JPWO2007081019A6 - (3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩、それらの製造中間体である置換フェニルピラゾール化合物或いは(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する農薬組成物に関する。
従来、(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体として、例えば、ピラゾールの5位炭素よりフェニル基が置換された5−(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体は、除草剤の用途として記載されている(例えば、特許文献1及び2 参照)。しかしながら、対応するピラゾールの3位の置換基は酸素または硫黄原子が直接結合した置換基に限定されており、かつ除草剤以外の用途はまったく知られていない。
また、ピラゾールの3位から結合した3−(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体が記載されている(例えば、特許文献3、4、5、6及び7 参照)。しかしながら、本願におけるピラゾールの1位の置換基はフェニル基等の芳香族に限られており、かつ、これらの特許は医薬用の用途のみ記載されており、農園芸用の有害生物防除剤としての用途は何ら記載されていない。
また、ピラゾールの1位、即ち窒素原子からフェニル基が結合した1−(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体の殺虫剤としての用途が記載されているが(特許文献8 参照)、3位、4位、或いは5位、即ち炭素原子から置換した(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体は未記載である。
:US(米国特許)−5032165
:EP(欧州公開)−1464211
:US(米国特許)−5434178
:US(米国特許)−5756529
:US(米国特許)−5760068
:US(米国特許)−5466823
:US(米国特許)−5521207
:WO(国際公開)−99/55668
近年、市販の殺虫殺ダニ剤の中には、残留、蓄積、環境汚染等の問題から使用が制限されるものがある。また、同じ殺虫殺ダニ剤を長期間使用することにより、抵抗性害虫の発生が問題となってきている。そのため、市販殺虫剤とは作用が異なると考えられる、新規な分子構造を有する殺虫殺ダニ剤の開発が望まれている。本発明は、以上のような技術背景の下になされたものであり、殺虫及び/又は殺ダニ活性を示す新規な化合物を提供することを目的とする。
本発明者らは、ピラゾール誘導体について鋭意研究を重ねた結果、(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体に、有害生物防除活性、特に、農園芸有害生物であるナミハダニ、ミカンハダニ等のダニ類に対し、極めて優れた殺ダニ活性を有することを見出し、本発明を完成した。
本発明は、下記の一般式(I)
[式中、
R1は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子、C3−C6シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又はC3−C6シクロアルキル基を表し、
Aは、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)、式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基及びC1−C6アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)又はシアノ基を表し、
Xは、mが2又は3の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、
mは、0乃至3の整数を表し、
nは、0又は1の整数を表し、
Qは、下記の一般式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3):
R1は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子、C3−C6シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又はC3−C6シクロアルキル基を表し、
Aは、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)、式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基及びC1−C6アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)又はシアノ基を表し、
Xは、mが2又は3の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、
mは、0乃至3の整数を表し、
nは、0又は1の整数を表し、
Qは、下記の一般式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3):
[式中、
R2、R5及びR8は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)を表し、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]を表す。]
で表される基を表す。]
で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩である。
なお、mが0の場合、Xmは、水素原子を表す。
R2、R5及びR8は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)を表し、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]を表す。]
で表される基を表す。]
で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩である。
なお、mが0の場合、Xmは、水素原子を表す。
また、本発明は、一般式(I)で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体の製造中間体である、下記の一般式(II)
[式中、A、X、m及びQは、前記と同意義を表し、X1は、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基又は式 −S(C=Z)Ra (式中、Raは、C1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Zは、酸素原子又は硫黄原子を表す。)で表される基を表す。]
で表される置換フェニルピラゾール化合物である。
で表される置換フェニルピラゾール化合物である。
さらに、本発明は、一般式(I)で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する農薬組成物である。
また、明細書および添付の特許請求の範囲で用いられるように、単数形(英語における、「a」、「an」および「the」)は、他に、前後関係が、他を明確に指示していない限りは、複数形をも包含する。
また、明細書および添付の特許請求の範囲で用いられるように、単数形(英語における、「a」、「an」および「the」)は、他に、前後関係が、他を明確に指示していない限りは、複数形をも包含する。
本発明の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩は、例えば、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植物寄生性線虫類等の広範囲の害虫、特に、農園芸有害生物であるナミハダニ、ミカンハダニ等のダニ類に対して、優れた防除効果を示す。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、「置換されていてもよいC1−C6アルキル基」、「置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基」、「置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基」等の「C1−C6アルキル部分」は、炭素数が1乃至6個である直鎖又は分岐鎖アルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、2−メチルブチル基、1−メチルペンチル基、ネオペンチル基、1−エチルプロピル基、ヘキシル基、1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基又は1,1−ジメチルブチル基であり得、R1においては、好適には、炭素数が1乃至4個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C1−C4アルキル基)であり、より好適には、炭素数が2乃至4個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C2−C4アルキル基)であり、更により好適には、炭素数が2乃至3個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C2−C3アルキル基)であり、最も好適には、エチル基であり、その他においては、好適には、炭素数が1乃至4個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C1−C4アルキル基)であり、より好適には、炭素数が1乃至3個である直鎖又は分岐鎖アルキル基(C1−C3アルキル基)であり、更により好適には、メチル基又はエチル基である。
本発明において、「ハロゲン原子」は、例えば、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子、ヨウ素原子であり得、好適には、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子であり、Aにおいては、より好適には、塩素原子又は臭素原子であり、その他においては、より好適には、フッ素原子又は塩素原子である。
本発明において、「ハロゲン原子」は、例えば、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子、ヨウ素原子であり得、好適には、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子であり、Aにおいては、より好適には、塩素原子又は臭素原子であり、その他においては、より好適には、フッ素原子又は塩素原子である。
本発明において、「置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基」等の「C3−C6シクロアルキル部分」は、炭素数が3乃至6個の環状アルキル基であり、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基であり得、好適には、炭素数が3乃至5個の環状アルキル基であり、より好適には、シクロプロピル基である。
本発明において、「置換されていてもよいC2−C6アルケニル基」の「C2−C6アルケニル部分」は、炭素数が2乃至6個である直鎖又は分枝鎖アルケニル基であり、例えば、エテニル基、2−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、1−ヘキセニル基又は2−ヘキセニル基であり得、好適には、炭素数が2乃至4個である直鎖又は分枝鎖アルケニル基であり、より好適には、炭素数が3又は4個である直鎖又は分枝鎖アルケニル基(C3−C4アルケニル基)であり、更により好適には、2−プロペニル基である。
本発明において、「置換されていてもよいC2−C6アルキニル基」等の「C2−C6アルキニル部分」は、炭素数が2乃至6個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、例えば、エチニル基、2−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、1−メチル−2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−ペンチニル基、2−ペンチニル基、1−ヘキシニル基又は2−ヘキシニル基であり得、好適には、炭素数が2乃至4個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、より好適には、炭素数が3又は4個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基(C3−C4アルキニル基)であり、更により好適には、2−プロピニル基である。
本発明において、「置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基」の「5−6員環へテロアリール部分」は、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり得、好適には、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり、より好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はピリジル基であり、更により好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基であり、最も好適には、チアゾリル基、オキサジアゾリル基又はジヒドロオキサジアゾリル基である。
本発明において、「置換されていてもよいC2−C6アルキニル基」等の「C2−C6アルキニル部分」は、炭素数が2乃至6個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、例えば、エチニル基、2−プロピニル基、1−メチル−2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、1−メチル−2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−ペンチニル基、2−ペンチニル基、1−ヘキシニル基又は2−ヘキシニル基であり得、好適には、炭素数が2乃至4個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基であり、より好適には、炭素数が3又は4個である直鎖又は分枝鎖アルキニル基(C3−C4アルキニル基)であり、更により好適には、2−プロピニル基である。
本発明において、「置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基」の「5−6員環へテロアリール部分」は、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり得、好適には、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり、より好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はピリジル基であり、更により好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基であり、最も好適には、チアゾリル基、オキサジアゾリル基又はジヒドロオキサジアゾリル基である。
本発明において、R1の「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子、C3−C6シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、5−フルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、6−フルオロへキシル基、6−クロロヘキシル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、2−シクロプロピルエチル基、2−シクロブチルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、2−シクロヘキシルエチル基、3−シクロプロピルプロピル基、3−シクロブチルプロピル基、4−シクロプロピルブチル基、4−シクロブチルブチル基、5−シクロプロピルペンチル基、5−シクロブチルペンチル基、6−シクロプロピルへキシル基、6−シクロブチルヘキシル基、シアノメチル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、4−シアノブチル基、5−シアノペンチル基又は6−シアノ基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、1−7個のハロゲン原子、1個のC3−C6シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)」であり、より好適には、前記「C1−C4アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、2−シクロプロピルエチル基、2−シクロブチルエチル基、シアノメチル基又は2−シアノエチル基であり、更により好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、2−シクロプロピルエチル基、2−シクロブチルエチル基、シアノメチル基又は2−シアノエチル基であり、特に好適は、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基又はシアノメチル基であり、最も好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基又はシクロプロピルメチル基である。
本発明において、R1の「置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C2−C6アルケニル基」、2−フルオロエテニル基、2−クロロエテニル基、2−ブロモエテニル基、3−フルオロ−2−プロペニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、3,3−ジクロロ−2−プロペニル基、2,3,3−トリフルオロ−2−プロペニル基、2−シアノエテニル基又は3−シアノ−2−プロペニル基であり得、好適には、前記「C2−C4アルケニル基」、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、2−シアノエテニル基又は3−シアノ−2−プロペニル基であり、最も好適には、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、3,3−ジクロロ−2−プロペニル基又は2−プロペニル基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、5−フルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、6−フルオロへキシル基、6−クロロヘキシル基、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシロエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル基又は6−ヒドロキシへキシル基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は1−7個のハロゲン原子である。)」であり、より好適には、前記「C1−C3アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基又は2−ヒドロキシエチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシメチル基、1−ヒドロキシエチル基又は2−ヒドロキシエチル基であり、特に好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、最も好適には、メチル基、エチル基又はジフルオロメチル基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C2−C6アルケニル基」、2−フルオロエテニル基、2−クロロエテニル基、2−ブロモエテニル基、3−フルオロ−2−プロペニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、3,3−ジクロロ−2−プロペニル基又は2,3,3−トリフルオロ−2−プロペニル基であり得、好適には、前記「C2−C4アルケニル基」、2−クロロ−2−プロペニル又は3−クロロ−2−プロペニル基であり、より好適には、エテニル基、2−プロペニル基又は2−ブテニル基であり、最も好適には、2−プロペニル基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよいC2−C6アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C2−C6アルキニル基」、2−フルオロエチニル基、2−クロロエチニル基、2−ブロモエチニル基、3−フルオロ−2−プロピニル基又は3−クロロ−2−プロピニル基であり得、好適には、前記「C2−C4アルキニル基」であり、より好適には、エチニル基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)」は、例えば、前記「C3−C6シクロアルキル基」、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、ブロモシクロプロピル基、ジブロモシクロプロピル基、ヨードシクロプロピル基、フルオロシクロブチル基、クロロシクロブチル基、ブロモシクロブチル基、フルオロシクロペンチル基、ジフルオロシクロペンチル基、クロロシクロペンチル基、ジクロロシクロペンチル基、ブロモシクロペンチル基、ジブロモシクロペンチル基、ヨードシクロペンチル基、フルオロシクロへキシル基、ジフルオロシクロへキシル基、クロロシクロへキシル基、ジクロロシクロへキシル基、ブロモシクロへキシル基、ジブロモシクロへキシル基又はヨードシクロへキシル基であり得、好適には、前記「C3−C6シクロアルキル基」、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基又はジクロロシクロプロピル基であり、より好適には、シクロプロピル基又はシクロブチル基である。
本発明において、Aの「式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基」は、好適には、Rが水素原子又はC1−C4アルキル基である基であり、より好適には、Rが、水素原子、メチル基又はエチル基である基であり、最も好適には、Rが水素原子又はメチル基であり、Yが、水素原子である基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基及びC1−C6アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)」は、例えば、前記「5−6員環へテロアリール基」、クロロフリル基、メチルフリル基、メトキシフリル基、クロロチエニル基、メトキシチエニル基、メチルピロリル基、クロロオキサゾリル基、メチルオキサゾリル基、メトキシオキサゾリル基、メチルイソオキサゾリル基、エチルイソオキサゾリル基、クロロイソオキサゾリル基、メトキシイソオキサゾリル基、メチルチアゾリル基、エチルチアゾリル基、クロロチアゾリル基、メトキシチアゾリル基、クロロイソチアゾリル基、メチルイソチアゾリル基、クロロイミダゾリル基、メチルイミダゾリル基、メチルピラゾリル基、クロロピラゾリル基、フルオロピラゾリル基、クロロオキサジアゾリル基、メチルオキサジアゾリル基、エチルオキサジアゾリル基、メチルジヒドロオキサジアゾリル基、エチルジヒドロオキサジアゾリル基、クロロチアジアゾリル基、メチルチアジアゾリル基、エチルチアジアゾリル基、メチルジヒドロチアジアゾリル基、メチルトリアゾリル基、クロロトリアゾリル基、クロロピリジル基、メチルピリジル基、メトキシピリジル基、エチルピリジル基、クロロピラジニル基、メチルピラジニル基、メトキシピラジニル基、クロロピリミジニル基、メチルピリミジニル基、メトキシピリミジニル基、クロロピリダジニル基、メチルピリダジニル基又はメトキシピリダジニル基であり得、好適には、フリル基、クロロフリル基、メチルフリル基、メトキシフリル基、チエニル基、クロロチエニル基、メトキシチエニル基、ピロリル基、メチルピロリル基、オキサゾリル基、クロロオキサゾリル基、メチルオキサゾリル基、メトキシオキサゾリル基、イソオキサゾリル基、メチルイソオキサゾリル基、クロロイソオキサゾリル基、メトキシイソオキサゾリル基、チアゾリル基、メチルチアゾリル基、クロロチアゾリル基、メトキシチアゾリル基、イソチアゾリル基、クロロイソチアゾリル基、メチルイソチアゾリル基、イミダゾリル基、クロロイミダゾリル基、メチルイミダゾリル基、ピラゾリル基、メチルピラゾリル基、クロロピラゾリル基、フルオロピラゾリル基、オキサジアゾリル基、クロロオキサジアゾリル基、メチルオキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、メチルジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、クロロチアジアゾリル基、メチルチアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、メチルジヒドロチアジアゾリル基、メチルトリアゾリル基、トリアゾリル基、クロロトリアゾリル基、ピリジル基、クロロピリジル基、メチルピリジル基、メトキシピリジル基、エチルピリジル基、ピラジニル基、クロロピラジニル基、メチルピラジニル基、メトキシピラジニル基、ピリミジニル基、クロロピリミジニル基、メチルピリミジニル基、メトキシピリミジニル基、ピリダジニル基、クロロピリダジニル基、メチルピリダジニル基又はメトキシピリダジニル基であり、より好適には、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり、更により好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はピリジル基であり、特に好適には、イソキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基であり、最も好適には、チアゾリル基、オキサジアゾリル基又はジヒドロオキサジアゾリル基である。
本発明において、R2、R4等の「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、ノナフルオロブチル基、5−フルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、6−フルオロへキシル基又は6−クロロヘキシル基であり得、好適には、前記「C1−C4アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、R2、R5及びR8については、より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、最も好適には、メチル基又はエチル基であり、R3、R4、R6、R7、R9及びR10については、より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、特に好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基又はヘプタフルオロプロピル基であり、最も好適には、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基又はヘプタフルオロプロピル基である。
本発明において、R4等の「置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルコキシ基」、フルオロメトキシ、クロロメトキシ、ブロモメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、2−フルオロエトキシ、2−クロロエトキシ、2−ブロモエトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、3−フルオロプロポキシ、3−クロロプロポキシ、2,3,3−トリフルオロプロポキシ、3,3,3−トリフルオロプロポキシ、2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロプロポキシ、4−フルオロブトキシ、4−クロロブトキシ、5−フルオロペンチオキシ、5−クロロペンチオキシ、6−フルオロへキシルオキシ又は6−クロロヘキシルオキシ基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個のハロゲン原子である。)」であり、より好適には、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基又はペンタフルオロエトキシ基であり、最も好適には、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基である。
本発明において、R4等の「置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキルチオ基」、フルオロメチルチオ、クロロメチルチオ、ブロモメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、2−フルオロエチルチオ、2−クロロエチルチオ、2−ブロモエチルチオ、2,2,2−トリフルオロエチルチオ、ペンタフルオロエチルチオ、3−フルオロプロピルチオ、3−クロロプロピルチオ、2,3,3−トリフルオロプロピルチオ、3,3,3−トリフルオロプロピルチオ、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルチオ、ヘプタフルオロプロピルチオ、4−フルオロブチルチオ、4−クロロブチルチオ、5−フルオロペンチルチオ、5−クロロペンチルチオ、6−フルオロへキシルチオ又は6−クロロヘキシルチオ基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C3アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)」であり、より好適には、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基又はペンタフルオロエチルチオ基であり、最も好適には、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である。
本発明において、R4等の「置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]」は、例えば、フェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、フルオロクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、フルオロ(メチル)フェニル基、クロロ(メチル)フェニル基、ブロモ(メチル)フェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基、フルオロ(トリフルオロメチル)フェニル基、メトキシフェニル基、(ジフルオロメトキシ)フェニル基、(トリフルオロメトキシ)フェニル基、エトキシフェニル基、(2,2,2−トリフルオロエトキシ)フェニル基、フロポキシフェニル基又は(3,3,3−トリフルオロプロポキシ)フェニル基であり得、好適には、「置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)から選択される1〜3個の置換基である。]であり、より好適には、「置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C2アルキル基(当該置換基は、フッ素原子及び塩素原子からなる群から選ばれる1−3個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C2アルコキシ基(当該置換基は、フッ素原子及び塩素原子からなる群から選ばれる1−3個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]」であり、更により好適には、フェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基、メトキシフェニル基、(ジフルオロメトキシ)フェニル基、(トリフルオロメトキシ)フェニル基又は(2,2,2−トリフルオロエトキシ)フェニル基であり、最も好適には、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよいC2−C6アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C2−C6アルキニル基」、2−フルオロエチニル基、2−クロロエチニル基、2−ブロモエチニル基、3−フルオロ−2−プロピニル基又は3−クロロ−2−プロピニル基であり得、好適には、前記「C2−C4アルキニル基」であり、より好適には、エチニル基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)」は、例えば、前記「C3−C6シクロアルキル基」、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、ブロモシクロプロピル基、ジブロモシクロプロピル基、ヨードシクロプロピル基、フルオロシクロブチル基、クロロシクロブチル基、ブロモシクロブチル基、フルオロシクロペンチル基、ジフルオロシクロペンチル基、クロロシクロペンチル基、ジクロロシクロペンチル基、ブロモシクロペンチル基、ジブロモシクロペンチル基、ヨードシクロペンチル基、フルオロシクロへキシル基、ジフルオロシクロへキシル基、クロロシクロへキシル基、ジクロロシクロへキシル基、ブロモシクロへキシル基、ジブロモシクロへキシル基又はヨードシクロへキシル基であり得、好適には、前記「C3−C6シクロアルキル基」、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基又はジクロロシクロプロピル基であり、より好適には、シクロプロピル基又はシクロブチル基である。
本発明において、Aの「式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基」は、好適には、Rが水素原子又はC1−C4アルキル基である基であり、より好適には、Rが、水素原子、メチル基又はエチル基である基であり、最も好適には、Rが水素原子又はメチル基であり、Yが、水素原子である基である。
本発明において、Aの「置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基及びC1−C6アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)」は、例えば、前記「5−6員環へテロアリール基」、クロロフリル基、メチルフリル基、メトキシフリル基、クロロチエニル基、メトキシチエニル基、メチルピロリル基、クロロオキサゾリル基、メチルオキサゾリル基、メトキシオキサゾリル基、メチルイソオキサゾリル基、エチルイソオキサゾリル基、クロロイソオキサゾリル基、メトキシイソオキサゾリル基、メチルチアゾリル基、エチルチアゾリル基、クロロチアゾリル基、メトキシチアゾリル基、クロロイソチアゾリル基、メチルイソチアゾリル基、クロロイミダゾリル基、メチルイミダゾリル基、メチルピラゾリル基、クロロピラゾリル基、フルオロピラゾリル基、クロロオキサジアゾリル基、メチルオキサジアゾリル基、エチルオキサジアゾリル基、メチルジヒドロオキサジアゾリル基、エチルジヒドロオキサジアゾリル基、クロロチアジアゾリル基、メチルチアジアゾリル基、エチルチアジアゾリル基、メチルジヒドロチアジアゾリル基、メチルトリアゾリル基、クロロトリアゾリル基、クロロピリジル基、メチルピリジル基、メトキシピリジル基、エチルピリジル基、クロロピラジニル基、メチルピラジニル基、メトキシピラジニル基、クロロピリミジニル基、メチルピリミジニル基、メトキシピリミジニル基、クロロピリダジニル基、メチルピリダジニル基又はメトキシピリダジニル基であり得、好適には、フリル基、クロロフリル基、メチルフリル基、メトキシフリル基、チエニル基、クロロチエニル基、メトキシチエニル基、ピロリル基、メチルピロリル基、オキサゾリル基、クロロオキサゾリル基、メチルオキサゾリル基、メトキシオキサゾリル基、イソオキサゾリル基、メチルイソオキサゾリル基、クロロイソオキサゾリル基、メトキシイソオキサゾリル基、チアゾリル基、メチルチアゾリル基、クロロチアゾリル基、メトキシチアゾリル基、イソチアゾリル基、クロロイソチアゾリル基、メチルイソチアゾリル基、イミダゾリル基、クロロイミダゾリル基、メチルイミダゾリル基、ピラゾリル基、メチルピラゾリル基、クロロピラゾリル基、フルオロピラゾリル基、オキサジアゾリル基、クロロオキサジアゾリル基、メチルオキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、メチルジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、クロロチアジアゾリル基、メチルチアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、メチルジヒドロチアジアゾリル基、メチルトリアゾリル基、トリアゾリル基、クロロトリアゾリル基、ピリジル基、クロロピリジル基、メチルピリジル基、メトキシピリジル基、エチルピリジル基、ピラジニル基、クロロピラジニル基、メチルピラジニル基、メトキシピラジニル基、ピリミジニル基、クロロピリミジニル基、メチルピリミジニル基、メトキシピリミジニル基、ピリダジニル基、クロロピリダジニル基、メチルピリダジニル基又はメトキシピリダジニル基であり、より好適には、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基又はピリダジニル基であり、更により好適には、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はピリジル基であり、特に好適には、イソキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基であり、最も好適には、チアゾリル基、オキサジアゾリル基又はジヒドロオキサジアゾリル基である。
本発明において、R2、R4等の「置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3−クロロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、4−クロロブチル基、ノナフルオロブチル基、5−フルオロペンチル基、5−クロロペンチル基、6−フルオロへキシル基又は6−クロロヘキシル基であり得、好適には、前記「C1−C4アルキル基」、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、R2、R5及びR8については、より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、最も好適には、メチル基又はエチル基であり、R3、R4、R6、R7、R9及びR10については、より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、更により好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基又はノナフルオロブチル基であり、特に好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基又はヘプタフルオロプロピル基であり、最も好適には、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基又はヘプタフルオロプロピル基である。
本発明において、R4等の「置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルコキシ基」、フルオロメトキシ、クロロメトキシ、ブロモメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、2−フルオロエトキシ、2−クロロエトキシ、2−ブロモエトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、3−フルオロプロポキシ、3−クロロプロポキシ、2,3,3−トリフルオロプロポキシ、3,3,3−トリフルオロプロポキシ、2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロプロポキシ、4−フルオロブトキシ、4−クロロブトキシ、5−フルオロペンチオキシ、5−クロロペンチオキシ、6−フルオロへキシルオキシ又は6−クロロヘキシルオキシ基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個のハロゲン原子である。)」であり、より好適には、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基又はペンタフルオロエトキシ基であり、最も好適には、ジフルオロメトキシ基又はトリフルオロメトキシ基である。
本発明において、R4等の「置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)」は、例えば、前記「C1−C6アルキルチオ基」、フルオロメチルチオ、クロロメチルチオ、ブロモメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、2−フルオロエチルチオ、2−クロロエチルチオ、2−ブロモエチルチオ、2,2,2−トリフルオロエチルチオ、ペンタフルオロエチルチオ、3−フルオロプロピルチオ、3−クロロプロピルチオ、2,3,3−トリフルオロプロピルチオ、3,3,3−トリフルオロプロピルチオ、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルチオ、ヘプタフルオロプロピルチオ、4−フルオロブチルチオ、4−クロロブチルチオ、5−フルオロペンチルチオ、5−クロロペンチルチオ、6−フルオロへキシルチオ又は6−クロロヘキシルチオ基であり得、好適には、「置換されていてもよいC1−C3アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)」であり、より好適には、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基又はペンタフルオロエチルチオ基であり、最も好適には、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である。
本発明において、R4等の「置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]」は、例えば、フェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、フルオロクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、フルオロ(メチル)フェニル基、クロロ(メチル)フェニル基、ブロモ(メチル)フェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基、フルオロ(トリフルオロメチル)フェニル基、メトキシフェニル基、(ジフルオロメトキシ)フェニル基、(トリフルオロメトキシ)フェニル基、エトキシフェニル基、(2,2,2−トリフルオロエトキシ)フェニル基、フロポキシフェニル基又は(3,3,3−トリフルオロプロポキシ)フェニル基であり得、好適には、「置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)から選択される1〜3個の置換基である。]であり、より好適には、「置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C2アルキル基(当該置換基は、フッ素原子及び塩素原子からなる群から選ばれる1−3個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C2アルコキシ基(当該置換基は、フッ素原子及び塩素原子からなる群から選ばれる1−3個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]」であり、更により好適には、フェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基、メトキシフェニル基、(ジフルオロメトキシ)フェニル基、(トリフルオロメトキシ)フェニル基又は(2,2,2−トリフルオロエトキシ)フェニル基であり、最も好適には、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である。
本発明の化合物(I)は、酸性物質又は塩基性物質とともに塩を形成してもよく、例えば、分子中に解離性のプロトンがある場合には、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩にすることができ、又、酸性物質との塩としては、例えば、硫酸塩、塩酸塩、硝酸塩、リン酸塩のような塩にすることができる。それらの塩は、殺虫組成物などの農薬組成物として使用できるかぎり、本発明に包含される。
本発明において、「アルカリ金属塩」は、例えば、リチウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩であり得、好適には、ナトリウム塩又はカリウム塩である。
本発明において、「アルカリ土類金属塩」は、例えば、カルシウム塩又はマグネシウム塩であり得、好適には、カルシウム塩である。
本発明化合物の水和物も、本発明に包含されるものである。
本発明の一般式(I)において、
R1は、(1a)好適には、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−7個のハロゲン原子、1個のC3−C6シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1−2個のハロゲン原子又は1個のシアノ基である。)又はC3−C6シクロアルキル基であり、
(1b)より好適には、置換されていてもよいC2−C4アルキル基(当該置換基は、1−5個の弗素原子、1個の塩素原子、1個のC3−C4シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、C2−C4アルケニル基又はC3−C5シクロアルキル基であり、
(1c)更により好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペン−1−イル基又はシクロペンチル基であり、
(1d)特に好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基であり、
(1e)最も好適には、プロピル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
Aは、(2a)好適には、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は1−5個のハロゲン原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルキニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC3−C4シクロアルキル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、式 −C(Y)=NOR(式中、Rは、水素原子又はC1−C4アルキル基であり、Yは、水素原子又はアミノ基である。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C2アルキル基及びC1−C2アルコキシ基からなる群から選択される1〜2個の置換基である。)又はシアノ基であり、
(2b)より好適には、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1−C3アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、C2−C4アルケニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、C2−C4アルキニル基、3−クロロ−2−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、アミノ(ヒドロキシイミノ)メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基であり、
(2c)更により好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、エチニル基、1−プロピニル基、2−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基であり、
(2d)特に好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基であり、
(2e)最も好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、2−プロペニル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基であり、
Xは、(3a)好適には、弗素原子又は塩素原子であり、
(3b)より好適には、弗素原子であり、
mは、(4a)好適には、0乃至2の整数であり、
(4b)より好適には、0又は1の整数であり、
nは、(5a)好適には、0の整数であり、
Qは、(6a)好適には、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、
(6b)より好適には、式(Q−1)で表される基であり
R2、R5及びR8は、(7a)好適には、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。)であり、
(7b)より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
(7c)更により好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
(7d)最も好適には、メチル基又はエチル基であり
R3、R4、R6、R7、R9及びR10は、(8a)好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個の弗素原子又は1個の塩素原子である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]であり、
