JPWO2011010560A1 - 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009173497 | 2009-07-24 | ||
JP2009173497 | 2009-07-24 | ||
PCT/JP2010/061593 WO2011010560A1 (ja) | 2009-07-24 | 2010-07-08 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011010560A1 true JPWO2011010560A1 (ja) | 2012-12-27 |
Family
ID=43499030
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011523606A Pending JPWO2011010560A1 (ja) | 2009-07-24 | 2010-07-08 | 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2011010560A1 (zh) |
TW (1) | TW201109861A (zh) |
WO (1) | WO2011010560A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7446068B2 (ja) | 2019-09-03 | 2024-03-08 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および、物品の製造方法 |
JP7446069B2 (ja) * | 2019-09-03 | 2024-03-08 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び物品の製造方法 |
JP7336922B2 (ja) * | 2019-09-03 | 2023-09-01 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2732498B2 (ja) * | 1988-11-24 | 1998-03-30 | 株式会社日立製作所 | 縮小投影式露光方法及びその装置 |
DE19856575A1 (de) * | 1998-12-08 | 2000-09-14 | Zeiss Carl Fa | Projektions-Mikrolithographiegerät |
JP2002110529A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-12 | Nikon Corp | 投影露光装置及び該装置を用いたマイクロデバイス製造方法 |
JP4693088B2 (ja) * | 2004-02-20 | 2011-06-01 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置、および露光方法 |
US7119883B2 (en) * | 2004-10-13 | 2006-10-10 | Asml Holding N.V. | Correcting variations in the intensity of light within an illumination field without distorting the telecentricity of the light |
JP2010073835A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
-
2010
- 2010-07-08 WO PCT/JP2010/061593 patent/WO2011010560A1/ja active Application Filing
- 2010-07-08 JP JP2011523606A patent/JPWO2011010560A1/ja active Pending
- 2010-07-19 TW TW099123633A patent/TW201109861A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2011010560A1 (ja) | 2011-01-27 |
TW201109861A (en) | 2011-03-16 |
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