JPWO2010007852A1 - レーザ加工装置及びその加工方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は第1実施形態に係るレーザ加工装置の構成を示す概略図である。レーザ加工装置1は、電子部品加工に用いられる装置であって、電子部品(加工対象物)2を加工するための加工用光を発する加工用光光源(第1の発光部)3と、電子部品2を観察するための観察用光を発する観察用光発光部(第2の発光部)4と、電子部品2で生じる複数波長の光を検出する検出部5と、加工用光発光部3の発光状態を制御する制御部31とを備えている。
次に、第2実施形態に係るレーザ加工装置20について説明する。図6は第2実施形態に係るレーザ加工装置の構成を示す概略図である。第2実施形態に係るレーザ加工装置20と第1実施形態との相違点は、電子部品2で生じる光を導光する光ファイバ(第3の導光体)24が4つのグループに分けられることである。その他の構成は、上述したレーザ加工装置1と同等であるため、同一符号を付して重複説明を省略する。
次に、第2実施形態に係るレーザ加工装置20の変形例について説明する。図9は第2実施形態に係るレーザ加工装置の変形例を示す概略図である。図9に示す変形例では、レーザ加工装置26の検出部27は、1つの検出素子28と、光ファイバ24により導光された光を検出素子28に入射させるように、光路を切り替えるミラー(光路変更手段)29とを含んで構成されている。ミラー29は、回転自由に設けられ、4つのグループの光ファイバ24により導光されてき光を順番に検出素子28に入射させる。検出素子28は、波長445nm及び波長660nmを含む複数波長の光を検出可能なものである。
2 電子部品(加工対象物)
3 加工用光光源(第1の発光部)
4 観察用光発光部(第2の発光部)
5,21,27 検出部
6,18 光ファイバ(第1の導光体)
9,10,12,19,25 光ファイバ(第2の導光体)
15,16,24 光ファイバ(第3の導光体)
22 観察用光光源(第2の発光部)
29 ミラー(光路変更手段)
31 制御部。
Claims (12)
- 加工対象物を加工用光で走査し加工するレーザ加工装置において、
加工用光を発する第1の発光部と、
前記第1の発光部から発せられる加工用光を加工対象物へと導光する第1の導光体と、
加工対象物を観察するための観察用光を発する第2の発光部と、
前記第2の発光部から発せられる観察用光を加工対象物へと導光する複数の第2の導光体と、
加工対象物で生じる複数波長の光を導光する第3の導光体と、
前記第3の導光体により導光される複数波長の光を検出する検出部と、
前記検出部により検出された結果に基づき、前記第1の発光部の発光状態を制御する制御部と、を備え、
前記第2の導光体は、少なくとも2つのグループに分けられ、且つグループ毎に前記第2の発光部から発せられる観察用光を加工対象物へと導光することを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記第2の導光体は、4つのグループに分けられ、
前記第1の導光体の出射端において、4つのグループに分けられた前記第2の導光体は、前記第1の導光体を取り囲むように、前記第1の導光体から出射される加工用光の走査方向に対し前後左右に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。 - 4つのグループに分けられた前記第2の導光体は、前記第2の発光部から発せられる観察用光を順番に加工対象物へと導光することを特徴とする請求項2に記載のレーザ加工装置。
- 加工対象物を加工用光で走査し加工するレーザ加工装置において、
加工用光を発する第1の発光部と、
前記第1の発光部から発せられる加工用光を加工対象物へと導光する第1の導光体と、
加工対象物を観察するための観察用光を発する第2の発光部と、
前記第2の発光部から発せられる観察用光を加工対象物へと導光する第2の導光体と、
加工対象物で生じる複数波長の光を導光する複数の第3の導光体と、
前記第3の導光体により導光される複数波長の光を検出する検出部と、
前記検出部により検出された結果に基づき、前記第1の発光部の発光状態を制御する制御部と、を備え、
前記第3の導光体は、少なくとも2つのグループに分けられ、且つグループ毎に加工対象物で生じる複数波長の光を導光することを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記第3の導光体は、4つのグループに分けられ、
前記第1の導光体の出射端において、4つのグループに分けられた前記第3の導光体は、前記第1の導光体を取り囲むように、前記第1の導光体から出射される加工用光の走査方向に対し前後左右に配置されていることを特徴とする請求項4に記載のレーザ加工装置。 - 4つのグループに分けられた前記第3の導光体は、加工対象物で生じる複数波長の光を順番に導光することを特徴とする請求項5に記載のレーザ加工装置。
- 前記検出部は、前記第3の導光体のグループ毎に対応する検出素子を含むことを特徴とする請求項4〜6のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
- 前記検出部は、1つの検出素子と、前記第3の導光体により導光される光を前記検出素子に入射させるための光路変更手段と、を含むことを特徴とする請求項4〜6のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
- 請求項1に記載のレーザ加工装置を用いたレーザ加工方法であって、
第2の導光体の各グループを用いて、グループ毎に観察用光を加工対象物に照射する第1ステップと、
加工対象物で生じる複数波長の光を検出し、検出した光の特性により照射対象を特定する第2ステップと、
照射対象の特定結果に基づき、加工用光を制御して加工対象物を加工する第3ステップと、
を備えることを特徴とするレーザ加工方法。 - 前記第1ステップにおいて、加工用光の走査方向の前方に配置された第2の導光体のグループのみを用いて、加工対象物に観察用光を照射することを特徴とする請求項9に記載のレーザ加工方法。
- 請求項4に記載のレーザ加工装置を用いたレーザ加工方法であって、
加工対象物に観察用光を照射する第1ステップと、
第3の導光体の各グループを用いて、加工対象物で生じる複数波長の光をグループ毎に検出し、検出した光の特性により照射対象を特定する第2ステップと、
照射対象の特定結果に基づき、加工用光を制御して加工対象物を加工する第3ステップと、
を備えることを特徴とするレーザ加工方法。 - 前記第2ステップにおいて、加工用光の走査方向の前方に配置された第3の導光体のグループのみを用いて、加工対象物で生じる複数波長の光を検出することを特徴とする請求項11に記載のレーザ加工方法。
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