(8b)より好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される1−2個の置換基で置換されたフェニル基であり、
(8c)更により好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基であり、
(8d)最も好適には、R3、R6及びR9は、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、R4、R7及びR10は、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である。
また、R1を(1a)−(1e)から選択し、Aを(2a)−(2e)から選択し、Xを(3a)−(3b)から選択し、mを(4a)−(4b)から選択し、nを(5a)から選択し、R2等を(7a)−(7d)から選択し、R3等を(8a)−(8d)から選択し、これらを組み合わせて得られる化合物も好適であり、例えば、以下のものを挙げることができる。
(1A)R1が、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−7個のハロゲン原子、1個のC3−C6シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1−2個のハロゲン原子又は1個のシアノ基である。)又はC3−C6シクロアルキル基であり、
Aが、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は1−5個のハロゲン原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルキニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC3−C4シクロアルキル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、式 −C(Y)=NOR(式中、Rは、水素原子又はC1−C4アルキル基であり、Yは、水素原子又はアミノ基である。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C2アルキル基及びC1−C2アルコキシ基からなる群から選択される1〜2個の置換基である。)又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0乃至2の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3)で表される基であり、
R2、R5及びR8が、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。)であり、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個の弗素原子又は1個の塩素原子である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]である化合物、
(1B)R1が、置換されていてもよいC2−C4アルキル基(当該置換基は、1−5個の弗素原子、1個の塩素原子、1個のC3−C4シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、C2−C4アルケニル基又はC5−C6シクロアルキル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1−C3アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、C2−C4アルケニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、C2−C4アルキニル基、3−クロロ−2−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、アミノ(ヒドロキシイミノ)メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0乃至2の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3)で表される基であり、
R2、R5及びR8が、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される1−2個の置換基で置換されたフェニル基である化合物、
(1C)R1が、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペン−1−イル基又はシクロペンチル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、エチニル基、1−プロピニル基、2−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0乃至2の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、
R2、R5及びR8が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である化合物、
(1D)R1が、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0又は1の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)で表される基であり、
R2が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
R3及びR4が、同一又は異なって、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である化合物 又は
(1E)R1が、プロピル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、2−プロペニル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子であり、
mが、0又は1の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)で表される基であり、
R2は、メチル基又はエチル基であり、
R3が、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、R4が、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である化合物。
また、X1は、好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基、式 −S(C=O)Ra(式中、Raは、C1−C2アルキル基である。)で表される基、式 −S(C=S)Ra(式中、Raは、C1−C2アルコキシ基である。)で表される基又はクロロスルホニル基であり、より好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基、式 −S(C=S)Ra(式中、Raは、C1−C2アルコキシ基である。)で表される基又はクロロスルホニル基であり、更により好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基又はメルカプト基子である。
他方、本発明の一般式(I)において、
R1は、好適には、1乃至7個のハロゲンで置換されてもよいC2−C4のアルキル基、C3−C4シクロアルキル基で置換されたC1−C2アルキル基又はC3−C4アルケニル基であり、より好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,3,3−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、2−プロペニル基又は2−メチル−2−プロペニル基であり、更により好適には、プロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基である。
R1は、(1a)好適には、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−7個のハロゲン原子、1個のC3−C6シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1−2個のハロゲン原子又は1個のシアノ基である。)又はC3−C6シクロアルキル基であり、
(1b)より好適には、置換されていてもよいC2−C4アルキル基(当該置換基は、1−5個の弗素原子、1個の塩素原子、1個のC3−C4シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、C2−C4アルケニル基又はC3−C5シクロアルキル基であり、
(1c)更により好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペン−1−イル基又はシクロペンチル基であり、
(1d)特に好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基であり、
(1e)最も好適には、プロピル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
Aは、(2a)好適には、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は1−5個のハロゲン原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルキニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC3−C4シクロアルキル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、式 −C(Y)=NOR(式中、Rは、水素原子又はC1−C4アルキル基であり、Yは、水素原子又はアミノ基である。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C2アルキル基及びC1−C2アルコキシ基からなる群から選択される1〜2個の置換基である。)又はシアノ基であり、
(2b)より好適には、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1−C3アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、C2−C4アルケニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、C2−C4アルキニル基、3−クロロ−2−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、アミノ(ヒドロキシイミノ)メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基であり、
(2c)更により好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、エチニル基、1−プロピニル基、2−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基であり、
(2d)特に好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基であり、
(2e)最も好適には、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、2−プロペニル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基であり、
Xは、(3a)好適には、弗素原子又は塩素原子であり、
(3b)より好適には、弗素原子であり、
mは、(4a)好適には、0乃至2の整数であり、
(4b)より好適には、0又は1の整数であり、
nは、(5a)好適には、0の整数であり、
Qは、(6a)好適には、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、
(6b)より好適には、式(Q−1)で表される基であり
R2、R5及びR8は、(7a)好適には、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。)であり、
(7b)より好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
(7c)更により好適には、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
(7d)最も好適には、メチル基又はエチル基であり
R3、R4、R6、R7、R9及びR10は、(8a)好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個の弗素原子又は1個の塩素原子である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]であり、
(8b)より好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される1−2個の置換基で置換されたフェニル基であり、
(8c)更により好適には、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基であり、
(8d)最も好適には、R3、R6及びR9は、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、R4、R7及びR10は、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である。
また、R1を(1a)−(1e)から選択し、Aを(2a)−(2e)から選択し、Xを(3a)−(3b)から選択し、mを(4a)−(4b)から選択し、nを(5a)から選択し、R2等を(7a)−(7d)から選択し、R3等を(8a)−(8d)から選択し、これらを組み合わせて得られる化合物も好適であり、例えば、以下のものを挙げることができる。
(1A)R1が、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−7個のハロゲン原子、1個のC3−C6シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1−2個のハロゲン原子又は1個のシアノ基である。)又はC3−C6シクロアルキル基であり、
Aが、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は1−5個のハロゲン原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルキニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC3−C4シクロアルキル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、式 −C(Y)=NOR(式中、Rは、水素原子又はC1−C4アルキル基であり、Yは、水素原子又はアミノ基である。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C2アルキル基及びC1−C2アルコキシ基からなる群から選択される1〜2個の置換基である。)又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0乃至2の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3)で表される基であり、
R2、R5及びR8が、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。)であり、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個の弗素原子又は1個の塩素原子である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]である化合物、
(1B)R1が、置換されていてもよいC2−C4アルキル基(当該置換基は、1−5個の弗素原子、1個の塩素原子、1個のC3−C4シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、C2−C4アルケニル基又はC5−C6シクロアルキル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1−C3アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、C2−C4アルケニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、C2−C4アルキニル基、3−クロロ−2−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、アミノ(ヒドロキシイミノ)メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0乃至2の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3)で表される基であり、
R2、R5及びR8が、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される1−2個の置換基で置換されたフェニル基である化合物、
(1C)R1が、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペン−1−イル基又はシクロペンチル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、エチニル基、1−プロピニル基、2−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0乃至2の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、
R2、R5及びR8が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である化合物、
(1D)R1が、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子又は塩素原子であり、
mが、0又は1の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)で表される基であり、
R2が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
R3及びR4が、同一又は異なって、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である化合物 又は
(1E)R1が、プロピル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基であり、
Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、2−プロペニル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基であり、
Xが、弗素原子であり、
mが、0又は1の整数であり、
nが、0又は1の整数であり、
Qが、式(Q−1)で表される基であり、
R2は、メチル基又はエチル基であり、
R3が、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、R4が、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である化合物。
また、X1は、好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基、式 −S(C=O)Ra(式中、Raは、C1−C2アルキル基である。)で表される基、式 −S(C=S)Ra(式中、Raは、C1−C2アルコキシ基である。)で表される基又はクロロスルホニル基であり、より好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基、式 −S(C=S)Ra(式中、Raは、C1−C2アルコキシ基である。)で表される基又はクロロスルホニル基であり、更により好適には、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基又はメルカプト基子である。
他方、本発明の一般式(I)において、
R1は、好適には、1乃至7個のハロゲンで置換されてもよいC2−C4のアルキル基、C3−C4シクロアルキル基で置換されたC1−C2アルキル基又はC3−C4アルケニル基であり、より好適には、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,3,3−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、2−プロペニル基又は2−メチル−2−プロペニル基であり、更により好適には、プロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基である。
Aは、好適には、C1−C2アルキル基、ハロゲン原子又はシアノ基であり、より好適には、メチル基、エチル基、塩素原子又はシアノ基であり、更により好適には、メチル基又はシアノ基である。
Xは、好適には、塩素原子又は弗素原子であり、より好適には、弗素原子である。
mは、好適には、0乃至2であり、より好適には、0又は1である。
nは、好適には、0である。
Qは、好適には、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、より好適には、式(Q−1)で表される基である。
R2、R5及びR8は、好適には、メチル基、エチル基またはC1−C2ハロ(特に、弗素原子又は塩素原子で置換された)アルキル基であり、より好適は、メチル基又はエチル基である。
R3は、好適には、水素原子、C1−C2アルキル基又はC1−C2ハロアルキル基であり、より好適には、水素原子又はメチル基である。
R4は、好適には、C1−C3アルキル基又はC1−C3ハロ(特に、弗素原子又は塩素原子で置換された)アルキル基であり、より好適には、C1−C2アルキル基又は弗素原子で置換されたC1−C2アルキル基であり、更により好適には、トリフルオロメチル基又はペンタフルオロエチル基である。
R6は、好適には、水素原子、C1−C2アルキル基又はC1−C2ハロアルキル基であり、より好適には、トリフルオロメチル基である。
R7は、好適には、水素原子、C1−C2アルキル基又はC1−C2ハロアルキル基であり、より好適には、水素原子である。
R9およびR10は、水素原子、ハロゲン原子又はC1−C2ハロアルキル基であり、より好適には、水素原子である。
好ましい化合物群は、例えば、
Qが、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、
R1が、ハロゲンで置換されたC2−C4アルキル基又はC3−C4シクロアルキルメチル基であり、
Aが、メチル基、塩素原子又はシアノ基であり、
Xが、水素原子であり、
nが、0又は1である化合物群であり、
より好ましい化合物群は、例えば、
Qが、式(Q−1)で表される基であり、
Aが、塩素原子、メチル基又はシアノ基であり、
R1が、プロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基又はシクロプロピルメチル基であり、
nが、0又は1である化合物群である。
Qが、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基であり、
R1が、ハロゲンで置換されたC2−C4アルキル基又はC3−C4シクロアルキルメチル基であり、
Aが、メチル基、塩素原子又はシアノ基であり、
Xが、水素原子であり、
nが、0又は1である化合物群であり、
より好ましい化合物群は、例えば、
Qが、式(Q−1)で表される基であり、
Aが、塩素原子、メチル基又はシアノ基であり、
R1が、プロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基又はシクロプロピルメチル基であり、
nが、0又は1である化合物群である。
本発明の代表的化合物を下記の表に例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
以下、「Me」はメチル基を、「Et」はエチル基を、「nPr」はノルマルプロピル基を、「cPr」はシクロプロピル基を、「nBu」はノルマルブチル基を、「tBu」はtert−ブチル基を、「cBu」はシクロブチル基を、「Ph」は、フェニル基を、「4,5-DH-1,2,4-OXZ-3」は、4,5−ジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾール−3−イル基を、「1,2,4-OXZ-3」は、1,2,4−オキサジアゾール−3−イル基を、「1,3-TH-2」は、1,3−チアゾール−2−イル基をそれぞれ示す。
上記の例示化合物中、好適な化合物は、
化合物番号1−4:1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−15:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−16:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−35:5−{4−クロロ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−43:4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル、
化合物番号1−55:4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−56:4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
化合物番号1−61:4−[1−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−65:4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−66:4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
化合物番号1−67:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール
化合物番号1−68:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−69:4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−70:4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
化合物番号1−72:3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール、
化合物番号1−86:5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
化合物番号1−87:5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−90:5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−91:1−メチル−5−{4−(2−プロぺニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−93:4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−97:5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−99:3−(ジフルオロメトキシ)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール、
化合物番号1−100:3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール又は
化合物番号1−109:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール
である。
化合物番号1−4:1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−15:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−16:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−35:5−{4−クロロ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−43:4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル、
化合物番号1−55:4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−56:4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
化合物番号1−61:4−[1−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−65:4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−66:4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
化合物番号1−67:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール
化合物番号1−68:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−69:4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
化合物番号1−70:4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
化合物番号1−72:3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール、
化合物番号1−86:5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
化合物番号1−87:5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−90:5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−91:1−メチル−5−{4−(2−プロぺニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−93:4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−97:5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
化合物番号1−99:3−(ジフルオロメトキシ)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール、
化合物番号1−100:3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール又は
化合物番号1−109:1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール
である。
本発明の(3−硫黄原子置換)ピラゾール誘導体(I)は、以下に記載する工程A、B、C、D及びEよって製造することができる。
(工程A)
工程Aは、工程A−1a、A−1b、A−2a、A−2b及びA−3からなり、nが0である本発明の化合物(Ia)及びnが1である本発明の化合物(Ib)を製造する工程である。
工程Aは、工程A−1a、A−1b、A−2a、A−2b及びA−3からなり、nが0である本発明の化合物(Ia)及びnが1である本発明の化合物(Ib)を製造する工程である。
上記式中、R1、A、X、m及びQは、前記と同意義を表し、
Y1は、ハロゲン原子を表し、
Y2は、ハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
R14は、水素原子又はC1−C6アルキル基(当該置換基は、隣り合う2個の、R14で、−CH2CH2−、−C(CH3)2−C(CH3)2−又は―CH2CH2CH2−を形成してもよい)を表す。
Y1は、ハロゲン原子を表し、
Y2は、ハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
R14は、水素原子又はC1−C6アルキル基(当該置換基は、隣り合う2個の、R14で、−CH2CH2−、−C(CH3)2−C(CH3)2−又は―CH2CH2CH2−を形成してもよい)を表す。
また、Y2が、臭素原子又は沃素原子の場合、Xは、好適には、弗素原子又は塩素原子を表す。
工程A−1aは、塩基及び溶媒存在下、一般式(III)で表される化合物を、一般式(V)で表される化合物と反応させ、一般式(IV)で表される化合物を製造する工程である。
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;水素化ナトリウム及び水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド及びカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はメチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド及びリチウムジイソプロピルアミドのような有機金属類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属重炭酸塩類、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属アルコキシド類であり、より好適には、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は水素化ナトリウムである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類、ニトリル類又はアミド類であり、より好適には、テトラヒドロフラン、アセトニトリル又はN,N−ジメチルホルムアミドである。
用いられる溶媒の量は、化合物(III)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、6分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間であり、より好適には、15分間〜10時間である。
本工程に使用される化合物(III)は、市販品であるか、既知の方法(例えば、J. Heterocycl. Chem., 1991, 28, 1357-1364等に記載の方法)に従って製造される。
本工程に使用される化合物(V)は、市販品として入手可能である。
工程A−2aは、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、化合物(IV)を、一般式(VI)で表される化合物と反応させ、本発明の化合物(I)において、nが0である化合物(Ia)を製造する工程である。
使用される遷移金属触媒は、例えば、パラジウムカーボン、酢酸パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム及びトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムのようなパラジウム化合物類であり得、好適には、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム又はトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムであり、より好適には、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである。
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;又は炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類又はアルカリ金属重炭酸塩類であり、より好適には、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;又はベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類、芳香族炭化水素類及び水の混合溶媒又はエーテル類であり、より好適には、エタノール、トルエン及び水の混合溶媒又はジメトキシエタンである。
用いられる遷移金属触媒の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、0.01〜1.0molであり、好適には、0.05〜0.1molである。
用いられる塩基の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、1.0〜10molであり、好適には、1.0〜5molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、0.1〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜120℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、30分間〜24時間である。
本工程に使用される化合物(VI)は、市販品であるか、既知の方法(例えば、EP 1108720; 2001、WO 200512254; 2005、J. Heterocycl. Chem., 2004, 41, 931-940等に記載の方法)に従って製造される。
工程A−1bは、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、化合物(III)を、化合物(VI)と反応させ、一般式(IIIa)で表される化合物を製造する工程である。
本工程は、前記工程A−2aと同様に行われる。
工程A−2bは、塩基及び溶媒存在下、化合物(IIIa)を、化合物(V)と反応させ,本発明の化合物(I)において、nが0である化合物(Ia)を製造する工程である。
本工程は、前記工程A−1aと同様に行われる。
また、化合物(Ia)において、Aが、前記の置換されていてもよいアルケニル基又はチアゾリル基である化合物(Ia−1)は、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である化合物を、式 M1−Rb(式中、M1は、後記と同意義を表し、Rbは、前記の置換されていてもよいアルケニル基又はチアゾリル基を表す。)で表される化合物と、後記工程Bの工程B−1と同様に反応させることにより、製造される。
さらに、化合物(Ia)において、Aが、1−ヒドロキシ−1−エチル基である化合物(Ia−2)は、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である化合物を、式 M1−C(OR11)=CH2(式中、M1及びR11は、後記と同意義を表す。)で表される化合物と、後記工程Bの工程B−1と同様に反応させ、得られる化合物を酸処理した後、還元剤(例えば、水素化ホウ素ナトリウム等)と、メタノール中、室温で、1時間反応させることにより、製造される。
さらにまた、化合物(Ia)において、Aが、ジフロロメチル基である化合物(Ia−3)及び、Aが、式 −CH=NOR(式中、Rは前記と同意義を表す。)で表される基である化合物(Ia−4)は、式
で表されるベンズアルデヒド体を、工程A−1a及びA−2aと同様に反応させることにより、製造される化合物を、それぞれ、塩化メチレン中、デオキソフローと、室温で、15時間反応させさせること及び後記工程Dの工程D−1と同様に反応させることにより、製造される。
さらにまた、化合物(Ia)において、R3、R4、R6、R7、R9及び/又はR10が、置換されていてもよいフェニル基である化合物(Ia−5)は、R3、R4、R6、R7、R9及び/又はR10が、ハロゲン原子(好適には、臭素原子)である相当する化合物を、式 Rc−B(OR14)2(式中、R14は、上記と同意義を表し、Rcは、前記の置換されていてもよいフェニル基を表す。)で表されるボロン化合物と、前記工程A−1bと同様に反応させることにより、製造される。
また、化合物(Ia)において、Aが、前記の置換されていてもよいアルケニル基又はチアゾリル基である化合物(Ia−1)は、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である化合物を、式 M1−Rb(式中、M1は、後記と同意義を表し、Rbは、前記の置換されていてもよいアルケニル基又はチアゾリル基を表す。)で表される化合物と、後記工程Bの工程B−1と同様に反応させることにより、製造される。
さらに、化合物(Ia)において、Aが、1−ヒドロキシ−1−エチル基である化合物(Ia−2)は、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である化合物を、式 M1−C(OR11)=CH2(式中、M1及びR11は、後記と同意義を表す。)で表される化合物と、後記工程Bの工程B−1と同様に反応させ、得られる化合物を酸処理した後、還元剤(例えば、水素化ホウ素ナトリウム等)と、メタノール中、室温で、1時間反応させることにより、製造される。
さらにまた、化合物(Ia)において、Aが、ジフロロメチル基である化合物(Ia−3)及び、Aが、式 −CH=NOR(式中、Rは前記と同意義を表す。)で表される基である化合物(Ia−4)は、式
で表されるベンズアルデヒド体を、工程A−1a及びA−2aと同様に反応させることにより、製造される化合物を、それぞれ、塩化メチレン中、デオキソフローと、室温で、15時間反応させさせること及び後記工程Dの工程D−1と同様に反応させることにより、製造される。
さらにまた、化合物(Ia)において、R3、R4、R6、R7、R9及び/又はR10が、置換されていてもよいフェニル基である化合物(Ia−5)は、R3、R4、R6、R7、R9及び/又はR10が、ハロゲン原子(好適には、臭素原子)である相当する化合物を、式 Rc−B(OR14)2(式中、R14は、上記と同意義を表し、Rcは、前記の置換されていてもよいフェニル基を表す。)で表されるボロン化合物と、前記工程A−1bと同様に反応させることにより、製造される。
工程A−3は、溶媒存在下、化合物(Ia)を酸化剤と反応させ、本発明の化合物(I)において、nが1である化合物(Ib)を製造する工程である。
使用される酸化剤は、例えば、過酸化水素、m−クロロ過安息香酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン(OXONE,E.I.DuPont社商品名:ペルオキソ硫酸水素カリウム含有物)又はジ亜塩素酸ナトリウムであり得、好適には、m−クロロ過安息香酸又は過酸化水素であり、より好適には、m−クロロ過安息香酸である。ここで、場合により、触媒(例えば、タングステン酸ナトリウム)を添加してもよい。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、ハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、塩化メチレンである。
用いられる酸化剤の量は、化合物(Ia)1molに対し、通常、0.7〜2.0molであり、好適には、0.9〜1.2molである。
用いられる触媒の量は、化合物(Ia)1molに対し、通常、0.01〜1.0molであり、好適には、0.2molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(Ia)1molに対し、通常、0.1〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、6分間〜48時間であり、好適には、30分間〜24時間である。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
(工程B)
工程Bは、工程B−1、B−2、B−3及びB−4からなり、本発明の化合物(I)において、Qが、後述する、式 Qa 基である化合物(Ic)及び一般式(VIIIa)で表される化合物[又はその互変異性体(VIIIb)]を製造する工程である。
工程Bは、工程B−1、B−2、B−3及びB−4からなり、本発明の化合物(I)において、Qが、後述する、式 Qa 基である化合物(Ic)及び一般式(VIIIa)で表される化合物[又はその互変異性体(VIIIb)]を製造する工程である。
上記式中、R1、A、X、m、R2及びY2は、前記と同意義を表し、
R12は、ハロゲン原子を除くR3と同意義を表し、
R4aは、ハロゲン原子を除くR4と同意義を表し、
Qaは、式(Qa−1)又は(Qa−2)
R12は、ハロゲン原子を除くR3と同意義を表し、
R4aは、ハロゲン原子を除くR4と同意義を表し、
Qaは、式(Qa−1)又は(Qa−2)
(式中、R2及びR4aは、前記と同意義を表し、R3aは、R12と同意義を表し、R5、R6a及びR7aは、それぞれ、R2、R3a及びR4aと同意義を表す。)
で表される基を表し、
R11は、C1−C6アルキル基を表し、
M1は、トリ(C1−C6アルキル)スズを表す。
で表される基を表し、
R11は、C1−C6アルキル基を表し、
M1は、トリ(C1−C6アルキル)スズを表す。
工程B−1は、遷移金属触媒及び溶媒存在下、化合物(IV)を、一般式(IX)で表される化合物と反応させ、一般式(VII)で表される化合物を製造する工程である。
使用される遷移金属触媒は、例えば、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム及びトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムのようなパラジウム化合物類であり得、好適には、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;又はN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、芳香族炭化水素類であり、より好適には、トルエンである。
用いられる遷移金属触媒の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、0.01〜1.0molであり、好適には、0.05〜0.1molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(IV)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜140℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、20分間〜24時間であり、より好適には、30分間〜10時間である。
本工程に使用される化合物(IX)は、市販品であるか、既知の方法(例えば、US 5179088; 1993に記載の方法)に従って製造される。
工程B−2は、塩基及び溶媒存在下、化合物(VII)を、一般式(Xa)で表される化合物又は一般式(Xb)で表される化合物と反応させ、一般式(VIII)で表される化合物を製造する工程である。
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;又はトリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン及びピリジンのような有機塩基であり得、好適には、有機塩基であり、より好適には、ピリジンである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類 、エステル類、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、トルエン又は塩化メチレンである。
用いられる塩基の量は、化合物(VII)1molに対し、通常、1.0〜5.0molであり、好適には、1.0〜2.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(VII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、30分間〜24時間である。
本工程に使用される化合物(Xa)は、市販品であるか、既知の方法(例えば、Synthesis,1989,832-835等に記載の方法)に従って製造される。
本工程に使用される化合物(Xb)は、市販品として入手可能である。
工程B−3は、溶媒存在下、化合物(VIII)を、一般式(XI)で表される化合物と反応させ、本発明の化合物(I)において、Qが、式 Qa 基である化合物(Ic)を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水、カルボン酸類、アルコール類又は芳香族炭化水素類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水、酢酸、メタノール、エタノール又はトルエン或はこれらの混合溶媒である。
用いられる溶媒の量は、化合物(VIII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、50〜150℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、20分間〜24時間であり、より好適には、1時間〜10時間である。
本工程に使用される化合物(XI)は、市販品として入手可能である。
工程B−4は、溶媒存在下、化合物(VIII)を酸と反応させ、一般式(VIIIa)で表される化合物[又はその互変異性体(VIIIb)]を製造する工程である。化合物(VIIIa)[又はその互変異性体(VIIIb)]は、化合物(XI)と、工程B−3と同様に反応させ、化合物(Ic)に導くことができる。
使用される酸は、通常pH3以下を示す酸であれば特に限定はなく、例えば、塩酸及び硫酸のような鉱酸であり得、好適には、塩酸である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類、エステル類、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、メタノール、酢酸エチル、トルエン又は塩化メチレンである。
