JPWO2007091596A1 - フレキシブル光導波路および光モジュール - Google Patents

Abstract

コア部およびクラッド層を有するフレキシブル光導波路であって、曲率半径２ｍｍの３６０°曲げ試験における挿入損失の増加分が、０．１ｄＢ以下であるフレキシブル光導波路およびフレキシブル光導波路を用いた光モジュールである。高い屈曲性、耐熱性、透明性を有するフレキシブル光導波路およびフレキシブル光導波路を用いた光モジュールを提供することができる。

Description

本発明は屈曲性、耐熱性、および透明性の優れたフレキシブル光導波路および光モジュールに関するものである。

近年、高速大容量信号伝送に対応するために、従来の電気配線に変わり光配線を用いた信号伝送技術の開発が進められている。光の伝送路としては、加工の容易さ、低コスト、配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な点から、ポリマ光導波路が注目を集めている。
ポリマ光導波路の形態としては、ボード同士の接続を想定した硬い支持基板を持たない、柔軟性を備えたフレキシブル光導波路が好適と考えられる。
このようなフレキシブル光導波路は、ボード同士の接続以外にも、従来フレキシブルプリント配線板が用いられてきた折畳み型携帯電話のヒンジ部やノート型パソコンのディスプレイと本体とを結ぶヒンジ部など、民生機器への適用が検討されており、屈曲性、耐熱性、および透明性が求められている。

従来のフレキシブル光導波路としては、例えば、特許文献１に記載のポリマ光導波路フィルムが提案されている。このポリマ光導波路フィルムは、重水素化またはハロゲン化ポリ（メタ）アクリレートをクラッド層およびコア層に用いており、スピンコート法により作製され、波長１．３μｍにおける導波路の導波損失（導波路長５ｃｍ）が１．１ｄＢおよび１．５ｄＢのものが例示され、かつ、導波路を曲げない状態、および曲げた状態でも損失が同一であることが示されている（特許文献１、実施例1および２参照）。ここで、作製されたポリマ光導波路フィルムの屈曲性については、上記のように導波路を曲げない状態、および曲げた状態の導波損失に関する記述があるものの、屈曲時の曲率半径や繰り返し折り曲げ試験結果などの具体的な測定条件に関する記述がなく、その程度は明らかではない。また、耐熱性および透明性についても明らかではない。
以上のように、従来のフレキシブル光導波路には、屈曲性、耐熱性、および透明性を兼ね備えたものは知られていない。

特許第３２４９３４０号公報

本発明は、上記観点に鑑みてなされたものであり、高い屈曲性、耐熱性、および透明性を有するフレキシブル光導波路およびフレキシブル光導波路を用いた光モジュールを提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、下記に記載の構成により上記課題を解決し得ることを見出した。
すなわち、本発明は以下の（１）〜（１７）に関するものである。
（１）コア部およびクラッド層を有するフレキシブル光導波路であって、曲率半径２ｍｍの３６０°曲げ試験における挿入損失の増加分が、０．１ｄＢ以下であるフレキシブル光導波路。
（２）コア部とクラッド層との比屈折率差が、１〜１０％である上記（１）に記載のフレキシブル光導波路。
（３）曲率半径５ｍｍの繰り返し折り曲げ試験を１０万回実施後の挿入損失の増加分が、０．１ｄＢ以下である上記（１）または（２）に記載のフレキシブル光導波路。
（４）フィルム引張り試験における弾性率が、０．０５〜６ＧＰａである上記（１）〜（３）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
（５）フィルム引張り試験における最大伸び率が、３〜５０％である上記（１）〜（４）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
（６）厚みが、９〜５００μｍである上記（１）〜（５）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
（７）最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の伝搬損失の増加分が、０．０５ｄＢ／ｃｍ以下である上記（１）〜（６）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
（８）伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である上記（１）〜（７）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
（９）コア部および／またはクラッド層を、（Ａ）バインダポリマ、（Ｂ）光重合性化合物および（Ｃ）光重合開始剤を含む樹脂組成物を用いて作製する上記（１）〜（８）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
（１０）（Ａ）成分および（Ｂ）成分の総量に対して、（Ａ）成分を５〜８０量％、および（Ｂ）成分を２０〜９５質量％含み、かつ（Ａ）成分および（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を０．１〜１０質量部含む樹脂組成物を用いて作製する上記（９）に記載のフレキシブル光導波路。
（１１）（Ａ）バインダポリマが、フェノキシ樹脂である上記（９）または（１０）に記載のフレキシブル光導波路。
（１２）（Ｂ）光重合性化合物として、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含む上記（９）〜（１１）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
（１３）（Ｂ）光重合性化合物として、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基および芳香族複素環式基からなる群から選ばれる少なくとも１種を有する単官能（メタ）アクリレートを含む上記（９）〜（１２）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
（１４）（Ｂ）光重合性化合物として、下記一般式（１）で表されるエトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレートを含む上記（９）〜（１２）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。

（式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基、Ｒ²〜Ｒ¹³は各々独立して水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９のアラルキル基を示す。ａおよびｂは各々独立して１〜２０の整数を示す。）
（１５）（Ｂ）光重合性化合物として、下記一般式（２）で表される（メタ）アクリレートを含む上記（９）〜（１２）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。

（式中、ＸはＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂、（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_cＣ₂Ｈ₄、（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_dＣ₃Ｈ₆、または（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_e（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_fＣ₃Ｈ₆であり、ＹはＣ（ＣＨ₃）₂、ＣＨ₂、ＳＯ₂、またはＯを示し、ｃ、ｄ、ｅおよびｆはそれぞれ０から１０の整数を示す。Ｒ¹⁴は水素原子またはメチル基、Ｒ¹⁵は水素原子、メチル基またはハロゲン原子を示す。）
（１６）（Ｂ）光重合性化合物として、分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物を含む上記（９）〜（１１）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
（１７）上記（１）〜（１６）のいずれかに記載のフレキシブル光導波路を用いる光モジュール。

本発明によれば、高い屈曲性、耐熱性、および透明性を有するフレキシブル光導波路およびフレキシブル光導波路を用いた光モジュールを提供することができる。

本発明のフレキシブル光導波路の形態を説明するものであり、断面図である。 本発明で実施したリフロー試験におけるリフロー炉内の温度プロファイルを示すものである。 実施例１で作製されたフレキシブル光導波路を用いて３６０°曲げ試験を行ったときの曲率半径と損失変化を示すものである。 実施例１で作製されたフレキシブル光導波路を用いて繰り返し折り曲げ試験を行ったときの折り曲げ回数と損失変化を示すものである。 実施例１で作製されたフレキシブル光導波路を用いて伝搬損失を測定した結果を示すものである。

符号の説明

１；フレキシブル光導波路（光導波路）
２；コア部
３；上部クラッド層
４；下部クラッド層
５；カバーフィルム

本発明のフレキシブル光導波路の例を図１（ａ）に示す。光導波路１は、高屈折率であるコア層形成用樹脂からなるコア部２と、低屈折率であるクラッド層形成用樹脂からなるクラッド層（上部クラッド層３および下部クラッド層４）とで構成されている。コア部２は、コア層形成用樹脂からなるコア層に後述のようにネガマスクパターンを通して活性光線を画像状に照射された後、現像工程を経て、パターン状に形成される。
また、光導波路１は、図１（ｂ）、（ｃ）、および（ｄ）のように、上部クラッド層３または下部クラッド層４の外側の少なくともいずれか一方に、カバーフィルム５が配置されていてもよい。カバーフィルム５を配置することにより、カバーフィルム５の柔軟性や強靭性を光導波路１に付与することが可能となる。さらに、光導波路１が汚れや傷を受けなくなるため、取り扱いやすさが向上する。

〔クラッド層形成用樹脂〕
本発明に用いるクラッド層形成用樹脂としては、本発明の効果を奏する範囲であれば特に限定されず、コア層より低屈折率で、光または熱により硬化する熱硬化性樹脂組成物や感光性樹脂組成物を好適に用いることができる。より好適には、クラッド層形成用樹脂が、（Ａ）バインダポリマ、（Ｂ）光重合性化合物、および（Ｃ）光重合開始剤を含む樹脂組成物により構成されることがより好ましい。

