JP4537686B2 - レーザ加工装置 - Google Patents

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本発明は、レーザ光を利用して被加工物の加工を行うレーザ加工装置に係り、とりわけ、被加工物の加工中にその加工状態を観察することができるようにしたレーザ加工装置に関する。
従来から、この種のレーザ加工装置として、レーザ発振器から出射されたレーザ光を光ファイバを介して被加工物の近傍まで導き、加工光学系により被加工物上にレーザ光を照射することにより、被加工物の加工を行うレーザ加工装置が知られている。
図6はこのような従来のレーザ加工装置を説明するための図である。
図6に示すレーザ加工装置60において、レーザ発振器15から出射されたレーザ光は、入射レンズ23を介して光ファイバ10の入射端10aに入射され、光ファイバ10を介して伝送されて光ファイバ10の出射端10bまで導かれる。そして、このようにして伝送されたレーザ光は、光ファイバ10の出射端10bから出射され、加工レンズ21′により集光されて被加工物30上に照射される。
ところで、このようなレーザ加工装置60において、被加工物30の加工を適切に行うためには、被加工物30の加工中にその加工状態を的確に把握し、必要に応じてレーザ加工装置60の各部(レーザ発振器15等)を制御する必要がある。
このための従来の方法として、被加工物30上に照射されたレーザ光の反射光を利用して被加工物30の加工状態を観察する方法が提案されている。具体的には例えば、図6に示すように、レーザ発振器15と入射レンズ23との間にビームスプリッタ51を配置し、被加工物30で反射されて光ファイバ10を介してレーザ発振器15側に戻されたレーザ光の一部を光路上から分岐させた後、この分岐されたレーザ光を集光レンズ52により撮像装置53上に照射することにより、被加工物30の加工状態を観察する方法が提案されている(特許文献1参照)。
しかしながら、上述した従来の方法では、レーザ発振器15から被加工物30へ向けて出射されたレーザ光(入射光)の光路が、被加工物30で反射されてレーザ発振器15側に戻されるレーザ光(反射光)の光路と同一であるので、このような光路上に配置されたビームスプリッタ51により分岐することが可能なレーザ光の量は限られたものとなる。このため、撮像装置53で検出される信号のS/N比が悪くなり、被加工物30の加工状態を確実に観察することが困難であるという問題がある。
特開平6−218570号公報
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、被加工物上に照射されたレーザ光の反射光を高い感度で検出して被加工物の加工状態を確実に観察することができるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
本発明は、レーザ光を利用して被加工物の加工を行うレーザ加工装置において、レーザ光を出射するレーザ発振器と、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を伝送する加工用光ファイバと、前記加工用光ファイバの出射端側に配置され、前記加工用光ファイバを介して伝送されたレーザ光を集光して被加工物上に照射する加工光学系と、前記加工用光ファイバの入射端側に配置され、前記被加工物で反射されて前記加工用光ファイバを介して前記レーザ発振器側に戻されたレーザ光を検出するセンサ装置とを備え、前記加工用光ファイバは、コアと、このコアを覆う外部層とを有し、前記センサ装置は、前記加工用光ファイバの前記外部層を介して前記レーザ発振器側に戻されたレーザ光を検出することを特徴とするレーザ加工装置を提供する。
なお、本発明においては、前記センサ装置による検出結果に基づいて前記被加工物の加工状態を観察する観察装置をさらに備えることが好ましい。
また、本発明において、前記センサ装置は、前記加工用光ファイバの前記外部層から出射されたレーザ光の光路上に配置されたセンサ部を有することが好ましい。ここで、前記センサ部は、前記加工用光ファイバの前記入射端側の異なる位置に複数配置されていることが好ましい。また、前記複数のセンサ部は、異なる感度特性を持つ少なくとも二種類のセンサ部を含むことが好ましい。
さらに、本発明において、前記センサ装置は、前記加工用光ファイバの前記外部層から出射されたレーザ光の光路上にその入射端が位置付けられるように配置された測定用光ファイバと、この測定用光ファイバの出射端側に配置され、前記測定用光ファイバを介して伝送されたレーザ光を検出するセンサ部とを有することが好ましい。ここで、前記測定用光ファイバは、前記加工用光ファイバの前記入射端側の異なる位置に複数配置され、前記センサ部は、前記複数の測定用光ファイバを介して伝送されたレーザ光を検出するように一つ又は複数配置されていることが好ましい。