用いられる酸の量は、化合物(VIII)1molに対し、通常、0.1〜5.0molであり、好適には、0.1〜2.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(VIII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0℃から溶媒の沸点温度であり、好適には、20〜80℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程B−4は、溶媒存在下、化合物(VIII)を酸と反応させ、一般式(VIIIa)で表される化合物[又はその互変異性体(VIIIb)]を製造する工程である。化合物(VIIIa)[又はその互変異性体(VIIIb)]は、化合物(XI)と、工程B−3と同様に反応させ、化合物(Ic)に導くことができる。
使用される酸は、通常pH3以下を示す酸であれば特に限定はなく、例えば、塩酸及び硫酸のような鉱酸であり得、好適には、塩酸である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類、エステル類、芳香族炭化水素類又はハロゲン化炭化水素類であり、より好適には、メタノール、酢酸エチル、トルエン又は塩化メチレンである。
用いられる酸の量は、化合物(VIII)1molに対し、通常、0.1〜5.0molであり、好適には、0.1〜2.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(VIII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0℃から溶媒の沸点温度であり、好適には、20〜80℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
(工程C)
工程Cは、工程C−1〜C−8からなり、本発明の化合物(I)において、nが0である化合物(Ia)を別途に製造する工程である。
工程Cは、工程C−1〜C−8からなり、本発明の化合物(I)において、nが0である化合物(Ia)を別途に製造する工程である。
上記式中、R1、A、Q、X、m、R2、R3、R4、R14及びY2は、前記と同意義を表し、
Qbは、前記式(Q−1)又は(Q−2)(なお、R5、R6及びR7は、それぞれ、R2、R3及びR4に対応する。)で表される基を示し、
Y3は、ハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
Y4は、ハロゲン原子を表し、
R13は、C1−C6アルキル基を表し、
M2は、アルカリ金属(好適には、ナトリウム又はカリウム)を表す。
Qbは、前記式(Q−1)又は(Q−2)(なお、R5、R6及びR7は、それぞれ、R2、R3及びR4に対応する。)で表される基を示し、
Y3は、ハロゲン原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、
Y4は、ハロゲン原子を表し、
R13は、C1−C6アルキル基を表し、
M2は、アルカリ金属(好適には、ナトリウム又はカリウム)を表す。
工程C−1は、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、一般式(XII)で表される化合物を、化合物(VI)と反応させ、本発明の製造中間体(II)において、X1が水素原子又はフッ素原子である化合物を含む、一般式(IIa)で表される化合物を製造する工程である。
本工程は、前記A工程の工程A−2aと同様に行われる。
(式中、R2及びR3は、前記と同意義を表し、R4bは、前記の置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基を表す。)で表される基である化合物(IIa−1)は、後記工程Eの工程E−1で得られる化合物(XXII)を、後述する化合物(XXIII)と、後記工程Eの工程E−3bと同様に反応させることによっても製造される。
工程C−2は、遷移金属触媒、塩基及び溶媒存在下、一般式(XIII)で表される化合物を、一般式(XIV)で表される化合物と反応させ、本発明の製造中間体(II)において、X1が水素原子又はフッ素原子である化合物を含む、化合物(IIa)を別途に製造する工程である。
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;リン酸ナトリウム及びリン酸カリウムのようなアルカリ金属リン酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;水素化ナトリウム及び水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド及びカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はメチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属重炭酸塩類又はアルカリ金属リン酸塩類であり、より好適には、炭酸ナトリウム又はリン酸カリウムである。
使用される遷移金属触媒は、例えば、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム及びトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムのようなパラジウム化合物類であり得、好適には、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;又はN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類又はアミド類であり、より好適には、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン又はN,N−ジメチルホルムアミドである。
用いられる遷移金属触媒の量は、化合物(XIII)1molに対し、通常、0.01〜1.0molであり、好適には、0.05〜0.1molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(XIII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜140℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、1時間〜24時間である。
本工程に使用される化合物(XIV)は、既知の方法(例えば、J. Med. Chem., 2002, 45, 2994-3008、Eur. J. Org. Chem., 2002, 2913-2920等に記載の方法)に従って製造される。
本工程に使用される化合物(XIII)は、市販品として入手可能である。
工程C−3は、溶媒存在下、一般式(XV)で表される化合物を、化合物(XI)と反応させ、本発明の製造中間体(II)において、X1が水素原子又はフッ素原子であり、Qが、式 Qb 基である化合物を含む、一般式(IIb)で表される化合物を製造する工程である。
本工程は、前記B工程の工程B−3と同様に行われる。
本工程に使用される化合物(XV)は、既知の方法(例えば、J. Org.Chem., 1990, 55, 1959-1964等に記載の方法)に従って製造される。
工程C−4は、工程C−1等により製造される化合物(IIa)をニトロ化し、本発明の製造中間体(II)において、X1がニトロ基である、一般式(IIc)で表される化合物を製造する工程である。
本工程は、例えば、濃硫酸−濃硝酸の混酸を用いる方法、硝酸カリウムを用いる方法又は硝酸第二銅−酢酸(・無水酢酸)を用いる方法のような、通常の芳香環をニトロ化する常法に従って行うことができる。
本工程は、溶媒の存在下又は非存在下(好適には、溶媒の非存在下)で行われる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類又はジクロロメタン、クロロホルム及び1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類であり得、好適には、酢酸又はクロロホルムである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−90℃〜反応系における還流温度であり、好適には、−50〜80℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜24時間であり、好適には、30分間〜6時間である。
また、化合物(IIc)において、Qが式
[式中、R2及びR4は、前記と同意義を表し、R3bは、ハロゲン原子(好適には、塩素原子又は臭素原子)を表す。]
で表される基である化合物(IIc−1)は、R3bが水素原子である相当する化合物を、ハロゲン化剤(例えば、N−ハロコハク酸イミド等)と反応させて、製造することもできる。
さらに、化合物(IIc)において、Aが、トリメチルシリルエチニル基である(IIc−2)は、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である相当する化合物を、トリメチルシリルアセチレンと、酢酸パラジウム、ヨウ化第一銅、トリフェニルホスフィン及びトリエチルアミンの存在下、反応させることにより製造され、この化合物を、工程C−5〜C−8と同様に反応させることにより、化合物(Ia)において、Aがエチニル基である化合物が製造される。
また、化合物(IIc)において、Qが式
[式中、R2及びR4は、前記と同意義を表し、R3bは、ハロゲン原子(好適には、塩素原子又は臭素原子)を表す。]
で表される基である化合物(IIc−1)は、R3bが水素原子である相当する化合物を、ハロゲン化剤(例えば、N−ハロコハク酸イミド等)と反応させて、製造することもできる。
さらに、化合物(IIc)において、Aが、トリメチルシリルエチニル基である(IIc−2)は、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である相当する化合物を、トリメチルシリルアセチレンと、酢酸パラジウム、ヨウ化第一銅、トリフェニルホスフィン及びトリエチルアミンの存在下、反応させることにより製造され、この化合物を、工程C−5〜C−8と同様に反応させることにより、化合物(Ia)において、Aがエチニル基である化合物が製造される。
工程C−5は、化合物(IIc)のニトロ基を還元し、本発明の製造中間体(II)において、X1がアミノ基である化合物(IId)を製造する工程である。
本工程は、例えば、パラジウムカーボン触媒下、水素添加する方法、濃塩酸存在下、塩化第一スズを用いる方法又は金属紛(例えば、鉄紛等)−塩化アンモニウムを用いる方法のような、通常、ニトロ基をアミノ基に還元する際の常法(例えば、J. Am. Chem.Soc., 1961, 83, 2489-2493、WO 2005023807; 2005等に記載の方法)に従って行うことができる。
本工程は、溶媒の存在下又は非存在下(好適には、溶媒の存在下)で行われる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;メタノール、エタノール及びプロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;又はジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類あり、好適には、アルコール類又はエーテル類であり、より好適には、メタノール又はエタノールである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−90℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜24時間であり、好適には、30分間〜12時間である。
また、化合物(IId)において、Aがエチル基である化合物(IId−1)は、化合物(IIc)において、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である化合物を、トリメチルシリルアセチレンと、酢酸パラジウム、ヨウ化第一銅、トリフェニルホスフィン及びトリエチルアミンの存在下、反応させ、次いで、炭酸カリウム/メタノールで、トリメチルシリル基を除去し、リンドラー触媒を用いて、接触還元することによっても、製造される。
また、化合物(IId)において、Aがエチル基である化合物(IId−1)は、化合物(IIc)において、Aがハロゲン原子(好適には、臭素原子)である化合物を、トリメチルシリルアセチレンと、酢酸パラジウム、ヨウ化第一銅、トリフェニルホスフィン及びトリエチルアミンの存在下、反応させ、次いで、炭酸カリウム/メタノールで、トリメチルシリル基を除去し、リンドラー触媒を用いて、接触還元することによっても、製造される。
工程C−6は、化合物(IId)のアミノ基をジアゾニウム塩とした後、一般式(XVI)で表される化合物を反応させ、一般式(XVII)で表される化合物を製造する工程である。
本工程は、例えば、亜硝酸、亜硝酸塩(例えば、亜硝酸ナトリウム等)又は亜硝酸アルキルエステルを用いる方法のような通常アミノ基をジアゾニウム塩にする際の常法に従って、反応を行い、次いで、得られたジアゾニウム塩をキサントゲン酸塩と反応させることにより行うことができる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水又はアセトニトリルのようなニトリル類であり得、好適には、水又はアセトニトリルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−70℃〜反応系における還流温度であり、好適には、−20〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜24時間であり、好適には、30分間〜12時間である。
工程C−7は、化合物(XVII)を塩基及び溶媒の存在下、加水分解し、本発明の製造中間体(II)において、X1がメルカプト基である化合物(IIe)を製造する工程である。
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;又は水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物類であり得、好適には、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;又はジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類及び水の混合溶媒であり、より好適には、メタノール若しくはエタノール及び水の混合溶媒である。
用いられる塩基の量は、化合物(XVII)1molに対し、通常、1.0〜10molであり、好適には、1.0〜3.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(XVII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜120℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、10分間〜48時間であり、好適には、30分間〜24時間である。
また、化合物(II)において、X1が、式 −S(C=Z)R’a (式中、Zは、前記の同意義を表し、R’aは、C1−C6アルキル基又はC1−C6アルコキシ基を表す。)で表される化合物(IIf)は、化合物(IIe)を、塩基(例えば、トリエチルアミン等)及び溶媒(例えば、エーテル、ジクロロメタン等)の存在下、式 R’a−C(=Z)Y1((式中、R’a、Y1及びZは、前記の同意義を表す。)で表されるハロ化合物(好適には、クロロ化合物)と、室温で、30分間〜10時間反応させることによって、製造される。
また、化合物(II)において、X1が、式 −S(C=Z)R’a (式中、Zは、前記の同意義を表し、R’aは、C1−C6アルキル基又はC1−C6アルコキシ基を表す。)で表される化合物(IIf)は、化合物(IIe)を、塩基(例えば、トリエチルアミン等)及び溶媒(例えば、エーテル、ジクロロメタン等)の存在下、式 R’a−C(=Z)Y1((式中、R’a、Y1及びZは、前記の同意義を表す。)で表されるハロ化合物(好適には、クロロ化合物)と、室温で、30分間〜10時間反応させることによって、製造される。
工程C−8は、塩基及び溶媒存在下、化合物(IIe)を、一般式(XVIII)で表される化合物と反応させ、本発明の化合物(I)において、nが0である化合物(Ia)を別途に製造する工程である。
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;水素化ナトリウム及び水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド及びカリウムtert−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド類;又はメチルリチウム、ブチルリチウム、メチルマグネシウムブロミド、リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属類であり得、好適には、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属重炭酸塩類、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属アルコキシドであり、より好適には、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム又は水素化ナトリウムである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、脂肪族炭化水素類又は芳香族炭化水素類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド又はアセトニトリル或はこれらの混合溶媒である。
用いられる塩基の量は、化合物(IIe)1molに対し、通常、1.0〜10molであり、好適には、1.0〜3.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(IIe)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、6分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
(工程D)
工程Dは、工程D−1及びD−2からなり、本発明の化合物(I)において、Aが、式 −C(NH2)=NOR (式中、Rは、前記の同意義を表す。)で表される基である化合物(Id)及び、Aが、基 Aa (ここで、Aaは、C1−C6アルキル基で置換されていてもよい、1,2,4−オキサジアゾリル基又はジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾリル基を表す。)である化合物(Ie)を製造する工程である。
上式中、R1、R、Aa、X、m及びQは、前記と同意義を示し、
R15は、水素原子又はC1−C6アルキル基を示し、
R16は、C1−C6アルキル基を示す。
工程D−1は、溶媒及び塩基存在下、一般式(I’)で表されるシアノ化合物を、一般式(XIX)で表される化合物又はその塩(例えば、硫酸塩、塩酸塩又は硝酸塩、好適には、塩酸塩)と反応させ、化合物(Id)を製造する工程である。
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン及びピリジンのような有機塩基であり得、好適には、有機塩基であり、より好適には、トリエチルアミンである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類であり、より好適には、ジオキサンである。
用いられる塩基の量は、化合物(I’)1molに対し、通常、1.0〜5.0molであり、好適には、1.0〜2.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(I’)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0〜150℃であり、好適には、60〜120℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程D−2は、酸及び溶媒存在下、化合物(Id)において、Rが水素原子である化合物(Id−1)を、一般式(XXa)で表される化合物又は一般式(XXb)で表される化合物と反応させ、本発明の化合物(Ie)を製造する工程である。なお、化合物(XXb)において、R15が水素原子である場合は、好適には、ホルマリン(含水ホルムアルデヒド)又はパラホルムアルデヒドとして、化合物(XXb)を反応させることができる。
使用される酸は、通常pH5以下を示す酸であれば特に限定はなく、例えば、塩酸及び硫酸のような鉱酸類、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸及び安息香酸のようなカルボン酸類又はメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸のようなスルホン酸類であり、化合物(XXa)との反応では、好適には、鉱酸類であり、より好適には、硫酸であり、化合物(XXb)との反応では、好適には、カルボン酸類であり、より好適には、酢酸である。また、酢酸等は、溶媒を兼ねて、大過剰に使用することもできる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類又は芳香族炭化水素類であり、より好適には、メタノール、エタノール又はトルエンである。
用いられる酸の量は、化合物(Id−1)1molに対し、通常、0.1〜5.0molであり、好適には、0.1〜1.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(Id−1)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0℃〜反応系における還流温度であり、好適には、5〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、1時間〜90時間であり、好適には、5時間〜72時間である。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
(工程E)
工程Eは、工程E−1〜E−6からなり、本発明の化合物(I)において、Qが、式
(工程D)
工程Dは、工程D−1及びD−2からなり、本発明の化合物(I)において、Aが、式 −C(NH2)=NOR (式中、Rは、前記の同意義を表す。)で表される基である化合物(Id)及び、Aが、基 Aa (ここで、Aaは、C1−C6アルキル基で置換されていてもよい、1,2,4−オキサジアゾリル基又はジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾリル基を表す。)である化合物(Ie)を製造する工程である。
上式中、R1、R、Aa、X、m及びQは、前記と同意義を示し、
R15は、水素原子又はC1−C6アルキル基を示し、
R16は、C1−C6アルキル基を示す。
工程D−1は、溶媒及び塩基存在下、一般式(I’)で表されるシアノ化合物を、一般式(XIX)で表される化合物又はその塩(例えば、硫酸塩、塩酸塩又は硝酸塩、好適には、塩酸塩)と反応させ、化合物(Id)を製造する工程である。
使用される塩基は、通常pH8以上を示す塩基であれば特に限定はなく、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウム及び炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩類;トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン及びピリジンのような有機塩基であり得、好適には、有機塩基であり、より好適には、トリエチルアミンである。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;酢酸エチル及びプロピオン酸エチルのようなエステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、エーテル類であり、より好適には、ジオキサンである。
用いられる塩基の量は、化合物(I’)1molに対し、通常、1.0〜5.0molであり、好適には、1.0〜2.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(I’)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0〜150℃であり、好適には、60〜120℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程D−2は、酸及び溶媒存在下、化合物(Id)において、Rが水素原子である化合物(Id−1)を、一般式(XXa)で表される化合物又は一般式(XXb)で表される化合物と反応させ、本発明の化合物(Ie)を製造する工程である。なお、化合物(XXb)において、R15が水素原子である場合は、好適には、ホルマリン(含水ホルムアルデヒド)又はパラホルムアルデヒドとして、化合物(XXb)を反応させることができる。
使用される酸は、通常pH5以下を示す酸であれば特に限定はなく、例えば、塩酸及び硫酸のような鉱酸類、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸及び安息香酸のようなカルボン酸類又はメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸のようなスルホン酸類であり、化合物(XXa)との反応では、好適には、鉱酸類であり、より好適には、硫酸であり、化合物(XXb)との反応では、好適には、カルボン酸類であり、より好適には、酢酸である。また、酢酸等は、溶媒を兼ねて、大過剰に使用することもできる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、アルコール類又は芳香族炭化水素類であり、より好適には、メタノール、エタノール又はトルエンである。
用いられる酸の量は、化合物(Id−1)1molに対し、通常、0.1〜5.0molであり、好適には、0.1〜1.0molである。
用いられる溶媒の量は、化合物(Id−1)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0℃〜反応系における還流温度であり、好適には、5〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、1時間〜90時間であり、好適には、5時間〜72時間である。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
(工程E)
工程Eは、工程E−1〜E−6からなり、本発明の化合物(I)において、Qが、式
[式中、R2は、前記と同意義を表し、R18は、ハロゲン原子、前記R4における置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基又は前記R4における置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基を表す。]
で表される基であり、nが0である化合物(If)を製造する工程である。
上記式中、R1、R2、X、m、A、R18及びY4は、前記と同意義を示し、
Y5は、ハロゲン原子を示し、
R17は、C1−C6アルキルを示し、
R18aは、前記R4における置換されていてもよいC1−C6アルキル基を表す。
工程E−1は、溶媒存在下、一般式(XXI)で表される化合物を、化合物(XI)と反応させ、一般式(XXII)で表される化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸、プロピオン酸のようなカルボン酸類;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水又はアルコール類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水又はエタノール或はこれらの混合溶媒である。
用いられる溶媒の量は、化合物(XXI)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
本工程に使用される化合物(XXI)は、既知の方法(例えば、Synthesis, 1989, 217-218等)によって製造される。
工程E−2は、溶媒存在下、化合物(XXII)を、ローソン試薬と反応させ、一般式(XXIIa)を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり、好適には、芳香族炭化水素類であり、より好適には、トルエンである。
用いられる溶媒の量は、化合物(XXII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0〜150℃であり、好適には、30〜140℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程E−3aは、塩基及び溶媒存在下、化合物(XXIIa)を、一般式(XXIII)で表される化合物と反応させ、一般式(XXIV)で表される化合物において、R18が、前記の置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基である化合物(XXIVa)を製造する工程である。
本工程は、前記工程Cの工程C−8と同様に行われる。
工程E−3bは、化合物(XXII)を、化合物(XXIII)と反応させ、化合物(XXIV)において、R18が、前記の置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基である化合物(XXIVb)及び、化合物(XXII)を、ハロゲン化剤(例えば、オキシ塩化リン、五塩化リン、四塩化炭素−トリフェニルホスフィン、オキシ臭化リン、五臭化リン、四臭化炭素−トリフェニルホスフィン、オキシヨウ化リン等)を反応させ、化合物(XXIV)において、R18が、ハロゲン原子(好適には、塩素原子又は臭素原子)である化合物(XXIVc)を製造する工程である。
化合物(XXII)と化合物(XXIII)との反応は、前記C法工程C−8と同様に行われ、化合物(XXII)とハロゲン化剤の反応は、溶媒の非存在下又は溶媒(例えば、クロロホルム及び四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類等である。)の存在下(好適には、溶媒の非存在下)、100〜200℃で、5分間〜12時間反応させることにより行われる。
工程E−4は、溶媒存在下又は非存在化、化合物(XXIV)とクロロスルホン酸を反応させ、一般式(XXV)を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類であり得、好適には、クロロホルムである。
用いられる溶媒の量は、化合物(XXIV)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
用いられるクロロスルホン酸の量は、化合物(XXIV)1molに対し、通常、1.0〜10.0molであり、好適には、2.0〜5.0molである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜80℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程E−5は、溶媒存在下または非存在化、化合物(XXV)のクロロスルホニル基を還元し、一般式(XXVI)を有する化合物を製造する工程である。
本工程は、例えば、酸存在下、亜鉛やスズを用いる方法のような、クロロスルホニル基をメルカプト基に還元する際の常法(例えば、J.Am.Chem.Soc.,1947,69,1925、Tetrahedron,1994,50,4775等に記載の方法)に従って行われる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;水;又はメタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水又はアルコール類であり、より好適には、水又エタノールである。
用いられる酸は、例えば、硫酸、塩酸及び硝酸のような鉱酸であり得、好適には、硫酸又は塩酸である。
用いられる亜鉛と酸の量は、化合物(XXV)1molに対し、通常、1.0〜50.0molであり、好適には、1.0〜20.0molである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜150℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
また、本工程において、アシルチオ体(例えば、アセチルチオ体)が得られた場合には、該アシルチオ体を前記工程Cの工程C−7と同様に加水分解して、化合物(XXV)に導くこともできる。
工程E−6は、塩基及び溶媒存在下、化合物(XXVI)と、化合物(XVIII)を反応させ、本発明の化合物(If)を製造する工程である。
本工程は、前記工程Cの工程C−8と同様に行われる。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
で表される基であり、nが0である化合物(If)を製造する工程である。
上記式中、R1、R2、X、m、A、R18及びY4は、前記と同意義を示し、
Y5は、ハロゲン原子を示し、
R17は、C1−C6アルキルを示し、
R18aは、前記R4における置換されていてもよいC1−C6アルキル基を表す。
工程E−1は、溶媒存在下、一般式(XXI)で表される化合物を、化合物(XI)と反応させ、一般式(XXII)で表される化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、水;酢酸、プロピオン酸のようなカルボン酸類;メタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及びジオキサンのようなエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリルのようなニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチル−2−ピロリドンのようなアミド類;ジメチルスルホキシド及びスルホランのようなスルホキシド類;塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水又はアルコール類或はこれらの混合溶媒であり、より好適には、水又はエタノール或はこれらの混合溶媒である。
用いられる溶媒の量は、化合物(XXI)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜100℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
本工程に使用される化合物(XXI)は、既知の方法(例えば、Synthesis, 1989, 217-218等)によって製造される。
工程E−2は、溶媒存在下、化合物(XXII)を、ローソン試薬と反応させ、一般式(XXIIa)を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン及クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類;又はヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタンのような脂肪族炭化水素類;或はこれらの混合溶媒であり、好適には、芳香族炭化水素類であり、より好適には、トルエンである。
用いられる溶媒の量は、化合物(XXII)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、0〜150℃であり、好適には、30〜140℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程E−3aは、塩基及び溶媒存在下、化合物(XXIIa)を、一般式(XXIII)で表される化合物と反応させ、一般式(XXIV)で表される化合物において、R18が、前記の置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基である化合物(XXIVa)を製造する工程である。
本工程は、前記工程Cの工程C−8と同様に行われる。
工程E−3bは、化合物(XXII)を、化合物(XXIII)と反応させ、化合物(XXIV)において、R18が、前記の置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基である化合物(XXIVb)及び、化合物(XXII)を、ハロゲン化剤(例えば、オキシ塩化リン、五塩化リン、四塩化炭素−トリフェニルホスフィン、オキシ臭化リン、五臭化リン、四臭化炭素−トリフェニルホスフィン、オキシヨウ化リン等)を反応させ、化合物(XXIV)において、R18が、ハロゲン原子(好適には、塩素原子又は臭素原子)である化合物(XXIVc)を製造する工程である。
化合物(XXII)と化合物(XXIII)との反応は、前記C法工程C−8と同様に行われ、化合物(XXII)とハロゲン化剤の反応は、溶媒の非存在下又は溶媒(例えば、クロロホルム及び四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類等である。)の存在下(好適には、溶媒の非存在下)、100〜200℃で、5分間〜12時間反応させることにより行われる。
工程E−4は、溶媒存在下又は非存在化、化合物(XXIV)とクロロスルホン酸を反応させ、一般式(XXV)を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、塩化メチレン及びクロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類であり得、好適には、クロロホルムである。
用いられる溶媒の量は、化合物(XXIV)1molに対し、通常、1.0〜20リットルであり、好適には、1.0〜10リットルである。
用いられるクロロスルホン酸の量は、化合物(XXIV)1molに対し、通常、1.0〜10.0molであり、好適には、2.0〜5.0molである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜80℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
工程E−5は、溶媒存在下または非存在化、化合物(XXV)のクロロスルホニル基を還元し、一般式(XXVI)を有する化合物を製造する工程である。
本工程は、例えば、酸存在下、亜鉛やスズを用いる方法のような、クロロスルホニル基をメルカプト基に還元する際の常法(例えば、J.Am.Chem.Soc.,1947,69,1925、Tetrahedron,1994,50,4775等に記載の方法)に従って行われる。
使用される溶媒は、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、酢酸及びプロピオン酸のようなカルボン酸類;水;又はメタノール、エタノール、プロパノールのようなアルコール類;或はこれらの混合溶媒であり得、好適には、水又はアルコール類であり、より好適には、水又エタノールである。
用いられる酸は、例えば、硫酸、塩酸及び硝酸のような鉱酸であり得、好適には、硫酸又は塩酸である。
用いられる亜鉛と酸の量は、化合物(XXV)1molに対し、通常、1.0〜50.0molであり、好適には、1.0〜20.0molである。
反応温度は、原料化合物、反応試薬及び溶媒等により異なるが、通常、−40℃〜反応系における還流温度であり、好適には、0〜150℃である。
反応時間は、原料化合物、反応試薬、溶媒及び反応温度等により異なるが、通常、5分間〜48時間であり、好適には、10分間〜24時間である。
また、本工程において、アシルチオ体(例えば、アセチルチオ体)が得られた場合には、該アシルチオ体を前記工程Cの工程C−7と同様に加水分解して、化合物(XXV)に導くこともできる。
工程E−6は、塩基及び溶媒存在下、化合物(XXVI)と、化合物(XVIII)を反応させ、本発明の化合物(If)を製造する工程である。
本工程は、前記工程Cの工程C−8と同様に行われる。
上記工程で得られた目的物は、常法により、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物中に目的物が結晶として析出する場合、目的物を濾取することにより、反応混合物が不溶物を含む場合は、適宜、不溶物を濾去し、反応混合物が酸性又はアルカリ性の場合は、適宜、中和して、溶媒を減圧で留去することにより、又は、反応混合物又は上記の溶媒を減圧で留去したものに水を加え、水不混和性有機溶媒で抽出し、抽出液を乾燥し、抽出溶媒を減圧で留去することにより、目的物を得ることができる。また、必要に応じて、常法、例えば、再結晶法、カラムクロマトグラフィー等を用いて、目的物をさらに精製することができる。
本発明の化合物(I)は、上記のようなアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩ではなく、分子中に塩基性部分が存在する場合、溶媒存在下、酸を用いて塩にすることができる。
本発明の化合物(I)を農薬組成物の有効成分として使用するに際しては、本発明の化合物(I)は、それ自体を用いてもよいが、農薬補助剤として製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤及びその他補助剤を配合して、例えば、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、ペースト剤、油剤及び乳濁剤等の種々の形態に製剤することができる。これらの配合割合は、通常、有効成分0.1〜9.0質量部で農薬補助剤10〜99.9質量部である。
前記製剤化に際して用いられる担体は、例えば、澱粉、活性炭、大豆紛、小麦粉、木紛、魚粉、粉乳等の動植物性粉末、及び、タルク、カオリン、ベントナイト、炭酸カルシウム、ゼオライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミナ等の鉱物性粉末のような固体担体;又は、水、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、シクロヘキサン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ケロシン、軽油等の脂肪族炭化水素類、キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼンメチルナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、脂肪酸のグリセリンエステル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類及びジメチルスルホキシド等の含硫化合物類のような液体担体であり得、好適には、固体担体又は液体担体である。
用いられる界面活性剤は、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル又はポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレートであり得、好適には、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル又はポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレートである。
その他の補助剤は、例えば、カルボキシジメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム、キサンタンガム、グアーガム、トラガントガム及びポリビニルアルコール等の固着剤又は増粘剤;金属石鹸等の消泡剤;又は脂肪酸、アルキルリン酸塩、シリコーン及びパラフィン等の物性向上剤着色剤であり得、好適には、グアーガム又はキサンタンガムである。
これら製剤は、実際の使用に際して、そのまま使用するか、又は水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用することができる。本発明化合物を含有する種々の製剤又はその希釈剤の施用は、通常一般的に行われている施用方法、即ち、散布(例えば、噴霧、ミスティング、アトマイジング、散紛、散粒、水面施用、箱施用等)、土壌施用(例えば、混入、灌注等)、表面施用(例えば、塗布、紛衣、被覆等)、浸漬又は毒餌等であり得る。また、家畜に対して前記有効成分を飼料に混合して与え、その排泄物での有害虫、特に有害昆虫の発生、生育を防除することも可能である。又いわゆる超高濃度少量散布法により施用することもできる。この方法においては、有効成分を100%含有することが可能である。
本発明の農薬組成物施用時の有効成分濃度は、通常、0.1〜50000ppmであり、好適には、1〜10000ppmである。ただし、有効成分濃度は、製剤の形態及び施用する方法、目的、時期、場所及び有害生物の発生状況によって、適宜変更でき、例えば、水生有害生物の場合、上記濃度の薬液を発生場所に散布しても防除できることから、水中での有効成分濃度は上記より小さくなる。
本発明の農薬組成物の使用量は、土壌混和処理の場合、例えば、有効成分化合物として、10アール当たり、0.1〜5000gであり、好適には、1〜1000gである。
なお、本発明の化合物(I)は単独でも十分有効であることはいうまでもないが、必要に応じて肥料及び他の農薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウィルス剤、誘引剤、除草剤及び植物調整剤などと混用又は併用することができ、この場合に一層優れた効果を示すこともある。
本発明の化合物(I)と混用して使用できる他の農薬は、例えば、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウィルス剤、誘引剤、除草剤又は植物調整剤であり得、好適には、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤又は除草剤である。
用いられる殺虫剤は、例えば、有機リン及びカーバメート系殺虫剤、ピレスロイド系殺虫剤又はその他の殺虫剤であり得る。
有機リン及びカーバメート系殺虫剤は、例えば、フェンチオン、フェニトロチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、オキシデプホス、バミドチオン、フェントエート、ジメトエート、ホルモチオン、マラチオン、トリクロルホン、チオメトン、ホスメット、ジクロルホス、アセフェート、EPBP、メチルパラチオン、オキシジメトンメチル、エチオン、ジオキサベンゾホス、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェンチオン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、クロルフェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチルビンホス、プロパホス、イソフェンホス、ジスルホトン、プロフェノホス、ピラクロホス、モノクロトホス、アジンホスメチル、アルジカルブ、メソミル、チオジカルブ、カルボフラン、カルボスルファン、ベンフラカルブ、フラチオカルブ、プロポキスル、フェノブカルブ、メトルカルブ、イソプロカルブ、カルバリル、ピリミカーブ、エチオフェンカルブ、ジクロフェンチオン、ピリミホスメチル、キナルホス、クロルピリホスメチル、プロチオホス、ナレッド、EPN、XMC、ベンダイオカルブ、オキサミル、アラニカルブ、フルピラゾホス、ホスホカルブ又はクロルエトキシホスであり得る。
ピレスロイド系殺虫剤は、例えば、ペルメトリン、シペルメトリン、デルタメトリン、フェンバレレート、フェンプロパトリン、ピレトリン、アレスリン、テトラメトリン、レスメトリン、ジメスリン、プロパスリン、フェノトリン、プロトリン、フルバリネート、シフルトリン、シハロトリン、フルシトリネート、エトフェンプロックス、シクロプロトリン、トラロメトリン、シラフルオフェン、テフルトリン、ビフェントリン又はアクリナトリンであり得る。
その他の殺虫剤は、例えば、ジフルベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプロキシフェン、ルフェヌロン、シロマジン、メトプレン、エンドスルファン、ジアフェンチウロン、イミダクロプリド、フィプロニル、フェノキシカルブ、カルタップ、チオシクラム、ベンスルタップ、テブフェノジド、クロルフェナピル、エマメクチンベンゾエート、アセタミプリド、ニテンピラム、ピメトロジン、チアクロプリド、スピノサッド、テブフェンピラド、トルフェンピラド、ジノテフラン、チアメトキサム、エチプロール、メトキシフェノジド、クロマノフェノジド、クロチアニジン、アセトプロール、ピリダリル、インドキサカルブ、スピロメシフェン、スピロテトラマット、フルベンジアミド、レピメクチン、メタフルミゾン、オレイン酸ナトリウム、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアルデヒド、マシン油、なたね油、BT剤又は昆虫病原ウィルス等の微生物農薬であり得る。
用いられる殺ダニ剤は、例えば、クロルベンジレート、フェニソブロモレート、ジコホル、アミトラズ、プロパルギット、ベンゾメート、ヘキシチアゾックス、フェンブタチンオキシド、ポリナクチン、キノメチオネート、クロルフェンソン、テトラジホン、アバメクチン、ミルベメクチン、クロフェンテジン、ピリダベン、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオカルブ、ジエノクロル、エトキサゾール、ハルフェンプロックス、スピロジクロフェン日フェナゼート、シフルメトフェン又はフルアクリピリウムであり得る。
用いられる殺線虫剤は、例えば、フェナミホス、ホスチアゼート、エトプロホス、メチルイソチオシアネート、1,3−ジクロロプロペン又はDCIPであり得る。
用いられる殺菌剤は、例えば、チオファネートメチル、ベノミル、カルベンダゾール、チアベンダゾール、フォルベット、チウラム、ジラム、ジネブ、マンネブ、マンゼブ、ポリカーバメート、イプロベンホス、エジフェンフォス、フサライド、プロベナゾール、イソプロチオラン、クロロタロニル、キャプタン、ポリオキシン、ブラストサイジンS、カスガマイシン、ストレプトマイシン、バリダマイシン、トリシクラゾール、ピロキロン、フェナジンオキシド、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、イプロジオン、ヒメキサゾール、メタラキシル、トリフルミゾール、トリホリン、トリアジメホン、ビテルタノール、フェナリモル、プロピコナゾール、シモキサニル、プロクロラズ、ペフラゾエート、ヘキサコナゾール、ミクロブタニル、ジクロメジン、テクロフタラム、プロピネブ、ジチアノン、ホセチル、ビンクロゾリン、プロシミドン、オキサジキシル、グアザチン、プロパモカルブ塩酸塩、フルアジナム、オキソリニック酸、ヒドロキシイソキサゾール、イミベンコナゾール、メパニピリム、ベンチアバリカルブ、シルフェナミド、シアゾファミド、フェナミドン、フェノキサニル、メトラフェノン、ニコビフェン、ピコキシスロトビン、ピラクロストロビン、シメコナゾール、アミスロブロム、マンジプロパミド、フルピコライド、ペンチオピラド、ボスカリド、フルモルフ、フルオキサストロビン、オリサストロビン、プロキナジド、プロチオコナゾール又はゾキサミドであり得る。
