JPWO2008004602A1 - 電解装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
SiCl4 + 2Zn → Si + 2ZnCl2 … (化学式1)
1 電極ユニット
2 デミスタ
3 外部ヒータ
4 電解槽
4a 電解浴
4b セラミック膜
P プレート
5 目皿
5a 開口
6 金属液だまり
M 融体金属
G 電解生成ガス
7 ガス出口
8 電極
8a 端部電極
8b 端部電極
8i 中間電極
9 上部絶縁部材
9a 上部絶縁部材
9b 上部絶縁部材
9i 上部絶縁部材
9p 張り出し部
10 下部絶縁部材
10a 下部絶縁部材
10b 下部絶縁部材
10i 下部絶縁部材
10p 張り出し部
11 電極構造体
11a 端部電極構造体
11b 端部電極構造体
11i 中間電極構造体
12 電極枠
12a 側壁
13 電流供給端子
13a 電流供給端子
13b 電流供給端子
14 陽極面部
15 陰極面部
16 排出流路
17 間隙部
18 排出口
19 端部切り欠き部
20 開口
21 電解槽
22 端部電極
23 中間電極
24 位置決め溝
25 ビス
26 目皿
26a 開口
41 電極ユニット
51 電極ユニット
61 電極ユニット
71 電極ユニット
81 電極ユニット
91 電極ユニット
100 加熱炉
101 電極ユニット
以下、図面を適宜参照して、本発明の実施形態における溶融塩電解装置及び方法につき、詳細に説明する。なお、図中、x、y、z軸は、3軸直交座標系をなし、説明の便宜上、適宜、y方向を横、z方向を縦又は上下方向(垂直方向)と記し、x方向長さを厚さ、y方向長さを幅、及びz方向長さを高さと記す。
図4に示す本実施形態の第1の変形例の電極ユニット41では、下部絶縁部材10に、それを上下に貫通して排出流路16が設けられていることが、主として図3に示す電極ユニット1の構成との相違点である。
次に、図5に示す本実施形態の第2の変形例の電極ユニット51では、上部絶縁部材9に、それが直近で隣接する上部絶縁部材9に向かって、電極8の陰極面部15の位置に比較して張り出す張り出し部9pが設けられていることが、主として図4に示す第1の変形例の電極ユニット41の構成との相違点である。なお、端部電極8bは、陰極面部15を有さないため、端部電極8bに対応する上部絶縁部材9bは、張り出し部9pを省略できる。また、もちろん、かかる上部絶縁部材9の張り出し部9pは、図3に示す電極ユニット1において設けられてもよい。
次に、図6に示す本実施形態の第3の変形例の電極ユニット61では、各電極8並びに対応した上部絶縁部材9及び下部絶縁部材10が、陽極面部14が下向きになって陰極面部15が上向きになるように、垂直方向に対して角度θほど傾けられて配置されていることが、主として図5に示す第2の変形例における電極ユニット51の構成との相違点である。なお、かかる電極8の傾斜配置は、図3又は図4に示す電極ユニット1又は41において設けられてもよい。
次に、図7に示す本実施形態の第4の変形例の電極ユニット71では、電極8の下端部の角取り形状部8eと下部絶縁部材10の排出流路16の上端部とで画成され、融体金属Mが排出流路16へ導入される導入口となる間隙部17の近傍において、下部絶縁部材10の陰極面部15側の部分に、端部切り欠き部19及び開口20が設けられていることが、主として図5に示す第2の変形例における電極ユニット51の構成との相違点である。なお、かかる端部切り欠き部19及び開口20は、図3、図4又は図6に示す電極ユニット1、41又は61において設けられてもよい。また、端部切り欠き部19及び開口20を総称して、単に切り欠き部と呼ぶ。また、もちろんかかる切り欠け部で導入口が画成できるのであれば、電極8の下端部の角取り形状部8eは設けなくともよい。
図8から図10は、本実施形態の他の変形例における電極ユニットの電極構造体の断面図であり、図2のA−A線断面図に相当する。
図11に示すように、本実験例では、電解槽21として、直径が350mmでz方向深さが800mmの片面が閉じられた円筒状の軟鋼製容器の内面に、プラズマ溶射により約200μmの厚さでムライト被膜を形成し、さらに、かかるムライト被膜上に、繊維入りのキャスタブルセラミック耐火物(東芝セラミック製:商品名CASTYNA)を微粉砕して水と混合したものを、約500μmの厚さで塗布し900℃で1時間焼き付けて、セラミック被膜を形成したものを用いた。
