JPWO2009016867A1 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

本発明の液晶表示装置10は、一対のガラス基板31,41の間に液晶層50を設けてなる液晶パネル11と、当該液晶パネル11に照明光を供給する照明装置12と、を含む液晶表示装置であって、前記一対のガラス基板31,41のうち少なくとも一方のガラス基板31には、輝点欠陥の原因となる輝点欠陥発生部Xを遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部60が形成されていることを特徴とする。

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
液晶表示装置の製造方法として以下のようなものがある。例えば、一対のガラス基板のうち一方のガラス基板にスイッチング素子(例えばTFT)や画素電極などを設け、他方のガラス基板に対向電極などを設けた後、両ガラス基板を、スペーサを介して貼り合わせる。次に、両ガラス基板の間に液晶を注入して液晶層を形成し、その後両ガラス基板の表面に偏光板をそれぞれ貼り付けて液晶パネルを得る。そして、この液晶パネルに、例えば複数の冷陰極管を光源として備える照明装置を備え付けるという方法である。
上記のような液晶表示装置の製造過程では、所定のタイミングで各種検査を行って不良を検出する工程を含む場合がある。例えば、液晶層を形成した後で行う検査では、両ガラス基板を挟むように一対の検査用の偏光板を配置し、検査用のバックライトを点灯させ、スイッチング素子を駆動させることで表示不良の有無を検査する場合がある。
このような検査工程において、例えば液晶層内に異物が侵入している場合、光が液晶層内に含まれた異物に当たって乱反射することで、黒表示をしているにも拘らず明るく見える輝点欠陥として検出されることがある。当該輝点欠陥は、表示品質を著しく低下させ、製造の歩留まりを悪化させることとなる。
そこで、上記のような輝点欠陥を修正する方法として、例えば特許文献1に開示される技術が知られている。特許文献1には、輝点欠陥が発生している絵素を照射する照射光の照射経路上に位置する入射側の透明基板の表面付近に凹陥加工部を形成し、当該凹陥加工部の側面及び底面を粗面化処理して光散乱領域を形成する方法が開示されている。
特開平4−301617号公報
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、特許文献1に記載の発明は、ガラス基板に凹陥加工部を形成するものであるため、当該凹陥加工部を深く形成すると、ガラス基板の強度が低下する問題があった。一方、ガラス基板の強度低下を抑止するために、凹陥加工部の深度を浅いものとすると、当該凹陥加工部と欠陥部との間に一定距離の隙間が存することとなる。このような隙間が存すると、凹陥加工部の外側(すなわち未加工部)から入射した光が、ガラス基板の透過中に廻りこみを起こして欠陥部に到達してしまい、輝点欠陥が修正されない場合があった。
本発明は、上記のような事情に基づいてなされたものであって、輝点欠陥が確実に視認不能とされ、高い表示品質を示す液晶表示装置を提供することを目的としている。さらに、液晶表示装置に生じた輝点欠陥を好適に修正可能な工程を含む液晶表示装置の製造方法を提供することを目的としている。
(課題を解決するための手段)
上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置は、一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置であって、前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板には、輝点欠陥の原因となる輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部が形成されていることを特徴とする。
本発明者は、ガラス基板の強度を低下させない、すなわちガラス基板に凹陥部を形成しない輝点欠陥の修正手段の検討を重ねる中で、ガラスにおける可視光の透過率を低下させるカラーセンタ(着色中心)に着目した。ガラスにおけるカラーセンタは、パーオキシラジカル(≡Si−O−Oの構造を有する)、酸素欠損センタ(≡Si−Si≡、及び、−O−Si**−O−の構造を有する)、非架橋酸素ホールセンタ(≡Si−Oの構造を有する)等が知られている。中でも非架橋酸素ホールセンタは、単にガラスに光を照射することで、1つのSiと結合してなるO(非架橋酸素)から電子を放出させて、分子結合の欠陥(これを非架橋酸素ホールセンタと称する)を生じさせることができる。この非架橋酸素ホールセンタは可視光を吸収するため、一般にガラスは茶系統に着色する。