用いられる除草剤は、例えば、ジフルフェニカン、プロパニル、ジクロロピコリン酸、ジカンバ、ピコロラム、2,4−D、2,4−DB、2,4−DP、フルロキシピル、MCPA、MCPP、トリクロピル、ジクロホップ−メチル、フェノキサプロップ−エチル、フルアジホップ−ブチル、ハロキシホップ−メチル、キザロホップ−エチル、ノルフルラゾン、クロルブロファム、デスメジファム、フェンメジファム、プロファム、アラクロル、アセトクロル、ブタクロル、メタザクロル、メトラクロル、プレチラクロル、プロパクロル、オリザリン、トリフルラリン、アシフルオルフェン、ビフェノックス、フルオログリゴフェン、ホメサフェン、ハロサフェン、ラクトフェン、オキシフルオルフェン、クロルトルロン、ジウロン、フルオメツロン、イソプロツロン、リヌロン、メタベンズチアズロン、アロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、セトキシジム、トラコキシジム、イマゼタピル、イマザメタベンズ、イマザピル、イマザキン、ブロモキシニル、ジクロベニル、イオキシニル、メフェナセット、アミドスルフロン、ベンスルフロン−メチル、クロリムロン−エチル、クロルスルフロン、シノスルフロン、メトスルフロン−メチル、ニコスルフロン、ピリミスルフロン、ピラゾスルフロン−エチル、チフェンスルフロン−メチル、トリアスルフロン、トリベヌロン−メチル、ブチレート、シクロエート、ジーアレート、EPTC、エスプロカルプ、モリネート、プロスルホカルプ、ベンチオカルプ、トリアレート、アトラジン、シアナジン、シマジン、シメトリン、ターブトリン、ターブチラジン、ヘキサジノン、メタミトロン、メトリブジン、アミトリアゾール、ベンフレセート、ベンタゾン、シンメチリン、クロマゾン、クロピラリド、ジフェンゾクアット、ジチオピル、エトフメセート、フルオロクロリドン、グルホシネート、グリホセート、イソキサベン、ピリデート、キンクロラック、キンメタック、スルホセート、トリジファン、カフェンスとロール、シハロホップ−ブチル、インダノファン、ベンゾビシクロン、ベンズフェンジゾン、ブタフェナシル、フルアゾレート、フルチアセット、ピラゾギル、ピリダホール、ピリフタリド、フルフェナセット又はフェントラザミドであり得る。
本発明の化合物(I)は、例えば、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類及び植物寄生性線虫類に対して優れた防除効果を示す。また、本発明の化合物(I)は、その他有害動物、不快動物、衛生害虫及び寄生虫に対しても優れた防除効果を示す。
半翅目害虫は、例えば、ホソヘリカメムシ(Riptortus clavatus)、ミナミアオカメムシ(Nezara viridula)、メクラカメムシ類(Lygus sp.)、アメリカコバネナガカメムシ(Blissus leucpterus)、ナシグンバイ(Stephanitis nashi)等のカメムシ類(異翅類;Heteroptera)、ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps)、ヒメヨコバイ(Empoasca sp., Erythroneura sp., Circulifer sp.)等のヨコバイ類、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)、セジロウンカ(Sogatella furcifera)、ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus)等のウンカ類、Psylla sp.等のキジラミ類、タバココナジラミ(Bemisia tabaci)、オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)、等のコナジラミ類、ブドウネアブラムシ(Viteus vitifolii)、モモアカアブラムシ(Myzus persicae)、リンゴアブラムシ(Aphis pomi)、ワタアブラムシ(Aphis gossypii)、Aphis fabae、ニセダイコンアブラムシ(Liphis erysimi)、ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani)、ムギミドリアブラムシ(Schizaphis graminum)等のアブラムシ類、クワコナカイガラムシ(Pseudococcus comstocki)、ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens)、サンホーゼカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa)、ヤノエカイガラムシ(Unaspis yanoensis)等のカイガラムシ又はサシガメ(Rhodnius sp.)であり得る。
鱗翅目害虫は、例えば、チャハマキ(Homona magnanima)、コカクモンハマキ(Adoxophyes orana)、テングハマキ(Sparganothis pilleriana)、ナシヒメシンクイ(Grapholitha molesta)、マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella)、コドリンガ(Laspeyresia pomonella)、Eucosma sp.、Lobesia botrana等のハマキガ類、ブドウホソハマキ(Eupoecillia ambiguella)、等のホソハマキガ類、Bambalina sp.等のミノガ類、コクガ(Nemapogon granellus)、イガ(Tinea pellionella)等のヒロズコガ類、ギンモンハモグリガ(Lyonetiaprunifoliella)等のハモグリガ類、キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoniella)等のホソガ類、ミカンハモグリガ(Phyllocnistis citrella)等のコハモグリガ類、コナガ(Plutella xylostella)、Prays citri等のスガ類、ブドウスカシバ(Nokona vegale)、Synanthedon sp.等のスカシバ類、ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)、ジャガイモガ(Phthorimaea operculella)、Stomopteryx sp.等のキバガ類、モモシンクイガ(Carposina niponensis)等のシンクイガ類、イラガ(Monema flavescens)等のイラガ類、ニカメイガ(Chilo suppressalis)、コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)、Ostrinia nubilalis、アワノメイガ(Ostrinia furnacalis)、ハイマダラノメイガ(Hellula undalis)ハチミツガ(Galleria mellonella)、Elasmopalpus lignosellus、Loxostege sticticalis等のメイガ類、モンシロチョウ(Pieris rapae)等のシロチョウ類、ヨモギエダシャク(Ascotis selenaria)等のシャクガ類、オビカレハ(Malacosoma neustria)等のカレハガ類、Manduca sexta等のスズメガ類、チャドクガ(Euproctis pseudoconspersa)、マイマイガ(Lymantria dispar)等のドクガ類、アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)等のヒトリガ類、又はタバコバッドワーム(Heliothis virescens)、ボールワーム(Helicoverpa zea)、シロイチモジヨトウ(Spodoptera exigua)、オオタバコガ(Helicoverpa armigera)、ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)、ヨトウガ(Mamestra brassicae)、タマナヤガ(Agrotis ipsilon)、アワヨトウ(Pseudaletia separata)及びイラクサキンウワバ(Trichoplusia ni)等のヤガ類であり得る。
鞘翅目害虫は、例えば、ドウガネブイブイ(Anomala cuprea)、マメコガネ(Popillia japonica)、ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)、Eutheolarugiceps等のコガネムシ類、ワイヤーワーム(Agricotes sp.)、Conodeus sp.等のコメツキムシ類、ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)、インゲンテントウムシ(Epilachna varivestis)等のテントウムシ類、コクヌストモドキ(Tribolium castaneum)等のゴミムシダマシ類、ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)、マツノマダラカミキリ(Monochamus alternatus)等のカミキリムシ類、インゲンマメゾウムシ(Acanthoscelides obtectus)、アズキゾウムシ(Callosobruchus chinensis)等のマメゾウムシ類、コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)、コーンルートワーム(Diabrotica sp.)、イネドロオイムシ(Oulema oryzae)、テンサイトビハムシ(Chaetocnema concinna)、Phaedon cochlearias、Oulema melanopus、Dicladispa armigera等のハムシ類、Apion godmani等のホソクチゾウムシ類、イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus)、ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis)等のゾウムシ類、コクゾウムシ(Sitophilus zeamais)等のオサゾウムシ類、キクイムシ類、カツオブシムシ類又はシバンムシ類であり得る。
双翅目害虫は、例えば、キリウジガガンボ(Tipula aino)、イネユスリカ(Chironomus oryzae)、イネシントメタマバエ(Orseolia oryzae)、チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)、イネミギワバエ(Hydrellia griseola)、オウトウショウジョウバエ(Drosophila suzukii)、フリッツフライ(Oscinella frit)、イネカラバエ(Chlorops oryzae)、インゲンモグリバエ(Ophiomyia phaseoli)、マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)、アカザモグリハナバエ(Pegomya hyoscyami)、タネバエ(Delia platura)、ソルガムフライ(Atherigona soccata)、イエバエ(Musca domestica)、ウマバエ(Gastrophilus sp.)、サシバエ(Stomoxys sp.)、ネッタイシマカ(Aedes aegypti)、アカイエカ(Culex pipiens)、シナハマダラカ(Anopheles slnensis)又はコガタアカイエカ(Culex tritaeniorhynchus)であり得る。
膜翅目害虫は、例えば、クキバチ類(Cephus sp.)、カタビロコバチ(Harmolita sp.)、カブラハバチ(Athalia rosae)、スズメバチ(Vespa mandarina)又はファイアーアント類であり得る。
直翅目害虫は、例えば、チャバネゴキブリ(Blattella germanica)、ワモンゴキブリ(Periplaneta americana)、ケラ(Gryllotalpa africana)、バッタ(Locusta migratoria migratoriodes)又はMelanoplus sanguinipesであり得る。
シロアリ目害虫は、例えば、ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus)、イエシロアリ(Coptotermes formosanus)又はダイコクシロアリ(Cryptotermes domestius)であり得る。
アザミウマ目害虫は、例えば、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)、ミナミキイロアザミウマ(Thrips palmi)、クロトンアザミウマ(Heliothrips haemorrhoidalis)、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)又はイネクダアザミウマ(Haplothrips aculeatus)であり得る。
ハダニ類は、例えば、ナミハダニ(Tetranychus urticae)、カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai)、ミカンハダニ(Panonychus citri)、リンゴハダニ(Panonychus ulmi)、イエローマイト(Eotetranychus carpini)、テキサスシトラスマイト(Eotetranychus banksi)、ミカンサビダニ(Aculops pelekassi)、チャノホコリダニ(polyphagotarsonemus latus)、ヒメハダニ(Brevipalpus sp.)、ロビンネダニ(Rhizoglyphus robini)又はケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)であり得る。
植物寄生性線虫類は、例えば、サツマイモネコブセンチュウ(Meloidogyne incognita)、ネグサレセンチュウ(Pratylenchus sp.)ダイズシストセンチュウ(Heterodera glycines)、イネシンガレセンチュウ(Aphelenchoides besseyi)又はマツノザイセンチュウ(Bursaphelenchus lignicolus)であり得る。
その他有害動物、不快動物、衛生害虫及び寄生虫は、例えば、スクリミンゴガイ(Pomacea canaliculata)、ナメクジ(Incilaria sp.)、アフリカマイマイ(Achatina fulica)等の腹足網類(Gastropoda)、ダンゴムシ(Armadillidium sp.)、ワラジムシ、ムカデ等の等脚目類(Isopoda)、Liposcelis sp.等のチャタテムシ類、Ctenolepisma sp.等のシミ類、Pulex sp.、Ctenocephalides sp.等のノミ類、Trichodectes sp.等のハジラミ類、Cimex sp.等のトコジラミ類、オウシマダニ(Boophilus microplus)、フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis)等の動物寄生性ダニ類又はヒョウヒダニ類であり得る。
更に、本発明の化合物(I)は、有機リン系化合物、カーバメート系化合物、合成ピレスロイド系化合物、アシルウレア系化合物又は既存の殺虫剤に抵抗性を示す害虫に対しても有効である。
以下に、実施例、製剤例及び試験例を挙げて本発明化合物を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)
(1)4−ブロモ−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(工程A−1a)
60% 水素化ナトリウム(2.20g、55.0mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(150ml)溶液に氷冷下、2,2,2−トリフルオロエタンチオール(4.90g、55.1mmol)を滴下し、室温で50分撹拌した。続いて、−40℃に冷却下、4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリル(10.00g、50.0mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(150ml)を滴下し、同温で2.5時間、次いで室温で30分攪拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=6/1)にて精製し、標記化合物(14.47g、収率97.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.81 (1H, s), 7.60-7.53 (2H, m), 3.58 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
(2)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55、工程A−2a)
[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ボロン酸(7.08g、36.51mmol)、4−ブロモ−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(10.81g、36.51mmol)及び炭酸ナトリウム(11.61g、109.54mmol)のトルエン−エタノール−水の混合溶液(2/1/1、184ml)にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(2.11g、1.83mmol)を加えた後、90℃で18時間加熱した。反応溶液に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)にて精製し、標記化合物(7.93g、収率60.0%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)
(1)4−ブロモ−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(工程A−1a)
60% 水素化ナトリウム(2.20g、55.0mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(150ml)溶液に氷冷下、2,2,2−トリフルオロエタンチオール(4.90g、55.1mmol)を滴下し、室温で50分撹拌した。続いて、−40℃に冷却下、4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリル(10.00g、50.0mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(150ml)を滴下し、同温で2.5時間、次いで室温で30分攪拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水及び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=6/1)にて精製し、標記化合物(14.47g、収率97.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.81 (1H, s), 7.60-7.53 (2H, m), 3.58 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
(2)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55、工程A−2a)
[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ボロン酸(7.08g、36.51mmol)、4−ブロモ−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(10.81g、36.51mmol)及び炭酸ナトリウム(11.61g、109.54mmol)のトルエン−エタノール−水の混合溶液(2/1/1、184ml)にテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(2.11g、1.83mmol)を加えた後、90℃で18時間加熱した。反応溶液に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)にて精製し、標記化合物(7.93g、収率60.0%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例2
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル(化合物番号1−43)
(1)2−フルオロ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゾニトリル(化合物番号4−13、工程A−1b)
[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ボロン酸(1.00g、5.16mmol)及び4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリル(1.03g、5.15mmol)を1,2−ジメトキシエタン(17ml)に溶解し、次いで2M 炭酸ナトリウム水溶液(7.7ml、15.4mmol)を加えた。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(298.2mg、0.26mmol)を加えた後、19時間加熱還流した。酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(975.4mg、収率70.4%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80-7.75 (1H, m), 7.37-7.26 (2H, m), 6.66 (1H, s), 3.98 (3H, s)。
(2)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル(化合物番号1−43、工程A−2b)
1−プロパンチオール(51.0μl、0.56mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(2.0ml)溶液に氷冷下、60% 水素化ナトリウム(23.1mg、0.58mmol)を加え、室温で20分撹拌した。続いて、氷冷下、2−フルオロ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゾニトリル(100.4mg、0.37mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(1.0ml)を滴下し、室温で1日攪拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:クロロホルム/酢酸エチル=20/1)で精製し、標記化合物(18.3mg、収率15.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.72 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.39 (1H, s), 7.27 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.04 (2H, t, J = 6.7 Hz), 1.82-1.72 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.3 Hz)。
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル(化合物番号1−43)
(1)2−フルオロ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゾニトリル(化合物番号4−13、工程A−1b)
[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ボロン酸(1.00g、5.16mmol)及び4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリル(1.03g、5.15mmol)を1,2−ジメトキシエタン(17ml)に溶解し、次いで2M 炭酸ナトリウム水溶液(7.7ml、15.4mmol)を加えた。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(298.2mg、0.26mmol)を加えた後、19時間加熱還流した。酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(975.4mg、収率70.4%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80-7.75 (1H, m), 7.37-7.26 (2H, m), 6.66 (1H, s), 3.98 (3H, s)。
(2)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル(化合物番号1−43、工程A−2b)
1−プロパンチオール(51.0μl、0.56mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(2.0ml)溶液に氷冷下、60% 水素化ナトリウム(23.1mg、0.58mmol)を加え、室温で20分撹拌した。続いて、氷冷下、2−フルオロ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゾニトリル(100.4mg、0.37mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(1.0ml)を滴下し、室温で1日攪拌した。反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:クロロホルム/酢酸エチル=20/1)で精製し、標記化合物(18.3mg、収率15.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.72 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.39 (1H, s), 7.27 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.04 (2H, t, J = 6.7 Hz), 1.82-1.72 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.3 Hz)。
実施例3
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−56、工程A−3)
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(115.3mg、0.32mmol)の塩化メチレン(3.0ml)溶液に、氷冷下、3−クロロ過安息香酸(85.7mg、0.32mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、亜硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、標記化合物(58.4mg、収率48.5%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.23 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.75 (1H, s), 4.01 (3H, s), 3.88-3.60 (2H, m)。
更に、工程Aの方法を用いて、以下の実施例4〜12の化合物を製造した。
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−56、工程A−3)
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(115.3mg、0.32mmol)の塩化メチレン(3.0ml)溶液に、氷冷下、3−クロロ過安息香酸(85.7mg、0.32mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、亜硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、標記化合物(58.4mg、収率48.5%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.23 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.75 (1H, s), 4.01 (3H, s), 3.88-3.60 (2H, m)。
更に、工程Aの方法を用いて、以下の実施例4〜12の化合物を製造した。
実施例4
2−(エチルチオ)−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゾニトリル(化合物番号1−41、工程A−1b及び工程A−2b)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.41 (1H, s), 7.27 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.10 (2H, q, J = 7.3 Hz), 1.41 (3H, t, J = 7.3 Hz)。
2−(エチルチオ)−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゾニトリル(化合物番号1−41、工程A−1b及び工程A−2b)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.41 (1H, s), 7.27 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.10 (2H, q, J = 7.3 Hz), 1.41 (3H, t, J = 7.3 Hz)。
実施例5
4−(1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−64、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.41 (1H, d, J = 1.8 Hz), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
4−(1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−64、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.41 (1H, d, J = 1.8 Hz), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例6
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−65、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.74 (1H, s), 7.51 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (1H, s), 3.96 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−65、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.74 (1H, s), 7.51 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (1H, s), 3.96 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
実施例7
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−66、工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.78 (1H, s), 4.03 (3H, s), 3.88-3.57 (2H, m)。
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−66、工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.78 (1H, s), 4.03 (3H, s), 3.88-3.57 (2H, m)。
実施例8
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−69、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.66 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−69、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.66 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例9
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−70、工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.77 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.81-3.61 (2H, m)。
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−70、工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.24 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.77 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.77 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.81-3.61 (2H, m)。
実施例10
4−[1,4−ジメチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−74、工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.97 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.65 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.84 (3H, s), 3.88-3.62 (2H, m), 2.11 (3H, s)。
4−[1,4−ジメチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル(化合物番号1−74、工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.97 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.65 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.84 (3H, s), 3.88-3.62 (2H, m), 2.11 (3H, s)。
実施例11
4−[1,4−ジメチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−73、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.80 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 2.07 (3H, s)。
4−[1,4−ジメチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−73、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 3.80 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 2.07 (3H, s)。
実施例12
4−(1−メチル−1H−ピラゾール−4−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号3−1、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80 (1H, s), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.71 (1H, s), 7.67 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.0, 1.6 Hz), 3.97 (3H, s), 3.58 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
4−(1−メチル−1H−ピラゾール−4−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号3−1、工程A−1a及び工程A−2a)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.80 (1H, s), 7.75 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.71 (1H, s), 7.67 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.0, 1.6 Hz), 3.97 (3H, s), 3.58 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例13
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1)
(1)4−[1−(エトキシ)エテニル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(工程B−1)
4−ブロモ−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(101.5mg、0.34mmol)のトルエン(1.0ml)溶液にトリブチル(1−エトキシビニル)スズ(0.13ml、0.38mmol)及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド(2.8mg、0.0040mmol)を加えた後、100℃で3時間加熱撹拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、不溶物をろ過により除去した。ろ液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(85.5mg、収率86.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.92 (1H, s), 7.68-7.62 (2H, m), 4.78 (1H, d, J = 3.2 Hz), 4.39 (1H, d, J = 3.2 Hz), 3.94 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.57 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.44 (3H, t, J = 7.0 Hz)。
(2)4−(1−エトキシ−4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ−1−ブテニル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(工程B−2)
トリフルオロ酢酸無水物(42.4μl、0.30mmol)の塩化メチレン(3.0ml)溶液に氷冷下、4−[1−(エトキシ)エテニル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(85.5mg、0.30mmol)及びピリジン(24.3μl、0.30mmol)の塩化メチレン(1.0ml)溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応溶液に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(75.6mg、収率66.3%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.76-7.72 (2H, m), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.6 Hz), 5.89 (1H, s), 4.21 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.59 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.50 (3H, t, J = 7.0 Hz)。
(3)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−5−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55、工程B−3)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1、工程B−3)
4−(1−エトキシ−4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ−1−ブテニル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(75.6mg、0.20mmol)のエタノール(2.0ml)溶液にメチルヒドラジン(10.6μl、0.20mmol)を加えた後、100℃で3時間加熱撹拌した。室温まで冷却した後、反応溶液を濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、溶解した後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、化合物番号2−1の化合物(11.5mg、収率16.0%)及び化合物番号1−55の化合物(37.3mg、51.8%)を得た。
化合物番号2−1の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
本工程で得られた化合物番号1−55の化合物の1H-NMRスペクトルは、前記実施例1(2)の化合物のものと一致した。
更に、工程Bの方法を用いて、以下の実施例14〜16の化合物を製造した。
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1)
(1)4−[1−(エトキシ)エテニル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(工程B−1)
4−ブロモ−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(101.5mg、0.34mmol)のトルエン(1.0ml)溶液にトリブチル(1−エトキシビニル)スズ(0.13ml、0.38mmol)及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド(2.8mg、0.0040mmol)を加えた後、100℃で3時間加熱撹拌した。反応溶液に酢酸エチルを加え、不溶物をろ過により除去した。ろ液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(85.5mg、収率86.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.92 (1H, s), 7.68-7.62 (2H, m), 4.78 (1H, d, J = 3.2 Hz), 4.39 (1H, d, J = 3.2 Hz), 3.94 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.57 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.44 (3H, t, J = 7.0 Hz)。
(2)4−(1−エトキシ−4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ−1−ブテニル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(工程B−2)
トリフルオロ酢酸無水物(42.4μl、0.30mmol)の塩化メチレン(3.0ml)溶液に氷冷下、4−[1−(エトキシ)エテニル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(85.5mg、0.30mmol)及びピリジン(24.3μl、0.30mmol)の塩化メチレン(1.0ml)溶液を加え、室温で一晩攪拌した。反応溶液に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(75.6mg、収率66.3%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.76-7.72 (2H, m), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.6 Hz), 5.89 (1H, s), 4.21 (2H, q, J = 7.0 Hz), 3.59 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.50 (3H, t, J = 7.0 Hz)。
(3)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−5−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55、工程B−3)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1、工程B−3)
4−(1−エトキシ−4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ−1−ブテニル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(75.6mg、0.20mmol)のエタノール(2.0ml)溶液にメチルヒドラジン(10.6μl、0.20mmol)を加えた後、100℃で3時間加熱撹拌した。室温まで冷却した後、反応溶液を濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、溶解した後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残査を薄層クロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、化合物番号2−1の化合物(11.5mg、収率16.0%)及び化合物番号1−55の化合物(37.3mg、51.8%)を得た。
化合物番号2−1の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
本工程で得られた化合物番号1−55の化合物の1H-NMRスペクトルは、前記実施例1(2)の化合物のものと一致した。
更に、工程Bの方法を用いて、以下の実施例14〜16の化合物を製造した。
実施例14
4−[1−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−61、工程B−1〜B−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.71 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.48 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.60 (1H, s), 4.19 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.61 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.45 (3H, t, J = 7.2 Hz)。
4−[1−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−61、工程B−1〜B−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.71 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.48 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 6.60 (1H, s), 4.19 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.61 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.45 (3H, t, J = 7.2 Hz)。
実施例15
4−[1−エチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−3、工程B−1〜B−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.10 (1H, s), 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.34 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.55 (3H, t, J = 7.2 Hz)。
