JPWO2008093869A1 - 蛍光材料およびそれを用いたシンチレータ並びに放射線検出器 - Google Patents

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Abstract

放射線検出器用のシンチレータにおいて、発光強度が高く、また、X線照射停止後1〜10msという短時間経過後の残光が小さな蛍光材料を提供する。Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、Ga、OおよびFeを含み、MがMg、Ti、Niのうち少なくとも1種類以上であり、下記一般式で表されることを特徴とする蛍光材料。(Gd1−x−zLuxCez)3+a(Al1−u−sGauScs)5−aO12ここで、0≦a≦0.15、0≦x≦0.5、0.0003≦z≦0.0167、0.2≦u≦0.6、0≦s≦0.1であり、Fe、Mの添加濃度は、Fe:0.05〜1massppm、M:0〜50massppmである。

Description

本発明は、X線等の放射線を吸収し発光する蛍光材料、それを用いたシンチレータ並びに放射線検出器に関するものである。
X線診断装置の一つにX線CT(Computed
Tomography)がある。このCTは扇状のファンビームX線を照射するX線管と、多数のX線検出素子を併設したX線検出器とで構成される。該装置は、X線検出器に向けてX線管からファンビームX線を照射し、1回照射を行うごとに断層面に対して例えば角度を1度ずつ変えていくことによってX線吸収データを収集する。その後、このデ−タをコンピュータで解析することによって断層面個々の位置のX線吸収率を算出し、その吸収率に応じた画像を形成するものである。
従来からこのX線検出器としてはキセノン(Xe)ガス検出器が用いられてきている。このキセノンガス検出器はガスチャンバにキセノンガスを封入し、多数配列した電極間に電圧を印加すると共にX線を照射すると、X線がキセノンガスを電離し、X線の強度に応じた電流信号を取り出すことができ、それにより画像が構成される。しかし、このキセノンガス検出器では高圧のキセノンガスをガスチャンバに封入するため厚い窓が必要であり、そのためX線の利用効率が悪く感度が低いという問題があった。また、高解像度のCTを得るためには電極板の厚みを極力薄くする必要があり、そのように電極板を薄くすると外部からの振動によって電極板が振動しノイズが発生するという問題があった。
一方、CdWO単結晶、(Y、Gd):Eu、Pr組成のセラミックス、及びGdS:Pr、Ce、F組成のセラミックス(以下GOS:Prと称する)、或いは酸化ガドリニウム、酸化ガリウム、酸化アルミニウム、酸化セリウムを主成分としたガーネット構造を有する酸化物(以下GGAG:Ceと称する)の多結晶セラミックスなどの蛍光材料を用いたシンチレータと、シリコンフォトダイオードを組み合わせたX線検出器が開発され、既に実用化されている。このX線検出器においては、シンチレータがX線を吸収すると発光し、この光をシリコンフォトダイオードが検出することによってX線を検出する。この際、シンチレータとなる蛍光材料は、母材中に添加された発光元素が作り出すエネルギ準位に応じた波長の光を発光する。この波長が500nm以上の可視光である場合に、シリコンフォトダイオードの検出効率が良いため、特に感度の高いX線検出器となる。なお、蛍光材料の記載方法として、組成式中、:をはさんで左側に母材を、右側に発光イオンを記載した。これらの材料を用いたX線検出器では、X線検出素子を小型化し、チャンネル数を増やすことが容易であることから、キセノンガス検出器よりも解像度の高い画像を得ることが可能となる。こうした蛍光材料に要求される一般的な点としては、材料の均一性が高く、X線特性のばらつきが小さいこと、放射線劣化が小さいこと、温度など環境の変化に対して発光特性の変化が少ないこと、加工性が良く、加工劣化が小さいこと、吸湿性・潮解性がなく、化学的に安定であることなどが挙げられる。
こうしたX線検出器においては、X線の吸収に応じてシンチレータが発する光の強度(発光強度)が高いほど高感度となる。発光強度を大きくするためにはX線を充分に吸収する必要がある。また、この吸収が小さいと、シンチレータを透過するX線量が増加し、シリコンフォトダイオードのノイズ源となり、感度の低下の一因となる。シンチレータを透過するX線量を減らすためにはシンチレータを厚くする必要があるが、そうすると、X線検出素子の小型化ができないとともにコストが増加する。従って、薄い蛍光材料で充分なX線吸収をするためには、X線吸収係数が大きいことが必要である。また、蛍光材料中におけるこの光の透過率が低いと、発生した光のうちシリコンフォトダイオードまで届かなくなるものが増えるため、実質的に発光強度は低下する。従って、発光強度を高くするためには、シンチレータとして用いる蛍光材料には、(1)X線の吸収係数が大きいこと、(2)発光する光の透過率が高いことが要求される。
また、X線CTには、解像度の向上、すなわちX線検出素子の小型化と、体動の影響を少なくするため走査時間の短縮が必要とされている。この場合、一つのX線検出素子における積分時間は短くなり、積分時間中に吸収するX線総量は低下することになるため、発光効率が高い(発光強度が大きい)ことが必要である。さらに、X線検出素子の時間分解能を上げるためには、X線照射停止後の発光(残光)が瞬時に小さくなることが必要となる。このためには、発光の減衰時定数及び残光が小さいことが必要である。ここで、発光の減衰時定数とは、X線照射を停止し、発光強度がX線照射中の発光強度の1/eになるまでの時間であり、残光とは、X線照射を停止し一定時間経過後の発光強度の、X線照射中の発光強度に対する比率を表す。減衰が完全に指数関数的であれば、減衰時定数が小さければ必然的に残光も低くなるが、実際には残光の減衰は指数関数的ではない。そのため、残光を小さくして高性能のX線CTを得るためには、減衰時定数および残光が共に小さい蛍光材料を用いることが必要となる。従来使用されている各種蛍光材料における、発光強度と減衰時定数及び30ms後の残光について表1に示す。
Figure 2008093869
*発光強度、減衰時定数、残光はシリコンフォトダイオード(浜松ホトニクス製S2281)を用いて測定された。
*発光強度は、GdS:Pr、Ce、Fの発光強度を基準とした場合の相対値である。
上記の材料のうち、GdAlGa12:Ce(GGAG:Ce)は、発光元素のCeが、Ce3+の5d準位から4f準位の許容遷移により発光する。これにより、例えば、特許文献1〜7などにおいて、蛍光材料として、GGAG:Ceの多結晶材料が開示されている。
特開2001−4753号公報 特開2003−119070号公報 特許第3938470号公報 特開2002−189080号公報 特開2001−303048号公報 特開2001−294853号公報 特開2001−183463号公報
近年の高性能X線CTにおいては、体動の影響が少なく、より解像度の高い断層面の画像を得ることと、人体の被爆線量を極力小さくするために、走査時間はさらに短くなる傾向にある。このため、X線検出素子のシンチレータにおいては、X線照射を停止してから30〜300msという比較的長時間経過後の残光(長時間残光)に加えて、X線照射を停止してから1〜10msという短時間経過後の残光(短時間残光)に対して厳しい要求が出され始めている。上記GGAG:Ce多結晶材料は、Ce3+の発光を用いているため、発光の減衰時定数は〜100nsときわめて小さい。しかしながら、この材料は、短時間残光が比較的大きいという問題があった。本発明はこの問題に鑑みてなされたものである。
本発明は、斯かる問題点に鑑みてなされたものであり、上記問題点を解決する発明を提供することを目的とする。
本発明は、上記課題を解決すべく、以下に掲げる構成とした。
本発明の蛍光材料は、Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、Ga、OおよびFeを含み、MがMg、Ti、Niのうち少なくとも1種類以上であり、下記一般式で表されることを特徴とする。
(Gd1−x−zLuCe3+a(Al1−u−sGaScs)5−a12
ここで、
0≦a≦0.15、
0≦x≦0.5、
0.0003≦z≦0.0167、
0.2≦u≦0.6
0≦s≦0.1
であり、Fe、Mの添加濃度は
Fe:0.05〜1massppm、
M:0〜50massppm
である。
本発明の蛍光材料において、前記aのより好ましい範囲として0.005≦a≦0.05である。
本発明の蛍光材料において、前記xのより好ましい範囲として0.03≦x≦0.2である。
本発明の蛍光材料において、前記zのより好ましい範囲として0.001≦z≦0.005である。
本発明の蛍光材料において、前記uのより好ましい範囲として0.35≦u≦0.55である。
本発明の蛍光材料において、前記sのより好ましい範囲として0.01≦s≦0.1である。
本発明の蛍光材料において、前記Feのより好ましい添加濃度が0.05〜0.4massppmの範囲にあることを特徴とする。
本発明の蛍光材料において、前記Mのより好ましい添加濃度が3〜15massppmの範囲にあることを特徴とする。
本発明の蛍光材料は、Ceを発光元素とし、Gd、Ga、Al,O及びFeを含有するガーネット構造のシンチレータ用の蛍光材料であって、各元素を以下の範囲で含有し、各元素の総和を100mass%とすることを特徴とする。ここで、MはMg、Ti、Niのうちの少なくとも1種類以上の元素である。
Gd:24.3〜57.6mass%、
Lu:0〜31.1mass%
Ce:0.02〜0.7mass%、
Al:4.0〜12.8mass%、
Ga:7.5〜22.6mass%、
Sc:0〜2.64mass%
O:19.6〜22.8mass%、
Fe:0.05〜1massppm、
M:0〜50massppm
