット固定用ネジ孔200を示す図。 ターボポンプ部およびドラッグポンプ部の両方を囲むポンプケーシング2を示す図。 第2の実施の形態を示す図。 図8のA矢視図。 スラストカバー40,41および磁性シールド部材42の作用を説明する図。 第2の実施の形態の変形例を示す図。 磁性シールド部材42の変形例を示す図。
以下、図を参照して本発明の実施するための形態について説明する。
−第1の実施の形態−
図1は本発明に係る真空ポンプの一実施の形態を示す図であり、ターボ分子ポンプを構成するポンプ本体1の断面図である。ターボ分子ポンプは、図1に示すポンプ本体1と不図示のコントロールユニットとで構成される。
図1に示したターボ分子ポンプは磁気浮上式のターボ分子ポンプであって、ロータ30は、ラジアル方向の磁気軸受37およびスラスト方向の磁気軸受38によって非接触支持される。ロータ30の浮上位置は、ラジアル変位センサ27およびアキシャル変位センサ28によって検出される。磁気軸受によって回転自在に磁気浮上されたロータ30は、モータ36により高速回転駆動される。26,29は非常用のメカニカルベアリングであり、磁気軸受が作動していない時にはこれらのメカニカルベアリング26,29によりロータ30は支持される。
本実施の形態に記載のターボ分子ポンプは、排気機能部としてターボポンプ部とドラッグポンプ部とを備えている。ターボポンプ部は、ロータ30に形成された複数段の回転翼32と、複数段の回転翼32に対して軸方向に交互に配置された複数段の固定翼22とで構成される。ドラッグポンプ部は、ロータ30に形成された円筒部31と、円筒部31の外周側を囲むように所定隙間を介して配置されたネジステータ24とで構成される。なお、回転翼32および円筒部31は回転側排気機能部を構成し、固定翼22およびネジステータ24は固定側排気機能部を構成する。
ロータ30および固定翼22は、磁性材料で形成された筒状のポンプケーシング2の内部に配置されている。各固定翼22は、スペーサリング23を介してベース20上に載置される。ポンプケーシング2の固定フランジ21cをボルトによりベース20に固定すると、積層されたスペーサリング23がベース20とポンプケーシング2との間に挟持され、固定翼22が位置決めされる。ベース20には排気ポート25が設けられ、この排気ポート25にバックポンプが接続される。ロータ30を磁気浮上させつつモータ36により高速回転駆動することにより、吸気口21a側の気体分子は排気ポート25側へと排気される。
ポンプケーシング2の吸気口側には吸気口フランジ21bが形成されており、吸気口フランジ21bに形成された吸気口21aから気体分子がポンプ内に流入する。ポンプ本体1を真空装置に取り付ける場合には、一般的に吸気口フランジ21bを装置側のフランジにボルト固定する。吸気口フランジ21bには、ボルトを通すためのボルト孔が複数形成されている。ボルト孔の数や穴径は、フランジの規格により定められている。また、吸気口フランジ21bには、ポンプ内に異物が侵入するのを防止するための、保護ネット8がボルト固定されている。
ターボ分子ポンプのロータには一般的にアルミ合金が用いられるが、ターボ分子ポンプを磁場環境下で使用する場合、磁場の影響による渦電流の発生が問題となる。図2は、外部磁場中にポンプ本体1を配置したときの磁力線の状況を模式的に示す図であり、図1のB−B断面を示したものである。図2において、(a)は従来のターボ分子ポンプの場合を示し、(b)は本実施の形態のターボ分子ポンプの場合を示す。符号100で示す実線は外部磁場による磁力線を示している。また、符号Rはロータ30の回転方向を示している。
ターボ分子ポンプが使用される半導体製造装置や液晶パネル製造装置などにおいては、腐食性ガスを排気する場合が多い。また、高速回転するロータ30が破断した場合に備えて、ポンプケーシング2の材料には引張り強さに優れた材料を使用する必要がある。そのため、従来のターボ分子ポンプでは、耐食性に優れ引張り強さの大きな材料として、オーステナイト系ステンレス鋼、例えば、SUS304等が使用されている。しかしながら、オーステナイト系ステンレス鋼は非磁性材料であるため、ターボ分子ポンプを磁場中で使用した場合、図2(a)に示すように、ポンプケーシング2内のロータ30が配置されている空間にも磁場が形成されてしまうことになる。そのため、ロータ30が磁場中で高速回転したときに渦電流が生じ、渦電流によるジュール熱によってロータ30の温度が上昇するという問題があった。