4−[1−エチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−3、工程B−1〜B−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.10 (1H, s), 7.83 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.34 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz), 1.55 (3H, t, J = 7.2 Hz)。
実施例16
4−[1−(tert−ブチル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−9、工程B−1〜B−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.10 (1H, s), 7.85 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.05 (1H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.72 (9H, s)。
4−[1−(tert−ブチル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−9、工程B−1〜B−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.10 (1H, s), 7.85 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.05 (1H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.4 Hz), 1.72 (9H, s)。
実施例17
5−{3−[(シクロプロピルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−9)
(1)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−1、工程C−1)
[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ボロン酸(5.8g、30.0mmol)及び4−ヨードトルエン(6.54g、30.0mmol)を1,4−ジオキサン(50ml)に溶解し、次いで2M 炭酸ナトリウム水溶液(45ml、90.0mmol)を加えた。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(1.16g、1.0mmol)を加えた後、18時間加熱還流した。酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(3.11g、収率43.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30 (4H, s), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.42 (3H, s)。
(2)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−1、工程C−2)
4−メチルフェニルボロン酸(3.54g、26.0mmol)、1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル トリフルオロメタンスルホネート(2.44g、30.0mmol)、リン酸三カリウム(5.52g、26.0mmol)及び臭化カリウム(1.31g、11.0mmol)を1,4−ジオキサン(20ml)に溶解し、次いで、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(924mg、0.8mmol)を加え、18時間加熱還流した。セライトにてろ過した後、ろ液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(1.77g、収率95.2%)を得た。
本工程で得られた化合物番号4−1の化合物の1H−NMRスペクトルは、上記(1)の化合物のものと一致した。
(3)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル(化合物番号4−1、工程C−3)
4,4,4−トリフルオロ−1−(4−メチルフェニル)−1,3−ブタンジオン(1.00g、4.3mmol)をトルエン(10ml)に溶解し、室温下、メチルヒドラジン(0.25ml、4.8mmol)を加え、3時間加熱還流した。減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=20/1)し、標記化合物(254.8mg、24.7%)を得た。
本工程で得られた化合物番号4−1の化合物の1H−NMRスペクトルは、上記(1)の化合物のものと一致した。
(4)1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−2、工程C−4)
1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(1.41g、5.8mmol)の濃硫酸(2ml)溶液に、氷冷下、硝酸(0.5ml、7.0mmol)及び濃硫酸(0.5ml)の混合物を加え、室温下、2時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ込み、炭酸ナトリウムで中和した。ジクロロメタンで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で精製し、標記化合物(899mg、収率53.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.05 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.57 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.50 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.68 (3H, s)。
(5)1−メチル−5−(4−メチル−3−アミノフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−3、工程C−5)
1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(833mg)をメタノール(10ml)に溶解し、7.5%パラジウム炭素(M型、90mg)を加えた。水素雰囲気下、常圧、室温で、6時間激しく攪拌した。反応容器を窒素置換した後、反応液をセライトろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、標記化合物(701.1mg、収率94.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.14 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.72 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.68 (1H, d, J = 2.1 Hz), 6.49 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.76 (2H, br s), 2.22 (3H, s)。
(6)O−エチル S−{2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]フェニル}ジチオカーボネート(工程C−6)
1−メチル−5−(4−メチル−3−アミノフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(616mg、2.4mmol)に水(3ml)を加え、続いて、濃塩酸(1.0ml)を加えた。氷冷下、亜硝酸ナトリウム(183mg、2.6mmol)の水溶液(1ml)をゆっくりと加え、さらに1時間攪拌し、ジアゾニウム塩を含む混合物を調製した。
別のフラスコに、水(3ml)、ジチオ炭酸O−エチルカリウム(463mg、2.9mmol)及び炭酸ナトリウム(306mg、2.9mmol)を加え、70℃に加熱した。この中に、先に調製したジアゾニウム塩を含む混合物を少量ずつ加えた。その後、90℃に昇温し、1時間攪拌した。反応液をジクロロメタンで2回抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、標記記化合物(354.4mg、収率40.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.55 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.46 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 4.63 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.92 (3H, s), 2.49 (3H, s), 1.37 (3H, t, J = 7.1 Hz)。
(7)2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンチオール(化合物番号4−4、工程C−7)
O−エチル S−{2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]フェニル}ジチオカーボネート(297mg、0.8mmol)をメタノール(3ml)に溶解し、室温で、2規定 水酸化ナトリウム(0.9ml)を加え、1時間加熱還流した。放冷した後、水(10ml)及び濃塩酸を加えて、酸性にした後、ジクロロメタンで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、標記化合物(220mg、収率98.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.32 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.27 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.52 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.40 (1H, s), 2.39 (3H, s)。
(8)5−{3−[(シクロプロピルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−9、工程C−8)
2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンチオール(61mg、0.2mmol)とブロモメチルシクロプロパン(30μl、0.3mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(1ml)溶液に、60% 水素化ナトリウム(12mg、0.3mmol)を加え、80℃で、1時間加熱攪拌した。放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で精製し、標記化合物(59mg、収率83.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 (2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m)。
更に、工程Cの方法を用いて、以下の実施例18〜40の化合物を製造した。
5−{3−[(シクロプロピルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−9)
(1)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−1、工程C−1)
[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ボロン酸(5.8g、30.0mmol)及び4−ヨードトルエン(6.54g、30.0mmol)を1,4−ジオキサン(50ml)に溶解し、次いで2M 炭酸ナトリウム水溶液(45ml、90.0mmol)を加えた。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(1.16g、1.0mmol)を加えた後、18時間加熱還流した。酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(3.11g、収率43.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30 (4H, s), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.42 (3H, s)。
(2)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−1、工程C−2)
4−メチルフェニルボロン酸(3.54g、26.0mmol)、1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル トリフルオロメタンスルホネート(2.44g、30.0mmol)、リン酸三カリウム(5.52g、26.0mmol)及び臭化カリウム(1.31g、11.0mmol)を1,4−ジオキサン(20ml)に溶解し、次いで、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(924mg、0.8mmol)を加え、18時間加熱還流した。セライトにてろ過した後、ろ液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(1.77g、収率95.2%)を得た。
本工程で得られた化合物番号4−1の化合物の1H−NMRスペクトルは、上記(1)の化合物のものと一致した。
(3)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル(化合物番号4−1、工程C−3)
4,4,4−トリフルオロ−1−(4−メチルフェニル)−1,3−ブタンジオン(1.00g、4.3mmol)をトルエン(10ml)に溶解し、室温下、メチルヒドラジン(0.25ml、4.8mmol)を加え、3時間加熱還流した。減圧下濃縮し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=20/1)し、標記化合物(254.8mg、24.7%)を得た。
本工程で得られた化合物番号4−1の化合物の1H−NMRスペクトルは、上記(1)の化合物のものと一致した。
(4)1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−2、工程C−4)
1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(1.41g、5.8mmol)の濃硫酸(2ml)溶液に、氷冷下、硝酸(0.5ml、7.0mmol)及び濃硫酸(0.5ml)の混合物を加え、室温下、2時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ込み、炭酸ナトリウムで中和した。ジクロロメタンで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で精製し、標記化合物(899mg、収率53.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.05 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.57 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.50 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.68 (3H, s)。
(5)1−メチル−5−(4−メチル−3−アミノフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−3、工程C−5)
1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(833mg)をメタノール(10ml)に溶解し、7.5%パラジウム炭素(M型、90mg)を加えた。水素雰囲気下、常圧、室温で、6時間激しく攪拌した。反応容器を窒素置換した後、反応液をセライトろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、標記化合物(701.1mg、収率94.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.14 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.72 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.68 (1H, d, J = 2.1 Hz), 6.49 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.76 (2H, br s), 2.22 (3H, s)。
(6)O−エチル S−{2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]フェニル}ジチオカーボネート(工程C−6)
1−メチル−5−(4−メチル−3−アミノフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(616mg、2.4mmol)に水(3ml)を加え、続いて、濃塩酸(1.0ml)を加えた。氷冷下、亜硝酸ナトリウム(183mg、2.6mmol)の水溶液(1ml)をゆっくりと加え、さらに1時間攪拌し、ジアゾニウム塩を含む混合物を調製した。
別のフラスコに、水(3ml)、ジチオ炭酸O−エチルカリウム(463mg、2.9mmol)及び炭酸ナトリウム(306mg、2.9mmol)を加え、70℃に加熱した。この中に、先に調製したジアゾニウム塩を含む混合物を少量ずつ加えた。その後、90℃に昇温し、1時間攪拌した。反応液をジクロロメタンで2回抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、標記記化合物(354.4mg、収率40.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.55 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.46 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 4.63 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.92 (3H, s), 2.49 (3H, s), 1.37 (3H, t, J = 7.1 Hz)。
(7)2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンチオール(化合物番号4−4、工程C−7)
O−エチル S−{2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]フェニル}ジチオカーボネート(297mg、0.8mmol)をメタノール(3ml)に溶解し、室温で、2規定 水酸化ナトリウム(0.9ml)を加え、1時間加熱還流した。放冷した後、水(10ml)及び濃塩酸を加えて、酸性にした後、ジクロロメタンで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、標記化合物(220mg、収率98.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.32 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.27 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.52 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.40 (1H, s), 2.39 (3H, s)。
(8)5−{3−[(シクロプロピルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−9、工程C−8)
2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンチオール(61mg、0.2mmol)とブロモメチルシクロプロパン(30μl、0.3mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(1ml)溶液に、60% 水素化ナトリウム(12mg、0.3mmol)を加え、80℃で、1時間加熱攪拌した。放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、残査を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で精製し、標記化合物(59mg、収率83.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 (2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m)。
更に、工程Cの方法を用いて、以下の実施例18〜40の化合物を製造した。
実施例18
1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルチオ)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−3、工程C−2及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.26 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.93 (3H, s), 2.91 (2H, t, J = 7.2 Hz), 2.42 (3H, s), 1.73 (2H, td, J = 14.8, 7.6 Hz), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルチオ)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−3、工程C−2及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.26 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.93 (3H, s), 2.91 (2H, t, J = 7.2 Hz), 2.42 (3H, s), 1.73 (2H, td, J = 14.8, 7.6 Hz), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例19
5−(3−ブチルチオ−4−メチルフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−7、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.26 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.93 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.41 (3H, s), 1.68 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.49 (2H, q, J = 7.6 Hz), 0.95 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
5−(3−ブチルチオ−4−メチルフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−7、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.26 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.93 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.41 (3H, s), 1.68 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.49 (2H, q, J = 7.6 Hz), 0.95 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例20
5−{3−[(シクロプロピルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−9、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 (2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m)。
5−{3−[(シクロプロピルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−9、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.30-7.25 (2H, m), 7.10 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 2.87 (2H, d, J = 6.7 Hz), 2.43 (3H, s), 1.12-1.03 (1H, m), 0.65-0.60 (2H, m), 0.28-0.31 (2H, m)。
実施例21
5−{3−[(シクロプロピルメチル)スルフィニル]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−10、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.01 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.81 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.72 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.44 (3H, s), 1.16-1.06 (1H, m), 0.73-0.61 (2H, m), 0.33-0.26 (2H, m)。
5−{3−[(シクロプロピルメチル)スルフィニル]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−10、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.01 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.81 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.72 (1H, dd, J = 12.8, 7.3 Hz), 2.44 (3H, s), 1.16-1.06 (1H, m), 0.73-0.61 (2H, m), 0.33-0.26 (2H, m)。
実施例22
5−{3−[(シクロブチルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−11、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.25 (1H, d, J = 8.6 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.99 (1H, d, J = 7.3 Hz), 2.60-2.54 (1H, m), 2.41 (3H, s), 2.18-2.12 (2H, m), 1.93-1.76 (4H, m)。
5−{3−[(シクロブチルメチル)チオ]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−11、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.25 (1H, d, J = 8.6 Hz), 7.22 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.53 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.99 (1H, d, J = 7.3 Hz), 2.60-2.54 (1H, m), 2.41 (3H, s), 2.18-2.12 (2H, m), 1.93-1.76 (4H, m)。
実施例23
1−メチル−5−[4−メチル−3−(2−プロペニルチオ)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−13、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.28-7.27 (2H, m), 7.12 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 5.94-5.86 (1H, m), 5.22-5.13 (2H, m), 3.90 (3H, s), 3.58 (2H, dt, J = 6.7, 1.2 Hz), 2.42 (3H, s)。
1−メチル−5−[4−メチル−3−(2−プロペニルチオ)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−13、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.28-7.27 (2H, m), 7.12 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 5.94-5.86 (1H, m), 5.22-5.13 (2H, m), 3.90 (3H, s), 3.58 (2H, dt, J = 6.7, 1.2 Hz), 2.42 (3H, s)。
実施例24
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−15、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−15、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例25
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−17、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.31 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.08 (2H, dt, J = 8.4, 3.5 Hz), 2.45-2.42 (5H, m)。
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−17、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.31 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.08 (2H, dt, J = 8.4, 3.5 Hz), 2.45-2.42 (5H, m)。
実施例26
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,3,3−テトラフルオロプロピル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−19、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.23 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 5.91 (1H, tt, J = 53.2, 2.4 Hz), 3.90 (3H, s), 3.41 (2H, tt, J = 15.9, 1.2 Hz), 2.53 (3H, s)。
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,3,3−テトラフルオロプロピル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−19、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.23 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.54 (1H, s), 5.91 (1H, tt, J = 53.2, 2.4 Hz), 3.90 (3H, s), 3.41 (2H, tt, J = 15.9, 1.2 Hz), 2.53 (3H, s)。
実施例27
5−[4−クロロ−3−(プロピルチオ)フェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−23、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.94 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.76 (2H, td, J = 14.6, 7.1 Hz), 1.09 (3H, t, J = 7.2 Hz)。
5−[4−クロロ−3−(プロピルチオ)フェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−23、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.23 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s), 2.94 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.76 (2H, td, J = 14.6, 7.1 Hz), 1.09 (3H, t, J = 7.2 Hz)。
実施例28
5−{4−クロロ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−35、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
5−{4−クロロ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−35、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.60 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.57 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.31 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例29
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−67、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.27 (2H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.53 (3H, s)。
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−67、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.27 (2H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.53 (3H, s)。
実施例30
3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−71、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.53 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.36 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s)。
3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−71、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.53 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.36 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 7.3, 1.8 Hz), 6.56 (1H, s), 3.93 (3H, s), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s)。
実施例31
({2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]フェニル}チオ)アセトニトリル(化合物番号1−75、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.56 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.57 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.59 (2H, s), 2.55 (3H, s)。
({2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]フェニル}チオ)アセトニトリル(化合物番号1−75、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.56 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.57 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.59 (2H, s), 2.55 (3H, s)。
実施例32
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−76、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.50 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 7.3, 1.2 Hz), 6.54 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.43 (2H, t, J = 16.5 Hz), 2.54 (3H, s)。
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−76、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.50 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 7.3, 1.2 Hz), 6.54 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.43 (2H, t, J = 16.5 Hz), 2.54 (3H, s)。
実施例33
5−[3−(シクロペンチルチオ)−4−メチルフェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−77、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.29 (1H, d, J = 1.3 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.7, 1.3 Hz), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.68-3.56 (1H, m), 2.40 (3H, s), 2.19-1.58 (8H, m)。
5−[3−(シクロペンチルチオ)−4−メチルフェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−77、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.29 (1H, d, J = 1.3 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.09 (1H, dd, J = 7.7, 1.3 Hz), 6.52 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.68-3.56 (1H, m), 2.40 (3H, s), 2.19-1.58 (8H, m)。
実施例34
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2−メチル−2−プロペニル)チオ]フェニル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−78、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.29-7.24 (2H, m), 7.11 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 4.88 (2H, s), 3.89 (3H, s), 3.53 (2H, s), 2.44 (3H, s), 1.88 (3H, s)。
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2−メチル−2−プロペニル)チオ]フェニル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−78、工程C−1及びC−4〜C−8)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.29-7.24 (2H, m), 7.11 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 6.51 (1H, s), 4.88 (2H, s), 3.89 (3H, s), 3.53 (2H, s), 2.44 (3H, s), 1.88 (3H, s)。
実施例35
5−(4−クロロフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−5、工程C−2)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.48 (2H, d, J = 8.9 Hz), 7.35 (2H, d, J = 8.9 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s)。
5−(4−クロロフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−5、工程C−2)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.48 (2H, d, J = 8.9 Hz), 7.35 (2H, d, J = 8.9 Hz), 6.55 (1H, s), 3.91 (3H, s)。
実施例36
5−(4−ブロモ−3−ニトロフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−10、工程C−3及びC−4)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.91 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.90 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.49 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 (3H, s)。
5−(4−ブロモ−3−ニトロフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号4−10、工程C−3及びC−4)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.91 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.90 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.49 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 (3H, s)。
実施例37
1−メチル−3−(4−メチルフェニル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号5−1、工程C−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.65 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.22 (2H, d, J = 7.6 Hz), 6.85 (1H, s), 4.02 (3H, s), 2.37 (3H, s)。
1−メチル−3−(4−メチルフェニル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号5−1、工程C−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.65 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.22 (2H, d, J = 7.6 Hz), 6.85 (1H, s), 4.02 (3H, s), 2.37 (3H, s)。
実施例38
3−(4−ブロモ−3−ニトロフェニル)−1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号5−10、工程C−3及びC−4)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.25 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.82 (1H, dd, J = 8.9, 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.05 (3H, s)。
3−(4−ブロモ−3−ニトロフェニル)−1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号5−10、工程C−3及びC−4)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.25 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.82 (1H, dd, J = 8.9, 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.9 Hz), 6.94 (1H, s), 4.05 (3H, s)。
実施例39
1−メチル−4−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号6−1、工程C−2)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.45 (1H, s), 7.30-7.18 (4H, m), 3.97 (3H, s), 2.38 (3H, s)。
1−メチル−4−(4−メチルフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号6−1、工程C−2)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.45 (1H, s), 7.30-7.18 (4H, m), 3.97 (3H, s), 2.38 (3H, s)。
実施例40
2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−4−イル]アニリン(化合物番号6−3、工程C−4及びC−5)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.41 (1H, s), 7.05 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74-6.70 (2H, m), 3.95 (3H, s), 3.64 (2H, s), 2.18 (3H, s)。
更に、工程C及び工程A−3の方法を用いて、以下の実施例41〜47の化合物を製造した。
2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−4−イル]アニリン(化合物番号6−3、工程C−4及びC−5)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.41 (1H, s), 7.05 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74-6.70 (2H, m), 3.95 (3H, s), 3.64 (2H, s), 2.18 (3H, s)。
更に、工程C及び工程A−3の方法を用いて、以下の実施例41〜47の化合物を製造した。
実施例41
1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−4、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.85-2.70 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.95-1.71 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.6 Hz).
