JPWO2011136027A1 - 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2011136027A1 JPWO2011136027A1 JP2011532441A JP2011532441A JPWO2011136027A1 JP WO2011136027 A1 JPWO2011136027 A1 JP WO2011136027A1 JP 2011532441 A JP2011532441 A JP 2011532441A JP 2011532441 A JP2011532441 A JP 2011532441A JP WO2011136027 A1 JPWO2011136027 A1 JP WO2011136027A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- glass
- less
- total
- sro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
ところで、先に述べた熱アシスト磁気記録技術に対応できる基板としてシリコン基板が提案されている(特許文献1参照)。
本発明はこのような磁気ディスクの製造方法およびそのような製造方法に好適な情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法の提供を目的とする。
また、温度が550℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、SiO2を67〜72%、Al2O3を11〜14%、B2O3を0〜2%未満、MgOを4〜9%、CaOを4〜6%、SrOを1〜6%、BaOを0〜5%含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量合計が14〜18%、上記7成分の含有量合計が95%以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1%未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法(以下、第2の方法という。)を提供する。なお、「B2O3を0〜2%未満含有する」とは、B2O3を0%以上2%未満含有する、の意である。
すなわち、情報記録媒体は持ち運びされる時や使用中などに誤って床などに落とされることが多いが、情報記録媒体の基板としてガラス基板が用いられている場合にはその衝撃でガラス基板が割れる問題があった。
また、耐衝撃性指標を測定する際に割れたガラス基板の破壊起点を調べたところ、通常のガラス板などでは傷の多い端部に破壊起点が存在するが、磁気ディスク用ガラス基板においては主表面のクランプやスペーサーとの接触部に破壊起点が存在することがわかった。これは、主表面は記録面であり傷などの欠点は本来存在しないはずのため、落下衝撃により新たな傷が発生し、それが破壊起点になったと考えられる。この事実は、破壊靭性ではなくクラック発生率と耐衝撃性との間に関係があるという前記事実と符合するものである。
本発明者は先に述べたような事実を見出し、熱アシスト磁気記録技術に適用でき、かつ、クラック発生率が従来の磁気ディスク用ガラス基板と同程度またはそれよりも小さいガラス基板の提供を目的とする本発明のガラス基板の発明をなすに至った。
また、ガラス板の徐冷点が650℃以上である前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
また、フロート法またはダウンドロー法を用いてガラス板を製造する前記磁気ディスクの製造方法を提供する。ダウンドロー法としてはたとえばフュージョン法やスリットダウンドロー法が挙げられる。
また、情報記録媒体が磁気ディスクである前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
また、このようなガラス基板を製造することが可能になる。
また、高温で磁気記録層を形成できるだけでなく、クラック発生率が小さく耐衝撃性に優れる可能性が高い情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる。
このような磁気記録層はガラス基板の温度を550℃以上にしてその上に形成されるが、その温度は必要に応じてたとえば600℃以上または650℃以上にすることが求められる。なお、その温度は通常750℃以下とされる。
本発明の磁気ディスクの製造方法においては、必要に応じて、ガラス基板と磁気記録層の間に下地層などの層が形成され、また、必要に応じて、磁気記録層の上に保護膜などの層が形成される。
基板ガラスのクラック発生率p(単位:%)は70%以下であることが好ましい。70%超では従来使用されているガラス基板(後述する例15のガラスを化学強化したもの)よりもガラスに傷がつきやすくなる、すなわち応力集中が起こりやすくなる。その結果、弱い応力で脆性的破壊が起こりやすくなる。pは、より好ましくは50%以下、特に好ましくは30%以下、最も好ましくは10%以下である。
ガラスを平均粒径2μmの酸化セリウム砥粒で研磨後、平均粒径20nmのコロイダルシリカ砥粒で研磨し、厚さが1〜2mm、大きさが4cm×4cm、表面粗さRaが0.15nm以下であるガラス板を作製し、これを徐冷点もしくはガラス転移点で30分保持後、1℃/分またはそれ以下の速度で室温まで冷却した。このガラス板の表面に、23℃、相対湿度70%に制御した室内において荷重1000gでビッカース圧子を打ち込み、その4つの頂点から発生したクラック本数を測定する。この測定を10回繰り返し、100×(前記クラック本数の合計)÷40をpとする。
第1の方法で用いられるガラス基板は先に述べたように、モル百分率表示組成が、SiO2:62〜74%、Al2O3:6〜18%、B2O3:2〜15%、MgO+CaO+SrO+BaO(以下、ROと略記する):8〜21%、SiO2+Al2O3+B2O3+RO≧95%、Li2O+Na2O+K2O<1%であるガラスからなる。
このガラスであってAl2O3が7モル%以上であるもの(以下、ガラス1という。)は前記pを小さくしてガラスを傷つきにくくしたい場合に好適な基板ガラスである。
ガラス1の密度は、好ましくは2.57g/cm3以下、典型的には2.52g/cm3以下である。2.57g/cm3超ではガラスが傷つきやすくなるおそれがある。
