JPWO2007138910A1 - 偏光板保護フィルム及びその製造方法、偏光板及びその製造方法、液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
が発生することを見出し、改善方法を提案した。
ムが要望されており、これらの技術だけでは不十分となっており、さらなる手段が要望さ
れていた。
2.前記一般式(1)において、R3〜R5で表される置換基の少なくとも1つが水素原子であることを特徴とする前記1に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
5 回転支持体(第1冷却ロール)
6 挟圧回転体(タッチロール)
110 巻芯本体
117 支え板
118 架台
120 セルロースエステルフィルム原反
前記一般式(1)において、R1〜R5は置換基を表す。
前記一般式(2)において、R1〜R6は置換基を表す。
ウレイド基等)、スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等)、スルファモイル基(例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等)、アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基(例えばピリジン−オキシド基)、イミド基(例えばフタルイミド基等)、ジスルフィド基(例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−2−ジスルフィド基等)、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基(例えばピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)等が挙げらる。
前記一般式(3)において、Rfはパーフルオロアルキル基、Rcはアルキレン基、Zはノニオン性極性基、nは0または1、mは1〜3の整数を表す。
次に、本発明に用いられるセルロースエステルについて、詳述する。
カラム: Shodex K806、K805、K803(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔にすることが好ましい。
いが、0.1未満とするにはセルロースエステルの洗浄工程の負担が大きくなりすぎるため好ましくないだけでなく、逆に破断しやすくなることがあり好ましくない。これは洗浄回数が増えることが樹脂に影響を与えているのかもしれないがよく分かっていない。さらに0.1〜30ppmの範囲が好ましい。残留硫酸含有量は、同様にASTM−D817−96により測定することができる。
く、100個/cm2以下であることがより好ましく、50個/cm2以下であることがさらに好ましく、30個/cm2以下であることがさらにより好ましく、10個/cm2以下であることがさらに好ましいが、皆無であることが最も好ましい。また、0.005〜0.01mm以下の輝点についても200個/cm2以下であることが好ましく、100個/cm2以下であることがより好ましく、50個/cm2以下であることがさらにより好ましく、30個/cm2以下であることがさらに好ましく、10個/cm2以下であることがさらに好ましいが、皆無であることが最も好ましい。
セルロースエステルは、熱だけでなく酸素によっても分解が促進されるため、本発明の偏光板保護フィルムの製造方法においては安定化剤として酸化防止剤を含有することが好ましい。
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第4,839,405号明細書の第12〜14欄に記載されており、2,6−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式(A)で表される化合物が好ましい。
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(B)で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。
チル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、1,6−ヘキサンジアミン−N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)とモルフォリン−2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジンとの重縮合物、ポリ[(6−モルフォリノ−s−トリアジン−2,4−ジイル)〔(2,2,6,6,−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕−ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕]等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量HALS;コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重合物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールと3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Chemicalsから、”Tinuvin144”及び”Tinuvin770”、旭電化工業株式会社から”ADK STAB LA−52”という商品名で市販されている。