1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−4、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.85-2.70 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.95-1.71 (2H, m), 1.09 (3H, t, J = 7.6 Hz).
実施例42
5−[3−(ブチルスルフィニル)−4−メチルフェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−8、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.89-2.71 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.90-1.63 (2H, m), 1.57-1.41 (2H, m), 0.95 (3H, t, J = 7.2 Hz).
5−[3−(ブチルスルフィニル)−4−メチルフェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−8、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.44 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.62 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.89-2.71 (2H, m), 2.44 (3H, s), 1.90-1.63 (2H, m), 1.57-1.41 (2H, m), 0.95 (3H, t, J = 7.2 Hz).
実施例43
5−{3−[(シクロブチルメチル)スルフィニル]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−12、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.94-2.88 (3H, m), 2.44 (3H, s), 2.32-2.23 (1H, m), 2.09-1.68 (5H, m).
5−{3−[(シクロブチルメチル)スルフィニル]−4−メチルフェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−12、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.98 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.33 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 2.94-2.88 (3H, m), 2.44 (3H, s), 2.32-2.23 (1H, m), 2.09-1.68 (5H, m).
実施例44
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−16、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.06 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.50-3.46 (2H, m), 2.47 (3H, s)。
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−16、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.06 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.50-3.46 (2H, m), 2.47 (3H, s)。
実施例45
1,3−ジメチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−63、工程C−2、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.02 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 7.6, 1.5 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.16 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.47 (2H, q, J = 10.0 Hz), 2.45 (3H, s), 2.30 (3H, s)。
1,3−ジメチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−63、工程C−2、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.02 (1H, d, J = 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 7.6, 1.5 Hz), 7.35 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.16 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.47 (2H, q, J = 10.0 Hz), 2.45 (3H, s), 2.30 (3H, s)。
実施例46
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−68、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.53 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.47 (3H, s)。
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−68、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.53 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.41 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.47 (3H, s)。
実施例47
3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−72、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.54 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.41 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.9 Hz), 2.47 (3H, s)。
実施例48
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−15、工程B−1、B−2、B−4及びB−3)及び1−メチル−3−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)フェニル]−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−14、工程B−1、B−2、B−4及びB−3)
(1)4−(1−エトキシエテニル)−1−メチル−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼン(工程B−1)
4−ブロモ−1−メチル−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼン(1.05g、3.68mmol)のトルエン溶液(5.0ml)に、トリブチル(1−エトキシビニル)スズ(1.24ml、3.68mmol)及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド(0.129g、0.184mmol)を加え、100℃で、3時間加熱撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5ml)及び10%フッ化カリウム水溶液(5ml)を加え、室温で、15分撹拌した後、セライトにて、反応液をろ過した。ろ液の有機層を分離した後、水層を酢酸エチルで1回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、標記化合物を油状物として得た。
この化合物を、更に精製することなく、次の工程に用いた。
(2)4−エトキシ−1,1,1−トリフルオロ−4−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}ブト−3−エン−2−オン(工程B−2)
上記(1)の化合物の全量をテトラヒドロフラン(10ml)に溶かし、0℃に冷却し、ピリジン(0.36ml、4.42mmol)を加え、続いて、トリフルオロ酢酸無水物(0.52ml、3.68mmol)を加え、同温度で2時間撹拌し、続いて、室温で30分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5ml)及び10%フッ化カリウム水溶液(5ml)を加え、室温で、30分間撹拌した後、セライトにて、反応液をろ過した。ろ液の有機層を分離した後、水層を酢酸エチルで1回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、標記化合物(841.0mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.66 (1H, d, J=1.4 Hz), 7.36 (1H, dd, J=7.6Hz, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J=7.6Hz, 5.80 (1H, s), 4.18 (2H, q, J=6.9Hz), 3.44 (2H, q, J=9.6Hz), 2.51 (3H, s), 1.49 (3H, t, J=6.9Hz)。
(3)1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシ−4−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}ブト−3−エン−2−オン(工程B−4)
上記(2)の化合物(841.0mg)をメタノール(9ml)に溶かし、2N塩酸(3.0ml)を加え、50℃で3時間撹拌した。反応液に、飽和食塩水(10ml)及び水(10ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して、標記化合物(845.6mg、2工程での収率67%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:15.10 (1H, brd. s), 8.06 (1H, s), 7.76 (1H, d, J=7.6Hz), 7.37 (1H, d, J=7.6Hz), 6.53 (1H, s), 3.47 (1H, q, J=8.9Hz), 2.55 (3H, s)。
(4)1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−15、工程B−3)及び1−メチル−3−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)フェニル]−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−14、工程B−3)
上記(3)の化合物(37.5mg、0.109mmol)をエタノール(1.0ml)に溶かし、酢酸(100μl)及びメチルヒドラジン(9μl)を加え、2時間、加熱還流した。放冷した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を、薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/5)で精製し、化合物番号1−15の化合物(11.7mg、収率30%)及び化合物番号2−14の化合物(8.2mg、収率21%)を得た。
化合物番号1−15の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.60 (1H, d, J=2.1Hz), 7.57 (1H, d=8.2H), 7.31 (1H, dd, J=8.2, 2.1Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J=9.4Hz)。
化合物番号2−14の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.90 (1H, d, J=1.4Hz), 7.59 (1H, dd, J=7.6, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J=7.6Hz), 6.86 (1H, s), 4.03 (3H, s), 3.45 (2H, q, J=9.6Hz), 2.49 (3H, s)。
実施例49
3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−150、工程D−1及びD−2)
(1)N’−ヒドロキシ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2、2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼンカルボキシミドアミド(工程D−1)
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ] ベンゾニトリル(化合物番号1−55)(1.00g、2.74mmol)の1,4−ジオキサン(10.0ml)溶液にヒドロキシルアミン塩酸塩 (953.4mg、13.72mmol)及びトリエチルアミン(1.9ml、13.63mmol)を加え、70℃で、6時間撹拌し、次いで120℃で、2時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1〜1/4)で精製し、標記化合物(536.5mg, 収率49.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.63 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.60 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.40 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.89 (1H, br s), 6.59 (1H, s), 4.99 (2H, br s), 3.92 (3H, s), 3.54 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
(2)3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−150、工程D−2)
上記(1)の化合物(102.1mg、0.26mmol)のエタノール(2.6ml)溶液に、室温下、オルトギ酸エチル (0.26ml、1.56mmol)及び硫酸(2滴)を加え、同温度で、6日間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製し、標記化合物(化合物番号1−150、32.1mg、収率30.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz)。
実施例50
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(化合物番号1−109、工程E−1〜E−6)
(1)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール−3−オール(工程E−1)
エチル 3−(4−メチルフェニル)−2−プロピノエート(651.2mg、3.46mmol)のエタノール(3.5ml)及び水(3.5ml)の混合溶液にメチルヒドラジン(0.2ml、3.76mmol)を加え、60℃で、7時間加熱撹拌した。反応溶液を減圧で濃縮した後、酢酸エチルを加え、ろ過して、固体を得た。得られた固体を酢酸エチルで洗浄し、次いで乾燥し、標記化合物(79.1mg、収率12.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(DMSO-d6)δ: 9.60 (1H, s), 7.35 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.27 (2H, d, J = 8.0 Hz), 5.56 (1H, s), 3.59 (3H, s), 2.35 (3H, s)。
(2)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール−3−チオール(工程E−2)
上記(1)の化合物(456.0mg、2.42mmol)のトルエン(4.8ml)溶液にローソン試薬(502.5mg、1.24mmol)を加え、120℃で、7時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(259.6mg、収率52.5%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.61 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.18 (2H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (0.5H, s), 6.66 (0.5H, s), 3.80 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
(3)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(工程E−3)
上記(2)の化合物(294.6mg、1.44mmol)の1,4−ジオキサン(8.0ml)溶液に、室温で、水酸化ナトリウム(385.6mg、9.64mmol)、水(3.1ml)及び1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン(0.71ml、7.20mmol)を加え、65℃で、6.5時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、エーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(203.2mg、収率49.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.64 (2H, d, J = 8.3Hz), 7.20 (2H, d, J = 8.3 Hz), 6.74 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.36 (3H, s)。
(4)2−メチル−5−{1−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール−5−イル}ベンゼンスルホニルクロリド(工程E−4)
上記(3)の化合物(200.7mg、0.70mmol)に、氷冷下、クロロスルホン酸(0.70ml、10.53mmol)を加え、50℃で、4時間加熱撹拌した。反応溶液を、酢酸エチルを含有する氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮し、標記化合物(323.4mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.41 (1H, d, J = 1.6 Hz), 8.00 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.44 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, s), 4.02 (3H, s), 3.33 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.81 (3H, s)。
(5)2−メチル−5−{1−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール−5−イル}ベンゼンチオール(工程E−5)
上記(4)の化合物(68.0mg)の酢酸溶液(3.0ml)に、亜鉛(199.4mg、3.05mmol)を加え、3.5時間加熱還流した。反応液に氷水及び酢酸エチルを加え、不溶物をろ過により除去した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、次いで、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、標記化合物(31.6mg、2工程での収率67.4%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.69 (1H, s), 7.43 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.17 (1H, d, J = 7.8 Hz), 6.73 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.37 (1H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.34 (3H, s)。
(6)1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(化合物番号1−109、工程E−6)
上記(5)の化合物(31.6mg、0.099mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3ml)溶液に、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン(15μl、0.15mmol)、炭酸カリウム(15.2mg、0.11mmol)及びロンガリット(1.8mg、0.012mmol)を加え、室温で、一晩攪拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(32.1mg、収率80.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.6 Hz), 3.32 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例51
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(トリフルオロメチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−158、工程C−8)
2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンチオール及びトリフルオロメチルヨージドを用いて、実施例17(8)と同様に、反応し、後処理をして、標記化合物を得る。
更にまた、以下工程A〜Eを用いて、以下の実施例52〜86の化合物を製造した。
実施例52
5−{2−フルオロ−4−メチル−5−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−79)
3−フルオロ−4−ブロモトルエンを出発原料として、工程C−4〜C−8及び工程A−2aの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 7.2 Hz), 7.13 (1H, d, J = 10.4 Hz), 6.57 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.34 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.56 (3H, s)。
実施例53
5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−85)
4−アセチルトルエンを2,2,2−トリフルオロエチル トリフルオロアセテートと公知の方法(例えば、J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964)等の方法)を用いて反応させ、得られた1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシ−4−(4−メチルフェニル)ブト−3−エン−2−オンを出発原料として、工程C−3〜C−8及び工程A−3の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.93 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.37 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.66 (1H, s), 4.78-4.69 (2H, m), 2.87-2.78 (1H, m), 2.74-2.67 (1H, m), 2.45 (3H, s), 1.97-1.85 (1H, m), 1.76-1.65 (1H, m), 1.08 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例54
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−86)
4−アセチル−1−ブロモベンゼンを2,2,2−トリフルオロエチル トリフルオロアセテートと公知の方法(例えば、J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964)等の方法)を用いて反応させ、得られた4−(4−ブロモフェニル)−1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシブト−3−エン−2−オンを出発原料として、工程C−3〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.75 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.21 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.53 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例55
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−87)
工程A−3を用いて、実施例54の化合物を酸化して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.04 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.51 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 (3H, s), 3.91-3.81 (1H, m), 3.49-3.39 (1H, m)。
実施例56
4−[3−(ジフルオロメチル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−88)
ジフロロ酢酸をオキザリルクロリドと反応させ、得られた相当する酸クロリドを出発原料として、工程B−2及びB−3の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.82 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.73 (1H, 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 6.70 (1H, t, J = 55.1 Hz), 6.61 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
実施例57
4−{1−メチル−3−[2,2,2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチル]−1H−ピラゾール−5−イル}−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−89)
2−トリフロロメチル−3,3,3−トリフロロプロピオン酸をオキザリルクロリドと反応させ、得られた相当する酸クロリドを出発原料として、工程B−2及びB−3の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.82 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 8.1, 1.5 Hz), 6.54 (1H, s), 4.40-4.28 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例58
5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−90)
(1)1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−5−[3−ニトロ−4−(2−トリメチルシリルエチニル)フェニル]−1H−ピラゾール
1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−5−(4−ブロモフェニル)−1H−ピラゾールを工程C−4の反応及び後処理に付し、得られた1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−5−(3−ニトロ−4−ブロモフェニル)−1H−ピラゾール(3.42g、9.7mmol)のトリエチルアミン(20ml)溶液に、トリメチルシリルアセチレン(2.1ml、14.7mmol)、酢酸パラジウム(II)(22.4mg、0.1mmol)、トリフェニルホスフィン(83.5mg、0.3mmol)及びヨウ化第一銅(12.3mg、0.06mmol)を加えた後、100℃で、4時間加熱攪拌した。反応液を室温に冷却した後、減圧下濃縮した。残査に酢酸エチルを加え、飽和塩化アンモニウム溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、標記化合物(2.72g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.78 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.62 (1H, dd, J = 7.7, 1.7 Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 (3H, s), 0.30 (9H, s)。
(2)5−(3−ニトロ−4−エチニルフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
上記(1)の化合物(1.10g、3.0mmol)のメタノール(10ml)溶液に炭酸カリウム(41.4mg、0.3mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。その後、減圧で濃縮した。残査に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(0.81g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.83 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.66 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.68 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.65 (1H, s)。
(3)2−エチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]アニリン
上記(2)の化合物(0.79g、2.7mmol)のメタノール(10ml)溶液に5%Pd−CaCO3−PbO(100mg)を加え、水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応容器を窒素で置換した後、反応液をセライトでろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(0.26g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.16 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.76 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 6.49 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.77 (2H, br s), 2.56 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.30 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
(4)5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−90)
上記(3)の化合物(260mg、0.9mmol)のアセトニトリル(2ml)溶液に、2,2’−ジチオビス(1,1,1−トリフルオロエタン)(331.5mg、1.4mmol)及び亜硝酸t−ブチル(140μl、1.2mmol)を加え、室温下2時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査を逆相カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:アセトニトリル/水=80/20)で精製し、標記化合物(26.0mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.30 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.92 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.29 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例59
1−メチル−5−{4−(2−プロぺニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−91)
実施例54の化合物(209mg、0.5mmol)のトルエン(2ml)溶液に、2−プロぺニルトリブチルスズ(182mg、0.55mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)(14.4mg、0.025mmol)及びトリフェニルホスフィン(27.8mg、0.mmol)加え、窒素雰囲気下、130℃で、4時間加熱攪拌した。反応液を冷却した後、セライトでろ過し、ろ液を10%アンモニア水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=20/1)で精製し、標記化合物(113.4mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.57 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.38 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.32 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.56 (1H, s), 6.04-5.95 (1H, m), 5.19-5.15 (1H, m), 5.11-5.05 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.69 (2H, d, J = 6.2 Hz), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例60
5−{4−エテニル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−92)
実施例54の化合物とトリブチルビニルスズを用いて、実施例59と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.68 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.39 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.34 (1H, dd, J = 17.2, 11.0 Hz), 6.58 (1H, s), 5.84 (1H, d, J = 17.2 Hz), 5.52 (1H, d, J = 11.0 Hz), 3.93 (3H, s), 3.36 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例61
4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−93)
(1)4−クロロ−1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
4−ブロモ−2−ニトロトルエンを、工程C−1の反応に付し、得られた1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(248.6mg、0.84mmol)のN,N−ジメチルホルムアミドホルム(2.8ml)溶液に、N−クロロスクシンイミド(144mg)を加え、70℃で6時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、標記化合物(185.6mg、収率66.9%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.45 (1H, s), 8.13 (1H, d, J=7.9Hz), 7.95 (1H, d, J=7.9Hz), 3.97 (3H, s)。
(2)4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−93)
上記(1)の化合物を、工程C−5〜C−8の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.50 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.27-7.24 (1H, m), 3.84 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.55 (3H, s)。
実施例62
4−[4−クロロ−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−94)
4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリルを出発原料として、実施例61の前段と同様に反応し、後処理して、得られた1−メチル−4−クロロ−5−(4−シアノ−3−フルオロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを、工程A−2bの反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.89 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 3.88 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例63
5−{4−(ジフルオロメチル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−95)
4−ブロモ−3−フルオロベンズアルデヒドを、工程A−1a及びA−2aの反応及び後処理に付し、得られた4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド(189.1mg,0.51mmol)を塩化メチレン(2ml)に溶かし、デオキソフロー(0.14ml)を加え、室温で15時間撹拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、標記化合物(62.4mg、収率30.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, s), 7.55 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.19 (1H, t, J = 55.0 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例64
1−メチル−5−{4−プロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−96)
1−ブロモ−4−プロピルベンゼンを出発原料として、工程C−4〜C−8及びA−2aの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.28 (2H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.86 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.69 (2H, tt, J = 7.6, 7.6 Hz), 1.02 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例65
5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−97)
(1)4−ブロモ−1−シクロプロピル−2−ニトロベンゼン
硝酸銅三水和物(3.14g、13.0mmol)の酢酸(6ml)と無水酢酸(14ml)の溶液に、氷冷下、酢酸(4ml)と無水酢酸(10ml)の混合溶液に溶解した4−ブロモシクロプロピルベンゼン(2.32g、11.8mmol)を加え、室温下8時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、ジクロロメタンで抽出した。抽出液を飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=30/1)で精製し、標記化合物(1.37g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.95 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.59 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 7.03 (1H, d, J = 8.4 Hz), 2.33 (1H, tt, J = 6.9, 4.5 Hz), 1.11-1.03 (2H, m), 0.73-0.66 (2H, m)。
(2)5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−97)
上記(1)の化合物を出発原料として、工程C−4〜C−8及びA−2aの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.53 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.01 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.48-2.41 (1H, m), 1.15-1.10 (2H, m), 0.81-0.77 (2H, m)。
実施例66
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド O−メチルオキシム(化合物番号1−98)
4−ブロモ−3−フルオロベンズアルデヒドを、工程A−1a及びA−2aの反応及び後処理に付して、得られた4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド(113.0mg,0.31mmol)を、メタノール(2ml)に溶かし、O−メチルヒドロキシルアミン(32.7mg)を加え、室温で、2時間撹拌した。さらにテトラヒドロフラン(1ml)を加え、室温で、一晩撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=6/1)で精製し、標記化合物(26.5mg、収率20.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.69 (1H, s), 8.01 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.65 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.8, 1.7 Hz), 6.60 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.93 (3H, s), 3.37 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例67
3−(ジフルオロメトキシ)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−99)
実施例68(1)の化合物を、実施例68(3)と同様に反応し、後処理して、得られた3−ジフロロアセチル−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾールを出発原料として、工程C−4〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.49 (1H, s), 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, t, J = 73.6 Hz), 5.91 (1H, s), 3.75 (3H, s), 3.42 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.52 (3H, s)。
実施例68
3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−100)
(1)3−ヒドロキシ−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール及び3−ヒドロキシ−2−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
エチル 3−(4−メチルフェニル)プロプ−2−イノアート(6.03g、32.0mmol)を、エタノール(32ml)および水(32ml)に溶かし、メチルヒドラジン(1.9ml、35.2mmol)を加え、60℃で7時間撹拌した。室温まで冷却した後、減圧で濃縮し、生じた結晶をろ取した。この結晶を、冷やした酢酸エチルで洗浄した後、減圧下乾燥した。生じた結晶(ピラゾロン位置異性体、1−メチル体及び2メチル体の混合物)は、精製することなく次の工程に用いた。
(2)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1,2−ジヒドロ−3H−ピラゾール−3−チオン
上記の(1)の化合物(粗生成物:456.0mg)をトルエン(4.8ml)に加え、ローソン試薬(502.5mg)を加え、7時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(259.6mg、収率52.5%)を得た。
(3)3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
上記(2)の化合物(254.1mg、1.24mmol)を1,4−ジオキサン(4.1ml)に溶かし、水酸化ナトリウム(261.9mg、5.3mmol)を水(1.6ml)に溶かした溶液を加え、60〜65℃に加熱した。本反応液に、クロロジフルオロメタンのガスを2分間導入し、その後、同温度で4時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(99.5mg、収率31.5%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.66 (2H, d, J=7.9Hz), 7.20 (2H, d, J=7.9Hz), 6.71 (1H, t, J=56.5Hz), 4.00 (3H, s), 2.37 (3H, s)。
(4)3−ジフロロメチルチオ−1−メチル−5−(4−メチル−3−クロロスルホニルフェニル)−1H−ピラゾール
上記(3)の化合物を、氷冷下、クロロスルホン酸(233.4mg, 2.0mmol)の中に加え、50℃で2時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、粗生成物として、標記化合物(114.7mg)を得た。本化合物はこれ以上精製することなく次の工程に供した。
(5)S−(5−{3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル}−2−メチルフェニル)エタンチオアート
上記(4)の化合物(114.7mg)を、酢酸(3ml)に溶かし、酢酸ナトリウム(134.0mg)および亜鉛粉末(108.0mg)を加え、1時間、加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、セライトにてろ過した。ろ液を氷水中に注ぎ、アンモニア水で中和し、その水層を酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(75.9mg、収率71%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.82 (1H, d, J=1.4Hz), 7.73 (1H, d, J=7.6, 1.4Hz), 7.34 (1H, d, J=7.6Hz), 6.85 (1H, s), 6.71 (1H, t, J=56.4Hz), 4.00 (3H, s), 2.43 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
(6)5−{3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル}−2−メチルベンゼンチオール
上記(5)の化合物(73.9mg、0.23mmol)をエタノール(3.0ml)に溶かし、6規定水酸化ナトリウム水溶液(0.44ml)を加え、2 時間加熱還流した。室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。水層に氷を加え、続いて、6規定塩酸水溶液で酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、さらに減圧下濃縮し、粗生成物として、標記化合物(63.3mg、収率98.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.70 (1H, brd. s), 7.44 (1H, dd, J=7.7, 1.6Hz), 7.17 (1H, d, J=7.7Hz), 6.83 (1H, s), 6.71 (1H, t, J=56.5Hz), 4.00 (3H, s), 3.38(1H, s), 2.34 (3H, s)。
(7)3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−100)
上記(6)の化合物(63.3mg、0.22mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(2.0ml)に溶かし、氷冷下、水素化ナトリウム(60%鉱油中、12.3mg)および1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン(28μl)を加え、80℃で1時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(38.2mg、収率46.9%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.89 (1H, s), 7.60 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.85 (1H, s), 6.73 (1H, t, J = 56.4 Hz), 4.01 (3H, s), 3.45 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例69
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(化合物番号1−109)
クロロジフルオロメタンの代わりに、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタンを用いる他、実施例68と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.50-3.25 (4H, m), 2.48 (3H, s)。
実施例70
5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−145)
プロピルブロミドの代わりに、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエチルを用いる他、実施例53と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.22 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.60 (1H, s), 4.67 (3H, q, J = 7.8 Hz), 3.42 (3H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s)。
実施例71
3−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−146)