なお、本発明において、前記外部層はクラッド層及びサポート層のうちの少なくとも一つを含むことが好ましい。
本発明によれば、加工用光ファイバの外部層を介してレーザ発振器側に戻されたレーザ光をセンサ装置により検出するようにしているので、レーザ発振器から被加工物へ向けて出射された入射光を遮蔽しない位置にセンサ装置を配置することが可能となり、センサ装置で検出される信号のS/N比を良好にすることができる。このため、被加工物上に照射されたレーザ光の反射光を高い感度で検出して観察装置等により被加工物の加工状態を確実に観察することができる。
また、本発明によれば、センサ装置を設置する上でのスペース的な制約が少ないので、多数かつ多様なセンサを設置することが可能となる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
まず、図1により、本発明の一実施の形態に係るレーザ加工装置の構成について説明する。
図1に示すように、レーザ加工装置1は、レーザ光を利用して被加工物30の加工を行うものであり、レーザ光Lを出射するレーザ発振器15と、レーザ発振器15から出射されたレーザ光Lを伝送する加工用光ファイバ10とを備えている。
まず最初に、図2及び図3(a)(b)により、加工用光ファイバ10の詳細について説明する。
図2に示すように、加工用光ファイバ10は、コア11と、このコア11を覆うように中心部側から順に積層されたクラッド層12、サポート層13及び被覆層14とを有している。なお、クラッド層12及びサポート層13により外部層が構成されている。
このうち、コア11はレーザ光を正常に伝送するために設計及び調整されたものであり、図3(a)に示すように、加工用光ファイバ10の入射端10aにてコア11の入出射NAの範囲(0.1〜0.2程度)にレーザ光Lが入射されると、レーザ光Lがコア11のみを介して正常に伝送される。この場合、加工用光ファイバ10の出射端10bから出射されるレーザ光の出射光パターンは、コア11を介して伝送されたレーザ光Lに対応する円形のパターンとなる。
これに対し、クラッド層12及びサポート層13はレーザ光を積極的に伝送するためのものではないが、低出力のレーザ光であれば破損等の問題なく伝送することが可能である。具体的には、図3(b)に示すように、加工用光ファイバ10の入射端10aにてレーザ光Lがコア11の入出射NAの範囲よりも大きな範囲に入射されると、レーザ光Lがコア11及びクラッド層12(又はクラッド層12及びサポート層13)を介して伝送される。この場合、加工用光ファイバ10の出射端10bから出射されるレーザ光の出射光パターンは、コア11を介して伝送されたレーザ光Lに対応する円形のパターンのまわり(外側)に、クラッド層12(又はクラッド層12及びサポート層13)を介して伝送されたレーザ光Lに対応するリング状のパターンが配置されたものとなる。
以下、図1に戻って、上述したような加工用光ファイバ10を備えたレーザ加工装置1の詳細について説明する。
図1に示すように、加工用光ファイバ10の入射端10a側には入射レンズ(入射光学系)23が配置され、レーザ発振器15から出射されたレーザ光Lを集光して加工用光ファイバ10のコア11に入射させることができるようになっている。
また、加工用光ファイバ10の出射端10b側には加工レンズ21,22からなる加工光学系20が配置され、加工用光ファイバ10のコア11を介して伝送されたレーザ光Lを集光して被加工物30上に照射することができるようになっている。
なお、加工用光ファイバ10及び加工光学系20は、被加工物30で反射されたレーザ光のうち入出射NAの範囲内の光(入射光であるレーザ光Lと同一の光路上のレーザ光)が加工用光ファイバ10のコア11に入射され、入出射NAの範囲外の光(入射光であるレーザ光Lの光路から外れたレーザ光L)が加工用光ファイバ10のクラッド層12に入射されるように配置されている。ここで、加工光学系20によりレーザ光Lが照射される被加工物30は移動テーブル(図示せず)上に載置されており、加工光学系20に対して被加工物30を相対的に移動させることにより、被加工物30上でのレーザ光Lの照射位置(加工点)を適宜移動させることができるようになっている。
さらに、加工用光ファイバ10の入射端10a側にはセンサ装置41が配置され、被加工物30で反射されて加工用光ファイバ10のクラッド層12を介してレーザ発振器15側に戻されたレーザ光Lを検出することができるようになっている。