そこで、本発明の液晶表示装置は、一対のガラス基板のうち少なくとも一方において、輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、この非架橋酸素ホールセンタを形成するものとした。これにより、この非架橋酸素ホールセンタを形成した部分は有色部となって遮光作用を示すため、輝点欠陥発生部を輝点欠陥として視認されないものとすることができ、高い表示品質を有する液晶表示装置が得られることとなった。さらに、非架橋酸素ホールセンタは、その形成により強度劣化を伴い難いため、ガラス基板の強度を低下させない輝点欠陥の修正手段として好適である。
また、本発明の液晶表示装置において、前記有色部が形成されている前記ガラス基板には、少なくともNa又はKのいずれか一方の元素が含有されているものとすることができる。
非架橋酸素ホールセンタを形成するには、非架橋酸素から放出された電子をトラップする媒体が必要である。そこで、Na又はKの少なくとも一方の元素が含有されたガラス基板とすることにより、当該Na、Kにより、放出された電子がトラップされることとなり、好適に非架橋酸素ホールセンタを形成することができる。
また、前記有色部は、前記ガラス基板の厚さ方向全体に亘って形成されているものとすることができる。
この場合、輝点欠陥発生部と有色部との間には、有色部が形成されずに元のガラス基板のままとされる部分が介在しないこととなる。これにより、照明装置から供給される光が、ガラス基板の透過中に廻りこみを起こして輝点欠陥発生部に到達することを抑止することができ、輝点欠陥が視認されない良好な表示品質を実現することが可能となる。
次に、上記課題を解決するために、本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置の製造方法であって、輝点欠陥が発生した場合に、その輝点欠陥を修正する輝点欠陥修正工程を含み、前記輝点欠陥修正工程は、前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板において、前記輝点欠陥の原因である輝点欠陥発生部を遮光可能な修正位置を特定する工程と、特定した前記ガラス基板の前記修正位置に、フェムト秒オーダー以下のレーザーを紫外領域の波長で照射して、有色部を形成する工程とを有することを特徴とする。
このような製造方法によれば、一対のガラス基板の少なくとも一方において、輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、有色部を備えた液晶表示装置を提供することが可能となる。このような液晶表示装置によれば、照明装置から供給される光は、この有色部により遮光され輝点欠陥発生部に到達しないため、輝点欠陥を視認不能なものとすることが可能となる。
上記の有色部は、フェムト秒オーダー以下のレーザーを紫外領域の波長で照射することで、ガラス構造に構造欠陥(カラーセンタ)を生じさせることにより形成する。輝点欠陥発生部は非常に微小なものである場合が多く、必要以上の広範囲に有色部を形成することは、広範な非表示領域を生じることに繋がり表示品質の劣化を招くこととなる。そこで、微小領域への照射が可能であるレーザーにより有色部を形成するものとした。
ところで、レーザー照射により有色部を形成する場合、ピコ秒以上のパルス幅を有するレーザーを照射しても有色部を形成することはできるものの、平均的なエネルギー強度が大きすぎるため、レーザー照射点の周辺部位が熱的損傷を受け、有色部の周囲が白濁してしまう場合があった。一方、フェムト秒オーダー以下のレーザーを照射すると、レーザーによる熱が照射点周囲に伝導するより速く照射部分にエネルギーが吸収されるため、レーザー照射点の周辺部位が熱的・化学的な損傷を受けることがない。さらに、フェムト秒オーダー以下のレーザーの波長を紫外領域とすることにより、非線形吸収が起こり易く、構造欠陥を生じさせるのに十分なエネルギーを得ることができる。
