JPWO2011068110A1 - ピペリジン骨格を有する単量体を用いた重合体の製造方法、及び成型体 - Google Patents
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Abstract
Description
方法1:単量体(a1)0.01〜35モル%及び単量体(a2)65〜99.99モル%を含有する単量体混合物を、210℃以下の温度で重合する。
方法2:単量体(a2)単位からなる重合体、単量体(a1)及び単量体(a2)を含有し、単量体(a1)の含有率が0.01〜35モル%である混合物を、210℃以下の温度で重合する。
方法3:単量体(a1)及び単量体(a2)を含有する単量体混合物を210℃以下の温度で重合した重合体と、単量体(a2)とを含有し、単量体(a1)単位の含有率が0.01〜35モル%である混合物を、210℃以下の温度で重合する。
2−(2'−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類。例えば、5'メチル−誘導体(チバ・ジャパン(株)製 TV−P)、3',5'−ジ−t−ブチル−、5'−t−ブチル−、5'−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−、5−クロロ−3',5'−ジ−t−ブチル−、5−クロロ−3'−t−ブチル−5'−メチル、3'−s−ブチル−5'−t−ブチル、4'−オクトキシ−、3',5'−ジ−第三アミル−、3',5'−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−、3'−t−ブチル−5'−2−(ω−ヒドロキシ−オクタ−(エチレンオキシ)−カルボニルエチル)−、3'−ドデシル−5'−メチル−、3'−t−ブチル−5'−(2−オクチルオキシカルボニル)−エチル、ドデシル化−5'−メチル−誘導体。
2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン類。例えば、4−ヒドロキシ−、4−メトキシ−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオキシ−、4,2',4'−トリヒドロキシ−、2'−ヒドロキシ−4,4'−ジメトキシ誘導体。
立体障害性アミン類。例えば、セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)((株)ADEKA製 LS770)、セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)(チバ・ジャパン(株)製 TV−292)、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート(チバ・ジャパン(株)製 TV−123)、2,4−ビス[N−ブチル−N−(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ]−6−(2−ヒドロキシエチルアミン)−1,3,5−トリアジン(チバ・ジャパン(株)製 TV−152)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−ヒドロキシエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、N,N'−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−s−トリアジンとの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,1'−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)。
ヒドロキシフェニル−s−トリアジン類。例えば、2,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−4−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s−トリアジン、2,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−4−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−6−フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−6−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−6−(4−ブロモフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス−〔2−ヒドロキシ−4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル〕−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン。
その他、2−ヒドロキシ−ベンゾフェノン誘導体、ニッケル化合物、シュウ酸ジアミド類。
アルキル化モノフェノール類。例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2−t−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−メトキシメチルフェノール。
アルキル化ハイドロキノン類。例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−第三アミルハイドロキノン、2,6−ジ−フェニル−4−オクタデシルオキシフェノール。
その他、ヒドロキシル化ジチオフェニルエーテル類、アルキリデンビスフェノール類、ベンジル化合物、アシルアミノフェノール類。
単量体(a1)の構造の確認には、1H−NMR JNM−EX270(日本電子(株)製、商品名)を用いた。単量体(a1)を重水素化クロロホルムに溶解させ、ピークの積分強度及びピーク位置から、化合物を同定した。測定温度は25℃、積算回数は16回である。
