JPWO2009157456A1 - 電気電子部品用複合材料およびそれを用いた電気電子部品 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明によれば、以下の手段が提供される:
(1)電気電子部品の材料として用いられる、少なくとも表面が銅(Cu)または銅合金である金属基材上の少なくとも一部に絶縁皮膜が設けられた電気電子部品用複合材料であって、前記金属基材と前記絶縁皮膜との間にNiまたはNi合金にCuが拡散された金属層が介在し、前記金属層の最表面をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)が0.005以上であることを特徴とする電気電子部品用複合材料、
(2)前記絶縁皮膜がポリイミドまたはポリアミドイミドからなることを特徴とする(1)項に記載の電気電子部品用複合材料、
(3)前記金属層は、表面にCuが熱拡散している層であることを特徴とする(1)または(2)項に記載の電気電子部品用複合材料、
(4)(1)〜(3)のいずれか1項に記載の電気電子部品用複合材料を用いた電気電子部品であって、前記金属層の少なくとも一部にめっき処理が行われて形成されたことを特徴とする電気電子部品、
(5)(1)〜(3)のいずれか1項に記載の電気電子部品用複合材料を用いた電気電子部品であって、前記金属層の少なくとも一部に半田付け処理が行われて形成されたことを特徴とする電気電子部品、および
(6)少なくとも表面がCuまたはCu合金である金属基材上の少なくとも一部にNiまたはNi合金からなる金属層を介して絶縁皮膜を形成し、前記絶縁皮膜を形成する前または後において熱処理を行い、前記金属層表面にCuを熱拡散させ、前記金属層の最表面をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)を0.005以上とすることを特徴とする電気電子部品用複合材料の製造方法。
(1)絶縁皮膜をポリイミドまたはポリアミドイミドにより構成すること。
(2)絶縁皮膜を形成する前または後において熱処理を施すこと。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
11 金属基材
12 絶縁皮膜
13 金属層
13a 上面側の金属層
13b 下面側の金属層
本発明の好ましい実施態様の電気電子部品用複合材料の断面図の一例を図1に示す。図1に示すように、この電気電子部品用複合材料1は、金属基材11上に絶縁皮膜12が設けられており、金属基材11と絶縁皮膜12との間に、NiまたはNi合金にCuを拡散させてなる金属層13が設けられている。この金属層13は、金属基材11に対して、上面側の金属層13aと下面側の金属層13bからなり、金属層13a,13bの表面には、最表面をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)が0.005以上となるようにCuが露出しているため、金属層の少なくとも一部を含む絶縁皮膜が設けられていない箇所に対するめっきの密着性や半田付け性に優れた電気電子部品用複合材料1を実現することができる。ここで、Niに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)の値は、1以下であることが好ましい。この値が1を超える場合は、Cuの酸化が進み、金属層表面に対する半田付け性が低下するおそれがある。
なお、本発明においては、金属層13a,13bにCuを拡散させる工程により、金属基材1と金属層13aまたは13bとの境界が消滅し、一体化したものであってもよい。この場合であっても、オージェ電子分光測定する最表面は「金属層の最表面」と表記する。
熱処理の条件としては、150〜400℃で5秒間〜2時間が好ましく、200〜350℃で1分間〜1時間がさらに好ましい。
本発明において、オージェ電子分光測定は、金属層表面の絶縁皮膜が設けられていない箇所に対して直接測定を行い、金属層表面が全て絶縁皮膜によって覆われている場合は、90℃の40%水酸化カリウム水溶液中に30分間浸漬処理する等の方法で絶縁皮膜を剥離した後、露出した金属層表面に対して測定を行う。絶縁皮膜を剥離する方法は、上記に限定されるものではなく、金属層表面の原子数比率が変わってしまうおそれがなければ、有機溶剤による処理であっても物理的な剥離処理であってもよい。
本発明における金属層表面をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)は、加速電圧10kV、電流値1nAで、50μm×50μmの範囲について測定した値である。
なお、上記(b)の方法の具体例は、絶縁電線の製造方法などでは一般的な技術であり、特開平5−130759号公報などでも知られている。当該公報は本発明の参考技術として取り扱われる。