このように、本発明の液晶表示装置の製造方法は、ガラス基板において、輝点欠陥発生部を遮光可能な修正位置に、フェムト秒オーダー以下のレーザーを紫外領域の波長で照射して構造欠陥を生じさせることにより、当該修正位置に有色部を形成するものとした。その結果、ガラス基板の強度を低下させることなく、当該有色部で照明装置の光を遮光することで、光が輝点欠陥発生部に到達しないため、輝点欠陥を視認不能なものとすることが可能となった。
また、前記有色部を形成する工程において、少なくとも一方の前記ガラス基板に、非架橋酸素ホールセンタを形成することにより当該ガラス基板を有色化するものとすることができる。
上記した構造欠陥の中には、非常にエネルギーの高い放射線を照射することによって初めて形成可能なものもあり、製造工程への適用が困難な場合がある。有色部を形成可能な構造欠陥のうち、非架橋酸素ホールセンタは、紫外光程度のエネルギーの光を照射することで、1つのSiと結合してなるO(非架橋酸素)から電子を放出させて、分子結合の欠陥を生じさせることができる。さらに、非架橋酸素ホールセンタの形成は、その形成により強度劣化を伴い難いため、ガラス基板の強度を低下させない輝点欠陥の修正方法として好適である。
また、本発明の液晶表示装置の製造方法において、前記有色部を形成する前記ガラス基板には、少なくともNa又はKのいずれか一方の元素が含有されているものとすることができる。
非架橋酸素ホールセンタを形成するには、非架橋酸素から放出された電子をトラップする媒体が必要である。そこで、ガラスに含有させ易いNa又はKの少なくとも一方の元素が含有されたガラス基板を使用することにより、当該Na、Kにより、放出された電子がトラップされることとなり、好適に非架橋酸素ホールセンタを形成することができる。
また、前記照明装置側に配される前記ガラス基板の厚さ方向全体に亘って、前記有色部を形成するものとすることができる。
このように、ガラス基板の厚さ方向全体に亘って有色部を形成することにより、この有色部と輝点欠陥発生部との間には、有色部が形成されず元のガラス基板のままとされる部分が介在しないこととなる。これにより、照明装置から入射する光が、ガラス基板の透過中に廻りこみを起こして輝点欠陥発生部に到達することがなく、輝点欠陥を確実に修正することが可能となる。
(発明の効果)
本発明によると、輝点欠陥が確実に視認不能とされ、高い表示品質を示す液晶表示装置を提供することが可能となる。
本発明の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す斜視図。 図1の液晶表示装置のA−A線断面図。 図1の液晶表示装置が備える液晶パネルの要部断面図。 本実施形態に係る液晶表示装置が奏する作用効果を示す説明図。 検査対象液晶パネルの点灯検査工程の態様を示す説明図。 輝点欠陥修正装置の概略構成を示す側面図。
符号の説明
10...液晶表示装置、11...液晶パネル、12...バックライト装置(照明装置)、31,41...ガラス基板、50...液晶層、60...有色部、X...異物(輝点欠陥発生部)
本発明の一実施形態を図1ないし図6によって説明する。
図1は本実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す斜視図、図2は図1の液晶表示装置のA−A線断面図、図3は図1の液晶表示装置が備える液晶パネルの要部断面図、図4は本実施形態に係る液晶表示装置が奏する作用効果を示す説明図、図5は検査対象液晶パネルの点灯検査工程の態様を示す説明図、図6は輝点欠陥修正装置の概略構成を示す側面図である。
まず、本実施形態に係る液晶表示装置10の全体構成について説明する。液晶表示装置10は、図1及び図2に示すように、矩形をなす液晶パネル11と、外部光源であるバックライト装置(照明装置)12とを備え、これらがベゼル13などにより一体的に保持されるようになっている。バックライト装置12は、所謂直下型のバックライト装置であって、後述する液晶パネル11のパネル面(表示面)の背面直下に、当該パネル面に沿って光源(ここでは高圧放電管として冷陰極管17を用いている)を複数具備した構成となっている。
バックライト装置12は、上面側が開口した略箱型をなすバックライトシャーシ(シャーシ)14と、バックライトシャーシ14の開口部を覆うようにして取り付けられる複数の光学部材15(図示下側から順に拡散板、拡散シート、レンズシート、反射型偏光板)と、これら光学部材15をバックライトシャーシ14に保持するためのフレーム16とを備える。さらに、バックライトシャーシ14内には、冷陰極管17と、冷陰極管17の両端部を保持するためのゴム製のホルダ18と、冷陰極管17群及びホルダ18群を一括して覆うランプホルダ19と、冷陰極管17をバックライトシャーシ14に取り付けるためのランプクリップ20とが配設されている。なお、当該バックライト装置12においては、冷陰極管17よりも光学部材15側が光出射側となっている。