本発明の蛍光材料は、Ceを発光元素とし、Gd、Ga、Al,O及びFeを含有するガーネット構造のシンチレータ用の蛍光材料であって、各元素を以下の範囲で含有し、各元素の総和を100mass%とすることを特徴とする。ここで、MはMg、Ti、Niのうちの少なくとも1種類以上の元素である。
Gd:45.9〜52.8mass%、
Lu:1.7〜12.0mass%
Ce:0.06〜0.24mass%、
Al:7.0〜10.0mass%、
Ga:13.7〜20.6mass%、
Sc:0.05〜0.5mass%
O:20.7〜21.9mass%、
Fe:0.05〜0.4massppm、
M:3〜15massppm
本発明の蛍光材料は、Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、GaおよびO、Lu及び/又はYを含み、下記一般式で表されるガーネット構造の蛍光材料に対して、Ceに対する重量比でFeを3%以下含むことを特徴とする。
(Gd1−x−zCe3+a(Al1−uGa5−a12
ここで、
LはLu及び/又はY、
0<a≦0.15、
0<x<1.0、
0.0003≦z≦0.0167(ただしx+z<1.0)、
0.2≦u≦0.6
である。
本発明の蛍光材料は、波長260nmの励起光で前記蛍光材料を励起した時に得られる発光スペクトルにおける500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する700〜850nmの波長領域の最大発光強度の比が8%以下であることを特徴とする。
本発明の蛍光材料において、前記発光スペクトルにおける500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する300〜450nmの波長領域の最大発光強度の比が7%以下であることを特徴とする。
前記蛍光材料は、多結晶であることを特徴とする。
本発明のシンチレータは、前記蛍光材料からなることを特徴とする。
本発明のシンチレータにおいて、厚さが0.5mmから5mmの範囲内にあることを特徴とする。
本発明の放射線検出器は、前記シンチレータと、前記シンチレータの発光を検出する受光素子とを有することを特徴とする。
本発明の蛍光材料によれば、従来のGGAG:Ce系の蛍光材料と比較し、特に1〜10msという短時間経過後の残光の小さなシンチレータを提供することができる。またかかる蛍光材料をシンチレータとして用いる本発明の放射線検出器は、走査時間の短縮を通じて解像度の向上に寄与するほか、安定した検出性能も発揮しうる。
本発明者は、上記した問題の原因について詳細に検討した。その結果、GGAG:Ce系の蛍光材料を所定の励起光で励起したときに得られる発光スペクトルにおいて700〜850nmの長波長成分が特に当該蛍光材料の短時間残光と相関があることを見出し、本発明を完成させた。
X線励起の残光と紫外線励起の残光との間には比例関係がある。そこで、分光感度特性の校正を行った蛍光分光光度計(日立製作所製F4500)を用いて、残光が大きくなる原因の検討を行った。
図1に、CZ法で育成したGGAG:Ce単結晶を、励起光として波長260nmの紫外線で励起した場合の発光スペクトルを示す。GGAGの結晶中においてCe3+は、波長540nmを最大発光波長とするなだらかな発光スペクトルを示す。波長315nmと400nmを中心とする発光は、格子欠陥に起因するものと考えられる。一方、700〜850nmの波長域にはブロードな弱い発光が観察される。
図2にこの蛍光材料における波長毎の発光の残光プロファイル、すなわち、励起光照射停止後からの発光強度の時間変化を示す。この図から、波長315nmと400nmの発光は残光が非常に小さいが、波長800nmの発光においては残光が非常に大きいことがわかる。
図3に、HIP焼結法で焼結したGGAG:Ce多結晶の試料を、励起光として波長260nmの紫外線で励起した場合の発光スペクトルを示す。GGAGの材料中においてCe3+は、波長540nmを最大発光波長とするなだらかな発光スペクトルを示す。波長380nmを中心とする発光は、格子欠陥による発光とGGAG:Ce多結晶中に異相として存在するペロブスカイト相の中に入り込んだCe3+の発光が重なったものである。X線回折法でペロブスカイト相が検出される場合、この波長380nmの発光は強く現れるが、ペロブスカイト相がまったく検出されない場合でもこの発光は現れる。一方、700〜850nmの波長域にはブロードな弱い発光が観察される。
図4にこの蛍光材料における波長毎の発光の残光プロファイルを示す。この図から、波長380nmの発光は残光が非常に小さいが、波長800nmの発光においては残光が非常に大きいことがわかる。
ここで、多結晶の蛍光材料における波長380nmの発光は、ガーネット構造とは異なる結晶構造中のCe3+の発光に起因する。そして、この発光は、X線回折で評価できないレベルのほんのわずかの結晶構造の揺らぎによっても測定することができる。この発光は、ボールミル混合後の素原料の粒径を適切に制御して仮焼後の原料粉の均質性を高めることにより小さくすることができる。これは、ボールミルによる素原料混合後の乾燥時に沈降速度の差により不均一な混合状態となることを防止できるためである。このためには、密度の大きいGdとLuのボールミル混合後の平均粒径が0.02〜3μm、密度の小さいAlとGaのボールミル混合後の平均粒径が0.3〜6μmの範囲で、かつ、前者に対する後者の平均粒径の比が1〜6の範囲であることが望ましい。したがって、例えばボールミルで用いるボールが樹脂製のボールであり原料粉を混合する工程で原料粉の粉砕がほとんど行われない場合には、用いる原料粉の平均粒径が上記範囲のものを使用することができる。一方で、アルミナ等のボールを用いる場合にはボールミル時に原料粉の粉砕が行われるため、ボールミル後の平均粒径が上記範囲となるよう適宜原料粉の粒径や混合条件等を設定できる。
以上の事項より、本発明者らは、700〜850nmの発光の本質的原因について検討した。その結果、この波長域の発光原因は、ガーネット結晶に取り込まれた微量のFeの発光であることがわかった。図5には、図3と同様の材料に対して、材料合成時に意識的に硝酸第二鉄を添加して作製した試料の発光スペクトルを示す。Fe添加率の増加とともに700〜850nmの発光強度が増加することが確認された。
図6には、Fe含有率1.3massppmの試料と0.7massppmの試料について波長800nmの残光プロファイルを測定した結果である。Feの発光成分は20msでほぼ消失するが、3ms後における残光に対しては、非常に大きな影響を及ぼすことがわかる。また、Fe含有率1.3massppmの試料に比べて、1.0massppmの試料は残光の発光強度が約半分に改善されている。さらに、Fe含有率0.85massppmの試料に比べて、0.05massppm〜0.7massppmの試料は、1ms後の発光強度と5ms後の発光強度でその発光強度変化が小さくなっている。発光強度変化率が小さいと、残光が信号に及ぼす影響もより小さくなり、放射線検出器の走査時間を更に短縮し、CTの画像解像度を更に向上することができる。Fe含有率0.05massppm〜0.4(より詳細には0.35)massppmの範囲にすると残光強度も十分に抑えられるので更に好ましい。
ここで、発光強度変化率=(1ms後の発光強度−5ms後の発光強度)/1ms後の発光強度×100(%)の絶対値である。具体的には、次のように大きな違いが生じる。
1.0massppm:発光強度変化率=44.4%
0.7massppm:発光強度変化率=4.6%
0.05massppm:発光強度変化率=7.0%
図7にはFe含有率と3ms残光との関係を示す。Fe含有率と3ms残光は比例関係にあり、Fe含有率の増加とともに3ms残光は増加することが確認された。以上の結果から、上記GGAG:Ce系の蛍光材料において、特に短時間残光を抑制可能とする以下の本発明を完成した。
(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態となる蛍光材料は、Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、Ga、OおよびFeを含み、MがMg、Ti、Niのうち少なくとも1種類以上であり、下記一般式で表されることを特徴とする蛍光材料である。
(Gd1−x−zLuCe3+a(Al1−u−sGaScs)5−a12
ここで、
0≦a≦0.15、
0≦x≦0.5、
0.0003≦z≦0.0167、
0.2≦u≦0.6
0≦s≦0.1
であり、Fe、Mの添加濃度は
Fe:0.05〜1massppm、
M:0〜50massppm
である。
本発明では、この材料は必ずFeを含有し、そのFeの含有率は0.05から1massppmである。図7の結果より、Fe含有率が1massppmを超えると3ms残光は800ppmを越え、許容レベルよりも大きくなるため、Fe含有率の上限は1massppmとなる(好ましくは上限1.0massppm)。ただし、蛍光材料の合成に用いる素原料には既に数massppm〜数10massppmのFeが含まれている。そのため、これらの素原料を用いて合成した蛍光材料中にはFeが数massppm〜数10massppm含まれてしまう。素原料中のFe含有率を低減するためには、たとえば素原料を真空中で熱処理することにより除去することができる。しかし、素原料のFe含有率を0.05massppm未満まで低減しようとすると、高温の真空熱処理が必要となり、その結果、素原料が固く凝集を起こしてしまう。そこで、粉砕が必要となってくるが、粉砕処理によりFeの混入が避けられず、0.05massppmが下限値となる。
Ceを発光元素とし、Gd、Ga、Al、O及びFeを含有するガーネット構造の一般化学式は、(Gd、Ce)(Al、Ga)12と表される。ガーネット結晶構造では、Cサイト(8配位サイト)、Aサイト(6配位サイト)及びDサイト(4配位サイト)の3つのサイトが存在し、希土類イオンのほとんどはCサイトへ、一部がAサイトに存在する。一方、AlとGaはAサイトとDサイトに分配されて存在しているが、Cサイトにはほとんど存在しない。