ここで用いる（Ａ）バインダポリマは、クラッド層を形成し、該クラッド層の強度および可撓性を確保するためのものであり、該目的を達成しえるものであれば特に限定されず、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホンなど、あるいはこれらの誘導体などが挙げられる。これらのバインダポリマは、１種単独でも、また２種以上を混合して用いてもよい。
これらの中で、耐熱性が高いとの観点から、主鎖に芳香環を有するのが好ましく、特にフェノキシ樹脂が好ましい。また、３次元架橋し、耐熱性を向上できるとの観点からは、エポキシ樹脂、特に室温（２５℃）で固形のエポキシ樹脂が好ましい。さらに、クラッド層形成用樹脂フィルムの透明性を確保するために、後に詳述する（Ｂ）光重合性化合物との相溶性が重要であるが、この観点からは、上記フェノキシ樹脂、および（メタ）アクリル樹脂が好ましい。なお、ここで（メタ）アクリル樹脂とは、アクリル樹脂およびメタクリル樹脂を意味するものである。

フェノキシ樹脂の中でも、高い耐熱性を有する観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の直鎖状高分子重合体が好ましい。この直鎖状高分子重合体であるフェノキシ樹脂は、一般にビスフェノールＡとエピクロロヒドリンとを重縮合反応させる一段法によって、または２官能エポキシ樹脂とビスフェノールＡとを重付加させる二段法によって製造されるものである。具体例としては、東都化成（株）製「フェノトートＹＰ−５０、フェノトートＹＰ−５５、フェノトートＹＰ−７０」（いずれも商品名）、特開平４−１２０１２４号公報、特開平４−１２２７１４号公報、および特開平４−３３９８５２号公報に記載のものなどが挙げられる。

室温（２５℃）で固形のエポキシ樹脂としては、例えば、東都化成（株）製「エポトートＹＤ−７０２０、エポトートＹＤ−７０１９、エポトートＹＤ−７０１７」（いずれも商品名）、ジャパンエポキシレジン（株）製「エピコート１０１０、エピコート１００９、エピコート１００８」（いずれも商品名）などのビスフェノール型エポキシ樹脂が挙げられる。

（Ａ）バインダポリマの分子量については、強度および可撓性の観点から、重量平均分子量で２０，０００以上であることが好ましく、５０，０００以上であることがより好ましい。重量平均分子量の上限については、特に制限はないが、（Ｂ）光重合性化合物との相溶性や露光現像性の観点から、１，０００，０００以下であることが好ましく、５００，０００以下であることがより好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。

（Ａ）バインダポリマの配合量は、（Ａ）成分および（Ｂ）成分の総量に対して、５〜８０質量％とすることが好ましい。５質量％以上であると、十分な強度や可撓性を有する硬化樹脂が得られる。８０質量％以下であると、露光時に（Ｂ）成分によって絡め込まれることにより硬化することが容易となり、製造過程で用いる溶剤に対する耐性（以下、「耐溶剤性」という）が十分に得られる。以上の観点から、１０〜７５質量％とすることがより好ましく、２０〜７０質量％とすることが特に好ましい。

（Ｂ）光重合性化合物としては、紫外線などの光の照射によって重合するものであれば特に限定されず、分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物や分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物などが挙げられる。
この中では、上記フェノキシ樹脂との相溶性の観点から、分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物を含むものが好ましい。具体的には、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂などの２官能芳香族グリシジルエーテル；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂などの多官能芳香族グリシジルエーテル；ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、ヘキサンジオール型エポキシ樹脂などの２官能脂肪族グリシジルエーテル；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂などの多官能脂肪族グリシジルエーテル；水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂などの２官能脂環式グリシジルエーテル；フタル酸ジグリシジルエステルなどの２官能芳香族グリシジルエステル；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステルなどの２官能脂環式グリシジルエステル；Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリンなどの２官能芳香族グリシジルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラグリシジル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノールなどの多官能芳香族グリシジルアミン；アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシドなどの２官能脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレートなどの多官能複素環式エポキシ樹脂；オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂などの２官能または多官能ケイ素含有エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中でも、透明性および耐熱性の観点から、２官能芳香族グリシジルエーテル、２官能脂環式グリシジルエーテル、２官能脂環式エポキシ樹脂を用いることが好ましい。

これらの分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物の分子量としては、通常１００〜２，０００程度であり、好ましくは１５０〜１，０００程度である。これらの化合物は、通常、室温（２５℃）で液状のものが好適に用いられる。
また、これら化合物は、単独でも、また２種類以上を組み合わせて用いてもよく、さらにその他の光重合性化合物と組み合わせて用いてもよい。
なお、光重合性化合物の分子量は、ＧＰＣ法または質量分析法により測定することができる。

分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物の具体例としては、（メタ）アクリレート、ハロゲン化ビニリデン、ビニルエーテル、ビニルピリジン、ビニルフェノールなどが挙げられる。これらの中では、透明性と耐熱性の観点から、（メタ）アクリレートが好ましい。（メタ）アクリレートとしては、単官能のもの、２官能のもの、３官能以上の多官能のもののいずれも用いることができる。
なお、ここで（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよびメタクリレートを意味するものである。

単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシ基を有するアルキル（メタ）アクリレート類；、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、２−テトラヒドロフリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート類；メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのアルコキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート類；フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどのアリールオキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート類；ベンジル（メタ）アクリレートなどのアラルキル基を有する（メタ）アクリレート類；フェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレートなどのアリール基を有する（メタ）アクリレート類；フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートなどのアリールオキシ基を有する（メタ）アクリレート類；２−（メタ）アクリロイロキシエチル−Ｎ−カルバゾールなどの芳香族複素環式基を有する（メタ）アクリレート類；モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）スクシネート、モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）フタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）イソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）テレフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレートなどの多価カルボン酸（メタ）アクリロイロキシアルキルエステル類等が挙げられる。これらの中でも透明性及び耐熱性の観点から、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−(メタ)アクリロイロキシエチル−Ｎ−カルバゾール、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。

２官能（メタ）アクリレートとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＡＦ型、水添ビスフェノールＡ型、および水添ビスフェノールＦ型のエポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも透明性及び耐熱性の観点から、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、及びビスフェノールＡＦ型のエポキシ（メタ）アクリレートなどを用いることが好ましい。

具体的には、下記一般式（１）で表されるエトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、下記一般式（２）で表される（メタ）アクリレートなどを用いることが好ましい。

ここで、Ｒ¹は水素原子またはメチル基、Ｒ²〜Ｒ¹³は各々独立して水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９のアラルキル基を示す。ａおよびｂは各々独立して１〜２０の整数を示す。なお、一般式（１）において、Ｒ¹が水素原子、Ｒ²〜Ｒ¹³が水素原子、ａが１およびｂが１であるものが、市販品として入手可能である（新中村化学（株）製、商品名「Ａ−ＢＰＥＦ」）。

ここで、ＸはＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂、（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_cＣ₂Ｈ₄、（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_dＣ₃Ｈ₆、または（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_e（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_fＣ₃Ｈ₆であり、ＹはＣ（ＣＨ₃）₂、ＣＨ₂、ＳＯ₂、またはＯを示し、ｃ、ｄ、ｅおよびｆはそれぞれ０から１０の整数を示す。Ｒ¹⁴は水素原子またはメチル基、Ｒ¹⁵は水素原子、メチル基またはハロゲン原子を示す。これらのうち、特に、ＸがＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂、ＹがＣ（ＣＨ₃）₂、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵が水素原子で表されるビスフェノールＡ型エポキシアクリレートが好ましく、この化合物は市販品として入手可能である（新中村化学（株）製、商品名「ＥＡ−１０２０」）。
なお、（Ｂ）成分として、上述のフルオレンジ（メタ）アクリレートと分子内に少なくとも１つの（メタ）アクリロイル基を有する化合物を併用することもできる。

３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、フェノールノボラック型、及びクレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも透明性及び耐熱性の観点から、フェノールノボラック型、及びクレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
これらの化合物は、単独でも、また２種類以上組み合わせて用いてもよく、さらにその他の光重合性化合物と組み合わせて用いてもよい。

（Ｂ）光重合性化合物の配合量は、（Ａ）成分および（Ｂ）成分の総量に対して、２０〜９５質量％であることが好ましい。２０質量％以上であると、（Ａ）バインダポリマを絡みこんで硬化することが容易にでき、十分な耐溶剤性が得られる。また、９５質量％以下であると、十分な強度や可撓性を有する硬化樹脂が得られる。以上の観点から、（Ｂ）光重合性化合物の配合量は、２５〜９０質量％とすることがより好ましく、３０〜８０質量％とすることが特に好ましい。