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(C−1)、(C−2)、(C−3)、(C−4)、(C−5)で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式(D)で表されるイオウ系化合物が好ましい。
セルロースエステルは溶融製膜が行われるような高温環境下では酸によっても分解が促進されるため、本発明の偏光板保護フィルムの製造方法においては安定化剤として酸捕捉剤を含有することが好ましい。本発明において有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも米国特許第4,137,201号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物が好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール1モル当たりに約8〜40モルのエチレンオキシド等の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシ化合物(例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの)、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(即ち、4,4′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン)、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル(特に、2〜22個の炭素原子の脂肪酸の4〜2個程度の炭素原子のアルキルのエステル(例えば、ブチルエポキシステアレート)等)、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等(例えば、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油等)の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油及び他の不飽和天然油(これらはときとしてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に12〜22個の炭素原子を含有している)が含まれる。また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、EPON 815C、及び下記一般式(E)の他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物も好ましく用いることができる。
紫外線吸収剤は、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号、同8−337574号公報記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号、特開2003−113317号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−(1"-メチル−1"−フェニルエチル)-5’-(1”、1”、3”、3”−テトラメチルブチル)-フェニル〕ベンゾトリアゾール等を挙げることができるが、これらに限定されない。
本発明に係るセルロースエステルフィルムの製造においては、フィルム形成材料中に少なくとも1種の可塑剤を添加することが好ましい。
式中、R′はm価の有機基、mは3以上の正の整数、OH基はアルコール性水酸基を表す。特に好ましいのは、mとしては3または4の多価アルコールである。
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、滑り性や光学的、機械的機能を付与するためにマット剤を添加することができる。マット剤としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。
が好ましい。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さ
い方は透明性に優れる。また、微粒子の一次粒子の平均粒径は0.01〜1.0μmの範
囲である。好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmが好ましく、さらに好ま
しくは、7〜14nmである。これらの微粒子は、セルロースエステルフィルム表面に0
.01〜1.0μmの凹凸を生成させるために好ましく用いられる。
L)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812
、OX50、TT600、NAX50等、日本触媒(株)製のKE−P10、KE−P30、KE−P100、KE−P150等を挙げることができ、好ましくはアエロジル200V、R972、R972V、R974、R202、R812、NAX50、KE−P30、KE−P100である。これらの微粒子は2種以上併用してもよい。