残光の原因としては、Ce3+が形成する本来の発光をもたらす準位以外にも電子遷移が可能な準位が禁制帯中に形成され、この準位を介した電子遷移が生ずるということがある。Cサイト(8配位)に空孔が生じると、こうした準位が形成されるが、0≦aとすることにより、これを抑制している。従って、これにより高い発光強度を得ながら、残光を低くすることができる。一方、aが大きくなると、この蛍光材料中に、ガーネット構造とは異なるペロブスカイト相(異相)のGdAlO等が形成されやすくなる。この異相は母材であるガーネット相と屈折率が異なるためペロブスカイト相で光散乱が生じ、発光波長の光に対する透過率が低くなるため、この蛍光材料の発光強度を小さくする原因となる。
図8は、x=0.1、z=0.0026、u=0.41について、発光強度と300ms残光のaに対する依存性を調べた結果である。ここで、相対発光強度は、最大値(この場合はa=0の場合の発光強度)を100%としたときの発光強度である。”w”ms残光は、X線照射停止からwミリ秒経過した後の発光強度を表わす(このwは、例えば、3、10、30又は300である。)。”w”ms残光の残光強度は、X線照射中の発光強度に対するX線照射停止から”w”ms経過した後の発光強度の比を表わし、単位はppm(百万分率)である。a=0の場合、発光強度は高いが、残光も高い。a>0となると、上記の理由により、急激に残光が低くなる。一方、aの増加に伴って発光強度は徐々に低下し、a=0.15の場合に相対発光強度はa=0の場合の80%となる。また、aが0.15よりも大きくなるとペロブスカイト相が生成されるため、相対発光強度がさらに低下する。従って、相対発光強度の下限を80%とすると、残光が低く、かつ発光強度が高い蛍光材料をもたらすaの上限は0.15となり、aがこれよりも大きくなると残光は低いものの、相対発光強度が80%よりも小さくなる。特に高い発光強度を得ると共に低残光とするには、図8の結果から、aを0.005〜0.05の範囲内にすることがより好ましい。
Cサイト(8配位)にLuを含む場合、Cサイト(8配位)の平均イオン半径を小さくすることができ、結果として格子定数を小さくすることができる。その結果、イオン半径の小さいAlがAサイト(6配位)で安定に存在できるようになるため、異相の析出を抑制することができる。また、Luはその原子量が大きいため、この蛍光材料の密度を高くし、X線の吸収係数を大きくすることもできる。図9は、a=0.10、z=0.0026、u=0.41としたときの、相対発光強度のx依存性である。ここで、相対発光強度は、最大値(この場合はx=0.10の場合の発光強度)を100%としたときの発光強度である。図9に示すように、xを大きくしていくと(GdをLuで置換していくと)発光強度は低下していく。GdをLuで置換していくと、格子定数が小さくなり、禁制帯の幅が増加するため、発光波長が短波長側へシフトしていく。X線CTの光検出器には一般的にシリコンフォトダイオードが用いられるが、シリコンフォトダイオードは800〜900nmまでは、長波長側で分光感度が大きい。そのため、Lu置換量が多くなるとシリコンフォトダイオードが感度の高い波長領域での発光強度が低下していく。従って、相対発光強度の下限を80%とすると、x≦0.5としている。特に高い発光強度を得ると共に異相発生を避けるには、図9の結果から、xを0.03〜0.2の範囲内にすることがより好ましい。
zは発光元素であるCeの組成を決定し、図10に示すように、0.0003≦z≦0.0167の範囲で特に発光強度が大きくなる。ここで、相対発光強度は、最大値(この場合はz=0.003の場合の発光強度)を100%としたときの発光強度である。zが0.003未満の場合には、発光元素であるCe原子の数が少なすぎるために、吸収したX線のエネルギを効率よく光エネルギーに変換することができない。0.0167よりも大きな場合は、Ce原子間の距離が小さくなりすぎるために、エネルギーの回遊が起こり(いわゆる消光)発光強度が低下する。特に高い発光強度を得るには、図10の結果から、zを0.001〜0.005の範囲内にすることがより好ましい。
uはAlとGaの組成比を決定し、図11に示すように0.2≦u≦0.6の範囲で発光強度が大きくなる。ここで、相対発光強度は、最大値(この場合はu=0.5の場合の発光強度)を100%としたときの発光強度である。特にuが0.4のときに発光強度が最大となる。uが0.2未満の場合には上記のペロブスカイト相が出て、発光強度が低くなる。uが0.6よりも大きな場合は発光強度が低下し、残光が大幅に増加する。特に高い相対発光強度比(95%以上)を得るには、図11の結果から、uを0.35〜0.55の範囲内にすることがより好ましい。
ScはAサイト(6配位)を占有し、発光強度を向上させ残光を低減させる添加元素である。Gaは+3価イオンである。しかし、+1価に価数変動しやすい性質を持つ。ガーネット構造中でGaが+1価になると(イオン半径はGa3+よりもGa1+の方が大きい)、このGaイオンは−2価にチャージしてしまい、発光強度を低下させ残光を増加させる。Sc3+のイオン半径は、Al3+及びGa3+のイオン半径よりも大きく、Aサイトを占有することで、Ga3+の価数変化を抑制するものと考えられる。
図12は、a=0.12、x=0.096、z=0.0026、u=0.41としたときの相対発光強度および300ms残光のs(Sc組成)依存性である。ここで、相対発光強度は、s=0を100%としたときの発光強度である。残光はScの微量添加で大きく減少し、sが0.03以上では変化がない。一方、発光強度はsが0.05のときにピークをとり、sが大きくなるに従って減少する。これより、s≦0.7としている。高い発光強度を得るとともに低残光とするには、図12のプロットとカーブから、sを0.01から0.1の範囲内にすることがより好ましい。
同様に残光低減元素として、2価の元素としてMgとNi,4価の元素としてTiを用いることができる。最適な含有率は0〜50massppmである。
この蛍光材料の大きな特徴は、AサイトまたはDサイトにFeを必ず含むことである。FeはGd、Al、GaおよびOを有するガーネット結晶中では赤外発光を起こし、その発光寿命は20ms程度ある(図6)。そのため、1〜10msの短時間残光低減にはFeの含有率は非常に重要となる。Feは用いるGd、Al及びGa等の素原料に含まれるが、特にAl中のFe含有率は数massppm〜数10massppmと大きい。素原料中のFeの含有率は、素原料を真空中で熱処理することにより制御することができ、熱処理温度または熱処理時間を増加させることでFe含有率は低減される。しかし、熱処理温度や熱処理時間を大きくすると、素原料が固く凝集を起こしてしまう。そこで、粉砕が必要となってくるが、粉砕処理によりFeの混入が避けらず、Fe含有率は0.05massppmが下限となる。tの増加とともに3ms残光は増加し、tが2×10−5以下であれば3ms残光は800ppm以下に抑えられ、高速走査のX線CTに用いられるシンチレータにとって好ましい。
xの値としては、上記の範囲のうち、xを0.03≦x≦0.2とすることによって、特に発光強度を高くすることができる。材料合成時に生成してしまう捕獲準位に対しては、Ceの原子比を0.001≦zとすることで、その働きを抑制させることができるので好ましい。Ceは母材の中で大半はCe3+イオンとして存在するが、Ce4+に変化しやすい性質を有している。このため、禁制帯中に存在する正孔の捕獲準位よりも先にCe3+が正孔を捕獲し発光することで、より残光を低減することができる。zの値としては、上記の範囲のうち、zを0.001≦z≦0.005とすることによって、特に発光強度を高くすることができる。
uの値としては、上記の範囲のうち、uを0.35≦u≦0.55とすることによって、特に発光強度を高くすることができ、また残光も低くすることができる。sの値としては、上記の範囲のうち、sを0.01≦s≦0.1とすることによって、特に発光強度を高くすることができ、また残光も低くすることができる。Fe含有率の上限を0.4massppmとすることで3ms残光は300ppm以下とすることができより好ましい。
残光低減元素Mとして、2価の元素であるMgとNi,4価の元素であるTiが有効であるが、含有率の増加とともに発光強度も減少していくため、Mの値として3〜15massppmの範囲にあることがより好ましい。
図13〜15は、M=Mg、M=Ti、およびM=Niの各々について、a=0.03、x=0.1、z=0.0026、u=0.41、s=0.01としたときの相対発光強度および300ms残光のM含有率依存性である。ここで、相対発光強度は、M=0を100%としたときの発光強度である。残光はMの微量添加で減少する。一方、相対発光強度はMが大きくなるに従って急激に減少する。図13〜15の結果のとおり、高い発光強度を得るには、Mは50massppm以下とし、より好ましくは15massppm以下とする。低残光とするには、Mの下限を3massppmとする。
なお、上記のガーネット構造の蛍光材料の各構成元素の組成範囲を、(Gd1−x−zLuCe3+a(Al1−u−sGaScs)5−a12の組成式ではなく、各元素の含有量(mass%)で表すと、好ましい範囲は、
Gd:24.3〜57.6mass%、
Lu:0〜31.1mass%
Ce:0.02〜0.7mass%、
Al:4.0〜12.8mass%、
Ga:7.5〜22.6mass%、
Sc:0〜2.64mass%
O:19.6〜22.8mass%、
Fe:0.05〜1massppm、
M:0〜50massppm
である。M元素はMg、Ti、Niのうち少なくとも1種類以上の元素であり、各元素の総和を100mass%(100質量%)とする。
また、上記の組成において、更に好ましい範囲は、
Gd:45.9〜52.8mass%、
Lu:1.7〜12.0mass%、