（Ｃ）光重合開始剤は、紫外線などの光の照射により（Ｂ）光重合性化合物の重合を生じさせる化合物であれば特に制限されない。（Ｂ）成分にエポキシ樹脂を用いる場合、（Ｃ）光重合開始剤としては、例えば、ｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのアリールジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフルオロヒドロキシアンチモネートなどのトリアリールスルホニウム塩；トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのトリアリールセレノニウム塩；ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアルキルフェナシルスルホニウム塩；４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのジアルキル−４−ヒドロキシ塩；α−ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート、α−スルホニロキシケトン、β−スルホニロキシケトンなどのスルホン酸エステルなどが挙げられる。これらの中でも透明性及び硬化性の観点から、トリアリールスルホニウム塩を用いることが好ましい。

また、（Ｂ）成分に分子内エチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、（Ｃ）光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ'−テトラメチル−４，４'−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ'−テトラエチル−４，４'−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４'−ジメチルアミノベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、１−［（４−フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタジオン−２−ベンゾイルオキシムなどの芳香族ケトン；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノンなどのキノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルなどのベンゾインエーテル化合物；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどのベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタールなどのベンジル誘導体；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体などの２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどのフォスフィンオキサイド類；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９、９'−アクリジニルヘプタン）などのアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン誘導体；クマリン系化合物などが挙げられる。また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は同一で対称な化合物を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。また。ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミンとを組み合わせてもよい。これらの中でも、特に透明性と厚膜硬化性の観点から、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンなどのα−ヒドロキシケトン；ホスフィンオキサイド類を用いることが好ましい。
上記に示した（Ｃ）光重合開始剤は、単独でも、また２種類以上を組み合わせて用いてもよく、さらに適切な増感剤と組み合わせて用いてもよい。

（Ｃ）光重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分および（Ｂ）成分の総量１００に対して、０．１〜１０質量％とすることが好ましい。０．１質量％以上であれば、光感度が十分である。また、１０質量％以下であれば、光導波路の表面のみが選択的に硬化し、硬化が不十分となることがなく、さらに光重合開始剤自身の吸収により、伝搬損失が増大することもなく好適である。以上の観点から、（Ｃ）光重合開始剤の配合量は、０．３〜７質量％とすることがより好ましく、０．５〜５質量％とすることが特に好ましい。

また、このほか必要に応じて、クラッド層形成用樹脂は、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤などのいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で添加してもよい。

クラッド層形成用樹脂は、（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する樹脂組成物を好適な有機溶剤に溶解して、クラッド層形成用樹脂ワニスとして用いることもできる。ここで用いる有機溶剤としては、クラッド層形成用樹脂を構成する樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に限定されない。有機溶剤としては、例えば、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性および沸点の観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを用いることが好ましい。
上記に示した有機溶剤は、単独でも、また２種類以上を組み合わせて用いてもよい。該樹脂ワニス中の固形分濃度は、３０〜８０質量％であることが好ましい。

クラッド層形成用樹脂ワニスを調合する際は、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法としては特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌方法が好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度としては特に制限はないが、１０〜１，０００ｒｐｍであることが好ましい。１０ｒｐｍ以上であると、（Ａ）〜（Ｃ）成分、および有機溶剤のそれぞれの成分が十分に混合される。１，０００ｒｐｍ以下であるとプロペラの回転による気泡の巻き込みが少なくなる。以上の観点から５０〜８００ｒｐｍであることがより好ましく、１００〜５００ｒｐｍであることが特に好ましい。撹拌時間としては特に制限はないが、１〜２４時間であることが好ましい。１時間以上であると、（Ａ）〜（Ｃ）成分、および有機溶剤のそれぞれの成分が十分に混合される。２４時間以下であると、ワニス調合時間を短縮することができる。

調合したクラッド層形成用樹脂ワニスは、孔径５０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが好ましい。孔径５０μｍ以下であると、大きな異物などが除去されて、ワニス塗布時にはじきなどを生じることがない。以上の観点から、孔径３０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのがより好ましく、孔径１０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが特に好ましい。

調合したクラッド層形成用樹脂ワニスは、減圧下で脱泡することが好ましい。脱泡方法としては特に制限はなく、具体例としては、真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置などを用いることができる。減圧時の圧力としては特に制限はないが、樹脂ワニスに含まれる有機溶剤が沸騰しない圧力が好ましい。減圧脱泡時間としては特に制限はないが、３〜６０分であることが好ましい。３分以上であると、樹脂ワニス内に溶解した気泡を取り除くことができる。６０分以下であると、樹脂ワニスに含まれる有機溶剤が揮発することがない。

図１（ａ）〜（ｄ）のフレキシブル光導波路の場合、下部クラッド層４は、例えば、上記のクラッド層形成用樹脂ワニスを、スピンコート法などの方法を用いて基板上に塗布し、有機溶剤を除去することにより形成することができる。または、クラッド層形成用樹脂ワニスを好適な支持フィルム上に塗布し、有機溶剤を除去してクラッド層形成用樹脂フィルムを作製することにより形成することができる。さらに、該樹脂フィルムをラミネートなどの方法を用いて基板上に貼り合せることにより形成することができる。
上記の基板としては、酸化膜付きシリコン基板またはガラス基板などが好適に挙げられる。
下部クラッド層４の外側にカバーフィルム５が配置された図１（ｂ）および（ｄ）のフレキシブル光導波路の場合、例えば、クラッド層形成用樹脂フィルムを貼り合せた基板が、カバーフィルム５を兼用することができる。また、クラッド層形成用樹脂フィルムに用いた支持フィルムが、カバーフィルム５を兼用してもよい。
下部クラッド層４の外側にカバーフィルム５を有さない図１（ａ）および（ｃ）のフレキシブル光導波路の場合、例えば、光導波路１を作製後、薬液処理などの方法によって、下部クラッド層４から上記で用いた基板および支持フィルムを剥離することができる。

図１（ａ）〜（ｄ）のフレキシブル光導波路の場合、上部クラッド層３は、例えば、後述するコア部２を形成後、上記のクラッド層形成用樹脂ワニスまたはクラッド層形成用樹脂フィルムを用いて、上記に示した下部クラッド層４と同様の方法により形成することができる。
上部クラッド層３の外側にカバーフィルム５が配置された図１（ｃ）および（ｄ）のフレキシブル光導波路の場合、例えば、上部クラッド層３を形成後、カバーフィルム５をラミネートなどの方法によって貼り合せることができる。また、上記に示したクラッド層形成用樹脂フィルムに用いた支持フィルム、またはクラッド層形成用樹脂フィルムを貼り合せた基板が、カバーフィルム５を兼用してもよい。
上部クラッド層３の外側にカバーフィルム５を有さない図１（ａ）および（ｂ）のフレキシブル光導波路の場合、例えば、上部クラッド層３を形成後、薬液処理などの方法によって上部クラッド層３から支持フィルムを剥離することができる。

クラッド層（上部クラッド層３および下部クラッド層４の全体）の厚さに関しては、９〜５００μｍの範囲であることが好ましい。９μｍ以上であると、伝搬光をコア内部に閉じ込めるのが容易となり、また５００μｍ以下であると、光導波路１全体の厚みが大きすぎることなく、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、該クラッド層の厚さは、１０〜３００μｍの範囲であることがより好ましく、２０〜２００μｍの範囲であることがさらに好ましく、３０〜１５０μｍの範囲であることが特に好ましい。
また、クラッド層の厚さは、最初に形成される下部クラッド層４とコアパターンを埋め込むための上部クラッド層３において、同一でも異なってもよいが、光導波路１全体の厚みが小さくなり、より優れた柔軟性が発現するとの観点から、下部クラッド層４の厚さを、上部クラッド層３よりも小さくすることが好ましい。上部クラッド層３の厚さとしては、７〜３００μｍの範囲であることが好ましく、７〜２００μｍの範囲であることがより好ましい。下部クラッド層４の厚さとしては、２〜２００μｍの範囲であることが好ましく、２〜１５０μｍの範囲であることがより好ましい。なお、上部クラッド層３の厚さとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から上部クラッド層３の上面までの値であり、下部クラッド層４の厚さとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から下部クラッド層４の下面までの値である。