次にガラス1およびガラスA、B、Cの組成について説明する。まず、ガラス1について説明し、その後に、ガラスA、BまたはCとガラス1とで異なる部分があればその部分について説明する。なお、以下の組成の説明では特に断らない限りモル%を単に%と表示する。
Al2O3は必須成分である。Al2O3が7%未満ではガラスが分相しやすくなって基板を加工・洗浄した後に平滑な表面を維持できなくなり、またはガラスが傷つきやすくなるおそれがあり、好ましくは7.5%以上、より好ましくは9%以上である。一方、Al2O3が18%を超えると溶解性が低下し、ガラス製造が困難になり、好ましくは16%以下、より好ましくは12%以下である。
B2O3はガラスの傷つきやすさや溶解性を改善する効果があり、必須である。B2O3が2%未満ではガラスの溶解性が低下し、好ましくは5%以上、より好ましくは7%以上、特に好ましくは7.3%以上である。なお、ガラスBにおいては7%以上とされる。質量百分率表示ではB2O3は典型的には8%超である。一方、B2O3が15%を超えるとガラスが分相しやすくなって基板を加工・洗浄した後に平滑な表面を維持できなくなり、好ましくは14%以下、より好ましくは12%以下である。
MgOを含有する場合その含有量は典型的には8%以下であり、CaOを含有する場合その含有量は典型的には10%以下である。
また、SrO+BaOと、ガラスを傷つきにくくする成分であるB2O3の含有量との比(SrO+BaO)/B2O3は1.2以下であることが好ましく、ガラスCにおいては(SrO+BaO)/B2O3は1.2以下とされる。
ZnOはMgO、CaO、SrO、BaOと同様の効果を奏する成分であり、5%以下の範囲で含有してもよい。ZnOの含有量とROの合計は8〜21%であることが好ましく、より好ましくは16%以下、典型的には10〜16%である。質量百分率表示では前記合計は18%以下が典型的である。
VなどTiよりも原子番号が大きな原子の酸化物はガラスを傷つきやすくするおそれがあるので、これら酸化物を含有する場合にはそれらの含有量の合計は3%以下とすることが好ましい。より好ましくは2%以下、特に好ましくは1%以下、最も好ましくは0.3%以下である。
SO3、F、Cl、As2O3、Sb2O3、SnO2等は清澄剤として代表的な成分である。
ガラス2はTAまたは耐酸性を高くしたい場合に好適な基板ガラスである。
SiO2は必須成分である。67%未満ではガラスが傷つきやすくなる。一方、72%を超えると溶解性が低下し、ガラス製造が困難になる。
Al2O3は必須成分である。11%未満ではガラスが分相しやすくなり、基板を加工・洗浄した後に平滑な表面を維持できなくなる、またはガラスが傷つきやすくなるおそれがある。一方、14%を超えると溶解性が低下し、ガラス製造が困難になる。
B2O3は必須成分ではないが、ガラスの傷つきやすさや溶解性を改善する効果があり、2%未満の範囲で含有してもよい。2%以上では耐酸性またはTAが低下するおそれがある。
BaOは必須成分ではないが、ガラスの溶解性を改善する効果があり、5%以下の範囲で含有してもよい。5%超ではガラスが傷つきやすくなる。
ROが14%未満ではガラスの溶解性が低下し、ガラス製造が困難になる。一方、ROが18%を超えるとガラスが傷つきやすくなる。
ZnOはMgO、CaO、SrO、BaOと同様の効果を奏する成分であり、5%以下の範囲で含有してもよい。ZnOの含有量とROの合計は8〜21%であることが好ましく、より好ましくは10〜16%である。
Li2O、Na2OおよびK2OはTAを低下させるので、これら3成分の含有量の合計は0%であるか1%未満とされる。
SO3、F、Cl、As2O3、Sb2O3、SnO2等は清澄剤として代表的な成分である。
線膨張係数:示差熱膨張計を用いて、石英ガラスを参照試料として室温から5℃/分の速度で昇温した際のガラスの伸び率をガラスが軟化してもはや伸びが観測されなくなる温度すなわち屈伏点まで測定し、得られた熱膨張曲線から50〜350℃における平均線膨張係数を算出した。
密度:泡のないガラス20〜50gについて、アルキメデス法にて測定した。
ヤング率:厚さが5〜10mm、大きさが3cm×3cmのガラス板について、超音波パルス法により測定した。
耐酸性:ガラスを90℃、0.1N塩酸に20時間浸漬した時の重量減少量を測定し、これを試料表面積で除して求めた。
歪点、徐冷点:JIS R3103に準じて測定した。
T4、T2:回転粘度計により測定した。
破壊靱性St:JIS R1607で規定される圧子圧入法(IF法)に準じて測定した。
例15〜17は比較のための基板ガラスであり、例15のpの測定は化学強化したガラスについて行った。
また、例4、15、16については耐衝撃性指標S150、耐衝撃性指標S175を次のようにして測定した。
S175:ガラス板を175cmの高さから落下させる以外はS150を求める場合と同様にして耐衝撃性指標S175を求めた。
本発明者は、先に述べたようにこの結果から、耐衝撃性指標S150、S175は破壊靱性Stとではなくクラック発生率pとの間に相関が認められることを見出した。
また、表4、5に例1〜17のガラスの質量百分率表示組成を示す。
なお、2010年4月27日に出願された日本特許出願2010−102092号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (20)
- 温度が550℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、
ガラス基板がモル百分率表示で、SiO2を62〜74%、Al2O3を6〜18%、B2O3を2〜15%、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8〜21%含有し、上記7成分の含有量合計が95%以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1%未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。 - ガラス基板が、Al2O3を7%以上含有する請求項1の磁気ディスクの製造方法。
- ガラス基板が、MgOおよびCaOのいずれか1成分以上を合計で3〜18%含有する請求項1または2の磁気ディスクの製造方法。