Ce:0.06〜0.24mass%、
Al:7.0〜10.0mass%、
Ga:13.7〜20.6mass%、
Sc:0.05〜0.5mass%
O:20.7〜21.9mass%、
Fe:0.05〜0.4massppm、
M:3〜15massppm
である。
(第2の実施の形態)
第2の実施の形態となる蛍光材料は、Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、GaおよびO、Lu及び/又はYを含み、組成が下記一般式で表されるガーネット構造の蛍光材料である。
(Gd1−x−zCe3+a(Al1−uGa5−a12
ここで、
LはLu又はY、
0<a≦0.15、
0<x<1.0、
0.0003≦z≦0.0167(ただしx+z<1.0)、
0.2≦u≦0.6
である。更に、この蛍光材料にはFeが添加され、その比率は、Ceに対する重量比で3%以下となっている。
この蛍光材料の大きな特徴は、Lu及び/又はYを含み、ガーネット構造における組成を化学量論組成(a=0)からずらし、0<aとして、ガーネット構造におけるCサイト(8配位)元素(Gd、L、Ce)を過剰とし、Aサイト(6配位)およびDサイト(4配位)元素(Al、Ga)をその分減らしたことである。なお、この蛍光材料は単結晶でも多結晶であってもよい。
残光の原因として、Ce3+が形成する本来の発光をもたらす準位以外に電子遷移が可能な準位が禁制帯中に形成され、この準位を介した電子遷移が生ずる。従って、0<aとすることにより、これを抑制し、高い発光強度を得ながら、残光を低くすることができる。一方、aが大きくなると、この蛍光材料中に、ガーネット構造とは異なるペロブスカイト相(異相)のGdAlO等が形成されやすくなる。この層は発光にほとんど寄与せず、かつ母材であるガーネット相と屈折率が異なるためペロブスカイト相で光散乱が生じ、発光波長の光に対する透過率が低くなるため、この蛍光材料の発光強度を小さくする原因となる。またペロブスカイト相が生成すると、母材であるガーネット相と熱膨張率などが異なるため、クラックが発生しやすくなる。図8の結果から、a=0の場合は発光強度は高いが、残光も高い。a>0となると、上記の理由により、急激に残光が低くなる。一方、aの増加に伴って発光強度は徐々に低下し、a=0.15の場合に相対発光強度はa=0の場合の80%となる。また、aが0.15よりも大きくなるとペロブスカイト相が生成されるため、相対発光強度がさらに低下し、クラックも発生しやすくなる。従って、相対発光強度の下限を80%とすると、残光が低く、かつ発光強度が高い蛍光材料をもたらすaの上限は0.15となり、aがこれよりも大きくなると残光は低いものの、相対発光強度が80%よりも小さくなり、かつクラックも発生しやすくなる。
zが0.0003≦z≦0.0167の範囲であることが好ましい理由、uが0.2≦u≦0.6の範囲であることが好ましい理由は、第1の実施の形態と同様である。
ただし、ここでは、xとして0<x<1.0(ただしx+z<1.0)としており、この蛍光材料はLとして、Lu及び/又はYを必ず含む。これらの元素を添加することによって、ガーネット構造におけるCサイト(8配位)の平均イオン半径を小さくすることができ、結果として格子定数を小さくすることができるので、イオン半径の小さいAlがAサイト(6配位)で安定に存在できるようになる。これにより、a、u、およびzが上記の範囲でペロブスカイト相が出ることを抑制している。
aの上限は上記の通り0.15であるが、下限としては、0.032とすることがより好ましい。aがこの値以下になると、蛍光材料にクラックが入りやすくなるために製造歩留まりが低下する。Aサイト(6配位)に入っているAlはイオン半径が小さいため、格子歪みを大きくしている。Cサイト(8配位)の原子比を3より大きくすることで、過剰の希土類イオンがAサイト(6配位)に入り、Aサイト(6配位)の平均イオン半径を大きくして格子歪みを緩和するが、aの値が0.032以下ではこの効果が十分ではなく、格子歪みによりクラックが入りやすくなる。図16は、LがLu、x=0.10、z=0.0027、u=0.41としたときの、相対発光強度と単結晶成長における歩留まりの、aについての依存性を調べた結果である。ここで、相対発光強度は、最大値(この場合はa=0の場合の発光強度)を100%としたときの発光強度である。結晶歩留まりは、CZ法によって結晶成長後に得られた結晶にクラックが入っていた割合を示す。相対発光強度はaが大きくなるに従って、徐々に低下していくが、結晶歩留まりはほぼ0.032<a≦0.15の間で高くなっている。すなわち、aを0.032<a≦0.15の範囲内とすることによって、高い発光強度と、低い残光と、高い歩留まりとを兼ね備えることができる。aが0.032以下では結晶歩留まりが悪くなり、aが0.15より大きいと、上記の通り、発光強度が低くなると同時に、結晶歩留まりが悪くなる。
LがLuである場合、xとして上記の範囲のうち、xを0.033≦x≦0.5とすることによって、特に発光強度を高くすることができる。
LがYである場合、xとして上記の範囲のうち、xを0.066≦x≦0.67とすることによって、特に発光強度を高くすることができる。図17は、LがY、a=0.10、z=0.0026、u=0.41としたときの、相対発光強度のx依存性である。ここで、相対発光強度は、最大値(この場合はx=0.20の場合の発光強度)を100%としたときの発光強度である。xが0.20未満の場合にはLuの場合と同様に、異相が生成されるために相対発光強度が低くなる。また、異相の発生によって蛍光材料にクラックも生じやすくなる。相対発光強度の観点から、0.066≦xであることがより好ましく、異相生成によるクラックの発生の観点からは0.2≦xであることがさらに好ましい。一方、YはGdと比べて軽い元素である(原子量がGdの157に対してYは89)ために、xが0.67より大きいと、蛍光材料全体の密度が小さくなり、X線の吸収が不充分となる。
LとしてLuとYを両方含むこともできる。その場合、上記の結果を内挿して、LuとYの比率をv:(1−v)(ただし0<v<1)として、0.0925v+0.2(1−v)<x≦0.5v+0.67(1−v)の範囲とすることによって、発光強度を高くすることができる。
図18は、この蛍光材料中のCe含有率と500〜600nmの発光スペクトルの最大強度に対する800nmの発光強度比との関係を測定した結果である。ここで、Feは、原材料であるGd、AlやGa等に含まれる元素であり、ここではその含有率は3ppm(一定)としている。図18に示されるように、Feの含有率が一定であれば、Ceの含有率を増加させることにより700〜850nmの波長領域における発光を減少させることができる。一方で、上記したようにCeの含有率を増やすと発光強度が低下する傾向にあるので好ましくない。図19は、この蛍光材料中のFe含有率とCe含有率の比(Fe/Ce)と重量比とX線照射停止後3ms経過後の残光との関係を測定した結果である。ここで、Feの含有率とCeの含有率の比(Fe/Ce)とX線励起停止後3ms経過後の残光との間には比例関係があることを本発明者らは見出した。高速X線CT装置に用いる蛍光材料として、X線励起停止後3ms経過後の残光は1500ppm以下のものが望まれており、そのためにはCeに対する重量比でFeが3%以下の蛍光材料であることが好ましい。さらに、Ceに対する重量比でFeが0.5%以下の蛍光材料とすれば、3ms経過後の残光が500ppmよりも小さくなるので更に好ましい。すなわち、第1の実施の形態の蛍光材料と同様に、この蛍光材料においても、Feの組成をこの範囲に制御することにより、残光を低減させることができる。
発明者は、この蛍光材料において、波長260nmの励起光で前記蛍光材料を励起した時に得られる発光スペクトルにおける500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する700〜850nmの波長領域の最大発光強度の比とは相関があり、この比を8%以下とすることにより、特に残光を低減させることができることを知見した。
図20に、波長260nmの紫外線で所定の蛍光材料を励起した時に得られる発光スペクトルにおける500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する700〜850nmの波長領域の最大発光強度の比と、当該蛍光材料をX線で励起し停止した後3ms経過後の残光との関係を示す。図20から、500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する700〜850nmの波長領域の最大発光強度の比が8%よりも大きいと、3ms経過後の残光は1500ppmよりも大きくなり、結果として、高速走査のX線CT装置用のシンチレータに用いる場合、得られた画像の分解能が低下してしまうことが判った。なお、500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する700〜850nmの波長領域の最大発光強度の比が3%よりも小さな蛍光材料とすれば、3ms経過後の残光が500ppmよりも小さくなるので好ましい。
また、この蛍光材料において、500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する300〜450nmの波長領域の最大発光強度の比を7%以下とすることが好ましい。一般的に、上記GGAG:Ce系の蛍光材料では、この波長領域の発光の残光はきわめて小さい。しかしながら、図21はこの多結晶の蛍光材料における、500〜600nmの波長領域の最大強度に対する波長380nmの発光強度の比とX線照射における相対発光強度との関係を示す図であるが、この波長領域の発光強度が強くなるに従い発光強度は低下する。そして、500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する300〜450nmの波長領域の最大発光の比が7%よりも大きいと、その比が1%の場合よりも発光強度は20%以上低下し、X線CT装置の検出器のS/Nが低下してしまう。従って、その比は7%以下であることが望ましい。