(1)3−メチル−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル トリフルオロメタンスルホナート
エチル 3−オキソブタン酸を、工程B−3の反応及び後処理に付し、得られた3−メチル−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−オール及び3−メチル−2−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−オールの混合物(3.60g、20.0mmol)のジクロロメタン(20ml)溶液に、氷冷下、トリエチルアミン(2.23g、22.0mmol)及び無水トリフルオロメタンスルホン酸(6.21g、22.0mmol)を加え、同温度で、1時間攪拌した。反応混合物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(6.06g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 6.05 (1H, s), 4.58 (2H, q, J = 8.0 Hz), 2.27 (3H, s)。
(2)3−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−146)
上記(1)の化合物を出発原料として、工程C−1及びC−4〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.45 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.32 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.14 (1H, s), 4.55 (2H, q, J = 8.2 Hz), 3.42 (2H, q, J = 9.4 Hz), 2.51 (3H, s), 2.33 (3H, s)。
実施例72
4−[1−メチル−3−(ノナフルオロブチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−147) ペルフロロペンタン酸を出発原料として、実施例57と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.1Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例73
5−{4−エチニル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−148) 5−(4−ブロモフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを工程C−4の反応及び後処理に付し、得られた5−(4−ブロモ−3−ニトロフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを実施例58(1)と同様に反応し、後処理して、得られた5−[4−(2−トリメチルシリル)エチニル−3−ニトロフェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを出発原料として、工程C−5〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.66 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.59 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.59 (2H, q, J = 9.6 Hz), 3.59 (1H, s)。
実施例74
3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−4,5−ジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−149)
(1)N’−ヒドロキシ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼンカルボキシミダミド
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)(1.00g、2.74mmol)を、1,4−ジオキサン(10ml)に溶かし、ヒドロキシルアミン塩酸塩(953.4mg、13.7mmol)およびトリエチルアミン(1.9ml、13.7mmol)を加え、70℃で6時間加熱撹拌し、さらに還流下2時間加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1〜1/4)で精製し、標記化合物(536.5mg、収率49.2%)を得た。
(2)3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−4,5−ジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−149)
上記(1)の化合物(248.3mg、0.62mmol)をアセトニトリル(5.5ml)に溶かし、37%ホルムアルデヒド水溶液(0.26ml)および酢酸(0.1ml)を加え、室温で30分間撹拌し、さらに還流下1時間加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、標記化合物(29.7mg、収率11.6%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.69 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.45 (1H, dd, J = 8.1, 1.7 Hz), 6.61 (1H, s), 5.54 (2H, d, J = 4.0 Hz), 5.16 (1H, br s), 3.94 (3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例75
3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−150)
実施例74(1)の化合物(102.1mg、0.26mmol)をエタノール(2.6ml)に溶かし、オルト蟻酸エチル(0.26ml、1.56mmol)および濃硫酸(2滴)を加え、室温で一晩撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製し、標記化合物(32.1mg、収率30.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz)。
実施例76
2−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,3−チアゾール(化合物番号1−151)
5−[4−ブロモ−3−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを実施例59と同様に反応し、後処理して、標記化合物(収率39%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.73 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.54 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.48 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.64 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例77
1−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}エタノール(化合物番号1−152)
5−[4−ブロモ−3−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを(1−エトキシエテニル)トリブチルスズを実施例59と同様に反応し、後処理して、得られた1−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}エタノン(153mg、0.4mmol)のメタノール(5ml)溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム(18.2mg、0.4mmol)を加え、室温下1時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を逆相カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:アセトニトリル/水=60/40)で精製し、標記化合物(78.7mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.75 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 6.57 (1H, s), 5.57-5.50 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.53-3.44 (2H, m), 1.99 (1H, d, J = 4.1 Hz), 1.55 (3H, d, J = 6.2 Hz)。
実施例78
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド オキシム(化合物番号1−153)
4−ブロモ−2−フルオロベンズアルデヒドを、工程A−1a及びA−2aの反応に付し、得られた4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒドを実施例66の後段の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.77 (1H, s), 7.98-7.95 (2H, m), 7.67 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 8.0, 1.8 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.39 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例79
3−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−154)
(1)3−クロロ−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
実施例68(1)の化合物(258.0mg、1.37mmol)にオキシ塩化リン(1.4ml、15.0mmol)を加え、シールドチューブ中、180℃で5分間加熱した。反応液を室温まで冷却し、氷水中に注いだ。反応液に炭酸カリウムを加え、中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(127.5mg、収率45.0%)得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.61 (1H, d, J=7.9Hz), 7.19 (1H, d, J=7.9Hz), 6.46 (1H, s), 3.87 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
(2)3−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−154)
上記(1)の化合物を、工程E−4〜E−6の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.47 (1H, s), 3.88 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例80
3−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−155)
実施例79の化合物を、工程A−3の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.28 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.85 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.28 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.57 (1H, s), 3.89 (3H, s), 3.52-3.36 (2H, m), 2.41 (3H, s)。
実施例81
3−ブロモ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−156)
オキシ塩化リンの代わりに、オキシ臭化リンを用いる他、実施例79と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.8, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.8 Hz), 6.55 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例82
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−ピラゾール(化合物番号1−157)
実施例81の化合物を、工程A−1bの反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.95 (1H, s), 7.76-7.58 (5H, m), 7.29-7.26 (1H, m), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.50 (3H, s)。
実施例83
3−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−10)
4−アセチルトルエンを出発原料として、実施例70と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.91 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.63 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.29 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.98 (1H, s), 4.84 (3H, q, J = 8.0 Hz), 3.45 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.50 (3H, s)。
実施例84
3−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−11)
4−アセチル−1−ブロモベンゼンを出発原料として、実施例54と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.96 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.65 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.88 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例85
3−[4−メチル−3−(プロピルチオ)フェニル]−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−12)
4−アセチルトルエンを出発原料として、実施例83と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.47 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.21 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.96 (1H, s), 4.84 (2H, q, J = 7.6 Hz), 2.95 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.39 (3H, s), 1.77-1.69 (2H, m), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例86
4−[5−(ジフルオロメチル)−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−13)
ジフロロ酢酸を出発原料として、実施例56と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 8.2, 1.5 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.82 (1H, s), 6.77 (1H, t, J = 53.7 Hz), 4.05 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例87
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−5−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−3−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1)
(1)2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−4−(4,4,4−トリフルオロ−1−ヒドロキシ−3−オキソ−1−ブテニル)ベンゾニトリル(工程B−4)
実施例13(2)で得られた4−(1−エトキシ−4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ−1−ブテニル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ] ベンゾニトリル(96.6mg,0.25mmol)をメタノール(3ml)に溶かし、2N塩酸(1.0ml)を加え、50℃で3時間撹拌した。反応液に、飽和食塩水及び水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して、標記化合物(87.2mg、収率97%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:8.19 (1H, d, J=1.5Hz), 7.94 (1H, dd, J=8.2, 1.5Hz), 7.84 (1H, d, J=8.2Hz), 6.56 (1H, s), 3.63 (2H, q, J=9.3Hz)。
(2)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55、工程B−3)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1、工程B−3)
上記(2)の化合物(55.4mg、0.16mmol)をエタノール(3.0ml)に溶かし、酢酸(150μl)及びメチルヒドラジン(13μl)を加え、2時間、加熱還流した。放冷した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネウムで乾燥し、減圧で濃縮した。得られた残渣を、薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、化合物番号1−55の化合物(19.9mg、収率35%)及び化合物番号2−1の化合物(1.9mg、収率3%)を得た。
化合物番号1−55の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.84 (1H, d, J=7.9Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J=7.9Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 (2H, q, J=9.4Hz)。
化合物番号2−1の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:8.09 (1H, d, J=1.6Hz), 7.81 (1H, dd, J=7.9, 1.6Hz), 7.73 (1H, d, J=7.9Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 (3H, s), 3.61 (2H, q, J=9.4Hz)。
3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−72、工程C−1、C−4〜C−8及び工程A−3)
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.54 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.41 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.9 Hz), 2.47 (3H, s)。
実施例48
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−15、工程B−1、B−2、B−4及びB−3)及び1−メチル−3−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)フェニル]−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−14、工程B−1、B−2、B−4及びB−3)
(1)4−(1−エトキシエテニル)−1−メチル−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼン(工程B−1)
4−ブロモ−1−メチル−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼン(1.05g、3.68mmol)のトルエン溶液(5.0ml)に、トリブチル(1−エトキシビニル)スズ(1.24ml、3.68mmol)及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド(0.129g、0.184mmol)を加え、100℃で、3時間加熱撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5ml)及び10%フッ化カリウム水溶液(5ml)を加え、室温で、15分撹拌した後、セライトにて、反応液をろ過した。ろ液の有機層を分離した後、水層を酢酸エチルで1回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、標記化合物を油状物として得た。
この化合物を、更に精製することなく、次の工程に用いた。
(2)4−エトキシ−1,1,1−トリフルオロ−4−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}ブト−3−エン−2−オン(工程B−2)
上記(1)の化合物の全量をテトラヒドロフラン(10ml)に溶かし、0℃に冷却し、ピリジン(0.36ml、4.42mmol)を加え、続いて、トリフルオロ酢酸無水物(0.52ml、3.68mmol)を加え、同温度で2時間撹拌し、続いて、室温で30分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5ml)及び10%フッ化カリウム水溶液(5ml)を加え、室温で、30分間撹拌した後、セライトにて、反応液をろ過した。ろ液の有機層を分離した後、水層を酢酸エチルで1回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、標記化合物(841.0mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.66 (1H, d, J=1.4 Hz), 7.36 (1H, dd, J=7.6Hz, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J=7.6Hz, 5.80 (1H, s), 4.18 (2H, q, J=6.9Hz), 3.44 (2H, q, J=9.6Hz), 2.51 (3H, s), 1.49 (3H, t, J=6.9Hz)。
(3)1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシ−4−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}ブト−3−エン−2−オン(工程B−4)
上記(2)の化合物(841.0mg)をメタノール(9ml)に溶かし、2N塩酸(3.0ml)を加え、50℃で3時間撹拌した。反応液に、飽和食塩水(10ml)及び水(10ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して、標記化合物(845.6mg、2工程での収率67%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:15.10 (1H, brd. s), 8.06 (1H, s), 7.76 (1H, d, J=7.6Hz), 7.37 (1H, d, J=7.6Hz), 6.53 (1H, s), 3.47 (1H, q, J=8.9Hz), 2.55 (3H, s)。
(4)1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−15、工程B−3)及び1−メチル−3−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)フェニル]−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−14、工程B−3)
上記(3)の化合物(37.5mg、0.109mmol)をエタノール(1.0ml)に溶かし、酢酸(100μl)及びメチルヒドラジン(9μl)を加え、2時間、加熱還流した。放冷した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣を、薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/5)で精製し、化合物番号1−15の化合物(11.7mg、収率30%)及び化合物番号2−14の化合物(8.2mg、収率21%)を得た。
化合物番号1−15の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.60 (1H, d, J=2.1Hz), 7.57 (1H, d=8.2H), 7.31 (1H, dd, J=8.2, 2.1Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.52 (2H, q, J=9.4Hz)。
化合物番号2−14の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.90 (1H, d, J=1.4Hz), 7.59 (1H, dd, J=7.6, 1.4Hz), 7.27 (1H, d, J=7.6Hz), 6.86 (1H, s), 4.03 (3H, s), 3.45 (2H, q, J=9.6Hz), 2.49 (3H, s)。
実施例49
3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−150、工程D−1及びD−2)
(1)N’−ヒドロキシ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2、2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼンカルボキシミドアミド(工程D−1)
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ] ベンゾニトリル(化合物番号1−55)(1.00g、2.74mmol)の1,4−ジオキサン(10.0ml)溶液にヒドロキシルアミン塩酸塩 (953.4mg、13.72mmol)及びトリエチルアミン(1.9ml、13.63mmol)を加え、70℃で、6時間撹拌し、次いで120℃で、2時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1〜1/4)で精製し、標記化合物(536.5mg, 収率49.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.63 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.60 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.40 (1H, dd, J = 7.9, 1.7 Hz), 6.89 (1H, br s), 6.59 (1H, s), 4.99 (2H, br s), 3.92 (3H, s), 3.54 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
(2)3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾ−ル−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−150、工程D−2)
上記(1)の化合物(102.1mg、0.26mmol)のエタノール(2.6ml)溶液に、室温下、オルトギ酸エチル (0.26ml、1.56mmol)及び硫酸(2滴)を加え、同温度で、6日間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製し、標記化合物(化合物番号1−150、32.1mg、収率30.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz)。
実施例50
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(化合物番号1−109、工程E−1〜E−6)
(1)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール−3−オール(工程E−1)
エチル 3−(4−メチルフェニル)−2−プロピノエート(651.2mg、3.46mmol)のエタノール(3.5ml)及び水(3.5ml)の混合溶液にメチルヒドラジン(0.2ml、3.76mmol)を加え、60℃で、7時間加熱撹拌した。反応溶液を減圧で濃縮した後、酢酸エチルを加え、ろ過して、固体を得た。得られた固体を酢酸エチルで洗浄し、次いで乾燥し、標記化合物(79.1mg、収率12.1%)を得た。
1H-NMRスペクトル(DMSO-d6)δ: 9.60 (1H, s), 7.35 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.27 (2H, d, J = 8.0 Hz), 5.56 (1H, s), 3.59 (3H, s), 2.35 (3H, s)。
(2)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール−3−チオール(工程E−2)
上記(1)の化合物(456.0mg、2.42mmol)のトルエン(4.8ml)溶液にローソン試薬(502.5mg、1.24mmol)を加え、120℃で、7時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣をシリカゲルカラムグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(259.6mg、収率52.5%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.61 (2H, d, J = 8.1 Hz), 7.18 (2H, d, J = 8.1 Hz), 6.67 (0.5H, s), 6.66 (0.5H, s), 3.80 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
(3)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(工程E−3)
上記(2)の化合物(294.6mg、1.44mmol)の1,4−ジオキサン(8.0ml)溶液に、室温で、水酸化ナトリウム(385.6mg、9.64mmol)、水(3.1ml)及び1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン(0.71ml、7.20mmol)を加え、65℃で、6.5時間加熱撹拌した。反応溶液を水に注ぎ、エーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(203.2mg、収率49.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.64 (2H, d, J = 8.3Hz), 7.20 (2H, d, J = 8.3 Hz), 6.74 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.36 (3H, s)。
(4)2−メチル−5−{1−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール−5−イル}ベンゼンスルホニルクロリド(工程E−4)
上記(3)の化合物(200.7mg、0.70mmol)に、氷冷下、クロロスルホン酸(0.70ml、10.53mmol)を加え、50℃で、4時間加熱撹拌した。反応溶液を、酢酸エチルを含有する氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮し、標記化合物(323.4mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.41 (1H, d, J = 1.6 Hz), 8.00 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.44 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, s), 4.02 (3H, s), 3.33 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.81 (3H, s)。
(5)2−メチル−5−{1−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール−5−イル}ベンゼンチオール(工程E−5)
上記(4)の化合物(68.0mg)の酢酸溶液(3.0ml)に、亜鉛(199.4mg、3.05mmol)を加え、3.5時間加熱還流した。反応液に氷水及び酢酸エチルを加え、不溶物をろ過により除去した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して、次いで、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、標記化合物(31.6mg、2工程での収率67.4%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.69 (1H, s), 7.43 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.17 (1H, d, J = 7.8 Hz), 6.73 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.37 (1H, s), 3.30 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.34 (3H, s)。
(6)1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(化合物番号1−109、工程E−6)
上記(5)の化合物(31.6mg、0.099mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(3ml)溶液に、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン(15μl、0.15mmol)、炭酸カリウム(15.2mg、0.11mmol)及びロンガリット(1.8mg、0.012mmol)を加え、室温で、一晩攪拌した。反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧で濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(32.1mg、収率80.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.6 Hz), 3.32 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例51
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(トリフルオロメチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−158、工程C−8)
2−メチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]ベンゼンチオール及びトリフルオロメチルヨージドを用いて、実施例17(8)と同様に、反応し、後処理をして、標記化合物を得る。
更にまた、以下工程A〜Eを用いて、以下の実施例52〜86の化合物を製造した。
実施例52
5−{2−フルオロ−4−メチル−5−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−79)
3−フルオロ−4−ブロモトルエンを出発原料として、工程C−4〜C−8及び工程A−2aの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 7.2 Hz), 7.13 (1H, d, J = 10.4 Hz), 6.57 (1H, s), 3.84 (3H, s), 3.34 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.56 (3H, s)。
実施例53
5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−85)
4−アセチルトルエンを2,2,2−トリフルオロエチル トリフルオロアセテートと公知の方法(例えば、J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964)等の方法)を用いて反応させ、得られた1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシ−4−(4−メチルフェニル)ブト−3−エン−2−オンを出発原料として、工程C−3〜C−8及び工程A−3の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.93 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.42 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.37 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.66 (1H, s), 4.78-4.69 (2H, m), 2.87-2.78 (1H, m), 2.74-2.67 (1H, m), 2.45 (3H, s), 1.97-1.85 (1H, m), 1.76-1.65 (1H, m), 1.08 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例54
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−86)
4−アセチル−1−ブロモベンゼンを2,2,2−トリフルオロエチル トリフルオロアセテートと公知の方法(例えば、J. Org. Chem., 1990, vol. 55, 1959-1964)等の方法)を用いて反応させ、得られた4−(4−ブロモフェニル)−1,1,1−トリフルオロ−4−ヒドロキシブト−3−エン−2−オンを出発原料として、工程C−3〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.75 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.21 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.57 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.53 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例55
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−87)
工程A−3を用いて、実施例54の化合物を酸化して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.04 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.77 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.51 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.66 (1H, s), 3.96 (3H, s), 3.91-3.81 (1H, m), 3.49-3.39 (1H, m)。
実施例56
4−[3−(ジフルオロメチル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−88)
ジフロロ酢酸をオキザリルクロリドと反応させ、得られた相当する酸クロリドを出発原料として、工程B−2及びB−3の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.82 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.73 (1H, 1.2 Hz), 7.50 (1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 6.70 (1H, t, J = 55.1 Hz), 6.61 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.2 Hz)。
実施例57
4−{1−メチル−3−[2,2,2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチル]−1H−ピラゾール−5−イル}−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−89)
2−トリフロロメチル−3,3,3−トリフロロプロピオン酸をオキザリルクロリドと反応させ、得られた相当する酸クロリドを出発原料として、工程B−2及びB−3の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.82 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.52 (1H, dd, J = 8.1, 1.5 Hz), 6.54 (1H, s), 4.40-4.28 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例58
5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−90)
(1)1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−5−[3−ニトロ−4−(2−トリメチルシリルエチニル)フェニル]−1H−ピラゾール
1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−5−(4−ブロモフェニル)−1H−ピラゾールを工程C−4の反応及び後処理に付し、得られた1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−5−(3−ニトロ−4−ブロモフェニル)−1H−ピラゾール(3.42g、9.7mmol)のトリエチルアミン(20ml)溶液に、トリメチルシリルアセチレン(2.1ml、14.7mmol)、酢酸パラジウム(II)(22.4mg、0.1mmol)、トリフェニルホスフィン(83.5mg、0.3mmol)及びヨウ化第一銅(12.3mg、0.06mmol)を加えた後、100℃で、4時間加熱攪拌した。反応液を室温に冷却した後、減圧下濃縮した。残査に酢酸エチルを加え、飽和塩化アンモニウム溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製し、標記化合物(2.72g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.78 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.62 (1H, dd, J = 7.7, 1.7 Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 (3H, s), 0.30 (9H, s)。
(2)5−(3−ニトロ−4−エチニルフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
上記(1)の化合物(1.10g、3.0mmol)のメタノール(10ml)溶液に炭酸カリウム(41.4mg、0.3mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。その後、減圧で濃縮した。残査に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(0.81g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.83 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.66 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.68 (1H, s), 3.99 (3H, s), 3.65 (1H, s)。
(3)2−エチル−5−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]アニリン
上記(2)の化合物(0.79g、2.7mmol)のメタノール(10ml)溶液に5%Pd−CaCO3−PbO(100mg)を加え、水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応容器を窒素で置換した後、反応液をセライトでろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(0.26g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.16 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.76 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 6.49 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.77 (2H, br s), 2.56 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.30 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
(4)5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−90)
上記(3)の化合物(260mg、0.9mmol)のアセトニトリル(2ml)溶液に、2,2’−ジチオビス(1,1,1−トリフルオロエタン)(331.5mg、1.4mmol)及び亜硝酸t−ブチル(140μl、1.2mmol)を加え、室温下2時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査を逆相カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:アセトニトリル/水=80/20)で精製し、標記化合物(26.0mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.30 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.92 (2H, q, J = 7.6 Hz), 1.29 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例59
1−メチル−5−{4−(2−プロぺニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−91)
実施例54の化合物(209mg、0.5mmol)のトルエン(2ml)溶液に、2−プロぺニルトリブチルスズ(182mg、0.55mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)(14.4mg、0.025mmol)及びトリフェニルホスフィン(27.8mg、0.mmol)加え、窒素雰囲気下、130℃で、4時間加熱攪拌した。反応液を冷却した後、セライトでろ過し、ろ液を10%アンモニア水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧で濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=20/1)で精製し、標記化合物(113.4mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.57 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.38 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.32 (1H, dd, J = 7.6, 2.1 Hz), 6.56 (1H, s), 6.04-5.95 (1H, m), 5.19-5.15 (1H, m), 5.11-5.05 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.69 (2H, d, J = 6.2 Hz), 3.43 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例60
5−{4−エテニル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−92)
実施例54の化合物とトリブチルビニルスズを用いて、実施例59と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.68 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.63 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.39 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.34 (1H, dd, J = 17.2, 11.0 Hz), 6.58 (1H, s), 5.84 (1H, d, J = 17.2 Hz), 5.52 (1H, d, J = 11.0 Hz), 3.93 (3H, s), 3.36 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例61
4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−93)
(1)4−クロロ−1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
4−ブロモ−2−ニトロトルエンを、工程C−1の反応に付し、得られた1−メチル−5−(4−メチル−3−ニトロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(248.6mg、0.84mmol)のN,N−ジメチルホルムアミドホルム(2.8ml)溶液に、N−クロロスクシンイミド(144mg)を加え、70℃で6時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、標記化合物(185.6mg、収率66.9%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.45 (1H, s), 8.13 (1H, d, J=7.9Hz), 7.95 (1H, d, J=7.9Hz), 3.97 (3H, s)。
(2)4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−93)
上記(1)の化合物を、工程C−5〜C−8の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.50 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.40 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.27-7.24 (1H, m), 3.84 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz), 2.55 (3H, s)。
実施例62
4−[4−クロロ−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−94)