冷陰極管17は、細長い管状をなしており、その長さ方向(軸線方向)をバックライトシャーシ14の長辺方向に一致させた状態で、バックライトシャーシ14内に多数本(図1では18本)収容されている。一方、冷陰極管17をバックライトシャーシ14に対して組み付けるためのランプクリップ20は、クリップ状の光源保持部材として機能し、合成樹脂製(例えばポリカーボネート製)とされている。
さらに、バックライトシャーシ14の内面側(光源側)には光反射シート14aにより光反射面が形成されている。このような光反射シート14aを含むバックライトシャーシ14により、冷陰極管17から出射された光を拡散板等の光学部材15側に反射させることが可能となっている。光反射シート14aは、例えば光反射性を備えた樹脂シート等により構成することができる。
次に液晶パネル11について説明する。液晶パネル11は、図3に示すように、一対の基板30,40が所定のギャップを隔てた状態で貼り合わされるとともに、両基板30,40間に液晶が封入された構成とされ、当該液晶により液晶層50が形成されている。
基板30は素子基板であって、ガラス基板31と、このガラス基板31の液晶層50側に形成された半導体素子としてのTFT(薄膜トランジスタ)32と、当該TFT32に対して電気的に接続された画素電極33と、これらTFT32及び画素電極33の液晶層50側に形成された配向膜34とを備えている。また、ガラス基板31の液晶層50側とは反対側には偏光板35が配設されている。なお、一対の基板30,40のうち、当該基板30(ガラス基板31)がバックライト装置12側に配されている。
一方、基板40は対向基板であって、ガラス基板41と、このガラス基板41の液晶層50側に形成されたR(赤色),G(緑色),B(青色)等の各着色部が所定配列で配置されたカラーフィルタ42と、当該カラーフィルタ42の液晶層50側に形成された対向電極43と、当該対向電極43の液晶層50側に形成された配向膜44とを備えている。また、ガラス基板41の液晶層50側とは反対側には偏光板45が配設されている。
なお、上記したガラス基板31,41には、微量含有元素としてNaが1.0wt%未満(各含有元素を酸化物として算出)の比率で含有されており、この含有Na群の中には、ガラス構造中の非架橋酸素と結合した状態(≡Si−ONa)で存在しているものもある。
さらに、本実施形態では、例えば図3及び図4に示すように、液晶層50中に輝点欠陥の原因となり得る異物(輝点欠陥発生部)Xが混入した場合に、この異物Xを遮光する手段が設けられている。具体的には、基板30のガラス基板31において、この異物Xの射影と平面視で重なる位置に、ガラス基板31の厚さ方向全体に亘って、濃茶色を呈する有色部60が形成されている。
有色部60は、そのガラス構造中に非架橋酸素ホールセンタ(≡Si−O)を有し、これが可視光域に吸収をもつために濃茶色を呈している。すなわち、冷陰極管17から出射された光は、この非架橋酸素ホールセンタ(つまり有色部60)で吸収されるため、ここで遮光され、異物Xには到達しないこととなる(図4参照)。
このような本実施形態の液晶表示装置10によると、ガラス基板31において、輝点欠陥の原因となり得る異物(輝点欠陥発生部)Xを遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部60が形成されている。これにより、この有色部60で照明光が遮光されて異物Xに照明光が到達しないため、輝点欠陥が視認されない、高い表示品質を実現することが可能となる。
さらに、従来は、上記のような遮光(減光)手段として、ガラス基板に凹部が形成された構造とされていたため、ガラス基板の強度を低下させるおそれがあった。本実施形態では、強度劣化を伴い難い非架橋酸素ホールセンタにより照明光を遮光するものとしているため、ガラス基板の強度の低下を危惧する必要がない。
また、本実施形態では、有色部60はガラス基板31の厚さ方向全体に亘って形成されている。