単量体の重合転化率の確認には、1H−NMR JNM−EX270(日本電子(株)製、商品名)を用いた。単量体(a1)とメチルメタクリレートとの共重合では、単量体と重合体由来のアルコキシル基の水素と、単量体由来のC−C二重結合の水素に帰属されるピークの積分比から重合転化率を計算した。
成型体を目視で観察し、着色の有無を判断した。
Tgは、SIIナノテクノロジー社製、DSC6220(商品名)を使用した。測定は窒素雰囲気下、200℃で3分間メルトクエンチし、20℃から250℃まで、10℃/分で昇温した。
GPC(東ソー(株)製、HLC−8220(商品名)、カラム:TSK GUARD COLUMN SUPER HZ−L(4.6×35mm)、TSK−GEL SUPER HZM−N(6.0×150mm)×2直列接続、溶離液:クロロホルム、測定温度:40℃、流速:0.6mL/分)を用い、ポリメチルメタクリレートをスタンダードとして測定した。
成型体を40mm×40mmに切断し、表面を中性洗剤で洗浄後、メタルウェザー KU−R5N−A(ダイプラ・ウィンテス社製、商品名)により、照射強度80mw/cm2、63℃で344時間、耐候性試験を行なった。耐候性試験前後の透過スペクトルを、分光光度計 MCPD−3000(大塚電子(株)製、商品名)により測定し、黄色度を測定した。測定値は、以下の式に従い、サンプルの厚さにより補正を行なった。
黄色度(補正値)=黄色度(測定値)/板厚(mm)
また、耐候性試験前後の黄色度(補正値)の差を求め、黄色度の「変位」とした。
成型体を30mm×30mmに切断し、表面を中性洗剤で洗浄後、メタルウェザー KW−R5TP−A(ダイプラ・ウィンテス社製、商品名)により、照射強度110mw/cm2、65℃で16時間保持した後、照射強度0mw/cm2、65℃で2時間保持し、その後、試験片表面を10秒間水洗し、照射強度0mw/cm2、30℃で6時間保持し、試験片表面を10秒間水洗する工程を18回繰り返し、432時間の耐候性試験を行なった。耐候性試験前後の透過スペクトルを、分光光度計 MCPD−3000(大塚電子(株)製、商品名)により測定し、黄色度を測定した。測定値は、以下の式に従い、サンプルの厚さにより補正を行なった。
黄色度(補正値)=黄色度(測定値)×3/板厚(mm)
また、耐候性試験前後の黄色度(補正値)の差を求め、黄色度の「変位」とした。
テトラヒドロフラン(THF)200mL中、トリエチルアミン30.3g(300mmol)及び、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシド(TEMPOL)34.4g(200mmol)が溶解した溶液に、無水酢酸25.5g(250mmol)を0℃で添加した。25℃に昇温して12時間反応させた後、回転エバポレーターで濃縮した。残渣を氷水1リットルに投入し、析出した橙色固体を濾取して、4−アセチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシド33.8gを得た。
1H−NMR(CDCl3):δ(ppm):0.89(m、6H),1.17(m、10H),1.18(s、6H),1.21(s、6H),1.61(m、2H),1.85(m、2H),1.92(s、3H),3.60−3.93(m、1H),5.07(m、1H),5.53(s、1H),6.03(s、1H)
ジクロロメタン100mL中、トリエチルアミン48.6g(480mmol)及び、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシド(TEMPOL)68.9g(400mmol)が溶解した溶液に、トリメチルシリルクロリド47.8g(440mmol)を0℃で添加した。25℃に昇温して2時間反応させた後、回転エバポレーターで濃縮した。残渣に水500mlを加え、総計500mlの酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を回転エバポレーターで濃縮し、残渣をヘキサンに溶解し、再結晶により、4−トリメチルシリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシド96.2gを得た。
1H−NMR(CDCl3):δ(ppm):0.94(t、3H),1.21(s、12H),1.53(m、2H),1.61(m、2H),1.86(m、2H),1.92(s、3H),3.70(t、2H),5.07(m、1H),5.53(s、1H),6.06(s、1H)
THF100mL中、トリエチルアミン20.2g(200mmol)及び、2,2,6,6−テトラメチル−4−(2−(2−ヒドロキシ)エトキシ)エトキシピペリジン−N−オキシド26.0g(100mmol)が溶解した溶液に、無水酢酸12.3g(120mmol)を0℃で添加した。25℃に昇温して12時間反応させた後、回転エバポレーターで濃縮した。残渣に水500mlを加え、総計500mlの酢酸エチルを用いて抽出した。有機層を回転エバポレーターで濃縮した後、残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル=1/1 体積比)によって精製し、2,2,6,6−テトラメチル−4−(2−(2−アセチルオキシ)エトキシ)エトキシピペリジン−N−オキシド5.6g(22mmol)を得た。
1H−NMR(CDCl3):δ(ppm):0.89(m、6H),1.14(s、12H),1.28(m、10H),1.35−1.47(m、2H),1.63−1.84(m、2H),1.95(s、3H),3.54−3.87(m、2H),3.61(m、4H),3.75(t、2H),4.30(t、2H),5.57(s、1H),6.14(s、1H)
