JP2005265424A - 走査型電子顕微鏡装置及び走査型電子顕微鏡装置における装置としての再現性能評価方法 - Google Patents
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Abstract
半導体パターンの微細化に伴なって増加傾向にある微細形状揺らぎに影響されずに、装置の測長再現性能を高精度で評価して提示することができるCDSEM(走査型電子顕微鏡装置)及び装置としての再現性能評価方法を提供することにある。
【解決手段】
同一測長部位を複数回測長する際に、そのパターンが持つラフネスなどの微細パターン形状を利用して、ラフネステンプレート画像とのパターンマッチングにより取得拡大測長画像上での測長部位の2次元の位置ずれを補正して拡大測長領域画像を切り出して取得する機能を設ける。これにより測長対象が持つ微細パターン形状に起因する測長ばらつきをキャンセルし、測長対象に影響されない測長再現性能を提示可能とする。
【選択図】 図1
Description
Claims (17)
- 複数の測長回数毎に所定の撮像条件において試料に電子線を走査照射して前記試料より放出される電子信号に基づく高倍率の拡大測長画像を取得する画像取得部と、
該画像取得部から複数の測長回数毎に取得された高倍率の拡大測長画像から、用意された局所領域のパターンの微細形状を現したラフネステンプレート画像と2次元にパターンマッチングさせた局所領域の拡大測長領域画像を取得する画像処理部と、
該画像処理部によって前記複数の測長回数毎に取得された局所領域の拡大測長領域画像に基づいて拡大測長領域内のパターンの代表寸法又は形状を測長する測長部と、
装置としての再現性能の評価値として、前記測長部において前記複数の測長回数毎に測長された寸法又は形状の測長回数に対する変化に応じた値を提示する再現性能評価部とを備えたことを特徴とする走査型電子顕微鏡装置。 - 前記画像取得部には、更に、前記画像処理部において前記用意されたラフネステンプレート画像を、所定の試料に電子線を走査照射して前記所定の試料より放出される電子信号に基づいて取得される高倍率の拡大測長画像から局所領域として取得するラフネステンプレート画像取得部を有することを特徴とする請求項1記載の走査型電子顕微鏡装置。
- 前記画像取得部には、更に、前記画像処理部において前記用意されたラフネステンプレート画像として、パターンに形成されたエッジ形状のゆらぎを強調する画像処理を行った画像を取得するよう構成したことを特徴とする請求項1記載の走査型電子顕微鏡装置。
- 前記画像取得部には、更に、前記試料に形成されたアドレッシングパターンのアドレシング画像を取得するアドレシング画像取得部を有し、
前記画像処理部には、更に、前記アドレシング画像取得部で取得されたアドレシング画像とアドレシングテンプレート画像とパターンマッチングしてアドレシングパターンの座標を取得し、該取得されたアドレシングパターンの座標から前記拡大測長領域の座標を取得する座標取得部を有し、
前記画像取得部は、前記座標取得部で取得された拡大測長領域の座標を基に前記拡大測長画像を取得するように構成したことを特徴とする請求項1記載の走査型電子顕微鏡装置。 - 前記再現性能評価部は、前記提示する寸法又は形状の測長回数に対する変化に応じた値として寸法又は形状の測長回数に対するばらつき量であることを特徴とする請求項1記載の走査型電子顕微鏡装置。
- 前記再現性能評価部は、前記複数の測長回数毎に測長された寸法又は形状の測長回数に対する変化に対して複数の関数モデルをフィッティング処理して最もフィッティングした関数モデルを求め、該求められた関数モデルを前記装置としての再現性能の評価値として提示することを特徴とする請求項1記載の走査型電子顕微鏡装置。
- 前記再現性能評価部は、前記複数の測長回数毎に測長された寸法又は形状の測長回数に対する変化に対して複数の関数モデルをフィッティング処理して最もフィッティングした関数モデルを求め、該求められた関数モデルと前記寸法又は形状の測長回数に対する変化とのずれを算出し、該算出されたずれに応じた値を前記装置としての再現性能の評価値として提示することを特徴とする請求項1記載の走査型電子顕微鏡装置。
- 前記再現性能評価部は、前記複数の測長回数毎に測長された寸法又は形状の測長回数に対する変化に対して複数の関数モデルをフィッティング処理して最もフィッティングした関数モデルを求め、該求められた関数モデルと前記寸法又は形状の測長回数に対する変化とのずれを算出し、該算出されたずれに応じたばらつき量を前記装置としての再現性能の評価値として提示することを特徴とする請求項1記載の走査型電子顕微鏡装置。