- ガラス基板が、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で16%以下含有する請求項1または2の磁気ディスクの製造方法。
- ガラス基板が、MgOおよびCaOのいずれか1成分以上を合計で3%以上含有する請求項4の磁気ディスクの製造方法。
- ガラス基板がB2O3を7%以上含有する請求項1〜5のいずれかの磁気ディスクの製造方法。
- ガラス基板が、SiO2を65〜69%、Al2O3を9〜12%、B2O3を7〜12%、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で10〜16%含有する請求項1〜5のいずれかの磁気ディスクの製造方法。
- ガラス基板におけるSrOおよびBaOの含有量の合計のB2O3含有量に対する比((SrO+BaO)/B2O3)が1.2以下である請求項1〜7のいずれかの磁気ディスクの製造方法。
- ガラス基板が、質量百分率表示でB2O3を8%超含有する請求項1〜8のいずれかの磁気ディスクの製造方法。
- ガラス基板の密度が2.57g/cm3以下である請求項1〜9のいずれかの磁気ディスクの製造方法。
- 温度が550℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、
ガラス基板がモル百分率表示で、SiO2を67〜72%、Al2O3を11〜14%、B2O3を0〜2%未満、MgOを4〜9%、CaOを4〜6%、SrOを1〜6%、BaOを0〜5%含有し、MgO、CaO、SrOおよびBaOの含有量合計が14〜18%、上記7成分の含有量合計が95%以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1%未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。 - ガラス基板の徐冷点が650℃以上である請求項1〜11のいずれかの磁気ディスクの製造方法。
- モル百分率表示で、SiO2を62〜74%、Al2O3を7〜18%、B2O3を2〜15%、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8〜16%含有し、上記7成分の含有量合計が95%以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1%未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しない情報記録媒体用ガラス基板。
- B2O3を7%以上含有する請求項13の情報記録媒体用ガラス基板。
- モル百分率表示で、SiO2を62〜74%、Al2O3を7〜18%、B2O3を7〜15%、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8〜21%含有し、上記7成分の含有量合計が95%以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1%未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しない情報記録媒体用ガラス基板。
- SrOおよびBaOの含有量の合計のB2O3含有量に対する比(SrO+BaO)/B2O3が1.2以下である請求項13、14または15の情報記録媒体用ガラス基板。
- モル百分率表示で、SiO2を62〜74%、Al2O3を7〜18%、B2O3を2〜15%、MgO、CaO、SrOおよびBaOのいずれか1成分以上を合計で8〜21%含有し、SrOおよびBaOの含有量の合計のB2O3含有量に対する比((SrO+BaO)/B2O3)が1.2以下かつ上記7成分の含有量合計が95%以上であり、Li2O、Na2OおよびK2Oのいずれか1成分以上を合計で1%未満含有する、もしくはこれら3成分のいずれも含有しない情報記録媒体用ガラス基板。
- B2O3含有量が質量百分率表示で8%超である請求項13〜17のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板。
- 密度が2.57g/cm3以下である請求項13〜18のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板。
- 情報記録媒体が磁気ディスクである請求項13〜19のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011532441A JP5056983B2 (ja) | 2010-04-27 | 2011-04-13 | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010102092 | 2010-04-27 | ||
JP2010102092 | 2010-04-27 | ||
PCT/JP2011/059212 WO2011136027A1 (ja) | 2010-04-27 | 2011-04-13 | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2011532441A JP5056983B2 (ja) | 2010-04-27 | 2011-04-13 | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012050568A Division JP5585601B2 (ja) | 2010-04-27 | 2012-03-07 | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5056983B2 JP5056983B2 (ja) | 2012-10-24 |
JPWO2011136027A1 true JPWO2011136027A1 (ja) | 2013-07-18 |
Family
ID=44861338