この場合、有色部60と異物Xとの間には、有色部60が形成されていない元のガラス基板31のままとされる部分が介在しないこととなる。これにより、冷陰極管17から出射される光が、ガラス基板31の透過中に廻りこみを起こして異物Xに到達することを抑止することができ、輝点欠陥が視認されない高い表示品質を実現することが可能となる。
また、本実施形態では、有色部60が形成されたガラス基板31には、Naが含有されている。
このNaにより、非架橋酸素から放出された電子がトラップされるため、電子が再び非架橋酸素に戻ることなく、好適に非架橋酸素ホールセンタを形成することができる。
さらに、本実施形態では、有色部60をバックライト装置12側のガラス基板31に配設した。
このように、バックライト装置12側(すなわち表示面とは反対側)に有色部60を形成することにより、有色部60が視認されるおそれがない。
次に、液晶表示装置10の製造方法について説明する。
ここでは、主に修正工程を含む製造工程について説明するものとする。
まず、ガラス基板31を用意し、そのガラス基板31上にTFT32と画素電極33を形成する。そして、これらTFT32及び画素電極33上に配向膜34を形成して素子基板とする基板30を作製する。
一方、上記のガラス基板31とは別途にガラス基板41を用意し、そのガラス基板41上にカラーフィルタ42を形成し、このカラーフィルタ42上に対向電極43を形成し、さらに対向電極43上に配向膜44を形成して対向基板とする基板40を作製する。
なお、上記したガラス基板31,41には、微量含有元素としてNaが1.0wt%未満(各含有元素を酸化物として算出)の比率で含有されており、この含有Na群の中には、ガラス構造中の非架橋酸素と結合した状態(≡Si−ONa)で存在しているものもある。
これら基板30と基板40とを所定の間隔を隔てて貼り合わせ、その隙間に液晶を封入することで液晶層50を形成する。さらに、両基板30,40において、液晶層50側とは反対側の面にそれぞれ偏光板35,45を配設して液晶パネル11を作製する(図3参照)。なお、後述する液晶パネル11とバックライト装置12との組み付け工程において、両基板30,40のうち基板30(ガラス基板31)をバックライト装置12側に配するものとする。
上記製造過程のうち、液晶層50を形成した後に、表示不良の有無を検査するための点灯検査を行う(以下、この場合の製造途中にある液晶パネルを検査対象液晶パネル11aという)。
具体的には、図5に示すように、まず、検査対象液晶パネル11aの基板30,40を挟むようにして一対の検査用の偏光板71を配置する。次に、検査用のバックライト72を点灯させるとともに、ガラス基板31に形成した各配線を検査用回路に接続して、それぞれに適宜に信号を供給することでTFT32を駆動させる。こうして液晶層50を構成する液晶の配向状態を制御することで得られる表示状態を、画像処理或いは検査員の目視などにより検査する。
このとき、黒表示させたにも拘らず、点状に輝いて視認される輝点欠陥が検出される場合がある。この輝点欠陥は、液晶層50内に侵入した異物Xに光が当たって乱反射することが原因として発生する場合があり、このような輝点欠陥が検出された場合には、次に示す輝点欠陥修正工程にて当該輝点欠陥の修正を施す。なお、液晶層50内に異物Xが侵入する原因としては、異物Xが、液晶を注入する前の段階で基板30,40における液晶層50側の面に付着している場合、また、液晶中に混入している場合などが考えられる。
輝点欠陥修正工程は、ガラス基板31において異物Xを遮光可能な修正位置を特定する工程と、特定したガラス基板31の修正位置にフェムト秒オーダー以下のレーザーを照射して有色部60を形成する工程とを含む。
輝点欠陥修正工程では、図6に示す輝点欠陥修正装置70を使用して輝点欠陥を修正する。輝点欠陥修正装置70は、修理対象となる検査対象液晶パネル11aを載置するためのステージ73(図5では図示略)と、ステージ73を挟むようにして配置される一対の検査用の偏光板71と、検査用のバックライト72と、ステージ73に対して平行及び垂直に移動するXYZ駆動部74とから構成される。このうちXYZ駆動部74には、異物X及びその周辺を撮像するためのCCDカメラ75と、有色部60を形成するためのレーザーを照射するレーザー照射部76とが所定の位置関係で設けられている。なお、ステージ73は、検査用バックライト72から出射される光を透過できるようにガラス製とされている。
この輝点欠陥修正装置70を使用して、まず、ガラス基板31において異物Xを遮光可能な修正位置を特定する。始めに、ステージ73上の所定位置に修理対象となる検査対象液晶パネル11aを載置する。このとき、ガラス基板31が上側となるようにセットする。次に、検査用バックライト72を点灯させて検査対象液晶パネル11aを黒表示させる。この状態で、XYZ駆動部74をステージ73に対して平行に移動させつつCCDカメラ75により表示状態を撮像し、その撮像結果を画像処理して異物Xの位置及び大きさの情報を得る。そして、この情報をもとに、ガラス基板31において異物Xを遮光可能な位置を特定する。
続いて、特定したガラス基板31の修正位置に、有色部60を形成する工程に移行する。当該工程では、ガラス基板31に10−13秒オーダーのパルス幅を有するフェムト秒レーザーを照射することにより有色部60を形成する。具体的には、異物Xを遮光可能な位置の情報に基づいて、XYZ駆動部74を移動させて、これに備わるレーザー照射部77を、当該異物Xを遮光可能な位置の直上へ配置しレーザー照射を行う。なお、本実施形態においては、波長350nm、パルス幅100fs、繰り返し周波数1kHz、パルスエネルギー1mJ、出力1Wの条件にてレーザー照射を行った。
上記条件によりレーザーを透光性のあるガラス基板31に照射すると、そのレーザーの集光点の近傍が濃茶色を呈するようになる。これは、レーザーの集光点で非架橋酸素ホールセンタ(≡Si−O)が形成され、当該非架橋酸素ホールセンタが可視光を吸収して濃茶色を呈することによる。このレーザーの集光点を連続的にガラス基板31の内部で移動させることにより、非架橋酸素ホールセンタが形成される部分を集光点の軌跡に沿った連続領域(すなわち有色部60)として形成することができる。こうすることで、本実施形態では、ガラス基板31の厚さ方向全体に亘って非架橋酸素ホールセンタを含む有色部60を形成した。
上記工程を経て輝点欠陥を修正した液晶パネル11に、別の工程で作製されたドライバ(図示せず)やバックライト装置12を組み付けて液晶表示装置10を作製する。
以上のような修正工程を含む本実施形態の液晶表示装置10の製造方法によると、ガラス基板31において、異物X(輝点欠陥発生部)を遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部60を具備した液晶表示装置10が得られる。このような液晶表示装置10によれば、バックライト装置12から供給される光が、有色部60により遮光され異物Xに到達しないこととなる。その結果、異物Xによる光の乱反射は生じないため、輝点欠陥を視認されないように修正することが可能となる。
また、本実施形態では、紫外領域の波長のフェムト秒レーザーを照射することにより、非架橋酸素ホールセンタを形成し、有色部60を得るものとした。このように、有色部60の形成をレーザー照射により行うことで、非常に微小な輝点欠陥発生部Xに対して必要最小限の範囲で有色部60を形成することができる。
また、フェムト秒レーザーを選択することで、レーザーによる熱が照射点周囲に伝導するより速く照射部位にエネルギーが吸収されるため、レーザー照射点の周囲のガラス基板は熱的・化学的な損傷を受けず、液晶表示装置10の表示品質が劣化するおそれがない。
さらに、さらに、フェムト秒レーザーの波長を紫外領域とすることにより、非線形吸収が起こり易く、構造欠陥を生じさせるのに十分なエネルギーを得ることができる。
<他の実施形態>
以上、本発明の実施形態について示したが、本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
(1)上記実施形態では、有色部60をガラス基板31の厚さ方向全体に亘って形成するものとしたが、有色部60の厚さは任意である。この場合、ガラス基板の厚さ方向における有色部60の形成位置は、例えば液晶層50側やガラス基板の厚さ方向の中心部等任意である。但し、遮光を確実に行う上では、厚さ方向全体に亘って形成することが好ましい。
(2)上記実施形態では、液晶パネル11に具備されるガラス基板31,41に、微量含有元素としてNaが含有されているものとしたが、Naは少なくともバックライト装置12側に配されるガラス基板31に含有されていれば良い。
(3)上記実施形態では、液晶パネル11に具備されるガラス基板31,41には、微量含有元素としてNaが含有されているものとしたが、Kが含有されている場合も好適に非架橋酸素ホールセンタを形成することができる。また、Kは少なくともバックライト装置12側に配されるガラス基板31に含有されていれば良い。