本発明に係るセルロースエステルィルムは溶融流延によって形成することが好ましい。溶液流延法において用いられる溶媒(例えば塩化メチレン等)を用いずに、加熱溶融する溶融流延による成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れる偏光板保護フィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。
しにくくなり、フィルムの厚さにかえってムラができてしまう。
式、(幅方向の延伸倍率)>(流延方向の延伸倍率)
の条件を満たすことが必要である。
本発明の偏光板保護フィルム(位相差フィルムを兼ねる)を含む偏光板は、通常の偏光板と比較して高い表示品質を発現させることができ、特にマルチドメイン型の液晶表示装置、より好ましくは複屈折モードによってマルチドメイン型の液晶表示装置への使用に適
している。
本発明により得られる製造的効果は、特に100m以上の長尺の巻物においてより顕著となり、1500m、2500m、5000mとより長尺化する程、偏光板製造の製造的効果を得る。
特表平6−501040号公報の例Bを参考にして合成した。
B:酢酸:純水=3:1(質量比)
C:酢酸:純水=1:1(質量比)
D:酢酸:純水:炭酸マグネシウム=12:11:1(質量比)
E:純水14.6kg中に、炭酸カリウム0.5モル、クエン酸1.0モルを溶解した水溶液
機械式撹拌機を備えた反応容器に、綿花から精製したセルロース100質量部、酢酸317質量部、プロピオン酸67質量部を添加し、55℃で30分間攪拌した。反応容器の温度を30℃に低下させた後、溶液Aを2.3質量部添加し、30分間攪拌した。反応容器の温度を−20℃に冷却した後、無水酢酸100質量部及び無水プロピオン酸250質量部を添加し、1時間攪拌した。反応容器の温度を10℃に昇温した後、溶液Aを4.5質量部添加し、60℃に昇温して3時間攪拌した。さらに溶液Bを533質量部添加し、17時間攪拌した。さらに溶液Cを333質量部、溶液Dを730質量部添加し、15分間攪拌した。不溶物をろ過した後、溶液を攪拌しながら、沈殿物の生成が終了するまで水を添加した後、生成した白色沈殿をろ過した。得られた白色固体は、洗浄液が中性になるまで純水で洗浄した。この湿潤生成物に、溶液Eを1.8質量部添加し、次いで真空下70℃で3時間乾燥し、セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート)C−1を得た。
溶媒: 塩化メチレン
カラム: Shodex K806、K805、K803(昭和電工(株)製を3本接続して使用)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
(合成例2:セルロースエステルC−2)
セルロース(日本製紙(株)製溶解パルプ)30gに酢酸(脂肪酸Iに該当)70g、プロピオン酸(脂肪酸IIに該当)20gを加え、54℃で30分撹拌した。混合物を冷却した後、氷浴中で冷却した無水酢酸(無水脂肪酸Iに該当)8g、無水プロピオン酸(無水脂肪酸IIに該当)125g、硫酸1.2gを加えてエステル化を行った。エステル化において、40℃を超えないように調節しながら、撹拌を150分行った。反応終了後、酢酸30gと水10gの混合液を20分かけて滴下して過剰の無水物を加水分解した。反応液の温度を40℃に保持しながら、酢酸90gと水30gを加えて1時間撹拌した。酢酸マグネシウム2gを含有した水溶液中に混合物を開けてしばらく撹拌した後にろ過、乾燥し、セルロースエステルC−2を得た。得られたセルロースエステルのアセチル置換度は1.45、プロピオニル置換度は1.27、重量平均分子量は211000であった。アシル基総炭素数は、6.71である。
表1記載の酢酸、無水酢酸、プロピオン酸、無水プロピオン酸、酪酸、無水酪酸を用い、合成例2と同様の操作を行い、セルロースエステルC−3〜C−7を得た。
100℃に保持したトリメチロールプロパン45質量部、トリエチルアミン101質量部の混合溶液を攪拌しながら、塩化ベンゾイル71質量部を30分間かけて滴下し、さらに30分間攪拌した。反応終了後室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、酢酸エチル−純水を加えて洗浄し、有機相を分取して酢酸エチルを減圧留去し、精製を行って126質量部(収率85%)の白色の結晶を得た。なお、この化合物の分子量は446である。
10℃に保持したトリメチロールプロパン36質量部、ピリジン107質量部、酢酸エチル300質量部の混合溶液を攪拌しながら、3,4,5−トリメトキシベンゾイルクロライド250質量部を酢酸エチル300質量部に溶解した溶液を30分間かけて滴下し、その後、80℃まで加熱して、5時間攪拌した。反応終了後、室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、1モル/L HCl水溶液を加えて洗浄し、さらに1質量%Na2CO3水溶液を加えて洗浄した後、有機相を分取して酢酸エチルを減圧留去し、精製を行って153質量部(収率80%)の白色結晶を得た。なお、この化合物の分子量は717であった。