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011532441A Active JP5056983B2 (ja) | 2010-04-27 | 2011-04-13 | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2012050568A Active JP5585601B2 (ja) | 2010-04-27 | 2012-03-07 | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2014018688A Active JP5757350B2 (ja) | 2010-04-27 | 2014-02-03 | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012050568A Active JP5585601B2 (ja) | 2010-04-27 | 2012-03-07 | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2014018688A Active JP5757350B2 (ja) | 2010-04-27 | 2014-02-03 | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9023421B2 (ja) |
JP (3) | JP5056983B2 (ja) |
CN (1) | CN102473426B (ja) |
MY (3) | MY156178A (ja) |
SG (1) | SG178243A1 (ja) |
WO (1) | WO2011136027A1 (ja) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8796165B2 (en) * | 2010-11-30 | 2014-08-05 | Corning Incorporated | Alkaline earth alumino-borosilicate crack resistant glass |
JP6015741B2 (ja) * | 2012-02-20 | 2016-10-26 | 旭硝子株式会社 | ガラス溶融炉、溶融ガラスの製造方法、ガラス製品の製造装置、およびガラス製品の製造方法 |
US9162919B2 (en) * | 2012-02-28 | 2015-10-20 | Corning Incorporated | High strain point aluminosilicate glasses |
TWI614227B (zh) * | 2012-02-29 | 2018-02-11 | 康寧公司 | 低cte之無鹼硼鋁矽酸鹽玻璃組成物及包含其之玻璃物件 |
WO2013183569A1 (ja) * | 2012-06-05 | 2013-12-12 | 旭硝子株式会社 | 磁気ディスクの製造方法および情報記録媒体用ガラス基板 |
US9393760B2 (en) | 2013-02-28 | 2016-07-19 | Corning Incorporated | Laminated glass articles with phase-separated claddings and methods for forming the same |
WO2014156798A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
CN104230164B (zh) * | 2013-06-21 | 2018-06-19 | 旭硝子株式会社 | 磁记录介质的制造方法及磁记录介质 |
EP3033310B1 (en) * | 2013-08-15 | 2021-03-10 | Corning Incorporated | Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass |
EP3033227A2 (en) | 2013-08-15 | 2016-06-22 | Corning Incorporated | Intermediate to high cte glasses and glass articles comprising the same |
US20170226000A1 (en) * | 2014-08-13 | 2017-08-10 | Corning Incorporated | Intermediate cte glasses and glass articles comprising the same |
CN115286240A (zh) | 2014-10-31 | 2022-11-04 | 康宁股份有限公司 | 对玻璃进行尺寸稳定的快速蚀刻 |
JP7060915B2 (ja) * | 2014-12-12 | 2022-04-27 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
JP2018520003A (ja) | 2015-04-28 | 2018-07-26 | コーニング インコーポレイテッド | 出射犠牲カバー層を使用して基板に貫通孔をレーザー穿孔する方法、および対応するワークピース |
CN117865460A (zh) * | 2015-10-02 | 2024-04-12 | Agc株式会社 | 玻璃基板、层叠基板和层叠体 |
CN108137380B (zh) | 2015-10-05 | 2021-08-03 | Agc株式会社 | 数据存储介质基板用玻璃、数据存储介质用玻璃基板以及磁盘 |
JP6004129B1 (ja) * | 2016-01-07 | 2016-10-05 | 旭硝子株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体 |
JP6708746B2 (ja) * | 2016-02-02 | 2020-06-10 | ショット グラス テクノロジーズ (スゾウ) カンパニー リミテッドSchott Glass Technologies (Suzhou) Co., Ltd. | ガラスキャリアウェハー用の低cteボロアルミノシリケートガラス |
JP7103219B2 (ja) * | 2016-05-27 | 2022-07-20 | Agc株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク |
US10410883B2 (en) | 2016-06-01 | 2019-09-10 | Corning Incorporated | Articles and methods of forming vias in substrates |