なお、センサ装置41は、加工用光ファイバ10のクラッド層12から出射されたレーザ光Lの光路上に配置されたセンサ部41aを有している。ここで、センサ部41aは、受光面に照射されたレーザ光の輝度分布等を信号として出力するものであり、撮像装置やセンサアレイ等を用いることができる。なお、センサ部41aは、加工用光ファイバ10のクラッド層12から出射されたレーザ光Lが直接照射される位置に配置してもよいが、図1に示すように、加工用光ファイバ10のクラッド層12から出射されたレーザ光Lの光路上に反射ミラー43を配置し、この反射ミラー43で反射されたレーザ光Lが照射される位置にセンサ部41aを配置するようにしてもよい。このようにすれば、センサ部41aの配置の自由度を確保することができる。
ここで、センサ装置41のセンサ部41aの数は特に限定されるものではなく、加工用光ファイバ10の入射端10a側の異なる位置に複数配置するようにしてもよい。具体的には例えば、複数のセンサ部41aを入射レンズ23の近傍の放射状に離間した位置に配置することができる。なおこの場合、各センサ部41aは加工用光ファイバ10の入射端10aのまわりに等間隔で配置(等配置)することが好ましい。また、センサ装置41が複数のセンサ部41aを有する場合には、各センサ部41aが異なる感度特性(波長及び時定数等)を持つようにしてもよい。さらに、各センサ部41aの受光面側に、観察したい波長域の光のみを透過させるフィルタを配置するようにしてもよい。
また、センサ装置41のセンサ部41aには観察装置42が接続されており、センサ装置41のセンサ部41aによる検出結果に基づいて被加工物30の加工状態を観察することができるようになっている。ここで、観察装置42は、センサ装置41のセンサ部41aにより検出された信号に基づいて被加工物30の加工状態を画像情報として表示したり、信号の分析結果を診断情報として提示したりするものである。
なお、センサ装置41のセンサ部41aにはレーザ加工装置1の制御装置(図示せず)が接続されていてもよい。この場合には、被加工物30の加工状態に基づいてレーザ加工装置1の各部(レーザ発振器15等)の制御を行うことができる。
次に、図1及び図4(a)(b)(c)により、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。
図1に示すレーザ加工装置1において、レーザ発振器15から出射されたレーザ光Lは、加工用光ファイバ10の入射端10a側に配置された入射レンズ23により集光され、加工用光ファイバ10のコア11に入射される。
ここで、加工用光ファイバ10のコア11に入射されたレーザ光Lは、加工用光ファイバ10のコア11を介して伝送されて加工用光ファイバ10の出射端10bまで導かれる。
そして、このようにして加工用光ファイバ10のコア11を介して伝送されたレーザ光Lは、加工用光ファイバ10の出射端10bから出射され、加工光学系20(加工レンズ21,22)により集光されて被加工物30上に照射される。
これにより、被加工物30上でのレーザ光Lの照射位置(加工点)にて被加工物30の加工が行われる。なおこのとき、被加工物30は移動テーブル(図示せず)上に載置されており、加工光学系20に対して被加工物30を相対的に移動させることにより、被加工物30上でのレーザ光Lの照射位置(加工点)を適宜移動させながら被加工物30の加工を行うことができる。
一方、このようにして被加工物30上に照射されたレーザ光Lはその大半が反射され、加工光学系20を介して加工用光ファイバ10の出射端10bに再度入射され、加工用光ファイバ10のコア11及びクラッド層12を介してレーザ発振器15側に戻される。
以下、図4(a)(b)(c)により、図1に示すレーザ加工装置1における被加工物30上に照射されたレーザ光Lの反射光の伝送態様について説明する。なおここでは、レーザ発振器15から出射されたレーザ光Lは、加工用光ファイバ10の入射端10aにてコア11のみに入射され、コア11を介して伝送された上で、加工用光ファイバ10の出射端10bから出射されるものとする。
ここで例えば、図4(c)に示すように、被加工物30の表面が鏡面であり、レーザ光Lが被加工物30の表面に垂直に入射し、かつ、レーザ光Lの焦点位置が被加工物30の表面にくるように加工用光ファイバ10及び加工光学系20が配置されているものとすると、被加工物30の表面で反射されたレーザ光は、被加工物30の表面に入射したレーザ光Lと同一の光路を辿って加工用光ファイバ10のコア11に再度入射される。
これに対し、図4(a)に示すように、被加工物30の表面とレーザ光Lの光軸とが互いに垂直でないように加工用光ファイバ10及び加工光学系20と被加工物30との位置関係が調整されてしまったり、図4(b)に示すように、被加工物30の表面にレーザ光Lの焦点位置がくることなく加工用光ファイバ10及び加工光学系20と被加工物30との位置関係がずれて調整されてしまったり、あるいは、被加工物30の表面が鏡面でなく散乱反射面となっていたと仮定する。