一方、本実施の形態に記載のターボ分子ポンプでは、ポンプケーシング2は透磁率の大きな磁性材料で形成されているため、磁力線はポンプケーシング2に集中し、ポンプケーシング内の空間はポンプケーシング2によって磁気遮蔽される。そのため、ロータ30は外部磁場の影響をほとんど受けることが無く、渦電流の発生が防止される。
上述したように、ポンプケーシング2には引張り強さの大きな材料を用いる必要があるが、ここでの指標としては、従来用いられているオーステナイト系ステンレス鋼(SUS304)の引張り強さ(約520MPa)を使用する。図3は、代表的な磁性材料の引張り強さを示したものであるが、その内でパーマロイおよび機械構造用鋼がSUS304の520MPaと同程度以上の引張り強さを有する。
図4は機械構造用合金鋼(JIS G 4053)の引張り強さを示し、図5は機械構造用炭素鋼(JIS G 4051)の引張り強さを示す。図4に示す機械構造用合金鋼の場合には、いずれも700MPa以上の引張り強さを有しており、SUS304の引張り強さ(520MPa)を越えている。すなわち、SUS304に代えて使用することができる。また、図5に示す機械構造用炭素鋼の場合には、炭素含有量の大きいS45C、S55Cにおいて、SUS304を越える引張り強さを有している。SUS304と同程度のものを選択するとした場合、図5に示すS45Cが適当である。
また、ポンプケーシング2には耐食性が求められるので、図4,5に記載の材料を用いる場合、ポンプケーシングの表面に耐食性保護膜を形成する必要がある。耐食性保護膜としては、ニッケルメッキ等のメッキ処理や電着塗装などがあるが、耐食性の点ではニッケルメッキ処理が好ましい。
ところで、ターボ分子ポンプにおいては、ポンプ内への異物の侵入を防止するために、図1に示したような保護ネット8が吸気口に装着されるのが一般的である。図6は、ポンプケーシング2の吸気口フランジ部分に形成された保護ネット固定用ネジ孔200を示す図である。図1に示したように、ポンプケーシング2の吸気口21aには異物の吸い込みを防止する保護ネット8が設置されており、保護ネット8は吸気口フランジ21bにボルト固定されている。吸気口フランジ21bには、ボルト201が螺合するネジ孔200が形成されている。本実施の形態では、このネジ孔200へのメッキの付き回り性を向上させるために、ネジ孔200は貫通したネジ孔とした。
保護ネット固定用のボルト201は、吸気口21aの開口面積を大きくするために、できるだけ小さいサイズのボルト、例えば、M3程度のボルトが使用されている。そのため、ネジ孔200が貫通でなかった場合、ネジ孔200の奥へ行くほどメッキ厚さが薄くなり、ネジ孔200の底の部分にメッキが付かないおそれがある。そのような場合、ボルト201が螺合していても腐食性ガスがネジ孔200の奥の空間に回り込むことがあるため、ポンプケーシング2に錆を発生させる可能性があった。しかし、図6に示すような貫通孔とすることで、そのような不具合の発生を防止することができる。また、従来のSUS304に代えて炭素鋼を用いることにより、ポンプケーシング2をより安価に製作することができる。
なお、図1に示した例では、ポンプケーシング2はターボポンプ部の外周を囲むような形で設けられているが、図7に示すように、ターボポンプ部(22,32)およびドラッグポンプ部(24,31)の両方を囲むようなポンプケーシングとしても良い。ロータ30に対するポンプケーシング2の磁気シールド効果をより高めることができる。
また、ポンプケーシング2の形状は図1と同様とし、ネジステータ24をポンプケーシング2の場合と同様の磁性材料で形成するようにしても良い。それにより、ロータ30の円筒部31の部分は、ネジステータ24により磁気シールドされることになる。この場合も、ネジステータ24を磁性材料で形成すると共にニッケルメッキ等の耐食性保護膜を形成する。
−第2の実施の形態−
図8は、本発明の第2の実施の形態を示す図である。図8に示すターボ分子ポンプはポンプとしての基本構造は図1に示したポンプと同一であるが、磁性材料で形成されたスラストカバー40、スラストカバー41および磁気シールド部材42を備えた点が異なる。また、図8では磁気軸受の構成を詳細に示したが、その構造は図1に示すポンプの磁気軸受と同一のものである。
第1の実施の形態に記載のターボ分子ポンプでは、径方向の外部磁場が作用した場合に、ロータ30の側周部分(例えば、円筒部31)に渦電流が発生するのを防止するような構成とした。しかしながら、軸方向の外部磁場が作用した場合、ロータ30の回転翼32に渦電流が生じるおそれがある。また、渦電流による発熱とは別に、磁気軸受制御に対する外部磁場の影響が問題となる。第2の実施の形態では、径方向の外部磁場だけでなく、さらに軸方向の外部磁場をも考慮した構成とし、外部磁場に対する安定性をさらに向上させるようにした。