クラッド層の形成に、上記に示したクラッド層形成用樹脂フィルムを用いる場合、該樹脂フィルムの製造過程で用いられる支持フィルムは、その材料については特に限定されず、種々のものを用いることができる。支持フィルムとしての柔軟性および強靭性の観点から、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリアリレート、液晶ポリマ、ポリスルホンなどが好適に挙げられる。
支持フィルムの厚さは、目的とする柔軟性により適宜変えてもよいが、２〜１００μｍの範囲とすることが好ましい。２μｍ以上であると、十分な強靭性を得られる。１００μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、２〜８０μｍの範囲とすることがより好ましく、５〜５０μｍの範囲とすることがさらに好ましく、８〜２５μｍの範囲とすることが特に好ましい。

上記クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムが、図１（ｂ）〜（ｄ）に示すようなフレキシブル光導波路のカバーフィルム５を兼用する場合、支持フィルムに接着処理を施し、該処理面にクラッド層形成用樹脂ワニスを塗布するのが好ましい。これにより、クラッド層と支持フィルム、すなわちカバーフィルム５の接着力を向上させ、クラッド層とカバーフィルム５の剥離不良を抑制できる。ここで接着処理とは、易接着樹脂コート、帯電防止樹脂コート、コロナ処理、プラズマ処理、反応性イオンエッチング処理、サンドブラストなどによるマット加工などにより、カバーフィルム５と、この上に形成されるクラッド層形成用樹脂との接着力を高める処理である。

〔コア層形成用樹脂〕
本発明に用いるコア層形成用樹脂としては、本発明の効果を奏する範囲であれば、特に限定されず、クラッド層より高屈折率で、紫外線などの活性光線の照射によりコアパターンを形成しえる感光性樹脂組成物を好適に用いることができる。具体的には、上記クラッド層形成用樹脂と同様の樹脂組成物を用いることがより好ましい。すなわち、上記（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）成分を含有し、必要に応じて上記添加剤などを含有する樹脂組成物である。この中で、高耐熱性、高透明性に加え、コア部をクラッド層より高屈折率とする観点から、上記（Ｂ）光重合性化合物として上記一般式（１）で表されるエトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレートおよび／または上記一般式（２）で表される（メタ）アクリレートを含む樹脂組成物を用いることが特に好ましい。

コア層形成用樹脂は、上記クラッド層形成用樹脂と同様に、好適な有機溶剤に溶解して、コア層形成用樹脂ワニスとして用いてもよい。

コア層形成用樹脂ワニスは、上記したクラッド層形成用樹脂ワニスと同様の方法により、調合、濾過および脱泡することが好ましい。

コア層は、コア層形成用樹脂ワニスを、スピンコート法などの方法を用いて下部クラッド層４上に塗布し、有機溶剤を除去することにより形成することができる。または、コア層形成用樹脂ワニスを好適な支持フィルム上に塗布し、有機溶剤を除去することにより、コア層形成用樹脂フィルムを作製後、該樹脂フィルムをラミネートなどの方法を用いて下部クラッド層４上に貼り合せることにより形成することができる。

コア層の厚さに関しては、５〜１００μｍの範囲とすることが好ましい。５μｍ以上であると、コア中心と接続端子との精密な位置調整が容易となり、また１００μｍ以下であると、光導波路１全体の厚みが大きすぎず、十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、該コア層の厚さは、１０〜７０μｍの範囲であることがより好ましく、２０〜６０μｍの範囲であることが特に好ましい。

コア層の形成にコア層形成用樹脂フィルムを用いる場合、該樹脂フィルムの製造過程で用いられる支持フィルムは、その材料については特に限定されず、種々のものを用いることができる。支持フィルムとしての柔軟性および強靭性の観点、ならびにコアパターン露光用光線の透過率の観点から、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ポリプロピレン、ポリカーボネートなどが好適に挙げられる。
支持フィルムの厚さは、目的とする柔軟性により適宜変えてもよいが、５〜５０μｍの範囲とすることが好ましい。５μｍ以上であると、十分な強靭性を得ることができ、５０μｍ以下であると、コアパターン形成時にフォトマスクとのギャップが大きくなることがなく、微細なパターンが形成でき好適である。以上の観点から、１０〜４０μｍの範囲とすることがより好ましく、１５〜３０μｍの範囲とすることが特に好ましい。
また、露光用光線の透過率向上およびコアパターン側壁の荒れを低減するとの観点から、内部に滑材粒子を含まない高透明タイプの支持フィルムを用いるのが好ましい。このような支持フィルムとしては、例えば、東洋紡績（株）製「コスモシャインＡ１５１７、コスモシャインＡ４１００」（いずれも商品名）が入手可能である。

〔フレキシブル光導波路〕
本発明のフレキシブル光導波路は、曲率半径２ｍｍの３６０°曲げ試験における挿入損失の増加分が、０．１ｄＢ以下であることが好ましい。０．１ｄＢ以下であれば、屈曲した状態でフレキシブル光導波路を使用した場合、損失値が小さくなり、伝送信号強度が弱くなることがない。なお、挿入損失とは、主に伝搬損失および結合損失による光損失のことを意味するものである。

本発明のフレキシブル光導波路は、コア部とクラッド層の比屈折率差が、１〜１０％であることが好ましい。１％以上であると、屈曲時にコア部を伝搬する光がクラッド層に漏れ出すことがない。１０％以下であると、光導波路と光ファイバなどの接続部において、伝搬光が広がりすぎることがなく、結合損失が大きくならない。以上の観点から、１．５〜７．５％であることがより好ましく、２〜５％であることが特に好ましい。なお、比屈折率差は、以下に示す式により求めた。
比屈折率差（％）＝［（コア部の屈折率）²−（クラッド層の屈折率）²］／［２×（コア部の屈折率）²］×１００

本発明のフレキシブル光導波路は、曲率半径５ｍｍの繰り返し折り曲げ試験を１０万回実施後の挿入損失の増加分が、０．１ｄＢ以下であることが好ましい。０．１ｄＢ以下であると、長期間安定した光伝送を行うことができ、例えば携帯電話のヒンジ部など、常に可動する部分に適用することができる。以上の観点から、０．０５ｄＢ以下であることがより好ましい。
また、曲率半径２ｍｍの繰り返し折り曲げ試験を１０万回実施後に、拡大鏡や顕微鏡下又は目視で観察したときに、コア部にクラックが発生していないことが好ましい。フレキシブル光導波路の機械特性の観点から、クラッド部にもクラックが発生していないことがより好ましい。

本発明のフレキシブル光導波路のフィルム引張り試験における弾性率は、０．０５〜６ＧＰａであることが好ましい。０．０５ＧＰａ以上であると、十分な柔軟性が得られ、屈曲時に光導波路が変形して伝搬特性に影響を与えることがなく好適である。６ＧＰａ以下であると、脆くなり屈曲時に破断することがなく好適である。以上の観点から、０．１〜６ＧＰａであることがより好ましく、０．２〜５ＧＰａであることがさらに好ましく、０．５〜４ＧＰａであることが特に好ましい。なお、弾性率とは、フィルム引張り試験において荷重−伸び率曲線で原点における接線の傾きのことを意味するものである。

本発明のフレキシブル光導波路のフィルム引張り試験における最大伸び率は、３〜５０％であることが好ましい。３％以上であると、脆くなり屈曲時に破断することがなく好適である。５０％以下であると、十分な柔軟性が得られ、屈曲時に光導波路が変形して伝搬特性に影響を与えることがなく好適である。以上の観点から５〜４０％であることがより好ましい。なお、最大伸び率とは、フィルム引張り試験において最大荷重がかかった時点での伸び率のことを意味するものである。

本発明のフレキシブル光導波路の厚みは、９〜５００μｍの範囲であることが好ましい。９μｍ以上であると、屈曲時に強度不足による破断がおこることがなく好適である。５００μｍ以下であると十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、１０〜３００μｍの範囲であることがより好ましく、２０〜２００μｍの範囲であることがさらに好ましく、３０〜１５０μｍの範囲であることが特に好ましい。

本発明のフレキシブル光導波路は、最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施した後の伝搬損失の増加分が、０．０５ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．０５ｄＢ／ｃｍ以下であると、部品実装時の信頼性の観点から、リフロープロセスが適用でき、フレキシブル光導波路の適用範囲が広げることができる。以上の観点から、０．０３ｄＢ／ｃｍ以下であることがより好ましい。なお、最高温度２６５℃のリフロー試験とはＩＰＣ／ＪＥＤＥＣ Ｊ−ＳＴＤ−０２０Ｂに準じた条件で実施する鉛フリーはんだリフロー試験のことを意味するものである。