合成例1に記載の方法で合成した4−アセチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシド6.4g(30mmol)を、オクタン100mLに溶解し、酸化モリブデン(VI)0.1g(0.7mmol)を加え、加熱還流して脱水した。共沸により脱水しつつ、t−ブチルハイドロパーオキサイド70%水溶液12.8g(100mmol)を6時間かけて滴下し、反応させた。室温まで冷却後、飽和重亜硫酸ナトリウム水溶液50mlを徐々に加え、未反応の過酸化物を失活させた。有機層を回転エバポレーターで濃縮した後、残渣をエタノール50mLに溶解させ、2.8g(50mmol)の水酸化カリウムを加えて、25℃で4時間反応させた。
1H−NMR(CDCl3):δ(ppm):0.89(m、6H),1.15(s、6H),1.18(s、6H),1.29(m、10H),1.30−1.41(m、2H),1.59−1.82(m、2H),1.95(s、3H),2.62(m、4H),3.73(m、1H),4.35(s、4H),5.02(m、1H),5.60(s、1H),6.13(s、1H)
2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン−N−オキシド17.8g(100mmol)をアセトン100mlに溶解し、30%過酸化水素水溶液34g(300mmol)を10分以上かけてゆっくり添加した。5℃まで冷却しながら、塩化銅(I)0.49g(5.0mol%)を添加し、反応混合物の温度を5℃から55℃の間に保持した。15分後、35%塩酸を0.5g添加し、反応混合物を室温において2時間撹拌した。2時間後、4mol/Lの重亜硫酸ナトリウム水溶液50ml、飽和炭酸水素カリウム水溶液100mlを加え、300mlの酢酸エチルで抽出した。有機層を回転エバポレーターで濃縮し、1−メチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンを得た。
1H−NMR(CDCl3):δ(ppm):1.19(s、6H),1.23(s、6H),1.60(m、2H),1.87(m、2H),1.92(s、3H),3.62(s、3H),5.07(m、1H),5.53(s、1H),6.06(s、1H)
合成例1に記載の方法で合成した、4−アセチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシド4.3g(20mmol)をクメン200mlに溶解し、t−ブチルパーオキサイド11.7g(80mmol)をゆっくり添加した。30分間窒素バブリングした後、Heraeus社製UV理化学反応装置(System1)に移した。TQ150型のランプを用いて10分間光照射を行ない、反応させた。反応混合物を回転エバポレーターで濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル=5/1体積比)によって精製して、1−クミルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−アセチルオキシピペリジン5.5gを得た(収率82.3%)。
1H−NMR(CDCl3):δ(ppm):0.89(s、6H),1.21(s、6H),1.56(t、2H),1.61(s、6H),1.87(m、2H),1.91(s、3H),5.06(m、1H),5.52(s、1H),6.05(s、1H),7.20(t、1H),7.30(t、2H),7.47(d、2H)
単量体(a1−1)17.7g(50mmol)、メチルメタクリレート(MMA)45.1g(450mmol)、オクチルメルカプタン0.6g、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル0.3gを、トルエン200mlに溶解し、75℃にて、窒素雰囲気下で4時間重合した。得られた重合体溶液をメタノールで再沈殿し、85℃で減圧乾燥し、重合体(b−1)を得た。重合体(b−1)は、Mn1.68万、PDI1.44であり、収量35.7gであった(収率56.9%)。
単量体(a1−2)12.8g(50mmol)、MMA45.1g(450mmol)、オクチルメルカプタン0.6g、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル0.3gを、トルエン200mlに溶解し、75℃にて、窒素雰囲気下で4時間重合した。得られた重合体溶液をメタノールで再沈殿し、85℃で減圧乾燥し、重合体(b−2)を得た。重合体(b−2)は、Mn1.89万、PDI1.39であり、収量27.7gであった(収率47.9%)。
単量体(a1−2)7.7g(30mmol)、MMA27.0g(270mmol)、オクチルメルカプタン0.6g、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル0.16gを、トルエン100mlに溶解し、75℃にて、窒素雰囲気下で4時間重合した。得られた重合体溶液をメタノールで再沈殿し、85℃で減圧乾燥し、重合体(b−3)を得た。重合体(b−3)は、Mn0.83万、PDI1.66であり、収量22.1gであった(収率63.8%)。
単量体(a1−2)7.7g(30mmol)、MMA27.0g(270mmol)、オクチルメルカプタン1.5g、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル0.16gを、トルエン100mlに溶解し、75℃にて、窒素雰囲気下で4時間重合した。得られた重合体溶液をメタノールで再沈殿し、85℃で減圧乾燥し、重合体(b−4)を得た。重合体(b−4)は、Mn0.52万、PDI1.42であり、収量19.8gであった(収率57.1%)。
MMA、単量体(a1)を、表1に記載の比率で混合して単量体混合物とした。単量体混合物中の単量体(a1)の含有率(モル%)を表1に示す。単量体混合物に、重合開始剤としてt−ヘキシルパーオキシピバレートを0.35部、離型剤としてスルホコハク酸ジ(2−エチルヘキシル)ナトリウム0.015部を添加した。この混合物を減圧脱気した後、ポリ塩化ビニル製ガスケットを介して1.2mmの間隔で相対する2枚の強化ガラス板で形成した型に注入した。
単量体(a1)を用いず、表1に示したHALSを用いたこと以外は、実施例1と同様にして、成型体(4)〜(8)を得た。成型体(4)〜(8)の重合転化率、外観、耐候性試験(条件1)による黄色度を表1に示す。
LA−87:2,2,6,6−テトラメチル−4−メタクリロイルオキシピペリジン((株)ADEKA製 LA−87)
LA−82:1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−メタクリロイルオキシピペリジン((株)ADEKA製 LA−82)
LS770:セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)((株)ADEKA製 LS770)
TV−292:セバシン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)(チバ・ジャパン(株)製 TV−292)
*LS−770、TV−292は、ピペリジン骨格を有するヒンダードアミン構造(以下、「HALS部位」という。)を分子内に2つ持つため、HALS部位として0.10モル%添加されている。
表2及び表3に示した各原料を用い、強化ガラス板の間隔を3.6mmとし、t−ヘキシルパーオキシピバレートの量を0.19部とする以外は、実施例1と同様にして、板厚3.0±0.2mmの成型体(9)〜(36)を得た。
PMMA:MMA重合体(三菱レイヨン(株)製、VHK000)
TV−123:ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート(チバ・ジャパン(株)製 TV−123)
TV−152:2,4−ビス[N−ブチル−N−(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ]−6−(2−ヒドロキシエチルアミン)−1,3,5−トリアジン(チバ・ジャパン(株)製 TV−152)
TV−P:2−(2'−ヒドロキシ−5'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール(チバ・ジャパン(株)製 TV−P)
* TV−123,TV−152は、HALS部位を分子内に2つ持つため、HALS部位のモル数は添加モル数の2倍である。
** 成型体26は、着色に加えて、濁りが見られた(比較例9)。
表4に示した各原料を用い、第2段目の重合温度を130℃×30分に替えて、表4に記載の重合温度×30分としたこと以外は、実施例4と同様にして、成型体を得た。
得られた成型体の透過スペクトルを、分光光度計 MCPD−3000(大塚電子(株)製、商品名)により測定し、黄色度を測定した。測定値は、以下の式に従い、サンプルの厚さにより補正を行なった。
黄色度(補正値)=黄色度(測定値)×3/板厚(mm)
成型体の外観、黄色度を表4に示す。
表4に示した各原料を混合して混合体を得た。混合体に重合開始剤としてt−ヘキシルパーオキシピバレート0.35部を添加した。これを、ガラス性容器に投入し、減圧脱気した後、容器内を窒素置換し、80℃で2時間加熱して重合した。得られた重合体を適宜切断した後、小型射出成型機 CS−183−MMX(カスタム・サイエンティフィック・インスツルメンツ社製)に供給し、シリンダー温度260℃の条件で10分間保持した後、10mm×20mm×2mmの金型を用いて、金型温度60℃にて射出成型し、成型体を作製した。
得られた成型体の透過スペクトルを、実施例26と同様に測定し、黄色度(補正値)を求めた。参考例1〜3では、補正により、成型体の板厚3mm相当での黄色度を求めた。
射出成型で作成した成型体の外観、黄色度を表4に示す。
PMMA:MMA重合体(三菱レイヨン(株)製、VHK000)
TV−123:ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート(チバ・ジャパン(株)製 TV−123)
* TV−123は、HALS部位を分子内に2つ持つため、HALS部位として0.30モル%添加されている。
表5に示した各原料を用い、実施例4と同様にして、板厚3.0±0.2mmの成型体(51)〜(58)を得た。
得られた成型体の透過スペクトルを、実施例26と同様に測定し、黄色度(補正値)を求めた。
成型体(51)〜(58)の重合転化率、外観、黄色度を表5に示す。
PMMA:MMA重合体(三菱レイヨン(株)製、VHK000)
Claims (9)
- 下記一般式(1)で表される単量体(a1)0.01〜35モル%及びメチルメタクリレートを主成分とする単量体(a2)65〜99.99モル%を含有する単量体混合物を、210℃以下の温度で重合する重合体の製造方法。
- メチルメタクリレートを主成分とする単量体(a2)単位からなる重合体、下記一般式(1)で表される単量体(a1)及びメチルメタクリレートを主成分とする単量体(a2)を含有し、単量体(a1)の含有率が0.01〜35モル%である混合物を、210℃以下の温度で重合する重合体の製造方法。
- 下記一般式(1)で表される単量体(a1)及びメチルメタクリレートを主成分とする単量体(a2)を含有する単量体混合物を210℃以下の温度で重合した重合体と、メチルメタクリレートを主成分とする単量体(a2)とを含有し、単量体(a1)単位の含有率が0.01〜35モル%である混合物を、210℃以下の温度で重合する重合体の製造方法。
- 単量体混合物の重合がキャスト重合である請求項1に記載の重合体の製造方法。
- 混合物の重合がキャスト重合である請求項2又は3に記載の重合体の製造方法。
- 請求項4に記載の製造方法で得られた成型体。
- 請求項5に記載の製造方法で得られた成型体。
- 請求項6に記載の成型体を用いた、太陽光発電モジュール用トップカバー。
- 請求項7に記載の成型体を用いた、太陽光発電モジュール用トップカバー。
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