US10134657B2 (en) | 2016-06-29 | 2018-11-20 | Corning Incorporated | Inorganic wafer having through-holes attached to semiconductor wafer |
US10794679B2 (en) | 2016-06-29 | 2020-10-06 | Corning Incorporated | Method and system for measuring geometric parameters of through holes |
KR102610962B1 (ko) * | 2016-08-02 | 2023-12-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유리 기판의 처리 방법 |
CN106746601B (zh) * | 2016-12-30 | 2019-06-04 | 东旭集团有限公司 | 用于制备玻璃的组合物、玻璃制品及用途 |
US10580725B2 (en) | 2017-05-25 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same |
US11078112B2 (en) | 2017-05-25 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same |
US11554984B2 (en) | 2018-02-22 | 2023-01-17 | Corning Incorporated | Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness |
CN112513985B (zh) | 2018-08-07 | 2023-07-28 | Hoya株式会社 | 磁盘用基板以及磁盘 |
CN113677637B (zh) * | 2019-04-12 | 2023-08-22 | Agc株式会社 | 玻璃板和其制造方法 |
JP7184845B2 (ja) * | 2020-05-21 | 2022-12-06 | ショット グラス テクノロジーズ (スゾウ) カンパニー リミテッド | ガラスキャリアウェハー用の低cteボロアルミノシリケートガラス |
WO2023084979A1 (ja) * | 2021-11-10 | 2023-05-19 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス板 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01239036A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-25 | F G K:Kk | 高強度ガラス |
JPH11314939A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-11-16 | Ohara Inc | 情報磁気記録媒体用ガラスセラミックス基板 |
JP2000187828A (ja) * | 1998-02-26 | 2000-07-04 | Ohara Inc | 情報磁気記憶媒体用高剛性ガラスセラミックス基板 |
JP2009114005A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Ohara Inc | 結晶化ガラス |
JP2010059038A (ja) * | 2008-08-04 | 2010-03-18 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 強化ガラスおよびその製造方法 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6245411B1 (en) | 1959-09-25 | 2001-06-12 | Kabushiki Kaisha Ohara | High rigidity glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
US3562444A (en) * | 1968-02-29 | 1971-02-09 | Ibm | Recording head assembly |
JP3804101B2 (ja) | 1995-04-27 | 2006-08-02 | 旭硝子株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板 |
WO1997011919A1 (fr) * | 1995-09-28 | 1997-04-03 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrat de verre exempt d'alcalis |
JP3800657B2 (ja) * | 1996-03-28 | 2006-07-26 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル |
JP2924785B2 (ja) * | 1996-04-25 | 1999-07-26 | 日本電気株式会社 | 磁気抵抗効果素子薄膜及びその製造方法 |
JP3804112B2 (ja) * | 1996-07-29 | 2006-08-02 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラス、無アルカリガラスの製造方法およびフラットディスプレイパネル |
JPH11328665A (ja) * | 1998-03-16 | 1999-11-30 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板およびその製造方法 |
DE19916296C1 (de) * | 1999-04-12 | 2001-01-18 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
US6949485B2 (en) | 2000-06-01 | 2005-09-27 | Asabi Glass Company, Limited | Glass for substrate and glass substrate |
JP2002029776A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-29 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 耐クラック性に優れた無アルカリガラス |
JP4815688B2 (ja) | 2000-10-31 | 2011-11-16 | 旭硝子株式会社 | 液晶ディスプレイ用アルミノホウケイ酸ガラス |
JP2004110917A (ja) * | 2002-09-18 | 2004-04-08 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体とそれを用いた磁気ディスク装置およびその製造方法 |
JP2004288228A (ja) | 2003-01-31 | 2004-10-14 | Hoya Corp | 情報記録媒体用基板、情報記録媒体およびその製造方法 |
JP2007164985A (ja) * | 2003-01-31 | 2007-06-28 | Hoya Corp | 情報記録媒体用基板、情報記録媒体およびその製造方法 |
JP2005053712A (ja) * | 2003-08-04 | 2005-03-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス |
SG112980A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-07-28 | Asahi Glass Co Ltd | Glass substrate for magnetic disks and process for its production |
JP5109225B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2012-12-26 | 旭硝子株式会社 | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
WO2005093720A1 (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Hoya Corporation | 磁気ディスク用ガラス基板 |
JP4923556B2 (ja) | 2005-12-16 | 2012-04-25 | 日本電気硝子株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板 |
CN103121796B (zh) * | 2006-02-10 | 2017-03-29 | 康宁股份有限公司 | 具有高的热稳定性和化学稳定性的玻璃组合物及其制备方法 |
US8076014B2 (en) * | 2006-06-08 | 2011-12-13 | Hoya Corporation | Glass for use in substrate for information recording medium, substrate for information recording medium and information recording medium, and their manufacturing method |
US8592061B2 (en) * | 2006-09-29 | 2013-11-26 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Magnetic recording medium with controlled grain diameters |
JP5435394B2 (ja) * | 2007-06-08 | 2014-03-05 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板及びその製造方法 |
JP5327702B2 (ja) * | 2008-01-21 | 2013-10-30 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板の製造方法 |
JP4551459B2 (ja) | 2008-02-19 | 2010-09-29 | 信越化学工業株式会社 | 磁気記録用シリコン基板および磁気記録用媒体の製造方法 |
RU2010154445A (ru) * | 2008-05-30 | 2012-07-10 | Фостер Вилер Энергия Ой (Fi) | Способ и система для генерации энергии путем сжигания в чистом кислороде |
-
2011
- 2011-04-13 MY MYPI2012000544A patent/MY156178A/en unknown
- 2011-04-13 JP JP2011532441A patent/JP5056983B2/ja active Active
- 2011-04-13 MY MYPI2016000163A patent/MY177072A/en unknown
- 2011-04-13 WO PCT/JP2011/059212 patent/WO2011136027A1/ja active Application Filing
- 2011-04-13 MY MYPI2016000161A patent/MY177073A/en unknown
- 2011-04-13 CN CN201180003205.XA patent/CN102473426B/zh active Active
- 2011-04-13 SG SG2012007605A patent/SG178243A1/en unknown
-
2012
- 2012-02-09 US US13/369,395 patent/US9023421B2/en active Active
- 2012-03-07 JP JP2012050568A patent/JP5585601B2/ja active Active
-
2014