- 前記再現性能評価部は、前記装置としての再現性能評価値として前記画像取得部での撮像条件も提示することを特徴とする請求項1又は5又は6又は7記載の走査型電子顕微鏡装置。
- 複数の測長回数毎に所定の撮像条件において試料に電子線を走査照射して前記試料より放出される電子信号に基づく高倍率の拡大測長画像を取得する画像取得部と、
該画像取得部から複数の測長回数毎に取得された高倍率の拡大測長画像から、用意された局所領域のパターンの微細形状を現したラフネステンプレート画像と2次元にパターンマッチングさせた局所領域の拡大測長領域画像を取得する画像処理部と、
該画像処理部によって前記複数の測長回数毎に取得された局所領域の拡大測長領域画像に基づいて拡大測長領域内のパターンの寸法又は形状を測長する測長部とを備えたことを特徴とする走査型電子顕微鏡装置。 - 前記画像取得部には、更に、前記画像処理部において前記用意されたラフネステンプレート画像を、所定の試料に電子線を走査照射して前記所定の試料より放出される電子信号に基づいて取得される高倍率の拡大測長画像から局所領域として取得するラフネステンプレート画像取得部を有することを特徴とする請求項10記載の走査型電子顕微鏡装置。
- 前記画像取得部には、前記試料に形成されたアドレッシングパターンのアドレシング画像を取得するアドレシング画像取得部を有し、
前記画像処理部には、前記アドレシング画像取得部で取得されたアドレシング画像とアドレシングテンプレート画像とパターンマッチングしてアドレシングパターンの座標を取得し、該取得されたアドレシングパターンの座標から前記拡大測長領域の座標を取得する座標取得部を有し、
前記画像取得部は、前記座標取得部で取得された拡大測長領域の座標を基に前記拡大測長画像を取得するように構成したことを特徴とする請求項10記載の走査型電子顕微鏡装置。 - 複数の測長回数毎に所定の撮像条件において試料に電子線を走査照射して前記試料より放出される電子信号に基づく高倍率の拡大測長画像を取得する画像取得ステップと、
該画像取得ステップにおいて複数の測長回数毎に取得された高倍率の拡大測長画像から、用意された局所領域のパターンの微細形状を現したラフネステンプレート画像と2次元にパターンマッチングさせた局所領域の拡大測長領域画像を取得する画像処理ステップと、
該画像処理ステップによって前記複数の測長回数毎に取得された局所領域の拡大測長領域画像に基づいて拡大測長領域内のパターンの寸法又は形状を測長する測長ステップと、
装置としての再現性能の評価値として、前記測長ステップにおいて前記複数の測長回数毎に測長された寸法又は形状の測長回数に対する変化に応じた値を提示する再現性能評価ステップとを有することを特徴とする走査型電子顕微鏡装置における装置としての再現性能評価方法。 - 前記再現性能評価ステップにおいて、前記提示する寸法又は形状の測長回数に対する変化に応じた値として寸法又は形状の測長回数に対するばらつきであることを特徴とする請求項13記載の走査型電子顕微鏡装置における装置としての再現性能評価方法。
- 前記再現性能評価ステップにおいて、前記複数の測長回数毎に測長された寸法又は形状の測長回数に対する変化に対して複数の関数モデルをフィッティング処理して最もフィッティングした関数モデルを求め、該求められた関数モデルを前記装置としての再現性能の評価値として提示することを特徴とする請求項13記載の走査型電子顕微鏡装置における装置としての再現性能評価方法。
- 前記再現性能評価ステップは、前記複数の測長回数毎に測長された寸法又は形状の測長回数に対する変化に対して複数の関数モデルをフィッティング処理して最もフィッティングした関数モデルを求め、該求められた関数モデルと前記寸法又は形状の測長回数に対する変化とのずれを算出し、該算出されたずれに応じた値を前記装置としての再現性能の評価値として提示することを特徴とする請求項13記載の走査型電子顕微鏡装置における装置としての再現性能評価方法。
- 前記再現性能評価ステップにおいて、前記装置としての再現性能評価値として前記画像取得ステップでの撮像条件も提示することを特徴とする請求項13又は14又は15又は16記載の走査型電子顕微鏡装置における装置としての再現性能評価方法。
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