金属層13の厚さが厚い絶縁皮膜付きの金属材料に対して後付けのめっき処理を施すと、金属層の表面はNiの不働態皮膜で覆われており不活性のため、後付けされるめっきの密着性が低下し、最悪の場合めっきが剥離するおそれがあるが、本実施態様の電気電子部品用複合材料1は、金属層13の厚さが薄く金属層の表面にCuが露出されているため、めっき等の後加工により後付け金属層(図示せず)を設けても後付けされた金属層が剥離しない利点がある。
半田付け処理としては、従来、電気電子部品を形成する際に常用される任意の処理方法を用いることができる。金属層13の厚さが厚い絶縁皮膜付きの金属材料に対して半田付け処理を施すと、金属層の表面はNiの不働態皮膜で覆われており不活性のため、半田の濡れ性が低下し接合不良を起こすおそれがあるが、本実施態様の電気電子部品用複合材料1は、金属層13の厚さが薄く金属層の表面にCuが露出されているため、半田付け処理を行った際に接合不良を起さない利点がある。
また、本発明のさらに別の実施態様は、電気電子部品用複合材料1を用いた電気電子部品であって、金属層13の少なくとも一部を含む絶縁皮膜12が設けられていない箇所に上記の半田付け処理が行われて形成された電気電子部品である。
本発明の電気電子部品としては、特に限定されるものではないが、例えば、コネクタ、端子、シールドケース等があり、これらは携帯電話、携帯情報端末、ノートパソコン、デジタルカメラ、デジタルビデオなどの電気電子機器に好適に採用することができる。
(試料)
厚み0.1mm、幅20mmの金属条(金属基材)に電解脱脂、酸洗処理をこの順に施した後、Niめっきを施し、次いで各条の端から5mmの位置に幅10mmの絶縁コーティング層を設けて本発明例および比較例の電気電子部品用複合材料を製造した。金属条にはJIS合金C5210R(リン青銅、古河電気工業(株)製)を用いた。
前記電解脱脂処理は、クリーナー160S(メルテックス(株)製)を60g/リットル含む脱脂液中において、液温60℃で電流密度2.5A/dm2の条件で30秒間カソード電解して行った。
前記酸洗処理は、硫酸を100g/リットル含む酸洗液中に室温で30秒間浸漬して行った。
得られた電気電子部品用複合材料の絶縁皮膜が設けられていない箇所について、めっき厚の測定およびオージェ電子分光測定を行った後、得られた電気電子部品用複合材料について、めっき密着性の評価と半田付け性の評価試験を行った。
前期めっき厚の測定は、蛍光X線膜厚計SFT−3200(セイコープレシジョン(株)製)を用いて10点の平均値により測定した。
前記オージェ電子分光測定は、アルバック・ファイ(株)製Model680を用い、加速電圧10kV、電流値1nAで、50μm×50μmの範囲について定量分析を行った。
前記めっき密着性の評価は、得られた電気電子部品用複合材料を長さ30mmに打ち抜いた後、金属層表面が露出している箇所(以下の表においては「表面」と表記する。)および打ち抜き加工によって新たに生成した打ち抜き端面(以下の表においては「端面」と表記する。)に対して、試料作成と同様の条件で電解脱脂、酸洗処理をこの順に施した後、Niめっきを施し、JIS−H8504に基づきテープ引きはがし試験を行った。前記Niめっきは試料作成と同様のめっき浴を用い、電流密度5A/dm2で2分間通電することにより行った。前記テープ引きはがし試験は、金属層表面に対しては2mm角のクロスカットを施した上で行い、打ち抜き端面に対してはそのままの状態で行った。テープは(株)寺岡製作所製631S#25を使用した。判定基準は、めっき剥離が生じなかった場合を○、めっき剥離が生じた場合を×とした。
前記半田付け性の評価は、得られた電気電子部品用複合材料を長さ30mmに打ち抜いた後、フラックス中に5秒間浸漬し、245℃に加熱したSn−3.0Ag−0.5Cu半田浴に10秒間浸漬した後、金属層表面が露出していた箇所および打ち抜き加工によって新たに生成した打ち抜き端面について、凝固した半田を光学顕微鏡60倍で観察することにより行った。前記フラックスはタムラ化研(株)製ULF−300Rを用いた。判定基準は、半田表面が平滑で金属層が完全に被覆されている場合を◎、金属層が完全に被覆されているが半田表面の凹凸が激しくツノ等に代表される半田付け不良が認められる場合を○、半田のハジキが生じ金属層の露出が認められる場合を×とした。
めっき厚測定およびオージェ電子分光測定の結果を表1に示す。また、めっき密着性
および半田付け性の評価結果を表2に示す。表1には、試料作成時のNiめっきの電流密度を併記した。
絶縁コーティング層を、n−メチル2−ピロリドンを溶媒とするポリアミドイミド(PAI)溶液(東特塗料(株)製)のワニスを300℃で30秒間加熱することにより形成した他は、実施例1と同様に、本発明例および比較例の電気電子部品用複合材料を製造し、評価試験を行った。その結果を表3、表4に示す。
Niめっきが施された金属条に絶縁コーティング層を設ける前に250℃で1時間の熱処理を施した他は、実施例2と同様に、本発明例および比較例の電気電子部品用複合材料を製造し、評価試験を行った。その結果を表5、表6に示す。