このような場合には、被加工物30の表面で反射されたレーザ光のうちコア11の入出射NAの範囲内の光(入射光であるレーザ光Lと同一の光路上のレーザ光)は、被加工物30の表面に入射したレーザ光Lと同一の光路を辿って加工用光ファイバ10のコア11に再度入射され、コア11を介してレーザ発振器15側に戻される。これに対し、被加工物30で反射されたレーザ光のうちコア11の入出射NAの範囲外の光(入射光であるレーザ光Lの光路から外れたレーザ光L)は、加工用光ファイバ10のクラッド層12に入射され、クラッド層12を介してレーザ発振器15側に戻される。
ここで、加工用光ファイバ10のコア11を介してレーザ発振器15側に戻されたレーザ光Lは、図1及び図4(a)(b)に示すような状態で、入射レンズ23へ向けて出射される。これに対し、加工用光ファイバ10のクラッド層12を介してレーザ発振器15側に戻されたレーザ光Lは、図1及び図4(a)(b)に示すような状態で、入射レンズ23から外れるように広がりながら出射される。
本実施の形態においては、このようにして加工用光ファイバ10の入射端10aから出射されたレーザ光のうちクラッド層12を介して伝送されたレーザ光Lが反射ミラー43で反射され、センサ装置41のセンサ部41aまで導かれる。
そして、センサ装置41のセンサ部41aは、加工用光ファイバ10のクラッド層12を介してレーザ発振器15側に戻されたレーザ光Lを検出する。また、センサ装置41のセンサ部41aに接続された観察装置42は、センサ装置41のセンサ部41aによる検出結果に基づいて被加工物30の加工状態を観察する。
このように本実施の形態によれば、被加工物30で反射されたレーザ光の一部(入射光であるレーザ光Lの光路から外れたレーザ光L)を加工用光ファイバ10のクラッド層12を介してレーザ発振器15側に戻し、その戻されたレーザ光Lをセンサ装置41のセンサ部41aにより検出するようにしているので、レーザ発振器15から被加工物30へ向けて出射された入射光(レーザL)を遮蔽しない位置にセンサ装置41のセンサ部41aを配置することが可能となり、センサ装置41で検出される信号のS/N比を良好にすることができる。このため、被加工物30上に照射されたレーザ光Lの反射光を高い感度で検出して観察装置42等により被加工物30の加工状態(例えば、レーザ光Lが被加工物30の表面に垂直に入射しているか否か、又は、レーザ光Lの焦点位置が被加工物30の表面にくるようになっているか否か等)を確実に観察することができる。
また、本実施の形態によれば、センサ装置41のセンサ部41aを設置する上でのスペース的な制約が少ないので、多数かつ多様なセンサを設置することが可能となる。
さらに、本実施の形態によれば、加工用光ファイバ10の入射端10a側の異なる位置にセンサ装置41のセンサ部41aを複数配置することにより、センサ装置41で検出される信号のS/N比をさらに向上させることができ、また、各センサ部41aを異なった位置に配置することができるので、位置的な変化情報を取得することできる。
さらにまた、本実施の形態によれば、センサ装置41の複数のセンサ部41aが異なる感度特性(波長及び時定数等)を持つようにしたり、各センサ部41aの受光面側に、観察したい波長域の光のみを透過させるフィルタを配置したりすることにより、加工時に発光した可視光の検出も可能となり、被加工物30の加工状態をより確実に観察しながら加工を行うことができる。また、フィルタの有無や配置態様等によりレーザ光を検出したり可視光を検出したりすることができるので、所望の光に基づいて被加工物の加工状態を観察することができる。
なお、上述した実施の形態においては、被加工物30で反射されたレーザ光の一部(入射光であるレーザ光Lの光路から外れたレーザ光L)が加工用光ファイバ10のクラッド層12を介してレーザ発振器15側に戻される場合を例に挙げて説明したが、これに限らず、被加工物30で反射されたレーザ光の一部(入射光であるレーザ光Lの光路から外れたレーザ光L)が加工用光ファイバ10のクラッド層12及びサポート層13を介してレーザ発振器15側に戻される場合にも同様にして適用することができる。
また、上述した実施の形態においては、加工用光ファイバ10の入射端10aから出射されたレーザ光のうちクラッド層12を介して伝送されたレーザ光Lを、反射ミラー43等を介して直接的にセンサ装置41のセンサ部41aに導く場合を例に挙げて説明したが、これに限らず、クラッド層12を介して伝送されたレーザ光Lを測定用光ファイバを介してセンサ装置41のセンサ部41aに導くようにしてもよい。この場合には、センサ装置41のセンサ部41aを設置する上でのスペース的な制約がさらに少なくなる。
