JPWO2009110463A1 - 全反射減衰型遠紫外分光法およびそれを用いた濃度測定装置 - Google Patents
全反射減衰型遠紫外分光法およびそれを用いた濃度測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2009110463A1 JPWO2009110463A1 JP2010501914A JP2010501914A JPWO2009110463A1 JP WO2009110463 A1 JPWO2009110463 A1 JP WO2009110463A1 JP 2010501914 A JP2010501914 A JP 2010501914A JP 2010501914 A JP2010501914 A JP 2010501914A JP WO2009110463 A1 JPWO2009110463 A1 JP WO2009110463A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- total reflection
- probe
- light
- interface
- far ultraviolet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 110
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 72
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 40
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims abstract description 29
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 70
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 44
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 33
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 24
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 18
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 14
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 11
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004497 NIR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000000491 multivariate analysis Methods 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/33—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using ultraviolet light
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/55—Specular reflectivity
- G01N21/552—Attenuated total reflection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
また、この発明の目的は、洗浄液処理プロセスで用いられる洗浄液の成分濃度を、洗浄液をサンプリングすること無く、その使用状況でリアルタイムに測定することである。
すでに説明したように、発明者らは、遠紫外領域で水のn→σ*遷移吸収バンドを測定するには、光学プローブ(プリズム)の材質の屈折率がサンプル物質の屈折率よりも大きいという全反射条件と、光学プローブの材質の光透過率が測定波長範囲で十分に高いという透過条件とから、特別な構造の全反射減衰(ATR)プローブを要すると考え、3層構造のATRプローブを提案している(特開2007-279025号公報)。遠紫外域でのATRプローブの材質として代表的なサファイアと石英とを比較すると(図1参照)、サファイアは、全波長範囲で水より屈折率が高い。これに対して、石英は160nm付近の波長範囲では水より屈折率が低くなり全反射が起こらないため、ATRプローブとして使用できない。
Claims (9)
- 遠紫外光の波長、測定対象の屈折率、全反射減衰プローブの光学材質の屈折率、および、プローブと測定対象との界面への紫外光の入射角により定められる全反射光のエバネッセント波の潜り込み深さを遠紫外域の測定波長範囲で150nm以上として全反射光を測定する全反射減衰吸光方法であって、
上記潜り込み深さが150nm以上になるように選択された屈折率を有する上記光学材質で作成した全反射減衰プローブを用い、全反射減衰プローブの上記界面に上記測定対象を接触させ、
遠紫外光を、上記潜り込み深さが150nm以上となる、臨界角以上の入射角および上記測定波長範囲で上記界面に入射し、
上記界面からの全反射光を測定して、上記測定対象の吸光度を求める
全反射減衰型遠紫外分光法。 - 上記材質が合成石英であり、上記測定対象が水溶液であり、上記測定波長範囲が170〜175nmの範囲であることを特徴とする請求項1に記載の全反射減衰型遠紫外分光法。
- 上記光学材質が合成石英であり、上記測定対象が水溶液であり、上記材質は、上記測定波長範囲で上記潜り込み深さが100nm以上となりうる屈折率を有し、上記測定波長範囲が175〜300nmの範囲であることを特徴とする請求項1に記載の全反射減衰型遠紫外分光法。
- 前記水溶液が、半導体製造プロセスにおいて用いられる洗浄液であり、上記吸光度より上記洗浄液の成分濃度を求めることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の全反射減衰型遠紫外分光法。
- 半導体洗浄用の洗浄液を収容する半導体洗浄槽の石英材質の壁面の一部に取り付けられ、前記壁面と一体化された石英材質の全反射減衰プローブと、
上記全反射減衰プローブの界面へ臨界角より大きい入射角で遠紫外光を照射する投光光学系と、
上記全反射減衰プローブの界面から全反射する反射光を光検出器で受光する受光光学系と
を備える全反射減衰型遠紫外分光法を用いた成分濃度測定装置。 - 半導体が設置され半導体洗浄用の洗浄液が上記半導体のほうに噴射される回転ステージの横に配置される成分濃度測定装置であって、
上記回転ステージから洗浄液が落ちてくる位置に配置される石英材質の全反射減衰プローブと、
光源により発生された遠紫外光を上記全反射減衰プローブの界面へ臨界角より大きい入射角で照射する投光光学系と、
上記全反射減衰プローブの界面から全反射する反射光を光検出器で受光する受光光学系と
を備える成分濃度測定装置。 - 半導体洗浄用の洗浄液が流れる石英材質の配管に一体化されて取り付けられる全反射減衰吸光装置であって、
上記配管を流れる洗浄液と接する位置に、上記洗浄液との界面が配置される石英材質の全反射減衰プローブと、
光源により発生された遠紫外光を上記全反射減衰プローブの界面へ臨界角より大きい入射角で照射する投光光学系と、
上記全反射減衰プローブの界面から全反射する反射光を光検出器で受光する受光光学系と
を備える成分濃度測定装置。 - 上記投光光学系と上記受光光学系に中空の光ファイバを用い、上記光ファイバの一端を上記全反射減衰プローブの入射面と出射面の近くに位置し、
上記光ファイバ内の光路中の空気を、上記遠紫外光を吸収しない気体で置換したことを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の成分濃度測定装置。 - 上記全反射減衰プローブは、遠紫外光の波長、測定対象の屈折率、全反射減衰プローブの光学材質の屈折率、および、プローブと測定対象との界面への紫外光の入射角により定められる全反射光のエバネッセント波の潜り込み深さを遠紫外域の測定波長範囲で150nm以上になるように選択された屈折率を有する上記光学材質からなることを特徴とする請求項5〜8のいずれかに記載の成分濃度測定装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008053527 | 2008-03-04 | ||
JP2008053527 | 2008-03-04 | ||
PCT/JP2009/053957 WO2009110463A1 (ja) | 2008-03-04 | 2009-03-03 | 全反射減衰型遠紫外分光法およびそれを用いた濃度測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009110463A1 true JPWO2009110463A1 (ja) | 2011-07-14 |
Family
ID=41056017
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010501914A Pending JPWO2009110463A1 (ja) | 2008-03-04 | 2009-03-03 | 全反射減衰型遠紫外分光法およびそれを用いた濃度測定装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8390816B2 (ja) |
JP (1) | JPWO2009110463A1 (ja) |
KR (1) | KR20100116207A (ja) |
CN (1) | CN101960292B (ja) |
TW (1) | TW200944776A (ja) |
WO (1) | WO2009110463A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011075449A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Kurabo Ind Ltd | ヒドロキシルラジカル含有水供給装置 |
JP5788546B2 (ja) * | 2014-02-14 | 2015-09-30 | 倉敷紡績株式会社 | ヒドロキシルラジカル含有水供給装置 |
AT515612A1 (de) * | 2014-04-09 | 2015-10-15 | Anton Paar Gmbh | Umlenkprisma und Messanordnung |
CN103983473B (zh) * | 2014-04-29 | 2016-04-27 | 太仓远德环保科技有限公司 | 一种清洗药剂取样装置及其取样方法 |
CN112782085B (zh) * | 2021-01-28 | 2023-12-19 | 韩丹丹 | 基于复合光学的充油设备油中溶解气体监测装置及方法 |
TWI800046B (zh) * | 2021-10-21 | 2023-04-21 | 財團法人工業技術研究院 | 光學探針 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004157031A (ja) * | 2002-11-07 | 2004-06-03 | System Instruments Kk | エバネッセント波を利用した光吸収分光顕微鏡 |
WO2006071642A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Trustees Of Princeton University | Cavity ring-down detection of surface plasmon resonance in an optical fiber resonator |
WO2006109408A1 (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-19 | Kurashiki Boseki Kabushiki Kaisha | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた遠紫外分光測定装置 |
WO2007108328A1 (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Kurashiki Boseki Kabushiki Kaisha | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた水溶液分光測定装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3975084A (en) * | 1973-09-27 | 1976-08-17 | Block Engineering, Inc. | Particle detecting system |
EP0418799B1 (en) * | 1989-09-20 | 1995-11-29 | Kurashiki Boseki Kabushiki Kaisha | Quantitative determination method of chemicals for processing semiconductor and an apparatus thereof |
JPH0712713A (ja) | 1993-06-21 | 1995-01-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 透過光測定用フローセル |
JP2807777B2 (ja) * | 1994-09-09 | 1998-10-08 | 工業技術院長 | スラブ光導波路を利用した光吸収スペクトル測定装置 |
JPH1082738A (ja) | 1997-10-24 | 1998-03-31 | Agency Of Ind Science & Technol | 露点の測定方法及びスラブ光導波路を利用した露点測定装置 |
WO2001029537A2 (en) | 1999-10-15 | 2001-04-26 | Glaxo Group Limited | Method and apparatus for monitoring solid phase chemical reactions |
US7373259B2 (en) * | 2002-10-29 | 2008-05-13 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for performing chemical reactions in a plurality of samples |
JP4372567B2 (ja) | 2004-01-30 | 2009-11-25 | 倉敷紡績株式会社 | 紫外光による水および水溶液測定方法 |
JP2005233884A (ja) | 2004-02-23 | 2005-09-02 | System Instruments Kk | エバネッセント波を用いた粉末若しくは粉末を固めた試料片の紫外可視吸収スペクトル測定装置 |
JP2006023200A (ja) | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Kurabo Ind Ltd | 光学プローブ及びそれを用いた分光測定装置 |
JP4677251B2 (ja) | 2005-02-25 | 2011-04-27 | 倉敷紡績株式会社 | フローセル、フローセルの製造方法、及び流体濃度測定装置 |
WO2006124572A2 (en) * | 2005-05-12 | 2006-11-23 | The University Of Akron | Dual wavelength polarized near-field imaging apparatus |
JP2007155494A (ja) | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Kurabo Ind Ltd | ツインフローセルとそれを用いる濃度測定システム |
JP4958220B2 (ja) | 2006-03-16 | 2012-06-20 | 倉敷紡績株式会社 | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた水溶液分光測定装置 |
JP4911606B2 (ja) * | 2007-03-08 | 2012-04-04 | 倉敷紡績株式会社 | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた水溶液分光測定装置 |
-
2009
- 2009-03-02 TW TW098106648A patent/TW200944776A/zh unknown
- 2009-03-03 JP JP2010501914A patent/JPWO2009110463A1/ja active Pending
- 2009-03-03 KR KR1020107019780A patent/KR20100116207A/ko active Search and Examination
- 2009-03-03 CN CN2009801076965A patent/CN101960292B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-03-03 WO PCT/JP2009/053957 patent/WO2009110463A1/ja active Application Filing
- 2009-03-03 US US12/921,066 patent/US8390816B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004157031A (ja) * | 2002-11-07 | 2004-06-03 | System Instruments Kk | エバネッセント波を利用した光吸収分光顕微鏡 |
WO2006071642A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Trustees Of Princeton University | Cavity ring-down detection of surface plasmon resonance in an optical fiber resonator |
JP2008525802A (ja) * | 2004-12-23 | 2008-07-17 | トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシティ | 光ファイバ共振器における表面プラズモン共鳴のキャビティ・リングダウン検出 |
WO2006109408A1 (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-19 | Kurashiki Boseki Kabushiki Kaisha | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた遠紫外分光測定装置 |
WO2007108328A1 (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Kurashiki Boseki Kabushiki Kaisha | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた水溶液分光測定装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8390816B2 (en) | 2013-03-05 |
US20110013193A1 (en) | 2011-01-20 |
CN101960292B (zh) | 2013-04-03 |
KR20100116207A (ko) | 2010-10-29 |
TW200944776A (en) | 2009-11-01 |
CN101960292A (zh) | 2011-01-26 |
WO2009110463A1 (ja) | 2009-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3399040B2 (ja) | 半導体製造装置及び半導体製造方法 | |
JP4911606B2 (ja) | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた水溶液分光測定装置 | |
WO2009110463A1 (ja) | 全反射減衰型遠紫外分光法およびそれを用いた濃度測定装置 | |
JP5462892B2 (ja) | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた水溶液分光測定装置 | |
KR101436765B1 (ko) | 기판처리장치 | |
US20080190557A1 (en) | Apparatus for real-time dynamic chemical analysis | |
JP2009031312A (ja) | 微量種の分光測定のための光ファイバ共振器における拡張されたエバネッセントフィールド露出の方法と装置 | |
JP2001516968A (ja) | 半導体チップを製造する際の洗浄および水回収プロセスの効率を向上させるための蛍光測定法 | |
JP2011075449A (ja) | ヒドロキシルラジカル含有水供給装置 | |
JP4958220B2 (ja) | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた水溶液分光測定装置 | |
JP2004205415A (ja) | 光分析測定用プローブ装置および溶液濃度モニタリング方法、ならびに分光分析装置 | |
JP2703407B2 (ja) | 小容積サンプルセルのための無反射の偏光解析システム | |
JP2006023200A (ja) | 光学プローブ及びそれを用いた分光測定装置 | |
JP5788546B2 (ja) | ヒドロキシルラジカル含有水供給装置 | |
WO2006109408A1 (ja) | 全反射減衰型光学プローブおよびそれを用いた遠紫外分光測定装置 | |
CN101726337B (zh) | 一种碘流量测量装置及其应用 | |
Higashi et al. | Potential of far-ultraviolet absorption spectroscopy as a highly sensitive analysis method for aqueous solutions. Part II: Monitoring the quality of semiconductor wafer cleaning solutions using attenuated total reflection | |
JP2023110651A (ja) | 分光光度計および分光光度計セット | |
JP5065119B2 (ja) | 表面プラズモンセンサー | |
JP2009042065A (ja) | ガスセンサ | |
JP6890446B2 (ja) | 半導体処理装置及び半導体処理流動体の計測方法 | |
JP2023047751A (ja) | 液体成分測定装置および液体成分測定方法 | |
JP2023110654A (ja) | 投受光用プローブ | |
JP2023047753A (ja) | 液体成分測定装置および液体成分測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130108 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130307 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130910 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140128 |