Niめっきの代わりにNi−10%Znめっき、Ni−30%Znめっき、Ni−Feめっきを施した他は、実施例1および2と同様に、本発明例および比較例の電気電子部品用複合材料を製造した。
前記Ni−10%Zn合金めっきは、硫酸ニッケル5g/リットル、ピロリン酸亜鉛1g/リットル、ピロリン酸カリウム100g/リットルを含むめっき液中において、液温40℃で電流密度0.5〜5A/dm2の条件で行った。
前記Ni−30%Zn合金めっきは、塩化ニッケル75g/リットル、塩化亜鉛30g/リットル、塩化アンモニウム30g/リットル、チオシアン化ナトリウム15g/リットルを含むめっき液中において、液温25℃で電流密度0.05〜0.5A/dm2の条件で行った。
前記Ni−Fe合金めっきは、硫酸ニッケル250g/リットル、硫酸鉄50g/リットル、ホウ酸40g/リットルを含むめっき液中において、液温50℃で電流密度1〜10A/dm2の条件で行った。
得られた材料に対するめっき密着性および半田付け性の評価結果を表7に示す。
本発明によれば、以下の手段が提供される:
(1)電気電子部品の材料として用いられる、少なくとも表面が銅(Cu)または銅合金である金属基材上の少なくとも一部に絶縁皮膜が設けられた電気電子部品用複合材料であって、前記金属基材と前記絶縁皮膜との間にNiまたはNi合金にCuが拡散された金属層が介在し、前記金属層の最表面をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)が0.005以上であることを特徴とする電気電子部品用複合材料、
(2)前記複合材料がその樹脂被膜を設けた後、又はその前に、150〜400℃で5秒間〜2時間熱処理されたことを特徴とする(1)に記載の電気電子部品用複合材料。
(3)前記絶縁皮膜がポリイミドまたはポリアミドイミドからなることを特徴とする(1)又は(2)項に記載の電気電子部品用複合材料、
(4)前記金属層は、表面にCuが熱拡散している層であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載の電気電子部品用複合材料、
(5)(1)〜(4)のいずれか1項に記載の電気電子部品用複合材料を用いた電気電子部品であって、前記金属層の少なくとも一部にめっき処理が行われて形成されたことを特徴とする電気電子部品、
(6)(1)〜(4)のいずれか1項に記載の電気電子部品用複合材料を用いた電気電子部品であって、前記金属層の少なくとも一部に半田付け処理が行われて形成されたことを特徴とする電気電子部品、および
(7)少なくとも表面がCuまたはCu合金である金属基材上の少なくとも一部にNiまたはNi合金からなる金属層を介して絶縁皮膜を形成し、前記絶縁皮膜を形成する前または後において熱処理を行い、前記金属層表面にCuを熱拡散させ、前記金属層の最表面をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)を0.005以上とすることを特徴とする電気電子部品用複合材料の製造方法。
(8)前記複合材料を、その樹脂被膜を設けた後、又はその前に、150〜400℃で5秒間〜2時間熱処理することを特徴とする(7)に記載の電気電子部品用複合材料。
本発明によれば、以下の手段が提供される:
(1)金属基材表面がCuまたはCu合金であり、前記金属基材表面の少なくとも一部にNiまたはNi合金のめっき層が施され、前記めっき層表面の少なくとも一部に絶縁皮膜が形成され、前記絶縁皮膜を形成する際の150℃〜400℃で5秒間〜2時間の熱処理でCuが熱拡散された金属層が形成されており、前記金属層の最表面の50μm×50μmの範囲をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)が0.005〜0.483の範囲内であることを特徴とする電気電子部品用複合材料、
(2)前記金属層厚さが0.001〜0.05μmの範囲内であることを特徴とする(1)項に記載の電気電子部品用複合材料、
(3)前記絶縁皮膜がポリイミドまたはポリアミドイミドからなることを特徴とする(1)又は(2)項に記載の電気電子部品用複合材料、
(4)(1)〜(3)のいずれか1項に記載の電気電子部品用複合材料を用いた電気電子部品であって、前記金属層の少なくとも一部にめっき処理が行われて形成されたことを特徴とする電気電子部品、
(5)(1)〜(4)のいずれか1項に記載の電気電子部品用複合材料を用いた電気電子部品であって、前記金属層の少なくとも一部に半田付け処理が行われて形成されたことを特徴とする電気電子部品、および
(6)金属基材表面がCuまたはCu合金であり、前記金属基材表面の少なくとも一部にNiまたはNi合金のめっき層を施し、前記めっき層表面の少なくとも一部に絶縁皮膜を形成し、前記絶縁皮膜を形成する際に150〜400℃で5秒間〜2時間の熱処理をして前記めっき層内にCuを熱拡散させて金属層を形成し、前記金属層の最表面の50μm×50μmの範囲をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)を0.005〜0.483の範囲内とすることを特徴とする電気電子部品用複合材料の製造方法。