具体的には、図5に示すように、加工用光ファイバ10のクラッド層12から出射されたレーザ光Lの光路上にその入射端が位置付けられるように測定用光ファイバ44を複数配置し、これらの測定用光ファイバ44の出射端側に配置されたセンサ部41aにより、測定用光ファイバ44を介して伝送されたレーザ光Lを検出するようにするとよい。ここで、複数の測定用光ファイバ44を用いる場合には、各測定用光ファイバ44の入射端の位置関係を保った状態で、各測定用光ファイバ44の出射端から出射されたレーザ光Lをセンサ装置41のセンサ部41aに照射することが好ましい。また、各測定用光ファイバ44の入射端の位置情報を保持しておき、この位置情報に関連付けて、各測定用光ファイバ44から出射されたレーザ光Lに対応する信号を管理するようにしてもよい。
本発明の一実施の形態に係るレーザ加工装置の一例を示す図。 図1に示すレーザ加工装置で用いられる光ファイバの一例を示す斜視図。 図1に示すレーザ加工装置の光ファイバにおけるレーザ光の伝送態様を説明するための図。 図1に示すレーザ加工装置における被加工物で反射されたレーザ光の伝送態様を説明するための図。 図1に示すレーザ加工装置の変形例を示す図。 従来のレーザ加工装置を説明するための図。
符号の説明
1 レーザ加工装置
10 加工用光ファイバ
10a 入射端
10b 出射端
11 コア
12 クラッド層(外部層)
13 サポート層(外部層)
14 被覆層
15 レーザ発振器
20 加工光学系
21,22 加工レンズ
23 入射レンズ(入射光学系)
30 被加工物
41 センサ装置
41a センサ部
42 観察装置
43 反射ミラー
44 測定用光ファイバ
51 ビームスプリッタ
52 集光レンズ
53 撮像装置
60 レーザ加工装置
レーザ光(コア伝送光)
レーザ光(入射光の光路から外れたレーザ光)
レーザ光(クラッド伝送光)

Claims (7)

  1. レーザ光を利用して被加工物の加工を行うレーザ加工装置において、
    レーザ光を出射するレーザ発振器と、
    前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を伝送する加工用光ファイバと、
    前記加工用光ファイバの出射端側に配置され、前記加工用光ファイバを介して伝送されたレーザ光を集光して被加工物上に照射する加工光学系と、
    前記加工用光ファイバの入射端側に配置され、前記被加工物で反射されて前記加工用光ファイバを介して前記レーザ発振器側に戻されたレーザ光を検出するセンサ装置とを備え、
    前記加工用光ファイバは、コアと、このコアを覆うクラッド層を含む外部層とを有し、前記センサ装置は、前記加工用光ファイバの前記クラッド層を介して前記レーザ発振器側に戻されたレーザ光を検出し、
    前記センサ装置は、前記加工用光ファイバの前記クラッド層から出射されたレーザ光の光路上に配置されたセンサ部を有することを特徴とするレーザ加工装置。
  2. 前記センサ装置による検出結果に基づいて前記被加工物の加工状態を観察する観察装置をさらに備えたことを特徴とする、請求項1に記載のレーザ加工装置。
  3. 前記センサ部は、前記加工用光ファイバの前記入射端側の異なる位置に複数配置されていることを特徴とする、請求項1又は2のいずれかに記載のレーザ加工装置。
  4. 前記複数のセンサ部は、異なる感度特性を持つ少なくとも二種類のセンサ部を含むことを特徴とする、請求項に記載のレーザ加工装置。
  5. 前記センサ装置は、前記加工用光ファイバの前記クラッド層から出射されたレーザ光の光路上にその入射端が位置付けられるように配置された測定用光ファイバと、この測定用光ファイバの出射端側に配置され、前記測定用光ファイバを介して伝送されたレーザ光を検出するセンサ部とを有することを特徴とする、請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。
  6. 前記測定用光ファイバは、前記加工用光ファイバの前記入射端側の異なる位置に複数配置され、前記センサ部は、前記複数の測定用光ファイバを介して伝送されたレーザ光を検出するように一つ又は複数配置されていることを特徴とする、請求項に記載のレーザ加工装置。
  7. 前記外部層はサポート層も含むことを特徴とする、請求項1乃至のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
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