ポンプケーシング2およびネジステータ24は、第1の実施の形態と同様に透磁率の大きな磁性材料が用いられる。図8に示すターボ分子ポンプでは、スラスト方向の磁気軸受38を構成する図示上側の電磁石38aはベース20内に設けられているが、下側の電磁石38bはベース20の底部に固定されたスラストカバー40,41内に設けられている。スラストカバー40,41内には、磁気軸受38に対応して設けられたアキシャル変位センサ28も配設されている。このように、磁性材料で形成されたスラストカバー40,41は、アキシャル変位センサ28と下側の電磁石38bとが収容される磁気遮蔽用のケースを構成している。
図9は、図8のA矢視図である。ポンプケーシング2の吸気口フランジ21bには、図9に示すような形状の磁性シールド部材42が設けられている。磁性シールド部材42は、吸気口21aの中央に配置される円板部42aと、吸気口フランジ21bに固定されるリング部42bと、連結部42cとを備えている。連結部42cは、円板部42aを吸気口21aの中央に支持する梁として機能すると共に、円板部42aからリング部42bへ磁束を導く磁路としての機能も有する。円板部42a,リング部42bおよび連結部42cとで囲まれた4つの開口部421が、実質的なポンプ開口となる。ここでは、円板部42aの直径寸法をDとする。
図10は、スラストカバー40,41および磁性シールド部材42の磁気シールドとしての作用を説明する図である。図10は、ポンプ本体1に対して、軸方向の外部磁場が加わった場合を示したものである。符号300で示す矢印線は磁束を表している。図示上方から吸気口フランジ21bに侵入した磁束は、透磁率の大きな物体に集まりやすいので、磁性材料で形成された磁性シールド部材42およびポンプケーシング2に集まりやすい。そのため、磁束300の大部分はポンプケーシング2を通ってベース20へと抜ける。もちろん、磁性シールド部材42には開口部420が形成されているので、その開口部420を介してポンプケーシング2内に磁束の一部が侵入することになる。
このように、磁性シールド部材42は磁気シールドとしての役目を担うものなので、円板部42aの直径Dを大きくして開口部421が小さくした方が良いが、一方で、真空ポンプとしての排気性能の低下を抑えるためには、開口部421をできるだけ大きくした方が良い。そのため、本実施の形態では、磁気軸受への外部磁場の影響を低減するという目的から、円板部42aの直径Dを、「Ds≦D≦Dri」の条件を満足するように構成した。図8に示すように、Dsはラジアル変位センサ27の外径寸法であり、Driは最上段の回転翼32の翼付け根部分を通る円の直径である。
条件「D≦Dri」は、排気性能の低下の抑制の観点から設定されたものである。磁気シールド部材42の開口部420を通過してポンプケーシング2内に流入した気体分子の内、回転翼32の翼付け根部分よりも内周側に入射した気体分子は、ロータ30の上面で反射されて吸気口側に進行することになる。すなわち、吸気口21aの中央部分を通過して流入する気体分子は、ポンプによって排気される確率が低い。そのため、吸気口21aの中央部分に気体分子の流入を邪魔する円板部42aを配置しても、排気性能低下への影響を低く抑えることができる。そして、吸気口21aを通過して回転翼32の翼付け根部分よりも外周側に入射する気体分子の流れの邪魔にならないように、円板部42aの外径Dを翼付け根部分の径寸法Dri以下とするのが好ましい。また、磁束の経路という観点からは、磁気飽和しないように連結部42Cの断面積を大きくした方が良いが、逆に排気性能の低下を抑えるためには、連結部42Cの幅寸法Wは小さい方が好ましい。
なお、図9に示した磁性シールド部材42では、磁性シールド部材42を吸気口フランジ21bに装着するためのリング部42bを設けたが、リング部42bを省略して、連結部42cを吸気口フランジ21bに固定するようにしても良い。
一方、条件「Ds≦D」については、磁気軸受制御に対する外部磁場の影響を少なくするために設定されたものである。開口部420を介して侵入した磁束は、非磁性材料(例えばアルミ)で形成されたロータ30を通過して磁気軸受部分まで達することになる。そこで、その影響を抑えるために、円板部42aの外径Dをラジアル変位センサ27の外径Ds以上に設定することとした。このように設定することで、吸気口21aの中央部分からポンプケーシング2内に侵入して磁気軸受部分まで達する磁束を低減するようにした。