熱処理の条件としては、150〜400℃で5秒間〜2時間であり、200〜350℃で1分間〜1時間がさらに好ましい。
金属層13の厚さが厚い絶縁皮膜付きの金属材料に対して後付けのめっき処理を施すと、金属層の表面はNiの不働態皮膜で覆われており不活性のため、後付けされるめっきの密着性が低下し、最悪の場合めっきが剥離するおそれがあるが、本実施態様の電気電子部品用複合材料1は、金属層13の厚さが薄く金属層の表面にCuが露出されているため、めっき等の後加工により後付け金属層(図示せず)を設けても後付けされた金属層が剥離しない利点がある。
得られた電気電子部品用複合材料の絶縁皮膜が設けられていない箇所について、めっき厚の測定およびオージェ電子分光測定を行った後、得られた電気電子部品用複合材料について、めっき密着性の評価と半田付け性の評価試験を行った。
前記めっき厚の測定は、蛍光X線膜厚計SFT−3200(セイコープレシジョン(株)製)を用いて10点の平均値により測定した。
前記オージェ電子分光測定は、アルバック・ファイ(株)製Model680を用い、加速電圧10kV、電流値1nAで、50μm×50μmの範囲について定量分析を行った。
前記めっき密着性の評価は、得られた電気電子部品用複合材料を長さ30mmに打ち抜いた後、金属層表面が露出している箇所(以下の表においては「表面」と表記する。)および打ち抜き加工によって新たに生成した打ち抜き端面(以下の表においては「端面」と表記する。)に対して、試料作成と同様の条件で電解脱脂、酸洗処理をこの順に施した後、Niめっきを施し、JIS−H8504に基づきテープ引きはがし試験を行った。前記Niめっきは試料作成と同様のめっき浴を用い、電流密度5A/dm2で2分間通電することにより行った。前記テープ引きはがし試験は、金属層表面に対しては2mm角のクロスカットを施した上で行い、打ち抜き端面に対してはそのままの状態で行った。テープは(株)寺岡製作所製631S#25を使用した。判定基準は、めっき剥離が生じなかった場合を○、めっき剥離が生じた場合を×とした。
前記半田付け性の評価は、得られた電気電子部品用複合材料を長さ30mmに打ち抜いた後、フラックス中に5秒間浸漬し、245℃に加熱したSn−3.0Ag−0.5Cu半田浴に10秒間浸漬した後、金属層表面が露出していた箇所および打ち抜き加工によって新たに生成した打ち抜き端面について、凝固した半田を光学顕微鏡60倍で観察することにより行った。前記フラックスはタムラ化研(株)製ULF−300Rを用いた。判定基準は、半田表面が平滑で金属層が完全に被覆されている場合を◎、金属層が完全に被覆されているが半田表面の凹凸が激しくツノ等に代表される半田付け不良が認められる場合を○、半田のハジキが生じ金属層の露出が認められる場合を×とした。
Claims (6)
- 電気電子部品の材料として用いられる、少なくとも表面がCuまたはCu合金である金属基材上の少なくとも一部に絶縁皮膜が設けられた電気電子部品用複合材料であって、前記金属基材と前記絶縁皮膜との間にNiまたはNi合金にCuが拡散された金属層が介在し、前記金属層の最表面をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)が0.005以上であることを特徴とする電気電子部品用複合材料。
- 前記絶縁皮膜がポリイミドまたはポリアミドイミドからなることを特徴とする請求項1に記載の電気電子部品用複合材料。
- 前記金属層は、表面にCuが熱拡散している層であることを特徴とする請求項1または2に記載の電気電子部品用複合材料。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の電気電子部品用複合材料を用いた電気電子部品であって、前記金属層の少なくとも一部にめっき処理が行われて形成されたことを特徴とする電気電子部品。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の電気電子部品用複合材料を用いた電気電子部品であって、前記金属層の少なくとも一部に半田付け処理が行われて形成されたことを特徴とする電気電子部品。
- 少なくとも表面がCuまたはCu合金である金属基材上の少なくとも一部にNiまたはNi合金からなる金属層を介して絶縁皮膜を形成し、前記絶縁皮膜を形成する前または後において熱処理を行い、前記金属層表面にCuを熱拡散させ、前記金属層の最表面をオージェ電子分光測定した際のNiに対するCuの原子数比率(Cu/Ni)を0.005以上とすることを特徴とする電気電子部品用複合材料の製造方法。
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