- 2014-02-03 JP JP2014018688A patent/JP5757350B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01239036A (ja) * | 1988-03-16 | 1989-09-25 | F G K:Kk | 高強度ガラス |
JP2000187828A (ja) * | 1998-02-26 | 2000-07-04 | Ohara Inc | 情報磁気記憶媒体用高剛性ガラスセラミックス基板 |
JPH11314939A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-11-16 | Ohara Inc | 情報磁気記録媒体用ガラスセラミックス基板 |
JP2009114005A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Ohara Inc | 結晶化ガラス |
JP2010059038A (ja) * | 2008-08-04 | 2010-03-18 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 強化ガラスおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
MY177072A (en) | 2020-09-04 |
JP2012111692A (ja) | 2012-06-14 |
JP5585601B2 (ja) | 2014-09-10 |
CN102473426A (zh) | 2012-05-23 |
JP5757350B2 (ja) | 2015-07-29 |
JP2014088320A (ja) | 2014-05-15 |
US9023421B2 (en) | 2015-05-05 |
JP5056983B2 (ja) | 2012-10-24 |
MY177073A (en) | 2020-09-04 |
CN102473426B (zh) | 2015-04-15 |
MY156178A (en) | 2016-01-15 |
WO2011136027A1 (ja) | 2011-11-03 |
SG178243A1 (en) | 2012-03-29 |
US20120141668A1 (en) | 2012-06-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5757350B2 (ja) | 磁気ディスクおよび情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5737043B2 (ja) | 基板用ガラスおよびガラス基板 | |
JP4213077B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法並びに情報記録媒体およびその製造方法 | |
JP5263152B2 (ja) | データ記憶媒体用基板ガラスおよびガラス基板 | |
JP2004161597A (ja) | ガラス組成物及びガラス基板 | |
WO2004039738A1 (ja) | 化学強化用ガラス、情報記録媒体用基板、情報記録媒体及び情報記録媒体の製造方法 | |
JP2011123924A (ja) | データ記憶媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板 | |
JP5900560B2 (ja) | 基板用ガラスおよびガラス基板 | |
JPWO2004041740A1 (ja) | 情報記録媒体用基板ならびに情報記録媒体およびその製造方法 | |
JP2004352570A (ja) | ガラス組成物及びガラス基板 | |
JP2004010430A (ja) | ガラス基板 | |
JP5907259B2 (ja) | 磁気ディスクの製造方法および情報記録媒体用ガラス基板 | |
JP2011134367A (ja) | データ記憶媒体用ガラス基板の製造方法及びガラス基板 | |
JP2007161552A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板 | |
CN108137380B (zh) | 数据存储介质基板用玻璃、数据存储介质用玻璃基板以及磁盘 | |
JPH11232627A (ja) | 情報記録媒体用基板 | |
JP7165655B2 (ja) | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体基板、情報記録媒体および記録再生装置用ガラススペーサ | |
JP7056558B2 (ja) | データ記憶媒体基板用ガラス、データ記憶媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
JP7103219B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
JP6015876B1 (ja) | 磁気記録媒体用のガラス基板、および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2004277232A (ja) | ガラス組成物及びガラス基板 | |
JP2004277230A (ja) | ガラス組成物及びガラス基板 | |
JP2004277233A (ja) | ガラス組成物及びガラス基板 | |
JP2017052661A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス、磁気記録媒体用化学強化ガラス、磁気記録媒体用ガラス基板、及び磁気記録媒体 | |
WO2013094451A1 (ja) | ガラス基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120703 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120716 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5056983 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |