JP6890446B2 - 半導体処理装置及び半導体処理流動体の計測方法 - Google Patents
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Description
前記処理槽内に設けられ、前記浸漬されたウエハとの間に、隙間をおいて前記ウエハと平行配置された透明板と、
複数枚の前記ウエハを間隔をおいて互いに平行に支持可能であり、前記透明板と前記ウエハとの前記隙間が前記複数のウエハ間の前記間隔と同じになるように、前記透明板と前記ウエハを支持するウエハ支持部と、
前記ウエハと透明板との間に前記ウエハに平行な面状のレーザー光を照射するレーザー発振器と、
前記レーザー光が前記流動体により散乱し、前記透明板を透過した散乱光を検出する光検出器と、
前記光検出器が検出した散乱光に基づいて、前記流動体の性状を計測演算する計測演算部と、
を備えることを特徴とする、半導体処理装置を提供する。
前記処理槽内に設けられ前記浸漬されたウエハとの間に、隙間をおいて前記ウエハと平行配置された透明板を設け、
複数枚の前記ウエハを間隔をおいて互いに平行に支持可能なウエハ支持部によって、前記透明板と前記ウエハとの前記隙間が前記複数のウエハ間の前記間隔と同じになるように、前記透明板と前記ウエハを支持し、
前記ウエハと透明板との間に前記ウエハに平行な面状のレーザー光を照射し、
前記レーザー光が前記流動体により散乱し、前記透明板を透過した散乱光を検出可能な光検出器を用いて、前記散乱光を検出し、
前記光検出器が検出した前記散乱光に基づいて、前記流動体の性状を計測演算することを特徴とする、半導体処理流動体の計測方法を提供する。
2 洗浄槽
2a,2b 槽壁
3 外槽
4 ウエハ受台
5 受台本体部
6 受け部材
6a 凹溝
7 透明板
8 レーザー発振器
9 透過窓
10 隙間
12 トレーサ粒子
14 光検出器
15 計測演算部
19 検査窓
20 ウエハ
30 レーザー光
40 散乱光
100 洗浄液
Claims (4)
- 内部の流動体にウエハを浸漬可能な処理槽と、
前記処理槽内に設けられ、前記浸漬されたウエハとの間に、隙間をおいて前記ウエハと平行配置された透明板と、
複数枚の前記ウエハを間隔をおいて互いに平行に支持可能であり、前記透明板と前記ウエハとの前記隙間が前記複数のウエハ間の前記間隔と同じになるように、前記透明板と前記ウエハを支持するウエハ支持部と、
前記ウエハと透明板との間に前記ウエハに平行な面状のレーザー光を照射するレーザー発振器と、
前記レーザー光が前記流動体により散乱し、前記透明板を透過した散乱光を検出する光検出器と、
前記光検出器が検出した散乱光に基づいて、前記流動体の性状を計測演算する計測演算部と、
を備えることを特徴とする、半導体処理装置。 - 前記レーザー光の波長は、前記レーザー光のエネルギーの一部が前記流動体中の散乱粒子の振動エネルギーと授受されることにより、前記レーザー光と異なる波長の散乱光となるラマン散乱を生じさせる波長であることを特徴とする、請求項1に記載の半導体処理装置。
- 前記検出器はラマン散乱用の検出器であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の半導体処理装置。
- ウエハを浸漬可能な処理槽内の流動体の性状を計測する方法において、
前記処理槽内に設けられ前記浸漬されたウエハとの間に、隙間をおいて前記ウエハと平行配置された透明板を設け、
複数枚の前記ウエハを間隔をおいて互いに平行に支持可能なウエハ支持部によって、前記透明板と前記ウエハとの前記隙間が前記複数のウエハ間の前記間隔と同じになるように、前記透明板と前記ウエハを支持し、
前記ウエハと透明板との間に前記ウエハに平行な面状のレーザー光を照射し、
前記レーザー光が前記流動体により散乱し、前記透明板を透過した散乱光を検出可能な光検出器を用いて、前記散乱光を検出し、
前記光検出器が検出した前記散乱光に基づいて、前記流動体の性状を計測演算することを特徴とする、半導体処理流動体の計測方法。
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