ポンプケーシング2からベース20へと抜けた磁束300は、アルミ材で形成されたベース20をそのまま下方に抜けるよりも、透磁率の大きな磁性材料で形成されたネジステータ24へと集まりやすい。ネジステータ24を通った磁束300は、ベース20を介してベース下部に固定されたスラストカバー40,41を通ってポンプ外へと抜ける。そのため、スラスト磁気軸受38に関する部品はスラストカバー40,41によって磁気シールドされ、外部磁場の影響を受け難くなる。このように、スラストカバー40,41は、外部磁場の影響を遮蔽する磁気遮蔽部材として機能するものであり、軸方向の外部磁場に限らず径方向の外部磁場に対しても遮蔽効果を有している。
なお、スラストカバー40に関しては、電磁石38bの磁束の通り道になる可能性がある。一般的に、電磁石38bのコアには透磁率が大きな純鉄などが用いられるので、スラストカバー40による影響は小さいと考えるが、磁性材料を選択する際には注意が必要である。そのため、スラストカバー40の透磁率は、コアの透磁率よりも小さいものを選択するのが好ましい。
なお、スラストカバー40,41および磁性シールド部材42の場合には、ポンプケーシング2の場合のように特別な強度を必要としないので、図4,5に示した磁性材料の中から飽和磁束密度の大きな材料を選択することが可能である。例えば、炭素鋼の場合であれば、炭素含有量が小さいほど飽和磁束密度も大きくなる。そのため、図5に示す材料の場合、磁気シールドの効果は表の最上段に示したS10Cが最も高く、下段になるほど効果が小さくなる。また、スラストカバー40,41および磁性シールド部材42は、いずれも真空雰囲気内に配置されるので、Ni−Pメッキや電着塗装等の耐食性を有する表面処理を施すのが好ましい。
図11は、図8に示したターボ分子ポンプの変形例を示す図である。この変形例では、スラストカバー40に、磁性材料で形成した円板40bおよび円筒40cを追加して設けた。スラストカバー40と円板40bとの間、および円板40bと円筒40cとの間はボルト等で締結しても良いし、スラストカバー40,円板40bおよび円筒40cを一体に形成してもよい。なお、円板40bおよび円筒40cとスラストカバー40とを別体とする場には、円板40bおよび円筒40cに対するNi−Pメッキ等の表面処理を省略することが可能である。
図10に示した構成の場合、ポンプケーシング2を通った磁束を、ネジステータ24を介して磁束をスラストカバー40へと導くようにした。しかし、磁束の経路であるネジステータ24の断面積を設計の都合で大きくできない場合、外部磁場の強度によってはネジステータ24の飽和磁束密度を超えてしまう場合がある。そのような場合、磁気が漏洩して,近接しているロータ30の円筒部31に渦電流が発生するおそれがある。
そこで、図11に示した変形例では、スラストカバー40からポンプケーシング2の固定フランジ21cの方向に伸延するように、磁性材料で形成された円板40bおよび円筒40cを設けた。このような構造とすることにより、磁束はポンプケーシングから円筒部40cへと入り、円板40b、スラストカバー40、41を通って下方へと抜ける。この場合、ネジステータ24を磁性材料で形成しても良いし、非磁性の材料で形成しても良い。
なお、第2の実施の形態における磁性シールド部材42は、吸気口21aに配置される磁気遮蔽部材の一例を示したものであり、図12に示すような形状であっても良い。図12では、図9に示す開口部421よりも面積の小さな複数の円形開口422が、吸気口領域に一様に分布している。この円形開口422の直径をより小さくして、従来の保護ネットの機能を兼ね備えるようにしても良い。
上述した各実施形態はそれぞれ単独に、あるいは組み合わせて用いても良い。それぞれの実施形態での効果を単独あるいは相乗して奏することができるからである。例えば、ポンプの使用環境に応じて、ポンプケーシング2、ネジステータ24、磁性シールド部材42、スラストカバー40,41,円板40a、円筒40bの全てを実施しても良いし、いくつかを選択して実施しても良い。
また、本発明は、ターボ分子ポンプ部のみの真空ポンプに対しても、ドラッグポンプ部のみの真空ポンプに対しても同様に適用することができる。
上記では、種々の実施の形態および変形例を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。
次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
日本国特許出願2010年第177136号(2010年8月6日出願)
日本国特許出願2010年第232977号(2010年10月15日出願)