本発明のフレキシブル光導波路は、伝搬損失が０．３ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましい。０．３ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失による、伝送信号の強度低下を抑えることができ好適である。以上の観点から、さらに好ましくは０．２ｄＢ／ｃｍ以下であり、特に好ましくは０．１ｄＢ／ｃｍ以下である。

本発明のフレキシブル光導波路に上述した樹脂組成物を用いる場合、樹脂組成物の硬化物について、耐熱性、可撓性、強度等の各種物性評価として、例えば、ガラス転移温度、５％質量減温度、引張り弾性率、最大引張り強度、最大伸び率、線膨張係数、吸水率等を公知の方法により測定することができる。

本発明のフレキシブル光導波路を製造する方法としては、特に制限はないが、上述のようにコア層形成用樹脂ワニスおよび／またはクラッド層形成用樹脂ワニスを用いてスピンコート法などにより製造する方法、または、コア層形成用樹脂フィルムおよび／またはクラッド層形成用樹脂フィルムを用いる方法などが挙げられる。これらの方法を組み合わせて製造することもできる。これらの中では、大面積の光導波路を低コストで一括して製造できる観点から、該樹脂フィルムを用いる方法が好ましい。

続いて、フレキシブル光導波路の形態としては、図１（ａ）〜（ｄ）の４種類が考えられるが、ここでは、図１（ｄ）に示すカバーフィルム５が下部クラッド層４および上部クラッド層３の外側に配置されたフレキシブル光導波路について、コア層形成用樹脂フィルムおよびクラッド層形成用樹脂フィルムを用いた場合の製造方法について詳述する。

まず、第１の工程としてクラッド層形成用樹脂と支持フィルムから構成されたクラッド層形成用樹脂フィルムのクラッド層形成用樹脂を光および／または熱により硬化し、下部クラッド層４を形成する。
該下部クラッド層４を形成する第１の工程においてクラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムの反対側に、保護フィルムを設けている場合には、該保護フィルムを剥離後、クラッド層形成用樹脂を光および／または熱により硬化し、下部クラッド層４を形成する。
下部クラッド層４を形成する際の活性光線の照射量は、０．１〜５Ｊ／ｃｍ²とすることが好ましく、加熱温度は５０〜１３０℃とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。

次いで、第２の工程として、下部クラッド層４上に、コア層形成用樹脂と支持フィルムから構成されたコア層形成用樹脂フィルムをラミネートし、コア層を形成する。この第２の工程において、上記の下部クラッド層４上に、コア層形成用樹脂フィルムを加熱圧着することにより、下部クラッド層４より屈折率の高いコア層を形成する。
第２の工程におけるラミネート方式としては、ロールラミネータ、または平板型ラミネータを用いる方法が挙げられるが、密着性および追従性の観点から、平板型ラミネータを用いて減圧下でコア層形成用樹脂フィルムを積層することが好ましい。なお、本発明において平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式ラミネータを好適に用いることができる。ここでの加熱温度は、５０〜１３０℃とすることが好ましく、圧着圧力は、０．１〜１．０ＭＰａ（１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ²）とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
なお、真空加圧式ラミネータによる積層の前に、ロールラミネータを用いて、あらかじめコア層形成用樹脂フィルムを下部クラッド層４上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性および追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行っても良い。ラミネート温度は、室温（２５℃）〜１００℃の範囲とすることが好ましい。室温（２５℃）以上であると、下部クラッド層４とコア層との密着性が向上し、１００℃以下であると、コア層がロールラミネート時に流動することなく、必要とする膜厚が得られる。以上の観点から、４０〜１００℃の範囲がより好ましい。圧力は０．２〜０．９ＭＰａが好ましく、ラミネート速度は０．１〜３ｍ／ｍｉｎが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。

次に、第３の工程として、コア層を露光現像し、光導波路のコアパターン（コア部２）を形成する。具体的には、ネガマスクパターンを通して活性光線が画像状に照射される。活性光線の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプなどの紫外線を有効に照射する公知の光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプなどの可視光を有効に放射するものも用いることができる。ここでの活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ²とすることが好ましい。０．０１Ｊ／ｃｍ²以上であると、硬化反応が十分に進行し、後述する現像工程によりコアパターンが流失することがなく、１０Ｊ／ｃｍ²以下であると露光量過多によりコアパターンが太ることがなく、微細なパターンが形成でき好適である。以上の観点から、０．０５〜５Ｊ／ｃｍ²の範囲とすることがより好ましく、０．１〜２Ｊ／ｃｍ²の範囲とすることが特に好ましい。
露光後に、解像度向上及びコアパターン密着性向上の観点から、露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間としては、３０秒〜１０分以内であることが好ましい。この範囲内であれば紫外線照射により発生した活性種が失活することがない。露光後加熱の温度としては４０〜１６０℃とすることが好ましい。

次いで、コア層形成用樹脂フィルムの支持フィルムを剥離し、ウェット現像などで未露光部を除去して現像し、光導波路のコアパターンを形成する。ウェット現像の場合は、上記フィルムの組成に適した有機溶剤系現像液を用いて現像することができる。
有機溶剤系現像液としては、例えば、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンを用いることが好ましい。これらの有機溶剤は、引火防止のため、１〜２０質量％の範囲で水を添加することができる。
また、上記の有機溶剤は単独でも、また２種類以上を組み合わせて用いることができるが、未露光部の溶解性調整の観点から、適切な有機溶剤を組み合わせて使用することが好ましい。具体例としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ−メチルピロリドン、乳酸エチル／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、乳酸エチル／Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン／Ｎ−メチルピロリドンの組合せなどが好適に挙げられる。
現像の方式としては、ディップ方式、パドル方式、高圧スプレー方式などのスプレー方式；ブラッシング；スクラッピングなどが挙げられ、高圧スプレー方式が解像度向上のためには最も適している。

現像後の処理として、上記に示した有機溶剤を使用して光導波路のコアパターンを洗浄してもよい。
有機溶剤系洗浄液としては、例えば、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、キシレンなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、メタノール、エタノール、イソプロパノール、酢酸エチルを用いることが好ましい。これらの有機溶剤は、引火防止のため、１〜２０質量％の範囲で水を添加することができる。
また、上記の有機溶剤は単独でも、また２種類以上を組み合わせて用いることができる。
洗浄の方式としては、ディップ方式、パドル方式、高圧スプレー方式などのスプレー方式；ブラッシング；スクラッピングなどが挙げられる。
露光または洗浄後の処理として、必要に応じて６０〜２５０℃程度の加熱、または０．１〜１０００ｍＪ／ｃｍ²程度の露光を行うことにより、光導波路のコアパターンをさらに硬化してもよい。

この後、コアパターン埋め込みのためクラッド層形成用樹脂フィルムをラミネートおよび硬化する第４の工程を行う。コアパターン上に、上記と同様な方法でクラッド層形成用樹脂フィルムを加熱圧着することにより、上部クラッド層３を形成する。このとき上部クラッド層３の厚さは、コア層の厚さより大きくすることが好ましい。
第４の工程におけるラミネート方式としては、ロールラミネータ、または平板型ラミネータを用いる方法が挙げられるが、密着性、追従性、および平坦性の観点から、第２の工程と同様に、平板型ラミネータ、好適には真空加圧式ラミネータを用いて減圧下でクラッド層形成用樹脂フィルムを積層することが好ましい。ここでの加熱温度は、５０〜１３０℃とすることが好ましく、圧着圧力は、０．１〜１．０ＭＰａ（１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ²）とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。

第４の工程における硬化は、第１の工程と同様に、光および／または熱によって行う。上部クラッド層３を形成する際の活性光線の照射量は、０．１〜３０Ｊ／ｃｍ²とすることが好ましい。
上記クラッド層形成用樹脂フィルムの支持フィルムがＰＥＴの場合、活性光線の照射量は、０．１〜５Ｊ／ｃｍ²とすることが好ましい。一方、該支持フィルムがポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホンなどの場合、ＰＥＴに比べて紫外線などの短波長の活性光線を通しにくいことから、活性光線の照射量は、０．５〜３０Ｊ／ｃｍ²とすることが好ましい。０．５Ｊ／ｃｍ²以上であると硬化反応が十分に進行し、３０Ｊ／ｃｍ²以下であると光照射の時間が長くかかりすぎることがない。以上の観点から、３〜２７Ｊ／ｃｍ²とすることがより好ましく、５〜２５Ｊ／ｃｍ²とすることが特に好ましい。
なお、より硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射することが可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。活性光線照射中および／または照射後の加熱温度は５０〜２００℃とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。