上記の第1、2の実施の形態の蛍光材料は、多結晶材料とすることができる。多結晶は、素原料混合粉または素原料混合粉を仮焼し粉砕した粉末を材料の融点よりも低い温度で焼結した材料である。多結晶である場合には、同じ組成の単結晶と比べると、光透過率は劣るため性能(特に発光強度)では単結晶に比べて劣るが、単結晶のように結晶の育成に長い時間を要さないので製造効率が高く、低コストで蛍光材料を得ることができるので、この蛍光材料をシンチレータとして用いた場合、工業的量産性に優れた安価な放射線検出器を得ることができる。
また、上記の第1、2の実施の形態の蛍光材料は、単結晶材料とすることもできる。すなわち、以上に述べた蛍光材料において、これが単結晶である場合には、特に材料における可視光の透過率を高めることができ、結晶の厚さを大きくしても発光出力を取り出すことができるので好ましい。
(第3の実施の形態)
第3の実施の形態は、上記の蛍光材料をシンチレータとして用い、このシンチレータと、このシンチレータの発光を検出する受光素子とを有する放射線検出器である。この放射線検出器は、X線CT、PET(Positron Emission Tomography)、又はPET/CTなどの医療用の観察装置又は検査装置に搭載することが好適である。
すなわち、上記蛍光材料をシンチレータとして用いた場合、X線感度の低下や、X線漏れといった問題を解決することができ、高性能の放射線検出器を得ることができる。
この放射線検出器は、図22、23に示すように、シンチレータとこの蛍光材料の発光を検知するための光検出器とを備えた構成とすることができる。図22は放射線検出器の概略構成を示す斜視図、図23は図22におけるA−A断面図である。作製した放射線検出器は、1.2mmピッチで24個配列した上記スライスしたシンチレータ2と、配列したシンチレータ2の上面と側面にチタニアとエポキシ樹脂の混合材を塗布し硬化させてなる光反射膜3と、シンチレータ2の配列に対応し大きさが1mm×30mmでピッチが1.2mmで配列されるととともにシンチレータ2と受光面が正確に一致するよう位置決めした受光部を有しシンチレータ2とエポキシ樹脂で固定した24チャンネルシリコンフォトダイオード5と、24チャンネルシリコンフォトダイオード5が電気的に接続される配線基板4と、で構成される。
光検出器となるシリコンフォトダイオードとしては、高感度・高速応答で、かつ波長感度域が可視光から近赤外領域にあって本発明の蛍光材料とのマッチングが良いことから、PIN型シリコンフォトダイオードを用いるのが望ましい。また、この放射線検出器に使用するシンチレータ(蛍光材料)の厚さは、0.5〜10mmであることが望ましい。0.5mmよりも薄くなると発光出力の低下・漏洩X線の増加を招く一方、5mmよりも厚くなると光透過率が低下し、発光強度が低下してしまうため好ましくない。漏洩X線が少なく、また高い発光出力が得られる高感度の放射線検出器を構成する観点からはシンチレータの厚さは、1.5〜3mmとすることが好ましい。
以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。なお、本発明の蛍光材料および放射線検出器は下記の実施例に限定されるものではない。なお、主成分の組成分析はICP―AES(高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法、パーキンエルマー製OPTIMA−3300XL)により、Feの分析はGDMS法(グロー放電質量分析法、VG Elemental社製:VG9000)により行った。表2には第1の実施の形態の例である実施例1〜15と、比較例1〜8に示される多結晶の蛍光体材料の分析値を、表3にはこの分析値から求めた化学式を示す。なお、Mが数massppmよりも微量の場合、GDMS法で分析することが好ましい。
(実施例1)
容量1リットルの樹脂製ポットに200gの素原料と直径5mmの高純度アルミナボール1300g及びエタノール200ccをいっしょに入れ、12h混合したときのアルミナボールの質量変化は0.06gであった。そこで、ボールからのAl混入も考慮して、表2の実施例1の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を126.91g、CeOを0.363g、Al(Fe:0.2massppm)を40.62g、Ga(Fe:0.2massppm)を32.05gとした。Gdは平均粒径2μmの素原料粉を用いた(ここで記載の平均粒径はメディアン径である)。また、AlとGaは、それぞれ0.6μm、3μmの素原料粉を用いた。Al粉とGa粉については、Fe含有率が大きいため、あらかじめ真空中(〜10Pa)で1400℃×3hの熱処理を行ったものを用いた。この処理により、Feは、Al粉で4massppmから0.2massppmへ低減し、Ga粉で1massppmから0.2massppmへ低減した。これらの素原料を前記条件で湿式ボールミル混合を行い、その後乾燥した。この粉末に、純水を1mass%添加し、500kg/cmの圧力で一軸プレス成形し、その後、加圧力3ton/cmで冷間静水圧プレスを行い、理論密度に対し54%の成形体が得られた。この成形体をアルミナこう鉢に入れ、フタをして、真空中1675℃、3hの一次焼結を行い、理論密度に対し、99%の焼結体が得られた。この焼結体を、Ar雰囲気、1500℃、3h、1000atm(1.01×10Pa)の条件で熱間静水圧プレス焼結を行った。得られた焼結体は、理論密度に対し99.9%の密度を有していた。得られた試料は、内周スライサーを用いて幅1mm、長さ30mm、厚さ2.5mmの板に機械加工後、100vol%の酸素雰囲気中で1500℃×2hの熱処理を行った。熱処理後、表面に光学研磨を施し、多結晶の蛍光材料のシンチレータとして作製した。このシンチレータ中のFeをGDMS法で分析した結果、0.35massppmであった。この合成されたシンチレータ中のFe含有率の分析値は、素原料粉のFe含有率と配合比率から計算で求めたFe含有率とほぼ等しく、Fe含有率は素原料粉のFe含有率に支配されていることがわかる。
上記にて得られた蛍光材料をシンチレータとして用い、図22、23に示した放射線検出器を作製した。かかる放射線検出器によれば、X線源1からのX線照射によりシンチレータ2が励起され発光し、その光を24チャンネルのシリコンフォトダイオード5で検出することにより、蛍光材料の特性を確認することができた。なお、シリコンフォトダイオードの電流出力を電圧に変換し、前記電圧を増幅するための電気信号増幅器を前記配線基板4に接続することにより、発光−可視光変換・信号増幅器を構成することができた。
(実施例2)
容量1リットルの樹脂製ポットに仮焼温度1400℃の仮焼粉を180gと直径5mmの高純度アルミナボール1300g及びエタノール200ccを同時に入れ、12h粉砕したときのアルミナボールの質量変化は0.20gであった(素原料混合時のアルミナボール磨耗量と合計すると0.26g)。そこで、ボールからのAl混入も考慮して、表2の実施例2の組成になるように、Gd(0.1massppm)を122.19g、CeOを0.105g、Al(0.1massppm)を30.77g、Ga(0.2massppm)を46.68gとした。Gdは平均粒径2μmの素原料粉を用いた。また、AlとGaは、それぞれ0.6μm、3μmの素原料粉を用いた。Fe含有率を低減するため、Ga粉とAl粉については、あらかじめ真空中(〜10Pa)1500℃×3hの熱処理を、Ga粉についてはあらかじめ真空中(〜10Pa)1400℃×3hの熱処理を行ったものを用いた。この処理により、Feは、Gd粉で0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉で4massppmから0.1massppmへ低減し、Ga粉で1massppmから0.2massppmへ低減した。これらの素原料を直径5mmの高純度アルミナボールを用いた湿式ボールミル混合後乾燥した。次に、この混合粉をB5サイズのアルミナルツボに入れ、1400℃で2h焼成し、冷却後、原料を十分にほぐした。次に、得られた仮焼粉を前記条件で湿式ボールミル粉砕を行ない乾燥した。こうして、平均粒径約0.8μmの蛍光体粉末を得た。この粉末に、純水を1mass%添加し、500kg/cmの圧力で一軸プレス成形し、その後、加圧力3ton/cmで冷間静水圧プレスを行い、理論密度に対し67%の成形体が得られた。この成形体をアルミナこう鉢に入れ、フタをして、真空中1675℃、3hの一次焼結を行い、理論密度に対し、99%の焼結体が得られた。この焼結体を、Ar雰囲気、1500℃、3h、1000atm(1.01×10Pa)の条件で熱間静水圧プレス焼結を行った。得られた焼結体は、理論密度に対し99.9%の密度を有していた。得られた試料は、内周スライサーを用いて幅1mm、長さ30mm、厚さ2.5mmの板に機械加工後、100vol%の酸素雰囲気中で1500℃×2hの熱処理を行った。熱処理後、表面に光学研磨を施し、多結晶の蛍光材料のシンチレータとして作製した。このシンチレータ中のFeをGDMS法で分析した結果、0.12massppmであった。
(実施例3)
表2の実施例3の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を115.96g、CeOを1.337g、Al(Fe:4massppm)を21.95g、Ga(Fe:0.2massppm)を60.69gとした。Ga粉のみあらかじめ真空中(〜10Pa)1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例4)