10℃に保持した28質量部のグリセリン、83質量部のピリジン及び500質量部のトルエンの混合溶液を攪拌しながら、210質量部の3,4,5−トリメトキシベンゾイルクロライドを30分間かけて滴下し、その後、80℃まで加熱して、さらに3時間攪拌した。反応終了後室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、1モル/LのHCl水溶液を加えて洗浄し、さらに1質量%Na2CO3水溶液を加えて洗浄した後、有機相を分取して酢酸エチルを減圧留去し、精製を行って目的の化合物を得た。なお、この化合物の分子量は675であった。
10℃に保持した2−ヒドロキシメチル−2−メチル−プロパン−1,3ジオール60質量部、ピリジン140質量部、酢酸エチル500質量部の混合溶液を攪拌しながら、塩化ベンゾイル210質量部を30分間かけて滴下し、その後、100℃まで加熱して、5時間攪拌した。反応終了後、室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、1モル/L HCl水溶液を加えて洗浄し、さらに1質量%Na2CO3水溶液を加えて洗浄した後、有機相を分取して酢酸エチルを減圧留去し、精製を行って193質量部(収率90%)の白色固体を得た。なお、この化合物の分子量は433であった。
10℃に保持したグリセリン45質量部、ピリジン190質量部及び酢酸エチル450質量部の混合溶液を攪拌しながら、p−メトキシベンゾイルクロライド210質量部を30分間かけて滴下し、その後、80℃まで加熱して、さらに3時間攪拌した。反応終了後室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、1モル/L HCl水溶液を加えて洗浄し、さらに1質量%Na2CO3水溶液を加えて洗浄した後、有機相を分取して酢酸エチルを減圧留去し、精製を行って目的の化合物を得た。なお、この化合物の分子量は494であった。
冷却凝縮器を装着した反応器に、エチレングリコール648質量部、ジエチレングリコール58質量部、コハク酸1121質量部、テレフタル酸83質量部、テトラブチルチタネート0.03質量部を投入し、140℃で2時間、220℃で2時間、冷却凝縮器を外して220℃でさらに20時間、脱水縮合反応を行って、数平均分子量1500の脂肪族−芳香族コポリエステル化合物A1を得た。これに使用したジオールの炭素数平均は2.1、ジカルボン酸の炭素数平均は4であった。
冷却凝縮器を装着した反応器に、エチレングリコール699質量部、コハク酸1180質量部、テトラブチルチタネート0.03質量部を投入し、140℃で2時間、220℃で2時間、冷却凝縮器を外して220℃でさらに20時間、脱水縮合反応を行って、数平均分子量2000の脂肪族ポリエステル化合物A2を得た。これに使用したジオールの炭素数平均は2、ジカルボン酸の炭素数平均は4であった。
(セルロースエステルフィルム原反試料1−1の作製)
上記合成例で作製した各種化合物、また市販の各種化合物を添加剤として用い、溶融流延によりセルロースエステルフィルム1−1を作製した。
添加剤1:例示化合物1−1 1質量部
添加剤2:GTB(グリセリルトリベンゾエート、アルドリッチ社製) 10質量部
添加剤3:IRGANOX−1010(チバスペシャルティケミカルズ社製)
0.5質量部
下記化合物A(化合物a1と化合物a2の比率が85:15の混合物)0.3質量部
Tinuvin928(チバスペシャルティケミカルズ社製) 1.8質量部
以上の混合物を2軸式押し出し機を用いて230℃で溶融混合しペレット化した。なお、このペレットのガラス転移温度Tgは136℃であった。
さらに、添加剤を表2に記載の添加剤1〜5に変更を行う以外は、セルロースエステルフィルム原反試料1−1と同様な方法で、本発明のセルロースエステルフィルム原反試料1−2〜1−27及び比較のセルロースエステルフィルム原反試料1−28〜1−29を作製した。なお、化合物A及びTinuvin928は、すべての試料に添加を行った。
得られたセルロースエステルフィルム原反試料について、下記方法で評価を行った。
巻き取ったセルロースエステルフィルム原反試料をポリエチレンシートで2重に包み、図8に示すような保存方法で、25℃、50%RHの条件下で30日間保存した。その後、箱から取り出し、ポリエチレンシートを開け、フィルム原反試料表面に点灯している蛍光灯の管を反射させて映し、その歪みあるいは細かい乱れを観察し、馬の背故障を下記レベルにランク分けした。
B:蛍光灯が部分的に曲がって見える
C:蛍光灯がまだらに映って見える
また、保存後のセルロースエステルフィルム原反試料を巻き返して、50μm以上の点状の変形、または幅手方向の帯状の変形がはっきり見える巻芯転写が、巻芯部分より何mまで発生しているかを測定し、下記レベルにランク分けを行った。
B:巻芯部分より15〜30m未満
C:巻芯部分より30〜50m未満
D:巻芯部分より50m以上
〈巻始めシワ〉
巻芯に原反フィルムを巻き取る作業を行い、巻始めでシワが発生して不良となった場合は巻芯から原反フィルムを取り外して、再度巻き取る作業を行った。この時の不良回数をカウントした。この作業を10回行い平均値を求め、下記レベルにランク分けを行った。
B:1回以上3回未満
C:3回以上5回未満
D:5回以上
評価の結果を表3に示す。
実施例2
下記表4に記載の添加剤、添加量に変更する以外は、実施例1のセルロースエステルフィルム原反試料1−1と同様な方法で、本発明のセルロースエステルフィルム原反試料2−1〜2−12及び比較のセルロースエステルフィルム原反試料2−13を作製した。
実施例1のセルロースエステルフィルム原反試料1−6の作製において、セルロースエステルC−1を、C−2〜C−7に変更する以外は同様にして本発明のセルロースエステルフィルム原反試料3−1〜3−6を作製した。