Claims (13)

  1. 回転側排気機能部が形成されたロータと、
    固定側排気機能部に対して前記ロータを回転駆動するモータと、
    磁性材料で形成され、前記ロータおよび前記固定側排気機能部が内部に配置される筒状のポンプケーシングと、を備えた真空ポンプ。
  2. 請求項1に記載の真空ポンプにおいて、
    前記回転側排気機能部は、前記ポンプケーシングの内側空間に配置された複数の回転側タービン翼段と、前記回転側タービン翼段の下流側に設けられて前記内側空間から外れて配置された円筒状のドラッグポンプ回転部とを有し、
    前記固定側排気機能部は、複数の固定側タービン翼段と、前記ドラッグポンプ回転部の外周側を囲むように隙間を介して配置されるとともに磁性材料で形成された円筒状のドラッグポンプ固定部と、を有する真空ポンプ。
  3. 請求項1または2に記載の真空ポンプにおいて、
    前記ロータの軸方向の支持を行うスラスト磁気軸受および前記ロータの径方向の支持を行うラジアル軸受を有する磁気軸受装置と、
    前記磁気軸受装置が設けられ、非磁性材料で形成されたポンプベース部と、
    前記ロータの軸方向位置を検出するアキシャルセンサと、
    前記ロータの径方向位置を検出するラジアルセンサと、
    磁性材料で形成され、前記ポンプケーシングの吸気口に設けられて前記吸気口を介した外部磁場のポンプ内への侵入を低減する第1の磁気遮蔽部材と、
    磁性材料で形成され、前記ポンプベース部に設けられて前記磁気軸受装置への外部磁場の影響を低減する第2の磁気遮蔽部材と、を備えた真空ポンプ。
  4. 請求項3に記載の真空ポンプにおいて、
    前記第2の磁気遮蔽部材は、少なくとも前記アキシャルセンサが収容される真空容器を構成している真空ポンプ。
  5. 請求項4に記載の真空ポンプにおいて、
    前記非磁性材料で形成されたポンプベース部の外周を覆うように前記第2の磁気遮蔽部材から前記ポンプケーシングの方向に延在する、磁性材料で形成された第3の磁気遮蔽部材を備える真空ポンプ。
  6. 請求項5に記載の真空ポンプにおいて、
    前記第2の磁気遮蔽部材と前記第3の磁気遮蔽部材とを一体に形成した真空ポンプ。
  7. 請求項3乃至6のいずれか一項に記載の真空ポンプにおいて、
    前記磁気シールド部材は、円板部と、前記円板部を前記吸気口の中央に支持する支持梁とを有する真空ポンプ。
  8. 請求項7に記載の真空ポンプにおいて、
    前記ロータは前記回転側排気機能部として複数のタービン翼を有し、
    前記円板部の外径Dを、前記ラジアルセンサの外径Ds以上、かつ、前記ロータの周方向に形成された複数の前記タービン翼の各翼付け根を通る円の直径Dri以下に設定した真空ポンプ。
  9. 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の真空ポンプにおいて、
    前記ポンプケーシングの吸気口にボルト固定され、ポンプ内への異物侵入を防止する保護ネットをさらに備え、
    前記ポンプケーシングには、ボルト固定用の貫通したネジ孔が形成されている真空ポンプ。
  10. 請求項3乃至6のいずれか一項に記載の真空ポンプにおいて、
    前記第1の磁気遮蔽部材は、前記ポンプケーシングの吸気口に設けられてポンプ内への異物侵入を防止する保護ネットを兼用する真空ポンプ。
  11. 請求項1乃至10のいずれか一項に記載の真空ポンプにおいて、
    前記磁性材料として炭素鋼または合金鋼を用いた真空ポンプ。
  12. 請求項11に記載の真空ポンプにおいて、
    前記ポンプケーシングを炭素鋼であるS45Cで形成した真空ポンプ。
  13. 請求項11または12に記載の真空ポンプにおいて、
    前記磁性材料の表面は、N−Pメッキ処理を含む耐食処理が施されている真空ポンプ。
JP2012527783A 2010-08-06 2011-08-05 真空ポンプ Expired - Fee Related JP5494807B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012527783A JP5494807B2 (ja) 2010-08-06 2011-08-05 真空ポンプ