表2の実施例4の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を119.25g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.91g、CeOを0.359g、Al(Fe:0.2massppm)を40.84g、Ga(Fe:1massppm)を32.38gとした。Al粉のみあらかじめ真空中(〜10Pa)1400℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例5)
表2の実施例5の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を83.90g、Lu(Fe:0.4massppm)を39.81g、CeOを0.689g、Al(Fe:1massppm)を30.13g、Ga(Fe:1massppm)を45.41gとした。Al粉のみあらかじめ真空中(〜10Pa)1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減した。それ以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例6)
表2の実施例6の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を60.07g、Lu(Fe:0.4massppm)を66.34g、CeOを0.338g、Al(Fe:1massppm)を28.99g、Ga(Fe:0.2massppm)を43.99gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例7)
表2の実施例7の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を113.86g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.64g、CeOを1.034g、Al(Fe:4massppm)を26.18g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.18g、Sc(Fe:0.4massppm)を6.04gとした。Ga粉のみあらかじめ真空中(〜10Pa)1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例8)
表2の実施例8の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を114.55g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.66g、CeOを0.691g、Al(Fe:0.2massppm)を27.73g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.32g、Sc(Fe:0.4massppm)を3.79gとした。Al粉はあらかじめ真空中(〜10Pa)1400℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから0.2massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例9)
表2の実施例9の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:0.1massppm)を30.17g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1500℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから0.1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例10)
表2の実施例10の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:1massppm)を29.97g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912g、Mg(NO・6HOを0.003gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例11)
表2の実施例11の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:1massppm)を30.17g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912g、Mg(NO・6HOを0.027gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例12)
表2の実施例12の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:1massppm)を29.97g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912g、(CO)Tiを0.003gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例13)
表2の実施例13の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:1massppm)を30.17g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912g、(CO)Tiを0.036gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例14)
表2の実施例14の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:1massppm)を29.97g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912g、Ni(NO・6HOを0.003gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例15)
表2の実施例15の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:1massppm)を30.17g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912g、Ni(NO・6HOを0.029gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(比較例1)
表2の比較例1の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を118.61g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.87g、CeOを0.357g、Al(Fe:4massppm)を28.82g、Ga(Fe:2massppm)を44.41g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.871gとした以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料のシンチレータとして作製した。
(比較例2)
表2の比較例2の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を113.33g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.69g、CeOを2.314g、Al(Fe:10massppm)を29.99g、Ga(Fe:2massppm)を46.51g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.913gとした以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料のシンチレータとして作製した。
(比較例3)
表2の比較例3の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を108.93g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.31g、CeOを0.328g、Al(Fe:8massppm)を15.22g、Ga(Fe:2massppm)を68.29g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.861gとした以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(比較例4)
表2の比較例4の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を114.01g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.61g、CeOを0.343g、Al(Fe:8massppm)を23.07g、Ga(Fe:2massppm)を45.95g、Sc(Fe:0.4massppm)を9.766gとした以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料のシンチレータとして作製した。
(比較例5)
表2の比較例5の組成になるように、Gd(Fe:0.4massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:4massppm)を30.17g、Ga(Fe:2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912gとした以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料のシンチレータとして作製した。