下記の組成物を調製した。
ポリメチルメタアクリレート(重量平均分子量55万、Tg:90℃) 0.5部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 60部
メチルエチルケトン 16部
乳酸エチル 5部
メタノール 8部
導電性ポリマー樹脂P−1(0.1〜0.3μm粒子) 0.5部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20部
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 6部
シリコーン系界面活性剤 1部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 75部
メチルエチルケトン 75部
(カール防止層塗布組成物(3))
アセトン 35部
酢酸エチル 45部
イソプロピルアルコール 5部
ジアセチルセルロース 0.5部
超微粒子シリカ2質量%アセトン分散液(アエロジル:200V、日本アエロジル(株)製) 0.1部
下記に従って、機能付与した偏光板保護フィルムを作製した。
実施例1で作製したセルロースエステルフィルム原反試料1−1をポリエチレンシートで2重に包み、図8に示すような保存方法で25℃、50%RHの条件下で30日間、この後、40℃、80%RHの条件下で保存した。その後、それぞれポリエチレンシートを外して、それぞれの原反試料から巻き出したセルロースエステルフィルムの片面に、カール防止層塗布組成物(3)をウェット膜厚13μmとなるようにグラビアコートし、乾燥温度80±5℃にて乾燥させた。これを試料1−1Aとする。
となるように照射して、乾燥膜厚で5μmのクリアハードコート層を設けた。これを試料1−1Cとする。
厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを沃素1質量部、沃化カリウム2質量部、ホウ酸4質量部を含む水溶液に浸漬し50℃で4倍に延伸し偏光子を作製した。
15型TFT型カラー液晶ディスプレイLA−1529HM(NEC製)の偏光板を剥がし、上記で作製した各々の偏光板を液晶セルのサイズに合わせて断裁した。液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板2枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、15型TFT型カラー液晶ディスプレイを作製し、セルロースエステルフィルムの偏光板としての特性を評価したところ、本発明の偏光板1−6、1−11、1−17、1−20、1−21、1−22、2−1、2−3、2−4、2−8、2−12、3−1〜3−6は、比較の偏光板1−29に対してコントラストも高く、優れた表示性を示した。これにより、液晶ディスプレイ等の画像表示装置用の偏光板として優れていることが確認された。
Claims (8)
- セルロースエステルと下記一般式(1)〜(3)で表される化合物から選択される少なくとも1種を含有する溶融物を用いて、溶融流延法により長尺のセルロースエステルフィルムを製膜しロール状に巻き取ることを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
(式中、R1〜R5は置換基を表す。)
(式中、R1〜R6は置換基を表す。)
(式中、Rfはパーフルオロアルキル基、Rcはアルキレン基、Zはノニオン性極性基、nは0または1、mは1〜3の整数を表す。) - 前記一般式(1)において、R3〜R5で表される置換基の少なくとも1つが水素原子であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
- 前記一般式(1)においてR1〜R5で表される置換基、前記一般式(2)においてR3〜R6で表される置換基の少なくとも1つが、ヒドロキシ基またはヒドロキシ基で置換された置換基であることを特徴とする請求の範囲第1項または第2項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
- 溶融流延製膜時に流延ダイから押し出されたセルロースエステルフィルムを弾性変形可能なタッチロールと冷却ロールとで挟圧し、ロール状に巻き取ることを特徴とする請求の範囲第1項〜第3項のいずれか1項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
- 請求の範囲第1項〜第4項のいずれか1項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする偏光板保護フィルム。
- 請求の範囲第5項に記載の偏光板保護フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
- 請求の範囲第5項に記載の偏光板保護フィルムを、巻き状態から繰り出して偏光子と貼り合わせることを特徴とする偏光板の製造方法。
- 請求の範囲第6項に記載の偏光板または請求の範囲第7項に記載の偏光板の製造方法で製造された偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
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