本発明のフレキシブル光導波路は、屈曲性、耐熱性、および透明性に優れているために、光モジュールの光伝送路として用いてもよい。光モジュールの形態としては、特に制限はないが、例えば、光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板と複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光／電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器等が挙げられる。なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板としては、特に制限はなくガラスエポキシ基板などのリジット基板、ポリイミド基板などのフレキシブル基板のどちらを用いてもよい。

以下の本発明の実施例をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例になんら限定されるものではない。
また、以下の製造例において得られた樹脂フィルムを硬化して得られた硬化フィルムの物性評価は、次の（１）〜（６）に示す項目について行った。

（１）屈折率測定
得られた硬化フィルムの屈折率をプリズムカプラー（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製、Ｍｏｄｅ１２０１０）を使用し、波長８３０ｎｍで測定した。

（２）Ｄｙｎａｍｉｃ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ（ＤＭＡ）法によるガラス転移温度測定
得られた硬化フィルムのガラス転移温度を、動的粘弾性測定装置（Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ社製、Ｓｏｌｉｄｓ Ａｎａｌｙｚｅｒ ＲＳＡ−ＩＩ）を使用し、測定温度範囲−５０℃→２５０℃、昇温速度５℃／ｍｉｎで測定した。損失正接（Ｔａｎδ）のピークをガラス転移温度とした。

（３）５％質量減温度測定
得られた硬化フィルムの５％質量減温度を、熱重量−示差熱分析（Ｔｈｅｒｍｏｇｒａｖｉｍｅｔｒｙ−Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ：ＴＧ−ＤＴＡ）装置（セイコーインスツル（株）製 ＥＸＳＴＡＲ６０００ ＴＧ／ＤＴＡ６３００）を使用し、空気中で測定温度範囲３０℃→６００℃、昇温速度１０℃／ｍｉｎで測定した。

（４）フィルム引張り試験
得られた硬化フィルム（幅１０ｍｍ、長さ７０ｍｍ、つかみ間距離５０ｍｍ、厚さ１００μｍ）のフィルム引張り試験を、引張り試験機（（株）島津製作所製、オートグラフＡＧＳ−５ＫＮＧ型）を用いて、温度２５℃、引張り速度５ｍｍ／ｍｉｎで、ＪＩＳ Ｋ ７１２７に準拠して行い、引張り弾性率、最大引張り強度、および最大伸び率を求めた。
なお、最大伸び率は、以下に示す式により求めた。
最大伸び率（％）＝（最大荷重時のつかみ間距離−初期のつかみ間距離）／初期のつかみ間距離×１００

（５）線膨張係数測定
得られた硬化フィルム（幅３ｍｍ、長さ２５ｍｍ、つかみ間距離１５ｍｍ、厚さ１００μｍ）の線膨張係数α₁およびα₂を、熱機械分析（Ｔｈｅｒｍｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ：ＴＭＡ）装置（セイコーインスツル（株）製 ＥＸＳＴＡＲ６０００ ＴＭＡ／ＳＳ６１００）を使用し、窒素雰囲気下で測定温度範囲２５℃→３００℃、昇温速度５℃／ｍｉｎで測定した。
なお、α₁とはガラス転移温度よりも１０〜５０℃低い温度での線膨張係数、α₂とはガラス転移温度よりも１０〜５０℃高い温度での線膨張係数を示すものである。

（６）吸水率測定
得られた硬化フィルムの吸水率測定は以下の方法で行った。得られた硬化フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに切出し、１００℃で１時間加熱乾燥させた後に質量を測定した（乾燥時質量）。２５℃で２４時間水中に静置して、十分に吸水させた。水中から取り出した後、フィルム表面の余分な水分をふき取り、直ちに質量測定を行った（吸水時質量）。
なお、吸水率は、以下に示す式により求めた。
吸水率（％）＝（吸水時質量−乾燥時質量）／乾燥時質量×１００

また、以下の実施例において得られたフレキシブル光導波路の評価は、次の（１）〜（６）に示す項目について行った。
（１）３６０°曲げ試験
得られたフレキシブル光導波路（導波路長５ｃｍ）を、半径２ｍｍの棒に１周巻きつけ、光源に波長８５０ｎｍの光を中心波長とするＶＣＳＥＬ（ＥＸＦＯ社製、ＦＬＳ−３００−０１−ＶＣＬ）、受光センサ（（株）アドバンテスト製、Ｑ８２２１４）、入射ファイバ（ＧＩ−５０／１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２０）、および出射ファイバ（ＳＩ−１１４／１２５、ＮＡ＝０．２２）を用いて、曲率半径２ｍｍの３６０°曲げ試験における挿入損失値を測定し、巻きつけない場合の挿入損失値に対する増加分を調べた。
なお、実施例１では、上記の他に、図３に示す曲率半径についても同様に、３６０°曲げ試験を実施し、上記と同様にフレキシブル光導波路の挿入損失値を測定し、挿入損失値の増加分を調べた。

（２）比屈折率差
得られたフレキシブル光導波路の比屈折率差を、コア層形成用樹脂フィルムから得られた硬化フィルム（コア用硬化フィルム）およびクラッド層形成用樹脂から得られた硬化フィルム（クラッド用硬化フィルム）の波長８３０ｎｍにおける屈折率を基に算出した。
なお、比屈折率差は、以下に示す式により求めた。
比屈折率差（％）＝［（コア部の屈折率）²−（クラッド層の屈折率）²］／［２×（コア部の屈折率）²］×１００

（３）繰り返し折り曲げ試験
得られたフレキシブル光導波路（導波路長５ｃｍ）を、屈曲耐久試験機（大昌電子（株）製）を用い、曲率半径５ｍｍ、屈曲速度約１秒の条件で繰り返し折り曲げ試験を行った。１０万回実施後のフレキシブル光導波路の挿入損失値を上記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ、および出射ファイバを用いて測定し、試験前の挿入損失値に対する増加分を調べた。
また、曲率半径２ｍｍ、屈曲速度約１秒の条件で繰り返し折り曲げ試験を１０万回実施後に、金属顕微鏡（オリンパス（株）製、ＢＨＭＪＬ）を用い、フレキシブル光導波路のコア部およびクラッド部におけるクラック発生の有無を観察した。
なお、実施例１では、上記の他に、図４に示す折り曲げ回数についても同様に繰り返し折り曲げ試験を実施して、上記と同様にフレキシブル光導波路の挿入損失値を測定し、挿入損失値の増加分を調べた。

（４）フィルム引張り試験
得られたフレキシブル光導波路（幅５ｍｍ、長さ５０ｍｍ、つかみ間距離３０ｍｍ、厚さは表３に示すとおりである）のフィルム引張り試験を、上記と同様な方法、条件で行い、弾性率および最大伸び率を求めた。

（５）厚さ測定
得られたフレキシブル光導波路の厚さを、デジマチックインジケータ（（株）ミツトヨ）を用いて測定した。

（６）リフロー試験
得られたフレキシブル光導波路（導波路長５ｃｍ）を、リフロー試験機（古河電気工業（製）、サラマンダＸＮＡ−６４５ＰＣ）を用いて、ＩＰＣ／ＪＥＤＥＣ Ｊ−ＳＴＤ−０２０Ｂに準じた条件で最高温度２６５℃の鉛はんだフリーリフロー試験を３回行った。詳細なリフロー条件を表１、リフロー炉内の温度プロファイルを図２に示す。リフロー試験実施後のフレキシブル光導波路の伝搬損失値を上記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ、および出射ファイバを用いて測定し、リフロー試験前の伝搬損失値に対する増加分を調べた。

（７）伝搬損失の測定
得られたフレキシブル光導波路の伝搬損失を、上記と同様の光源と受光素子、入射ファイバとおよび、出射ファイバを用いて、カットバック法（測定導波路長５、３、２ｃｍ）により測定した。

製造例１
〔クラッド層形成用樹脂フィルムＡの作製〕
（Ａ）バインダポリマとして、フェノキシ樹脂（商品名：フェノトートＹＰ−７０、東都化成（株）製）５０質量部、（Ｂ）光重合性化合物として、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート（商品名：ＫＲＭ−２１１０、分子量：２５２、旭電化工業（株）製）５０質量部、（Ｃ）光重合開始剤として、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート塩（商品名：ＳＰ−１７０、旭電化工業（株）製）４質量部、増感剤として、ＳＰ−１００（商品名、旭電化工業（株）製）０．４質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０質量部を広口のポリ瓶に秤量し、メカニカルスターラ、シャフト及びプロペラを用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌し、クラッド層形成用樹脂ワニスＡを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（商品名：ＰＦ０２０、アドバンテック東洋（株）製）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過し、さらに真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度５０ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡した。