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010177136 2010-08-06
JP2010177136 2010-08-06
JP2010232977 2010-10-15
JP2010232977 2010-10-15
PCT/JP2011/067943 WO2012018111A1 (ja) 2010-08-06 2011-08-05 真空ポンプ
JP2012527783A JP5494807B2 (ja) 2010-08-06 2011-08-05 真空ポンプ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2012018111A1 true JPWO2012018111A1 (ja) 2013-10-03
JP5494807B2 JP5494807B2 (ja) 2014-05-21

Family

ID=45559606

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012527783A Expired - Fee Related JP5494807B2 (ja) 2010-08-06 2011-08-05 真空ポンプ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20130129482A1 (ja)
JP (1) JP5494807B2 (ja)
CN (1) CN103069173B (ja)
WO (1) WO2012018111A1 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6206002B2 (ja) * 2013-08-30 2017-10-04 株式会社島津製作所 ターボ分子ポンプ
DE102014102273A1 (de) * 2014-02-21 2015-08-27 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
CN104466606B (zh) * 2014-11-18 2017-11-10 宁波日鼎电子科技有限公司 一种部份导通的连接器外壳电泳处理方法
EP3034881B1 (de) * 2014-12-18 2018-10-31 Pfeiffer Vacuum GmbH Vakuumpumpe
JP6433812B2 (ja) * 2015-02-25 2018-12-05 エドワーズ株式会社 アダプタ及び真空ポンプ
JP6578838B2 (ja) * 2015-09-15 2019-09-25 株式会社島津製作所 真空ポンプおよび質量分析装置
JP6658309B2 (ja) * 2016-05-31 2020-03-04 株式会社島津製作所 真空ポンプ
JP6948147B2 (ja) * 2017-04-18 2021-10-13 エドワーズ株式会社 真空ポンプ、真空ポンプに備わる磁気軸受部およびシャフト
JP6927735B2 (ja) * 2017-04-20 2021-09-01 エドワーズ株式会社 真空ポンプ、磁気軸受装置及びロータ
CN110546381A (zh) * 2017-04-27 2019-12-06 株式会社岛津制作所 泵监视装置、真空处理装置以及真空泵
JP6992569B2 (ja) * 2018-02-14 2022-01-13 株式会社島津製作所 真空ポンプおよびバランス調整方法
EP3561306B1 (de) * 2018-07-20 2021-06-09 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
EP3640481B1 (de) * 2018-10-15 2023-05-03 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe
GB2588146A (en) * 2019-10-09 2021-04-21 Edwards Ltd Vacuum pump
EP3926174B1 (de) * 2021-06-29 2023-06-14 Pfeiffer Vacuum Technology AG Vakuumpumpe

