JPWO2011010560A1 - 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents

照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2011010560A1
JPWO2011010560A1 JP2011523606A JP2011523606A JPWO2011010560A1 JP WO2011010560 A1 JPWO2011010560 A1 JP WO2011010560A1 JP 2011523606 A JP2011523606 A JP 2011523606A JP 2011523606 A JP2011523606 A JP 2011523606A JP WO2011010560 A1 JPWO2011010560 A1 JP WO2011010560A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
illumination
light
illumination field
intensity distribution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011523606A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
小松田 秀基
秀基 小松田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Publication of JPWO2011010560A1 publication Critical patent/JPWO2011010560A1/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/0988Diaphragms, spatial filters, masks for removing or filtering a part of the beam

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2011523606A 2009-07-24 2010-07-08 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 Pending JPWO2011010560A1 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009173497 2009-07-24
JP2009173497 2009-07-24
PCT/JP2010/061593 WO2011010560A1 (ja) 2009-07-24 2010-07-08 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2011010560A1 true JPWO2011010560A1 (ja) 2012-12-27

Family

ID=43499030

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011523606A Pending JPWO2011010560A1 (ja) 2009-07-24 2010-07-08 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPWO2011010560A1 (zh)
TW (1) TW201109861A (zh)
WO (1) WO2011010560A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7446068B2 (ja) 2019-09-03 2024-03-08 キヤノン株式会社 露光装置、および、物品の製造方法
JP7446069B2 (ja) * 2019-09-03 2024-03-08 キヤノン株式会社 露光装置及び物品の製造方法
JP7336922B2 (ja) * 2019-09-03 2023-09-01 キヤノン株式会社 露光装置及び物品の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2732498B2 (ja) * 1988-11-24 1998-03-30 株式会社日立製作所 縮小投影式露光方法及びその装置
DE19856575A1 (de) * 1998-12-08 2000-09-14 Zeiss Carl Fa Projektions-Mikrolithographiegerät
JP2002110529A (ja) * 2000-10-03 2002-04-12 Nikon Corp 投影露光装置及び該装置を用いたマイクロデバイス製造方法
JP4693088B2 (ja) * 2004-02-20 2011-06-01 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、および露光方法
US7119883B2 (en) * 2004-10-13 2006-10-10 Asml Holding N.V. Correcting variations in the intensity of light within an illumination field without distorting the telecentricity of the light
JP2010073835A (ja) * 2008-09-17 2010-04-02 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011010560A1 (ja) 2011-01-27
TW201109861A (en) 2011-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5500454B2 (ja) オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2011040716A (ja) 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP4998803B2 (ja) 露光装置、デバイス製造方法、および露光方法
JP2009117801A (ja) 照明光学系、露光装置、光学素子およびその製造方法、並びにデバイス製造方法
EP2264511A1 (en) Spatial light modulating unit, illumination optical system, aligner, and device manufacturing method
KR20090006050A (ko) 조명 광학 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
JP2010004008A (ja) 光学ユニット、照明光学装置、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP2010217877A (ja) 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
KR20110074856A (ko) 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법
JP5688672B2 (ja) 光伝送装置、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
WO2011010560A1 (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5397748B2 (ja) 露光装置、走査露光方法、およびデバイス製造方法
JP2009071011A (ja) オプティカルインテグレータ、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5360379B2 (ja) 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP4883482B2 (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5326928B2 (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5366019B2 (ja) 伝送光学系、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP5515323B2 (ja) 投影光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2005234120A (ja) 照明光学装置、露光装置及び露光方法
JP5604813B2 (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2011119596A (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2010283249A (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2008021767A (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2011171563A (ja) 調整ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2010199561A (ja) 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法