上記で得られたクラッド層形成用樹脂ワニスＡを、ポリアミドフィルム（商品名：ミクトロン、東レ（株）製、厚さ：１２μｍ）のコロナ処理面上に塗工機（マルチコーターＴＭ−ＭＣ、（株）ヒラノテクシード製）を用いて塗布し、８０℃、１０分、その後１００℃、１０分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（商品名：Ａ３１、帝人デュポンフィルム（株）、厚さ：２５μｍ）を離型面が樹脂側になるように貼り付け、クラッド層形成用樹脂フィルムＡを得た。このとき樹脂層の厚さは、塗工機のギャップを調節することで、任意に調整可能であり、本製造例では硬化後の膜厚が、下部クラッド層３０μｍ、上部クラッド層８０μｍとなるように調節した。

製造例２
〔コア層形成用樹脂フィルムＢの作製〕
（Ａ）バインダポリマとして、フェノキシ樹脂（商品名：フェノトートＹＰ−７０、東都化成（株）製）１０質量部、（Ｂ）光重合性化合物として、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（商品名：Ａ−ＢＰＥＦ、新中村化学工業（株）製）４５質量部、およびビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（商品名：ＥＡ−１０２０、新中村化学工業（株）製）４５質量部、（Ｃ）光重合開始剤として、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０質量部を用いたこと以外は上記製造例１と同様の方法および条件でコア層形成用樹脂ワニスＢを調合した。その後、加圧濾過用のフィルタとして孔径２μｍのポリフロンフィルタ（商品名：ＰＦ０２０、アドバンテック東洋（株）製）、および孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（商品名：Ｊ０５０Ａ、アドバンテック東洋（株）製）を用いたこと以外は上記製造例１と同様の方法および条件で加圧濾過さらに減圧脱泡した。

コア層形成用樹脂ワニスＢを、ＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ１５１７、東洋紡績（株）製、厚さ：１６μｍ）の非処理面上に、上記製造例１と同様な方法で塗布乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（商品名：Ａ３１、帝人デュポンフィルム（株）、厚さ：２５μｍ）を離型面が樹脂側になるように貼り付け、コア層形成用樹脂フィルムＢを得た。本製造例では硬化後の膜厚が５０μｍとなるよう、塗工機のギャップを調整した。

〔物性測定用硬化フィルムの作製〕
上記で得られたコア層形成用樹脂フィルムＢに紫外線露光機（（株）オーク製作所製、ＥＸＭ−１１７２）にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を１Ｊ／ｃｍ²照射し、上記離型ＰＥＴフィルム（Ａ３１）を剥離し、最後に１６０℃で１時間さらに加熱乾燥を行い、上記ＰＥＴフィルム（Ａ１５１７）を剥がして硬化フィルムを得た。
得られた硬化フィルムの屈折率測定、ガラス転移温度測定、５％質量減温度測定、引張り試験、線膨張係数測定、および吸水率測定を行った。結果を表２に示す。

製造例３
〔コア層形成用樹脂フィルムＣの作製〕
（Ａ）バインダポリマとして、フェノキシ樹脂（商品名：フェノトートＹＰ−７０、東都化成（株）製）２５質量部、（Ｂ）光重合性化合物として、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（商品名：Ａ−ＢＰＥＦ、新中村化学工業（株）製）３７．５質量部、およびビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（商品名：ＥＡ−１０２０、新中村化学工業（株）製）３７．５質量部、（Ｃ）光重合開始剤として、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：イルガキュア８１９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）２質量部、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメーチルエーテルアセテート４０質量部を用いた以外は、製造例２と同様な方法および条件で、コア層形成用樹脂ワニスＣ、およびコア層形成用樹脂フィルムＣを得た。

〔物性測定用硬化フィルムの作製〕
得られたコア層形成用樹脂フィルムＣを用いて製造例２と同様な方法および条件で、物性測定用硬化フィルムを得た。得られた硬化フィルムの屈折率測定、ガラス転移温度測定、５％質量減温度測定、引張り試験、線膨張係数測定、および吸水率測定を行った。結果を表２に示す。

製造例４
〔クラッド層形成用樹脂フィルムＤの作製〕
製造例１においてクラッド層形成用樹脂フィルムＡの支持フィルムとして用いたポリアミドフィルムをＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ１５１７、東洋紡績（株）製、厚さ：１６μｍ、塗布面：帯電防止処理面）に変更した以外は、製造例１と同様な方法および条件で、クラッド層形成用樹脂フィルムＤを作製した。

製造例５
〔クラッド層形成用樹脂フィルムＥの作製〕
製造例１においてクラッド層形成用樹脂フィルムＡの支持フィルムとして用いたポリアミドフィルムをＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ１５１７、東洋紡績（株）製、厚さ：１６μｍ、塗布面：非処理面）に変更した以外は、製造例１と同様な方法および条件で、クラッド層形成用樹脂フィルムＥを作製した。

〔物性測定用硬化フィルムの作製〕
上記で得られたクラッド層形成用樹脂フィルムＥに紫外線露光機（（株）オーク製作所製、ＥＸＭ−１１７２）にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を１Ｊ／ｃｍ²照射し、保護フィルムとして用いた離型ＰＥＴフィルム（Ａ３１）を剥離し、最後に１６０℃で１時間さらに加熱乾燥を行い、支持フィルムとして用いた上記ＰＥＴフィルム（Ａ１５１７）を剥がして硬化フィルムを得た。
得られた硬化フィルムの屈折率測定、ガラス転移温度測定、５％質量減温度測定、引張り試験、線膨張係数測定、および吸水率測定を行った。結果を表２に示す。

上記の製造例２、３および５で得られた硬化フィルムは、耐熱性、低吸湿性および低線膨張係数を有し、優れた機械特性を有し、かつコア層形成用樹脂フィルムがクラッド層形成用樹脂フィルムより高屈折率を有することから、フレキシブル光導波路用材料として有用であることが分かる。

実施例１
〔フレキシブル光導波路の作製〕
上記製造例１で得られたクラッド層形成用樹脂フィルムＡの保護フィルムである離型ＰＥＴフィルム（Ａ３１）を剥離し、紫外線露光機（（株）オーク製作所製、ＥＸＭ−１１７２）にて樹脂側（基材フィルムの反対側）から紫外線（波長３６５ｎｍ）を１Ｊ／ｃｍ²照射し、次いで８０℃で１０分間加熱処理することにより、下部クラッド層４を形成した。
次に、該下部クラッド層４上に、真空加圧式ラミネータ（（株）名機製作所製、ＭＶＬＰ−５００）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃、加圧時間３０秒の条件にて、上記製造例２で得られたコア層形成用樹脂フィルムＢを積層し、コア層を形成した。
次に、幅５０μｍのネガ型フォトマスクを介し、上記紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を０．５Ｊ／ｃｍ²照射し、次いで８０℃で５分間露光後加熱を行った。その後、支持フィルムであるＰＥＴフィルムを剥離し、現像液（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド＝８／２、質量比）を用いて、コアパターン（コア部２）を現像した。続いて、洗浄液（イソプロパノール）を用いて洗浄し、１００℃で１０分間加熱乾燥した。
次いで、上記と同様なラミネート条件にて、上部クラッド層として上記製造例１で得られたクラッド形成用樹脂フィルムＡをラミネートした。さらに、紫外線（波長３６５ｎｍ）を両面に合計で２５Ｊ／ｃｍ²照射後、１６０℃で１時間加熱処理することによって、上部クラッド層３を形成し、図１（ｄ）に示した上下クラッド層の外側にカバーフィルム５が配置されたフレキシブル光導波路１を得た。その後、ダイシングソー（（株）ディスコ製、ＤＡＤ−３４１）を用いて導波路長５ｃｍの光導波路１を切出した。
なお、この場合のカバーフィルム５はクラッド層形成用樹脂フィルムＡの支持フィルムとして用いたポリアミドフィルムである。
得られたフレキシブル光導波路の３６０°曲げ試験、繰り返し折り曲げ試験、フィルム引張り試験、リフロー試験、厚さ測定、伝搬損失測定を行った。得られたフレキシブル光導波路は、高屈曲性、耐熱性を有し、かつ低伝搬損失であることより高透明性を有することが分かる。結果を表３および図３〜５に示す。