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0769444B2 (ja) * 1987-04-08 1995-07-31 日本原子力研究所 タ−ボ分子ポンプのシ−ルド装置
JPH01190991A (ja) * 1988-01-26 1989-08-01 Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk 真空ポンプ
JPH0745805Y2 (ja) * 1990-03-20 1995-10-18 日本信号株式会社 硬貨処理装置
JP4250353B2 (ja) * 2001-06-22 2009-04-08 エドワーズ株式会社 真空ポンプ
JP2003021092A (ja) * 2001-07-03 2003-01-24 Boc Edwards Technologies Ltd 真空ポンプ
JP2003129991A (ja) * 2001-10-24 2003-05-08 Boc Edwards Technologies Ltd 分子ポンプ
EP1757825B1 (en) * 2005-08-24 2010-09-29 Mecos Traxler AG Magnetic bearing device with an improved vacuum feedthrough
JP3119272U (ja) * 2005-12-08 2006-02-16 株式会社島津製作所 分子ポンプ
KR100944543B1 (ko) * 2008-07-31 2010-03-03 주식회사 중원 에스엠이티 마그네트 펌프용 커플러

Also Published As

Publication number Publication date
US20130129482A1 (en) 2013-05-23
CN103069173B (zh) 2016-05-04
WO2012018111A1 (ja) 2012-02-09
JP5494807B2 (ja) 2014-05-21
CN103069173A (zh) 2013-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5494807B2 (ja) 真空ポンプ
JP6617903B2 (ja) 直結駆動型のデュアルターボブロワー冷却構造
US10024327B2 (en) Turbomolecular pump, and method of manufacturing rotor
US7986070B2 (en) Overmoulded or canned electrical machine
RU2669122C1 (ru) Компрессор со встроенными двигателями и рабочими колесами, объединенными с роторами двигателей
JP3119272U (ja) 分子ポンプ
WO2012105116A1 (ja) 真空ポンプの回転体と、これに対向設置する固定部材、及び、これらを備えた真空ポンプ
US11976663B2 (en) Vacuum pump, rotor, and rotor body with rupture location control means on the rotor
JP2015143513A (ja) 真空ポンプ
US20170254341A1 (en) Sealing device for turbomachines
RU2668382C2 (ru) Магнитный подшипниковый узел для ротационной машины и турбомашина, содержащая такой узел
KR20150056793A (ko) 자기 스러스트 베어링, 터보 기계 및 방법
US8591204B2 (en) Turbo-molecular pump
JP2016048038A (ja) 遠心式送風機
JP6079083B2 (ja) ターボ分子ポンプおよびスペーサ
JP2016118226A (ja) 磁気軸受及び回転機械
JP2010216374A (ja) 水力発電装置
KR102669883B1 (ko) 터보 분자 펌프
JP3168845U (ja) ターボ分子ポンプ
JP2015158201A (ja) 真空ポンプ
JP2019039431A (ja) 調整リング
JP5156477B2 (ja) 送風装置
JP7463332B2 (ja) 真空ポンプ、真空ポンプの軸受保護構造、及び真空ポンプの回転体
JP7424007B2 (ja) 真空ポンプ
JP2011185094A (ja) ターボ分子ポンプ

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131112

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140109

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140204

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140217

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5494807

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees