JPWO2011021346A1 - パターン形状推定方法、及びパターン測定装置 - Google Patents
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Abstract
Description
002 シミュレーション波形ライブラリ
003 SEM装置
010 露光プロセスシミュレーション結果(断面形状)
011 SEMシミュレーション結果(信号波形)
012 SEM画像
013 SEM信号波形
014 推定断面形状(露光シミュレーション結果)
015 推定断面形状(簡易モデルによる近似形状)
016 計測結果表示部
Claims (8)
- 試料に対する荷電粒子線の走査に基づいて得られる波形情報を、複数のパターンの形状単位で波形情報が登録されたライブラリに参照して、パターンを選択するパターン形状選択方法であって、
上記ライブラリの形状として露光プロセスシミュレーションによって、複数の相異なる露光条件により算出されるパターンの断面形状群により形状をモデル化してライブラリを作成し、計測時には、試料に対する荷電粒子線の照射に基づいて、計測対象パターンの波形情報を取得し、当該波形情報を上記の露光プロセスシミュレーションを用いて形成したライブラリに参照することによって、前記ライブラリに記憶されたパターン形状情報を選択することを特徴とするパターン形状選択方法。 - 請求項1において、
前記ライブラリは、前記露光プロセスシミュレーションの定量化された露光プロセス条件パラメタと関連付けて記録されることを特徴とするパターン形状選択方法。 - 請求項2において、
前記ライブラリからのパターン形状選択は、前記定量化された露光プロセス条件を媒介パラメタとして用いることを特徴とするパターン形状選択方法。 - 試料に対する荷電粒子線の走査に基づいて得られる波形情報を、複数のパターンの形状単位で波形情報が登録されたライブラリに参照して、パターンを選択するパターン形状選択方法であって、
上記ライブラリの形状として露光プロセスシミュレーションによって、複数の相異なる露光条件により算出されるパターンの断面形状群により形状をモデル化してライブラリを作成し、
上記ライブラリ作成時と同じ相異なる複数の露光条件で実際にパターンを露光し、
上記露光された実パターンのSEM波形情報と上記ライブラリ波形とのマッチングにより一致度および実パターンの形状を推定し、
上記ライブラリと実パターンの整合性情報を用いて露光シミュレーションの評価とパラメタ調整を行うことを特徴とする露光シミュレーション評価,調整方法。 - 請求項4において、
前記ライブラリと実パターンの整合性情報として、波形マッチングの一致度、実パターン露光時の露光条件と、波形マッチングにより推定された露光条件との差分およびそれらの演算により得られる値を用いることを特徴とする露光シミュレーション評価,調整方法。 - 請求項4の露光シミュレーション評価,調整方法により調整された露光シミュレーション条件を用いてライブラリを作成することを特徴とするパターン形状選択方法。
- 試料から放出された荷電粒子に基づいて形成される波形情報と、パターン形状に関する情報を関連付けて記憶するライブラリを参照して、パターン形状を選択するパターン測定装置であって、
試料に対する荷電粒子線の照射に基づいて得られる波形情報を、異なるプロセス条件によるシミュレーションに基づいて形成される複数の波形情報と、複数のパターンの形状に関する情報とを関連付けて記憶するライブラリに参照することによって、前記ライブラリに記憶されたパターン形状に関する情報を選択する処理部を備えたことを特徴とするパターン測定装置。 - 請求項7において、
前記ライブラリは、パターンの露光プロセス条件と、前記波形情報とが関連付けて記憶されるものであることを特徴とするパターン測定装置。
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