実施例２
実施例１において下部クラッド層４および上部クラッド層３に用いたクラッド層形成用樹脂フィルムＡを上記製造例４で得られたクラッド層形成用樹脂フィルムＤに変更し、上部クラッド層形成用樹脂フィルムラミネート後の紫外線照射量２５Ｊ／ｃｍ²を３Ｊ／ｃｍ²に、加熱処理温度１６０℃を１２０℃に変更した以外は、実施例１と同様な方法および条件で、図１（ｄ）に示した上下クラッド層の外側にカバーフィルム５が配置されたフレキシブル光導波路１を得た。
なお、この場合のカバーフィルム５はクラッド層形成用樹脂フィルムＤの支持フィルムとして用いたＰＥＴフィルムである。

得られたフレキシブル光導波路の３６０°曲げ試験、繰り返し折り曲げ試験、フィルム引張り試験、厚さ測定、伝搬損失測定を行った。得られたフレキシブル光導波路は、高屈曲性を有し、かつ低伝搬損失であることより高透明性を有することが分かる。結果を表３に示す。

実施例３
製造例５で得られたクラッド層形成用樹脂フィルムＥを厚さ１μｍの酸化膜付きシリコン基板（厚さ６２５μｍ）上に、ラミネート後、紫外線を１Ｊ／ｃｍ²照射し、支持フィルムとして用いたＰＥＴフィルムを剥離して下部クラッド４を形成した。
続いて、実施例１と同様な方法および条件でコア部２を形成し、さらにクラッド形成用樹脂フィルムＥを実施例１と同様な条件でラミネートし、紫外線を３Ｊ／ｃｍ²照射した。該クラッド形成用樹脂フィルムＥの支持フィルムとして用いたＰＥＴフィルムを剥離後、１６０℃で加熱処理することによって、上部クラッド層３を形成し、シリコン基板付き光導波路を得た。
次に、該シリコン基板付き光導波路を５質量％のフッ酸水溶液に２４時間浸漬し、光導波路部をシリコン基板から剥離させ、図１（ａ）に示したフレキシブル光導波路１を得た。

得られたフレキシブル光導波路の３６０°曲げ試験、繰り返し折り曲げ試験、フィルム引張り試験、リフロー試験、厚さ測定、伝搬損失測定を行った。得られたフレキシブル光導波路は、高い屈曲性、耐熱性を有し、かつ低伝搬損失であることより高透明性を有することが分かる。結果を表３に示す。

実施例４
コア層形成用樹脂フィルムＢを上記製造例３で得られたコア層形成用樹脂フィルムＣに変更した以外は、実施例１と同様な方法および条件で、図１（ｄ）に示した上下クラッド層の外側にカバーフィルム５が配置されたフレキシブル光導波路１を得た。
なお、この場合のカバーフィルム５はクラッド層形成用樹脂フィルムＡの支持フィルムとして用いたポリアミドフィルムである。

得られたフレキシブル光導波路の３６０°曲げ試験、繰り返し折り曲げ試験、フィルム引張り試験、リフロー試験、厚さ測定、伝搬損失測定を行った。得られたフレキシブル光導波路は、高い屈曲性、耐熱性を有し、かつ低伝搬損失であることより高透明性を有することが分かる。結果を表３に示す。

実施例５
コア層形成用樹脂フィルムを上記製造例３で得られたコア層形成用樹脂フィルムＣに変更した以外は、実施例３と同様な方法および条件で図１（ａ）に示したフレキシブル光導波路１を得た。

得られたフレキシブル光導波路の３６０°曲げ試験、繰り返し折り曲げ試験、フィルム引張り試験、リフロー試験、厚さ測定、伝搬損失測定を行った。得られたフレキシブル光導波路は、高い屈曲性、耐熱性を有し、かつ低伝搬損失であることより高透明性を有することが分かる。結果を表３に示す。

実施例６
実施例１で得られた導波路長５ｃｍのフレキシブル光導波路の両端に石英ガラスブロック付き光ファイバ（ＧＩ−５０／１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２０）を光学用接着剤で固定し、光モジュールを作製した。得られた光モジュールの挿入損失を光源に波長８５０ｎｍの光を中心波長とするＶＣＳＥＬ（ＥＸＦＯ社製、ＦＬＳ−３００−０１−ＶＣＬ）、受光センサ（（株）アドバンテスト製、Ｑ８２２１４）を用いて測定したところ、０．５ｄＢ以下であった。また、３６０°曲げ試験を行ったところ、曲率半径２ｍｍの条件で挿入損失の増加分が、０．１ｄＢ以下であった。さらに、曲率半径５ｍｍの繰り返し折り曲げ試験を１０万回実施後の挿入損失の増加分が、０．１ｄＢ以下であった。曲率半径２ｍｍの繰り返し折り曲げ試験を１０万回実施後に、金属顕微鏡（オリンパス（株）製、ＢＨＭＪＬ）を用い、光モジュールを観察したところ、コア部およびクラッド部において、クラックは発生していなかった。

本発明のフレキシブル光導波路および光モジュールは屈曲性、耐熱性、および透明性に優れており、汎用性が高く、携帯電話やノート型パソコンなどの民生機器の分野、さらに幅広い分野に適用可能である。

Claims (17)

1. コア部およびクラッド層を有するフレキシブル光導波路であって、曲率半径２ｍｍの３６０°曲げ試験における挿入損失の増加分が、０．１ｄＢ以下であるフレキシブル光導波路。
2. コア部とクラッド層との比屈折率差が、１〜１０％である請求項１に記載のフレキシブル光導波路。
3. 曲率半径５ｍｍの繰り返し折り曲げ試験を１０万回実施後の挿入損失の増加分が、０．１ｄＢ以下である請求項１または２に記載のフレキシブル光導波路。
4. フィルム引張り試験における弾性率が、０．０５〜６ＧＰａである請求項１〜３のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
5. フィルム引張り試験における最大伸び率が、３〜５０％である請求項１〜４のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
6. 厚みが、９〜５００μｍである請求項１〜５のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
7. 最高温度２６５℃のリフロー試験を３回実施後の伝搬損失の増加分が、０．０５ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１〜６のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
8. 伝搬損失が、０．３ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１〜７のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
9. コア部および／またはクラッド層を、（Ａ）バインダポリマ、（Ｂ）光重合性化合物および（Ｃ）光重合開始剤を含む樹脂組成物を用いて作製する請求項１〜８のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
10. （Ａ）成分および（Ｂ）成分の総量に対して、（Ａ）成分を５〜８０質量％、および（Ｂ）成分を２０〜９５質量％含み、かつ（Ａ）成分および（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、（Ｃ）成分を０．１〜１０質量部含む樹脂組成物を用いて作製する請求項９に記載のフレキシブル光導波路。
11. （Ａ）バインダポリマが、フェノキシ樹脂である請求項９または１０に記載のフレキシブル光導波路。
12. （Ｂ）光重合性化合物として、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含む請求項９〜１１のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
13. （Ｂ）光重合性化合物として、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基および芳香族複素環式基からなる群から選ばれる少なくとも１種を有する単官能（メタ）アクリレートを含む請求項９〜１２のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
14. （Ｂ）光重合性化合物として、下記一般式（１）で表されるエトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレートを含む請求項９〜１２のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
    

    

    （式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基、Ｒ²〜Ｒ¹³は各々独立して水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数６〜１０のアリール基、または炭素数７〜９のアラルキル基を示す。ａおよびｂは各々独立して１〜２０の整数を示す。）
15. （Ｂ）光重合性化合物として、下記一般式（２）で表される（メタ）アクリレートを含む請求項９〜１２のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
    

    

    （式中、ＸはＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂、（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_cＣ₂Ｈ₄、（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_dＣ₃Ｈ₆、または（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_e（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_fＣ₃Ｈ₆であり、ＹはＣ（ＣＨ₃）₂、ＣＨ₂、ＳＯ₂、またはＯを示し、ｃ、ｄ、ｅおよびｆはそれぞれ０から１０の整数を示す。Ｒ¹⁴は水素原子またはメチル基、Ｒ¹⁵は水素原子、メチル基またはハロゲン原子を示す。）
16. （Ｂ）光重合性化合物として、分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物を含む請求項９〜１１のいずれかに記載のフレキシブル光導波路。
17. 請求項１〜１６のいずれかに記載のフレキシブル光導波路を用いる光モジュール。

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