本実験例では、本実施形態の実験例の構成に加えて、下部絶縁部材10の厚さを2mm増やし、下部絶縁部材10の陰極面部側(x正方向の面側)面が、電極22及び23の陰極面部(x正方向の面)からx正方向に2mm張り出すように設定したと以外、かかる実験例の構成と同様な構成を採用した。つまり、隣接する上部絶縁部材9間の距離は、5mmであり、隣接する下部絶縁部材10間の距離は、3mmである。また、いずれも図示は省略するが、下部絶縁部材10の陰極面部側の下端部には、R形状部を形成し、かつ下部絶縁部材10の上端部には、2mm程度の間隙部を設け、下部絶縁部材10内を貫通する排出流路の導入口とした。
本実験例では、第1の変形例の実験例の構成に加えて、上部絶縁部材9の陰極面部側(x正方向の面側)面を電極22及び23の陰極面部(x正方向の面)からx正方向に2mm張り出すように設定したこと以外、かかる実験例の構成と同様な構成を採用した。つまり、隣接する電極22及び23間の距離は5mmのままであるが、隣接する上部絶縁部材9の距離及び隣接する下部絶縁部材10の距離は、それぞれ3mmに設定した。
本実験例では、第1の変形例の実験例の構成に対して、上部絶縁部材9及び下部絶縁部材10が固定された電極22及び23を陰極面部側(x正方向の面側)が上になるように5°傾けて配置したこと以外、かかる実験例の構成と同様な構成を採用した。
Claims (15)
- 溶融金属塩化物を含む融体電解液を収容する電解槽と、
導体である電極、前記電極の上端面を覆って上端部に固定され前記上端部から上方に延在する第1の絶縁部材、前記電極の下端面を覆って下端部に固定され前記下端部から下方に延在する第2の絶縁部材及び前記電極を囲む絶縁体である電極枠を有し、前記融体電解液中に浸漬されるべき電極ユニットと、
を備えた溶融塩電解装置。 - 前記電極は、陽極面部及び前記陽極面部に対応する陰極面部を有し、前記陽極面部においてはガスが生成され、前記陰極面部においては前記融体電解液より比重の大きな融体金属が生成される請求項1に記載の溶融塩電解装置。
- 前記第2の絶縁部材は、流路を有し、前記陰極面部で生成された融体金属は、前記流路を通過して前記電解槽の底部に向け流下される請求項2に記載の溶融塩電解装置。
- 前記流路は、前記陰極面部の下端部と前記第2の絶縁部材との間隙部に、前記陰極面部で生成された融体金属を導入する入口を有する請求項3に記載の溶融塩電解装置。
- 前記流路の前記入口において、前記陰極面部の前記下端部を角取りした角取り形状部及び前記第2の絶縁部材を切り欠いた切り欠き部の少なくとも一方を有する請求項4に記載の溶融塩電解装置。
- 前記第1の絶縁部材及び前記第2の絶縁部材の少なくとも一方は、それが隣接する絶縁部材に向かって、前記陰極面部の位置に比較して張り出す張り出し部を有する請求項2に記載の溶融塩電解装置。
- 前記電極は、前記陽極面部が下向きになって前記陰極面部が上向きになるように、垂直方向に対して傾けられて配置され、前記陽極面部で生成されたガスが前記陽極面部に沿って上方へ移動し、前記陰極面部で生成された融体金属が前記陰極表面に沿って下方へ移動する請求項2に記載の溶融塩電解装置。
- 前記陽極面部と前記第1の絶縁部材及び前記第2の絶縁部材とは、面一である請求項7に記載の溶融塩電解装置。
- 前記陰極面部で生成されて前記電解槽の底部に貯留される融体金属と前記第2の絶縁部材との間に、漏洩電流を抑制するマスク部材が設けられた請求項2に記載の溶融塩電解装置。
- 前記電極は、一対の端部電極及び前記一対の端部電極の間に配される中間部電極を有する複極式電極である請求項1に記載の溶融塩電解装置。
- 前記融体電解液は、溶融塩化亜鉛である請求項1に記載の溶融塩電解装置。
- 前記電解槽は、前記電解槽の内部表面にセラミックが被覆された金属製である請求項1に記載の溶融塩電解装置。
- 前記第1の絶縁部材及び前記第2の絶縁部材は、セラミック製である請求項1に記載の溶融塩電解装置。
- 前記第1の絶縁部材及び前記第2の絶縁部材の少なくとも一方は、その先端部に向かうに従って厚さが減少する請求項1に記載の溶融塩電解装置。
- 溶融金属塩化物を含む融体電解液を収容する電解槽と、導体である電極、前記電極の上端面を覆って上端部に固定され前記上端部から上方に延在する第1の絶縁部材、前記電極の下端面を覆って下端部に固定され前記下端部から下方に延在する第2の絶縁部材及び前記電極を囲む絶縁体である電極枠を有し、前記融体電解液中に浸漬されるべき電極ユニットと、を備えた溶融塩電解装置を用意する工程と、
前記第1の絶縁部材及び前記第2の絶縁部材の存在によりオーム損を低減しながら、前記電極の陽極面部においてはガスが生成され、前記陽極面部に対応する陰極面部においては前記融体電解液より比重の大きな融体金属が生成される電解工程と、
を備えた溶融塩電解方法。
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