(4)上記実施形態では、パルス幅が100fsのフェムト秒レーザーを照射することにより有色部60を形成するものとしたが、照射点周囲への損傷を抑止する観点からはパルス幅は小さいほど好ましく、修正効率の許容範囲内で、パルス幅のさらに小さいレーザーを使用しても良い。
(5)上記実施形態では、有色部60を形成するために照射するレーザー波長を350nmとしたが、レーザーの波長はガラス基板31に照射した場合に高効率で非線形吸収を生じさせることができる程度のエネルギー出力があれば良く、190nm〜400nmの波長が好適である。さらに、その他の照射条件についても、照射対象のガラス基板の組成等により変更し得るものである。
(6)上記実施形態では、修正位置を特定する工程と、レーザーを照射して有色部60を形成する工程とを輝点欠陥修正装置70により行うものとしたが、当該装置の複雑化を回避すべく、それぞれ別途装置を準備して行うものとしても良い。
(7)上記実施形態では、輝点欠陥修正装置70において、CCDカメラ75及びレーザー照射部76を備えるXYZ駆動部74が、ステージ73に対して平行及び垂直方向に移動する構成としたが、固定されたCCDカメラ及びレーザー照射部に対して、ステージが平行及び垂直方向に移動する構成としても良い。
(8)上記実施形態では、輝点欠陥は液晶層内50に侵入した異物Xに起因するものとしたが、例えば短絡等に起因して誤作動を生じ得るTFT32や画素電極33等が原因となる場合もあり、その場合にも本発明は適用可能である。
(9)上記実施形態では、光源として冷陰極管17を使用した場合を例示したが、熱陰極管や蛍光管など他の種類の線状光源やLEDなどの点状光源を光源としたものについても本発明は適用可能である。
(10)また、TFT32以外のスイッチング素子を用いた液晶表示装置にも本発明は適用可能である。

Claims (7)

  1. 一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置であって、
    前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板には、輝点欠陥の原因となる輝点欠陥発生部を遮光可能な位置に、非架橋酸素ホールセンタを含む有色部が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記有色部が形成されている前記ガラス基板には、少なくともNa又はKのいずれか一方の元素が含有されていることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の液晶表示装置。
  3. 前記有色部は、前記ガラス基板の厚さ方向全体に亘って形成されていることを特徴とする請求の範囲第1項又は請求の範囲第2項に記載の液晶表示装置。
  4. 一対のガラス基板の間に液晶層を設けてなる液晶パネルと、当該液晶パネルに照明光を供給する照明装置と、を含む液晶表示装置の製造方法であって、
    輝点欠陥が発生した場合に、その輝点欠陥を修正する輝点欠陥修正工程を含み、
    前記輝点欠陥修正工程は、
    前記一対のガラス基板のうち少なくとも一方のガラス基板において、前記輝点欠陥の原因である輝点欠陥発生部を遮光可能な修正位置を特定する工程と、
    特定した前記ガラス基板の前記修正位置に、フェムト秒オーダー以下のレーザーを紫外領域の波長で照射して、有色部を形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  5. 前記有色部を形成する工程において、少なくとも一方の前記ガラス基板に、非架橋酸素ホールセンタを形成することにより当該ガラス基板を有色化することを特徴とする請求の範囲第4項に記載の液晶表示装置の製造方法。
  6. 前記有色部を形成する前記ガラス基板には、少なくともNa又はKのいずれか一方の元素が含有されていることを特徴とする請求の範囲第5項又は請求の範囲第6項に記載の液晶表示装置の製造方法。
  7. 前記照明装置側に配される前記ガラス基板の厚さ方向全体に亘って、前記有色部を形成することを特徴とする請求の範囲第4項ないし請求の範囲第6項のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法。
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