(比較例6)
表2の比較例6の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:1massppm)を29.97g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912g、Mg(NO・6HOを0.141gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料のシンチレータとして作製した。
(比較例7)
表2の比較例7の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:1massppm)を30.17g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912g、(CO)Tiを0.185gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例1と同様の方法で、多結晶の蛍光材料のシンチレータとして作製した。
(比較例8)
表2の比較例8の組成になるように、Gd(Fe:0.1massppm)を115.34g、Lu(Fe:0.4massppm)を6.68g、CeOを0.347g、Al(Fe:1massppm)を29.97g、Ga(Fe:0.2massppm)を46.49g、Sc(Fe:0.4massppm)を0.912g、Ni(NO・6HOを0.158gとした。Gd粉は、あらかじめ真空中(〜10Pa)、1500℃×3hの熱処理によりFeを0.4massppmから0.1massppmへ低減し、Al粉は1300℃×3hの熱処理によりFeを4massppmから1massppmへ低減し、Ga粉は1400℃×3hの熱処理によりFeを1massppmから0.2massppmへ低減した。それ以外は実施例2と同様の方法で、多結晶の蛍光材料のシンチレータとして作製した。
上記の実施例1〜15の試料,比較例1〜8の試料について、X線照射による発光強度と3ms経過後の残光を測定した。この測定は、実施例1に示す放射線検出器を作製し、X線源としてタングステンターゲットのX線管を用い、管電圧120kV、管電流5mAの条件でX線を前記放射線検出器のシンチレータに照射して評価した。X線照射による相対発光強度及びX線照射停止後3ms経過後の残光を表4に示す。相対発光強度は、GOS:Prシンチレータの発光強度を100%としたときの発光強度である。
実施例1〜3、実施例4〜6、実施例7〜9、実施例10〜15では、発光強度は80%以上、3ms経過後の残光は800ppm以下となった。一方、比較例4と5では、発光強度は80%以上となったが、3ms経過後の残光は800ppmよりもかなり大きくなった。また、比較例1〜3と比較例6〜8では、発光強度は80%を大幅に下回った。
Figure 2008093869
Figure 2008093869
Figure 2008093869
また、以下には第2の実施の形態の例となる単結晶及び多結晶の蛍光材料である実施例16〜22について具体的に説明する。
(実施例16)
表5の実施例16の組成になるように、Gdを486.65g、Luを60.68g、Ce(NO・6HOを26.053g、Alを151.41g、Gaを185.57g計量した。なお、Ceは単結晶中に取り込まれにくいため、秤量組成は、目標組成の6.56倍とした。次に、これらの素原料を湿式ボールミル混合後、B5サイズのアルミナルツボに入れ、1400℃で2h焼成し、冷却後、原料粉を十分にほぐした。得られた原料粉をゴムチューブに詰めて、加圧力98MPaで冷間静水圧プレスを行い、棒状の成形体とした。この成形体をイリジウムルツボ中で高周波溶解後、種結晶を浸漬し、引上げ速度1mm/h、回転速度20rpmとして、CZ法により2インチサイズの単結晶育成を行った。育成雰囲気は3vol%の酸素を含む窒素ガス中で、育成方向は〈111〉方向とした。得られた結晶は、内周スライサーを用いて幅1mm、長さ30mm、厚さ3mmの板に機械加工後、100vol%の酸素雰囲気中で1500℃×2hの熱処理を行った。熱処理後、表面に光学研磨を施し、単結晶の蛍光材料を試料として作製した。
上記にて得られた蛍光材料をシンチレータとして前記の例と同様に放射線検出器に用い、この蛍光材料の特性を確認した。
(実施例17)
表5の実施例17の組成になるように、Gdを382.44g、Yを210.00g、Ce(NO・6HOを26.053g、Alを175.88g、Gaを135.90gとした以外は実施例16と同様の方法で、単結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例18)
表5の実施例18の組成になるように、Gdを486.65g、Luを60.68g、Ce(NO・6HOを26.053g、Alを151.41g、Gaを185.57gとした以外は実施例16と同様の方法で、単結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例19)
表5の実施例19の組成になるように、Gdを495.87g、Luを60.68g、Ce(NO・6HOを3.973g、Alを151.41g、Gaを185.57gとした。GdとLuは平均粒径0.1μmの素原料粉を用いた。また、AlとGaは、それぞれ0.6μm、3μmの素原料粉を用いた。これらの素原料を直径5mmの高純度アルミナボールを用いた湿式ボールミル混合後乾燥した。この素原料混合粉を走査型電子顕微鏡により観察した結果、素原料の粒径に大きな違いは認められなかった。次に、この混合粉をB5サイズのアルミナルツボに入れ、1400℃で2h焼成し、冷却後、原料を十分にほぐした。次に、得られた仮焼粉を直径5mmの高純度アルミナボールにて湿式ボールミル粉砕を行ない乾燥した。こうして、平均粒径約0.8μmのシンチレータ粉末を得た。この粉末に、純水を0.1mass%添加し、1000kg/cmの圧力で一軸プレス成形し、その後、加圧力3ton/cmで冷間静水圧プレスを行い、理論密度に対し64%の成形体が得られた。この成形体をアルミナこう鉢に入れ、フタをして、真空中1625℃、3時間の一次焼結を行い、理論密度に対し、99%の焼結体が得られた。この焼結体を、Ar雰囲気、1500℃、3時間、1000atmの条件で熱間静水圧プレス焼結を行った。得られた焼結体は、理論密度に対し99.9%の密度を有していた。得られた試料は、内周スライサーを用いて幅1mm、長さ30mm、厚さ3mmの板に機械加工後、100vol%の酸素雰囲気中で1500℃×2hの熱処理を行った。熱処理後、表面に光学研磨を施し、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例20)
表5の実施例20の組成になるように、Gdを383.10g、Luを182.05g、Ce(NO・6HOを9.271g、Alを151.41g、Gaを185.57gとした。GdとLuは平均粒径3μmの素原料粉を用いた。また、AlとGaは、それぞれ0.6μm、3μmの素原料粉を用いた。これらの素原料を直径5mmの高純度アルミナボールを用いた湿式ボールミル混合後乾燥した。この素原料混合粉を走査型電子顕微鏡により観察した結果、素原料の粒径にいずれも1μm以下の大きさに粉砕されていることが確認された。その後の工程は実施例19と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例21)
表5の実施例21の組成になるように、Gdを387.69g、Yを210.00g、Ce(NO・6HOを13.461g、Alを175.88g、Gaを135.90gとした。GdとYは平均粒径0.1μmの素原料粉を用いた。また、AlとGaは、それぞれ0.6μm、3μmの素原料粉を用いた。これらの素原料を直径10mmの樹脂ボールを用いた湿式ボールミル混合後乾燥した。この素原料混合粉を走査型電子顕微鏡により観察した結果、素原料の粒径に大きな違いは認められなかった。その後の工程は実施例19と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(実施例22)
表5の実施例22の組成になるように、Gdを391.62g、Yを210.00g、Ce(NO・6HOを4.038g、Alを124.90g、Gaを229.62gとした以外は実施例19と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。なお、GdとLuは平均粒径3μmの素原料粉を用いた。また、AlとGaは、それぞれ0.6μm、3μmの素原料粉を用いた。これらの素原料を直径10mmの樹脂ボールを用いた湿式ボールミル混合後乾燥した。この素原料混合粉を走査型電子顕微鏡により観察した結果、素原料の粒径に大きな違いは認められなかった。その後の工程は実施例19と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(比較例9)
表5の比較例9の組成になるように、Gdを495.72g、Luを60.68g、Ce(NO・6HOを4.342g、Alを151.41g、Gaを185.57gとした以外は実施例16と同様の方法で、単結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(比較例10)
表5の比較例10の組成になるように、Gdを558.25g、Ce(NO・6HOを8.684g、Alを124.90g、Gaを229.62gとした以外は実施例16と同様の方法で、単結晶の蛍光材料を試料として作製した。
(比較例11)
表5の比較例11の組成になるように、Gdを497.25g、Luを60.68g、Ce(NO・6HOを0.662g、Alを151.41g、Gaを185.57gとした以外は実施例18と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。なお、GdとLuは平均粒径3μmの素原料粉を用いた。また、AlとGaは、それぞれ0.6μm、3μmの素原料粉を用いた。これらの素原料を直径10mmの樹脂ボールを用いた湿式ボールミル混合後乾燥した。この素原料混合粉を走査型電子顕微鏡により観察した結果、素原料の粒径に大きな違いは認められなかった。その後の工程は実施例19と同様の方法で、多結晶の蛍光材料を試料として作製した。
上記の実施例16〜22の試料,比較例9〜11の試料について、波長260nmの紫外線で発光スペクトルの測定を行った。発光スペクトルの測定は、10mm角、厚さ2mmのサイズの試料で行った。また、X線照射による発光強度と3ms経過後の残光は、前記の放射線検出器を作製し、タングステンターゲット、管電圧120kV、管電流5mAのX線を照射して評価した。各試料ごとの発光スペクトルにおける500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する700〜850nmの波長領域の最大発光強度の比(発光強度比A)及び波長370nmの発光強度の比(発光強度比B)、X線照射による相対発光強度及びX線照射停止後3ms経過後の残光を表6に示す。発光強度比Aが8%以下である実施例16〜20では、3ms経過後の残光は1500ppm以下となったが、発光強度比Aが8%を超えている比較例9〜11では、3ms経過後の残光は1500ppmよりもかなり大きくなった。一方、発光強度比Bが7%以下である実施例16〜20と比較例9、10では、相対発光強度を80%以上となったが、発光強度比Bが7%を超えている比較例3では、相対発光強度は80%を下回った。
Figure 2008093869
Figure 2008093869
本発明の範囲を含む単結晶の蛍光材料の発光スペクトルを示す図である。 図1の蛍光材料の残光プロファイルを示す図である。 本発明の範囲を含む多結晶の蛍光材料の発光スペクトルを示す図である。 図3の蛍光材料の残光プロファイルを示す図である。 Feを添加して得られた多結晶蛍光材料の発光スペクトルを示す図である。 Fe含有率の異なる蛍光材料の波長800nmにおける残光プロファイルを示す図である。 本発明の範囲を含む蛍光材料のFe含有率と3ms残光との関係を示す図である。 本発明の実施の形態の範囲を含む蛍光材料における、aと相対発光強度および300ms残光との関係を示す図である。 本発明の実施の形態の範囲を含む蛍光材料における、xと発光強度との関係を示す図である。 本発明の実施の形態の範囲を含む蛍光材料における、zと相対発光強度および3ms残光との関係を示す図である。 本発明の実施の形態の範囲を含む蛍光材料における、uと相対発光強度および3ms残光との関係を示す図である。 本発明の実施の形態の範囲を含む蛍光材料における、sと相対発光強度および300ms残光との関係を示す図である。 本発明の実施の形態の範囲を含む蛍光材料における、Mg含有率と相対発光強度および300ms残光との関係を示す図である。 本発明の実施の形態の範囲を含む蛍光材料における、Ti含有率と相対発光強度および300ms残光との関係を示す図である。 本発明の実施の形態の範囲を含む蛍光材料における、Ni含有率と相対発光強度および300ms残光との関係を示す図である。 本発明の第2の実施の形態の範囲を含む蛍光材料における、aと相対発光強度および単結晶成長における歩留まりとの関係を示す図である。 本発明の第2の実施の形態の範囲を含む蛍光材料において、Yを含む場合のxと発光強度との関係を示す図である。 本発明の第2の実施の形態の範囲を含む蛍光材料中のCe含有率と500〜600nmの発光スペクトルの最大強度に対する800nmの発光強度比との関係を示す図である。 本発明の第2の実施の形態の範囲を含む蛍光材料中のFe含有率とCe含有率の比(Fe/Ce)と質量比とX線照射停止後3ms経過後の残光との関係を示す図である。 本発明の第2の実施の形態の範囲を含む単結晶の蛍光材料における、500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する700〜850nmの波長領域の最大発光強度の比とX線照射停止後3ms経過後の残光との関係を示す図である。 本発明の第2の実施の形態の範囲を含む多結晶の蛍光材料における、500〜600nmの波長領域の最大強度に対する波長380nmの発光強度の比とX線照射における相対発光強度との関係を示す図である。 本発明の第3の実施の形態となる放射線検出器の構造の一例を示す図である。 図22におけるA−A断面の断面図である。
符号の説明
1 X線源
2 シンチレータ
3 光反射膜
4 配線基板
5 シリコンフォトダイオード

Claims (17)

  1. Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、Ga、OおよびFeを含み、MがMg、Ti、Niのうち少なくとも1種類以上であり、下記一般式で表されることを特徴とする蛍光材料。
    (Gd1−x−zLuCe3+a(Al1−u−sGaScs)5−a12
    ここで、
    0≦a≦0.15、
    0≦x≦0.5、
    0.0003≦z≦0.0167、
    0.2≦u≦0.6
    0≦s≦0.1
    であり、Fe、Mの添加濃度は
    Fe:0.05〜1massppm、
    M:0〜50massppm
    である。
  2. 前記aが、下記範囲にある請求項1に記載の蛍光材料。
    0.005≦a≦0.05
  3. 前記xが下記範囲にある請求項1又は2に記載の蛍光材料。
    0.03≦x≦0.2
  4. 前記zが下記範囲にある請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の蛍光材料。
    0.001≦z≦0.005
  5. 前記uが下記範囲にある請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の蛍光材料。
    0.35≦u≦0.55
  6. 前記sが下記範囲にある請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載の蛍光材料。
    0.01≦s≦0.1
  7. 前記Feの添加濃度が0.05〜0.4massppmの範囲にある請求項1に記載の蛍光材料。
  8. 前記Mの添加濃度が3〜15massppmの範囲にある請求項1に記載の蛍光材料。
  9. Ceを発光元素とし、Gd、Ga、Al、O及びFeを含有するガーネット構造のシンチレータ用の蛍光材料であって、各元素を、
    Gd:24.3〜57.6mass%、
    Lu:0〜31.1mass%
    Ce:0.02〜0.7mass%、
    Al:4.0〜12.8mass%、
    Ga:7.5〜22.6mass%、
    Sc:0〜2.64mass%
    O:19.6〜22.8mass%、
    Fe:0.05〜1massppm、
    M:0〜50massppm
    で表わされる範囲で含有し、M元素はMg、Ti、Niのうち少なくとも1種類以上の元素であり、各元素の総和を100mass%(100質量%)とすることを特徴とする蛍光材料。
  10. Ceを発光元素とし、Gd、Ga、Al、O及びFeを含有するガーネット構造のシンチレータ用の蛍光材料であって、各元素を、
    Gd:45.9〜52.8mass%、
    Lu:1.7〜12.0mass%、
    Ce:0.06〜0.24mass%、
    Al:7.0〜10.0mass%、
    Ga:13.7〜20.6mass%、
    Sc:0.05〜0.5mass%
    O:20.7〜21.9mass%、
    Fe:0.05〜0.4massppm、
    M:3〜15massppm
    で表わされる範囲で含有し、M元素はMg、Ti、Niのうち少なくとも1種類以上の元素であり、各元素の総和を100mass%(100質量%)とすることを特徴とする蛍光材料。
  11. Ceを発光元素とし、少なくともGd、Al、GaおよびO、Lu及び/又はYを含み、下記一般式で表されるガーネット構造の蛍光材料に対して、Ceに対する重量比でFeを3%以下含むことを特徴とする蛍光材料。
    (Gd1−x−zCe3+a(Al1−uGa5−a12
    ここで、
    LはLu及び/又はY、
    0<a≦0.15、
    0<x<1.0、
    0.0003≦z≦0.0167(ただしx+z<1.0)、
    0.2≦u≦0.6
    である。
  12. 波長260nmの励起光で前記蛍光材料を励起した時に得られる発光スペクトルにおける500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する700〜850nmの波長領域の最大発光強度の比が8%以下であることを特徴とする請求項11に記載の蛍光材料。
  13. 前記発光スペクトルにおける500〜600nmの波長領域の最大発光強度に対する300〜450nmの波長領域の最大発光強度の比が7%以下であることを特徴とする請求項12に記載の蛍光材料。
  14. 多結晶であることを特徴とする請求項1から請求項13までのいずれか1項に記載の蛍光材料。
  15. 請求項1から請求項14までのいずれか1項に記載の蛍光材料からなることを特徴とするシンチレータ。
  16. 厚さが0.5mmから5mmの範囲内にあることを特徴とする請求項15に記載のシンチレータ。
  17. 請求項15又は16に記載のシンチレータと、該シンチレータの発光を検出する受光素子とを有することを特徴とする放射線検出器。
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