4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリルを出発原料として、実施例61の前段と同様に反応し、後処理して、得られた1−メチル−4−クロロ−5−(4−シアノ−3−フルオロフェニル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを、工程A−2bの反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.89 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.74 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 7.9 Hz), 3.88 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.4 Hz)。
実施例63
5−{4−(ジフルオロメチル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−95)
4−ブロモ−3−フルオロベンズアルデヒドを、工程A−1a及びA−2aの反応及び後処理に付し、得られた4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド(189.1mg,0.51mmol)を塩化メチレン(2ml)に溶かし、デオキソフロー(0.14ml)を加え、室温で15時間撹拌した。反応液を塩化メチレンで希釈し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製し、標記化合物(62.4mg、収率30.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.73 (1H, s), 7.55 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.19 (1H, t, J = 55.0 Hz), 6.62 (1H, s), 3.94 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例64
1−メチル−5−{4−プロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−96)
1−ブロモ−4−プロピルベンゼンを出発原料として、工程C−4〜C−8及びA−2aの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.52 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.34 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.28 (2H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 6.54 (1H, s), 3.91 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.86 (2H, t, J = 7.6 Hz), 1.69 (2H, tt, J = 7.6, 7.6 Hz), 1.02 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例65
5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−97)
(1)4−ブロモ−1−シクロプロピル−2−ニトロベンゼン
硝酸銅三水和物(3.14g、13.0mmol)の酢酸(6ml)と無水酢酸(14ml)の溶液に、氷冷下、酢酸(4ml)と無水酢酸(10ml)の混合溶液に溶解した4−ブロモシクロプロピルベンゼン(2.32g、11.8mmol)を加え、室温下8時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎ込み、ジクロロメタンで抽出した。抽出液を飽和塩化アンモニウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=30/1)で精製し、標記化合物(1.37g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.95 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.59 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 7.03 (1H, d, J = 8.4 Hz), 2.33 (1H, tt, J = 6.9, 4.5 Hz), 1.11-1.03 (2H, m), 0.73-0.66 (2H, m)。
(2)5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−97)
上記(1)の化合物を出発原料として、工程C−4〜C−8及びA−2aの反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.53 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.26 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 7.01 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.53 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.48 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.48-2.41 (1H, m), 1.15-1.10 (2H, m), 0.81-0.77 (2H, m)。
実施例66
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド O−メチルオキシム(化合物番号1−98)
4−ブロモ−3−フルオロベンズアルデヒドを、工程A−1a及びA−2aの反応及び後処理に付して、得られた4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド(113.0mg,0.31mmol)を、メタノール(2ml)に溶かし、O−メチルヒドロキシルアミン(32.7mg)を加え、室温で、2時間撹拌した。さらにテトラヒドロフラン(1ml)を加え、室温で、一晩撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=6/1)で精製し、標記化合物(26.5mg、収率20.8%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.69 (1H, s), 8.01 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.65 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.8, 1.7 Hz), 6.60 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.93 (3H, s), 3.37 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例67
3−(ジフルオロメトキシ)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−99)
実施例68(1)の化合物を、実施例68(3)と同様に反応し、後処理して、得られた3−ジフロロアセチル−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾールを出発原料として、工程C−4〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.49 (1H, s), 7.32 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.83 (1H, t, J = 73.6 Hz), 5.91 (1H, s), 3.75 (3H, s), 3.42 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.52 (3H, s)。
実施例68
3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−100)
(1)3−ヒドロキシ−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール及び3−ヒドロキシ−2−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
エチル 3−(4−メチルフェニル)プロプ−2−イノアート(6.03g、32.0mmol)を、エタノール(32ml)および水(32ml)に溶かし、メチルヒドラジン(1.9ml、35.2mmol)を加え、60℃で7時間撹拌した。室温まで冷却した後、減圧で濃縮し、生じた結晶をろ取した。この結晶を、冷やした酢酸エチルで洗浄した後、減圧下乾燥した。生じた結晶(ピラゾロン位置異性体、1−メチル体及び2メチル体の混合物)は、精製することなく次の工程に用いた。
(2)1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1,2−ジヒドロ−3H−ピラゾール−3−チオン
上記の(1)の化合物(粗生成物:456.0mg)をトルエン(4.8ml)に加え、ローソン試薬(502.5mg)を加え、7時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、標記化合物(259.6mg、収率52.5%)を得た。
(3)3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
上記(2)の化合物(254.1mg、1.24mmol)を1,4−ジオキサン(4.1ml)に溶かし、水酸化ナトリウム(261.9mg、5.3mmol)を水(1.6ml)に溶かした溶液を加え、60〜65℃に加熱した。本反応液に、クロロジフルオロメタンのガスを2分間導入し、その後、同温度で4時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(99.5mg、収率31.5%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.66 (2H, d, J=7.9Hz), 7.20 (2H, d, J=7.9Hz), 6.71 (1H, t, J=56.5Hz), 4.00 (3H, s), 2.37 (3H, s)。
(4)3−ジフロロメチルチオ−1−メチル−5−(4−メチル−3−クロロスルホニルフェニル)−1H−ピラゾール
上記(3)の化合物を、氷冷下、クロロスルホン酸(233.4mg, 2.0mmol)の中に加え、50℃で2時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、粗生成物として、標記化合物(114.7mg)を得た。本化合物はこれ以上精製することなく次の工程に供した。
(5)S−(5−{3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル}−2−メチルフェニル)エタンチオアート
上記(4)の化合物(114.7mg)を、酢酸(3ml)に溶かし、酢酸ナトリウム(134.0mg)および亜鉛粉末(108.0mg)を加え、1時間、加熱還流した。反応液を室温まで冷却した後、セライトにてろ過した。ろ液を氷水中に注ぎ、アンモニア水で中和し、その水層を酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(75.9mg、収率71%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.82 (1H, d, J=1.4Hz), 7.73 (1H, d, J=7.6, 1.4Hz), 7.34 (1H, d, J=7.6Hz), 6.85 (1H, s), 6.71 (1H, t, J=56.4Hz), 4.00 (3H, s), 2.43 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
(6)5−{3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル}−2−メチルベンゼンチオール
上記(5)の化合物(73.9mg、0.23mmol)をエタノール(3.0ml)に溶かし、6規定水酸化ナトリウム水溶液(0.44ml)を加え、2 時間加熱還流した。室温まで冷却した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。水層に氷を加え、続いて、6規定塩酸水溶液で酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、さらに減圧下濃縮し、粗生成物として、標記化合物(63.3mg、収率98.2%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.70 (1H, brd. s), 7.44 (1H, dd, J=7.7, 1.6Hz), 7.17 (1H, d, J=7.7Hz), 6.83 (1H, s), 6.71 (1H, t, J=56.5Hz), 4.00 (3H, s), 3.38(1H, s), 2.34 (3H, s)。
(7)3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−100)
上記(6)の化合物(63.3mg、0.22mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(2.0ml)に溶かし、氷冷下、水素化ナトリウム(60%鉱油中、12.3mg)および1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタン(28μl)を加え、80℃で1時間撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(38.2mg、収率46.9%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.89 (1H, s), 7.60 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.25 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.85 (1H, s), 6.73 (1H, t, J = 56.4 Hz), 4.01 (3H, s), 3.45 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例69
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール(化合物番号1−109)
クロロジフルオロメタンの代わりに、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエタンを用いる他、実施例68と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, s), 7.58 (1H, d, J = 7.7 Hz), 7.24 (1H, d, J = 7.7 Hz), 6.74 (1H, s), 4.00 (3H, s), 3.50-3.25 (4H, m), 2.48 (3H, s)。
実施例70
5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−145)
プロピルブロミドの代わりに、1,1,1−トリフルオロ−2−ヨードエチルを用いる他、実施例53と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.47 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.37 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.22 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.60 (1H, s), 4.67 (3H, q, J = 7.8 Hz), 3.42 (3H, q, J = 9.6 Hz), 2.54 (3H, s)。
実施例71
3−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−146)
(1)3−メチル−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル トリフルオロメタンスルホナート
エチル 3−オキソブタン酸を、工程B−3の反応及び後処理に付し、得られた3−メチル−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−オール及び3−メチル−2−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−オールの混合物(3.60g、20.0mmol)のジクロロメタン(20ml)溶液に、氷冷下、トリエチルアミン(2.23g、22.0mmol)及び無水トリフルオロメタンスルホン酸(6.21g、22.0mmol)を加え、同温度で、1時間攪拌した。反応混合物を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=7/1)で精製し、標記化合物(6.06g)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 6.05 (1H, s), 4.58 (2H, q, J = 8.0 Hz), 2.27 (3H, s)。
(2)3−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−146)
上記(1)の化合物を出発原料として、工程C−1及びC−4〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.45 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.32 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.19 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.14 (1H, s), 4.55 (2H, q, J = 8.2 Hz), 3.42 (2H, q, J = 9.4 Hz), 2.51 (3H, s), 2.33 (3H, s)。
実施例72
4−[1−メチル−3−(ノナフルオロブチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−147) ペルフロロペンタン酸を出発原料として、実施例57と同様に反応し、後処理して、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.84 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.75 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.1Hz), 6.67 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.62 (2H, q, J = 9.3 Hz)。
実施例73
5−{4−エチニル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号1−148) 5−(4−ブロモフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを工程C−4の反応及び後処理に付し、得られた5−(4−ブロモ−3−ニトロフェニル)−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを実施例58(1)と同様に反応し、後処理して、得られた5−[4−(2−トリメチルシリル)エチニル−3−ニトロフェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを出発原料として、工程C−5〜C−8の反応及び後処理を用いて、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.66 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.58 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 8.2, 1.4 Hz), 6.59 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.59 (2H, q, J = 9.6 Hz), 3.59 (1H, s)。
実施例74
3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−4,5−ジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−149)
(1)N’−ヒドロキシ−4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゼンカルボキシミダミド
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)(1.00g、2.74mmol)を、1,4−ジオキサン(10ml)に溶かし、ヒドロキシルアミン塩酸塩(953.4mg、13.7mmol)およびトリエチルアミン(1.9ml、13.7mmol)を加え、70℃で6時間加熱撹拌し、さらに還流下2時間加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1〜1/4)で精製し、標記化合物(536.5mg、収率49.2%)を得た。
(2)3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−4,5−ジヒドロ−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−149)
上記(1)の化合物(248.3mg、0.62mmol)をアセトニトリル(5.5ml)に溶かし、37%ホルムアルデヒド水溶液(0.26ml)および酢酸(0.1ml)を加え、室温で30分間撹拌し、さらに還流下1時間加熱撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、標記化合物(29.7mg、収率11.6%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.87 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.69 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.45 (1H, dd, J = 8.1, 1.7 Hz), 6.61 (1H, s), 5.54 (2H, d, J = 4.0 Hz), 5.16 (1H, br s), 3.94 (3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例75
3−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,2,4−オキサジアゾール(化合物番号1−150)
実施例74(1)の化合物(102.1mg、0.26mmol)をエタノール(2.6ml)に溶かし、オルト蟻酸エチル(0.26ml、1.56mmol)および濃硫酸(2滴)を加え、室温で一晩撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製し、標記化合物(32.1mg、収率30.7%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.87 (1H, s), 8.13 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.76 (1H, s), 7.52 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.65 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.7 Hz)。
実施例76
2−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1,3−チアゾール(化合物番号1−151)
5−[4−ブロモ−3−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを実施例59と同様に反応し、後処理して、標記化合物(収率39%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.13 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.73 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.54 (1H, d, J = 3.4 Hz), 7.48 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 6.64 (1H, s), 3.97 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例77
1−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}エタノール(化合物番号1−152)
5−[4−ブロモ−3−(2,2,2−トリフルオロエチルチオ)フェニル]−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾールを(1−エトキシエテニル)トリブチルスズを実施例59と同様に反応し、後処理して、得られた1−{4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}エタノン(153mg、0.4mmol)のメタノール(5ml)溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム(18.2mg、0.4mmol)を加え、室温下1時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で2回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残査を逆相カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:アセトニトリル/水=60/40)で精製し、標記化合物(78.7mg)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.75 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.55 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 7.6, 1.7 Hz), 6.57 (1H, s), 5.57-5.50 (1H, m), 3.92 (3H, s), 3.53-3.44 (2H, m), 1.99 (1H, d, J = 4.1 Hz), 1.55 (3H, d, J = 6.2 Hz)。
実施例78
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒド オキシム(化合物番号1−153)
4−ブロモ−2−フルオロベンズアルデヒドを、工程A−1a及びA−2aの反応に付し、得られた4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンズアルデヒドを実施例66の後段の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.77 (1H, s), 7.98-7.95 (2H, m), 7.67 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.43 (1H, dd, J = 8.0, 1.8 Hz), 6.61 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.39 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例79
3−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−154)
(1)3−クロロ−1−メチル−5−(4−メチルフェニル)−1H−ピラゾール
実施例68(1)の化合物(258.0mg、1.37mmol)にオキシ塩化リン(1.4ml、15.0mmol)を加え、シールドチューブ中、180℃で5分間加熱した。反応液を室温まで冷却し、氷水中に注いだ。反応液に炭酸カリウムを加え、中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、標記化合物(127.5mg、収率45.0%)得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.61 (1H, d, J=7.9Hz), 7.19 (1H, d, J=7.9Hz), 6.46 (1H, s), 3.87 (3H, s), 2.36 (3H, s)。
(2)3−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−154)
上記(1)の化合物を、工程E−4〜E−6の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.9 Hz), 6.47 (1H, s), 3.88 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例80
3−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−155)
実施例79の化合物を、工程A−3の反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.28 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.85 (1H, dd, J = 7.9, 1.6 Hz), 7.28 (1H, d, J = 7.9 Hz), 6.57 (1H, s), 3.89 (3H, s), 3.52-3.36 (2H, m), 2.41 (3H, s)。
実施例81
3−ブロモ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール(化合物番号1−156)
オキシ塩化リンの代わりに、オキシ臭化リンを用いる他、実施例79と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.85 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 7.8, 1.6 Hz), 7.24 (2H, d, J = 7.8 Hz), 6.55 (1H, s), 3.92 (3H, s), 3.44 (2H, q, J = 9.7 Hz), 2.48 (3H, s)。
実施例82
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]−1H−ピラゾール(化合物番号1−157)
実施例81の化合物を、工程A−1bの反応及び後処理に付し、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.95 (1H, s), 7.76-7.58 (5H, m), 7.29-7.26 (1H, m), 6.63 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.46 (2H, q, J = 9.8 Hz), 2.50 (3H, s)。
実施例83
3−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−10)
4−アセチルトルエンを出発原料として、実施例70と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.91 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.63 (1H, dd, J = 8.2, 1.7 Hz), 7.29 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.98 (1H, s), 4.84 (3H, q, J = 8.0 Hz), 3.45 (2H, q, J = 9.6 Hz), 2.50 (3H, s)。
実施例84
3−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−11)
4−アセチル−1−ブロモベンゼンを出発原料として、実施例54と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.96 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.65 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.55 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.88 (1H, s), 4.04 (3H, s), 3.55 (2H, q, J = 9.6 Hz)。
実施例85
3−[4−メチル−3−(プロピルチオ)フェニル]−1−(2,2,2−トリフルオロエチル)−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール(化合物番号2−12)
4−アセチルトルエンを出発原料として、実施例83と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 7.69 (1H, d, J = 1.4 Hz), 7.47 (1H, dd, J = 7.6, 1.4 Hz), 7.21 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.96 (1H, s), 4.84 (2H, q, J = 7.6 Hz), 2.95 (2H, t, J = 7.6 Hz), 2.39 (3H, s), 1.77-1.69 (2H, m), 1.07 (3H, t, J = 7.6 Hz)。
実施例86
4−[5−(ジフルオロメチル)−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−13)
ジフロロ酢酸を出発原料として、実施例56と同様にして、標記化合物を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ: 8.09 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 8.2, 1.5 Hz), 7.72 (1H, d, J = 8.1 Hz), 6.82 (1H, s), 6.77 (1H, t, J = 53.7 Hz), 4.05 (3H, s), 3.61 (2H, q, J = 9.5 Hz)。
実施例87
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−5−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−3−イル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1)
(1)2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−4−(4,4,4−トリフルオロ−1−ヒドロキシ−3−オキソ−1−ブテニル)ベンゾニトリル(工程B−4)
実施例13(2)で得られた4−(1−エトキシ−4,4,4−トリフルオロ−3−オキソ−1−ブテニル)−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ] ベンゾニトリル(96.6mg,0.25mmol)をメタノール(3ml)に溶かし、2N塩酸(1.0ml)を加え、50℃で3時間撹拌した。反応液に、飽和食塩水及び水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮して、標記化合物(87.2mg、収率97%)を得た。
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:8.19 (1H, d, J=1.5Hz), 7.94 (1H, dd, J=8.2, 1.5Hz), 7.84 (1H, d, J=8.2Hz), 6.56 (1H, s), 3.63 (2H, q, J=9.3Hz)。
(2)4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号1−55、工程B−3)及び4−[1−メチル−5−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−3−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル(化合物番号2−1、工程B−3)
上記(2)の化合物(55.4mg、0.16mmol)をエタノール(3.0ml)に溶かし、酢酸(150μl)及びメチルヒドラジン(13μl)を加え、2時間、加熱還流した。放冷した後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネウムで乾燥し、減圧で濃縮した。得られた残渣を、薄層クロマトグラフィー(展開溶剤:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製し、化合物番号1−55の化合物(19.9mg、収率35%)及び化合物番号2−1の化合物(1.9mg、収率3%)を得た。
化合物番号1−55の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:7.84 (1H, d, J=7.9Hz), 7.74 (1H, s), 7.50 (1H, d, J=7.9Hz), 6.65 (1H, s), 3.95 (3H, s), 3.61 (2H, q, J=9.4Hz)。
化合物番号2−1の化合物
1H-NMRスペクトル(CDCl3)δ:8.09 (1H, d, J=1.6Hz), 7.81 (1H, dd, J=7.9, 1.6Hz), 7.73 (1H, d, J=7.9Hz), 6.96 (1H, s), 4.07 (3H, s), 3.61 (2H, q, J=9.4Hz)。
以下の製剤例において、化合物及び補助剤の種類及び配合比率はこれらのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。また、以下の説明において、%は質量百分率を示す。
製剤例1
乳剤
化合物番号1の化合物5%に、キシレン42.5%及びジメチルスルホキシド42.5%を加え溶解し、次いでこれにポリオキシエチレンヒマシ油エーテルとアルキルベンゼンスルホン酸カルシウムの混合物(8:2)10%を混合して、乳剤を得た。本剤は水で希釈し、散布液として使用する。
乳剤
化合物番号1の化合物5%に、キシレン42.5%及びジメチルスルホキシド42.5%を加え溶解し、次いでこれにポリオキシエチレンヒマシ油エーテルとアルキルベンゼンスルホン酸カルシウムの混合物(8:2)10%を混合して、乳剤を得た。本剤は水で希釈し、散布液として使用する。
製剤例2
水和剤
化合物番号1の化合物5%にカオリン79%及び珪藻土10%を混合し、更にラウリル硫酸ナトリウム3%及びリグニンスルホン酸ナトリウム3%を混合して微粉砕して、水和剤を得た。本剤は水で希釈して散布液として使用する。
水和剤
化合物番号1の化合物5%にカオリン79%及び珪藻土10%を混合し、更にラウリル硫酸ナトリウム3%及びリグニンスルホン酸ナトリウム3%を混合して微粉砕して、水和剤を得た。本剤は水で希釈して散布液として使用する。
製剤例3
粉剤
化合物番号1の化合物1%にタルクと炭酸カルシウムの混合物(1:1)99%を加え、混合後、粉砕して、粉剤を得た。本剤はこのまま散布して使用する。
粉剤
化合物番号1の化合物1%にタルクと炭酸カルシウムの混合物(1:1)99%を加え、混合後、粉砕して、粉剤を得た。本剤はこのまま散布して使用する。
製剤例4
粒剤
化合物番号1の化合物2%をベントナイト微粉末30%、タルク66%、リグニンスルホン酸ナトリウム2%と混合した後、水を加えて均等になるまで混練する。次に造粒機を通して造粒し整粒機、乾燥機、篩を通すことにより、粒径0.6〜1.0mmの粒剤を得た。本剤はこのまま土壌面に散布して使用する。
粒剤
化合物番号1の化合物2%をベントナイト微粉末30%、タルク66%、リグニンスルホン酸ナトリウム2%と混合した後、水を加えて均等になるまで混練する。次に造粒機を通して造粒し整粒機、乾燥機、篩を通すことにより、粒径0.6〜1.0mmの粒剤を得た。本剤はこのまま土壌面に散布して使用する。
製剤例5
油剤
化合物番号1の化合物0.1%を白灯油に溶解し、全体を100%とし油剤を得た。
油剤
化合物番号1の化合物0.1%を白灯油に溶解し、全体を100%とし油剤を得た。
試験例1
ナミハダニ殺成虫試験
本発明の個々の化合物を300ppm含有し、これに展着剤0.01%を加用した薬液を調製した。ササゲ(Vigna sinenis Savi)の初生葉に、ナミハダニ(Tetranychus urticae)雌成虫を接種した。接種1日後にミズホ式回転散布塔にて、上記の薬液7mlを、散布液量が3.5mg/cm2 葉になるように散布した。風乾後、ササゲ葉を25℃の恒温室内に保存し、3日後成虫の生死を調べ、死虫率(%)を算出した。
その結果、以下の化合物が100%の死虫率を示した。
化合物番号1−3、化合物番号1−4、化合物番号1−7、化合物番号1−8、化合物番号1−9、化合物番号1−10、化合物番号1−11、化合物番号1−12、化合物番号1−13、化合物番号1−15、化合物番号1−16、化合物番号1−17、化合物番号1−19、化合物番号1−23、化合物番号1−35、化合物番号1−41、化合物番号1−43、化合物番号1−55、化合物番号1−56、化合物番号1−61、化合物番号1−64、化合物番号1−65、化合物番号1−66、化合物番号1−67、化合物番号1−68、化合物番号1−69、化合物番号1−70、化合物番号1−71、化合物番号1−72、化合物番号1−73、化合物番号1−74、化合物番号1−75、化合物番号1−76、化合物番号1−77、化合物番号1−78、化合物番号1−79、化合物番号1−86、化合物番号1−87、化合物番号1−88、化合物番号1−89、化合物番号1−90、化合物番号1−91、化合物番号1−92、化合物番号1−93、化合物番号1−94、化合物番号1−95、化合物番号1−96、化合物番号1−97、化合物番号1−98、化合物番号1−99、化合物番号1−100、化合物番号1−109、化合物番号1−147、化合物番号1−148、化合物番号1−149、化合物番号1−150、化合物番号1−151、化合物番号1−152、化合物番号1−153、化合物番号1−154、化合物番号1−155、化合物番号1−156、化合物番号1−157、化合物番号2−1、化合物番号2−3、化合物番号2−9、化合物番号2−10、化合物番号2−11、化合物番号2−12及び化合物番号2−13の化合物。
ナミハダニ殺成虫試験
本発明の個々の化合物を300ppm含有し、これに展着剤0.01%を加用した薬液を調製した。ササゲ(Vigna sinenis Savi)の初生葉に、ナミハダニ(Tetranychus urticae)雌成虫を接種した。接種1日後にミズホ式回転散布塔にて、上記の薬液7mlを、散布液量が3.5mg/cm2 葉になるように散布した。風乾後、ササゲ葉を25℃の恒温室内に保存し、3日後成虫の生死を調べ、死虫率(%)を算出した。
その結果、以下の化合物が100%の死虫率を示した。
化合物番号1−3、化合物番号1−4、化合物番号1−7、化合物番号1−8、化合物番号1−9、化合物番号1−10、化合物番号1−11、化合物番号1−12、化合物番号1−13、化合物番号1−15、化合物番号1−16、化合物番号1−17、化合物番号1−19、化合物番号1−23、化合物番号1−35、化合物番号1−41、化合物番号1−43、化合物番号1−55、化合物番号1−56、化合物番号1−61、化合物番号1−64、化合物番号1−65、化合物番号1−66、化合物番号1−67、化合物番号1−68、化合物番号1−69、化合物番号1−70、化合物番号1−71、化合物番号1−72、化合物番号1−73、化合物番号1−74、化合物番号1−75、化合物番号1−76、化合物番号1−77、化合物番号1−78、化合物番号1−79、化合物番号1−86、化合物番号1−87、化合物番号1−88、化合物番号1−89、化合物番号1−90、化合物番号1−91、化合物番号1−92、化合物番号1−93、化合物番号1−94、化合物番号1−95、化合物番号1−96、化合物番号1−97、化合物番号1−98、化合物番号1−99、化合物番号1−100、化合物番号1−109、化合物番号1−147、化合物番号1−148、化合物番号1−149、化合物番号1−150、化合物番号1−151、化合物番号1−152、化合物番号1−153、化合物番号1−154、化合物番号1−155、化合物番号1−156、化合物番号1−157、化合物番号2−1、化合物番号2−3、化合物番号2−9、化合物番号2−10、化合物番号2−11、化合物番号2−12及び化合物番号2−13の化合物。
試験例2
ミカンハダニ殺成虫試験
本発明の個々の化合物を300ppm含有し、これに展着剤0.01%を加用した薬液を調製した。クワ(Morus bombycis)葉に、ミカンハダニ(Panonychus citri)雌成虫を接種した。接種1日後にミズホ式回転散布塔にて、上記の薬液7mlを、散布液量が3.5mg/cm2 葉になるように散布した。風乾後、クワ葉を25℃の恒温室内に保存し、3日後成虫の生死を調べ、死虫率(%)を算出した。
その結果、以下の化合物が100%の死虫率を示した。
化合物番号1−3、化合物番号1−4、化合物番号1−7,化合物番号1−8,化合物番号1−9化合物番号、化合物番号1−10、化合物番号1−11、化合物番号1−12、化合物番号1−13、化合物番号1−15、化合物番号1−16、化合物番号1−17、化合物番号1−19、化合物番号1−23、化合物番号1−35、化合物番号1−41、化合物番号1−43、化合物番号1−55、化合物番号1−56、化合物番号1−61、化合物番号1−63、化合物番号1−64、化合物番号1−65、化合物番号1−66、化合物番号1−67、化合物番号1−68、化合物番号1−69、化合物番号1−70、化合物番号1−71、化合物番号1−72、化合物番号1−73、化合物番号1−74、化合物番号1−75、化合物番号1−77、化合物番号1−78、化合物番号1−79、化合物番号1−85、化合物番号1−86、化合物番号1−87、化合物番号1−88、化合物番号1−89、化合物番号1−90、化合物番号1−91、化合物番号1−92、化合物番号1−93、化合物番号1−94、化合物番号1−95、化合物番号1−96、化合物番号1−97、化合物番号1−98、化合物番号1−99、化合物番号1−100、化合物番号1−109、化合物番号1−145、化合物番号1−146、化合物番号1−147、化合物番号1−149、化合物番号1−150、化合物番号1−154、化合物番号1−155、化合物番号1−156、化合物番号2−1、化合物番号2−3、化合物番号2−10及び化合物番号2−11の化合物。
殺成虫率(%)=死虫数/放虫数×100
ミカンハダニ殺成虫試験
本発明の個々の化合物を300ppm含有し、これに展着剤0.01%を加用した薬液を調製した。クワ(Morus bombycis)葉に、ミカンハダニ(Panonychus citri)雌成虫を接種した。接種1日後にミズホ式回転散布塔にて、上記の薬液7mlを、散布液量が3.5mg/cm2 葉になるように散布した。風乾後、クワ葉を25℃の恒温室内に保存し、3日後成虫の生死を調べ、死虫率(%)を算出した。
その結果、以下の化合物が100%の死虫率を示した。
化合物番号1−3、化合物番号1−4、化合物番号1−7,化合物番号1−8,化合物番号1−9化合物番号、化合物番号1−10、化合物番号1−11、化合物番号1−12、化合物番号1−13、化合物番号1−15、化合物番号1−16、化合物番号1−17、化合物番号1−19、化合物番号1−23、化合物番号1−35、化合物番号1−41、化合物番号1−43、化合物番号1−55、化合物番号1−56、化合物番号1−61、化合物番号1−63、化合物番号1−64、化合物番号1−65、化合物番号1−66、化合物番号1−67、化合物番号1−68、化合物番号1−69、化合物番号1−70、化合物番号1−71、化合物番号1−72、化合物番号1−73、化合物番号1−74、化合物番号1−75、化合物番号1−77、化合物番号1−78、化合物番号1−79、化合物番号1−85、化合物番号1−86、化合物番号1−87、化合物番号1−88、化合物番号1−89、化合物番号1−90、化合物番号1−91、化合物番号1−92、化合物番号1−93、化合物番号1−94、化合物番号1−95、化合物番号1−96、化合物番号1−97、化合物番号1−98、化合物番号1−99、化合物番号1−100、化合物番号1−109、化合物番号1−145、化合物番号1−146、化合物番号1−147、化合物番号1−149、化合物番号1−150、化合物番号1−154、化合物番号1−155、化合物番号1−156、化合物番号2−1、化合物番号2−3、化合物番号2−10及び化合物番号2−11の化合物。
殺成虫率(%)=死虫数/放虫数×100
本発明の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体は、例えば、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類及び植物寄生性線虫類等の広範囲の害虫に対して優れた防除効果を示し、農園芸用殺虫剤として有用である。
Claims (29)
- 下記の一般式(I)
[式中、
R1は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子、C3−C6シクロアルキル基及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子及びシアノ基からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又はC3−C6シクロアルキル基を表し、
Aは、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)、式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基及びC1−C6アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)又はシアノ基を表し、
Xは、mが2又は3の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、
mは、0乃至3の整数を表し、
nは、0又は1の整数を表し、
Qは、下記の一般式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3):
[式中、
R2、R5及びR8は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)を表し、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]を表す。]
で表される基を表す。]
で表される(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。 - R1が、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−7個のハロゲン原子、1個のC3−C6シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1−2個のハロゲン原子又は1個のシアノ基である。)又はC3−C6シクロアルキル基である、請求項1記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R1が、置換されていてもよいC2−C4アルキル基(当該置換基は、1−5個の弗素原子、1個の塩素原子、1個のC3−C4シクロアルキル基又は1個のシアノ基である。)、C2−C4アルケニル基又はC3−C5シクロアルキル基である、請求項1記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R1が、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シアノメチル基、2−プロペニル基、2−メチル−2−プロペン−1−イル基又はシクロペンチル基である、請求項1記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R1が、エチル基、プロピル基、ブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピルメチル基又は2−プロペニル基である、請求項1記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R1が、プロピル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基である、請求項1記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- Aが、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1個のヒドロキシル基又は1−5個のハロゲン原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルケニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC2−C4アルキニル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、置換されていてもよいC3−C4シクロアルキル基(当該置換基は、1個の弗素原子又は塩素原子である。)、式 −C(Y)=NOR(式中、Rは、水素原子又はC1−C4アルキル基であり、Yは、水素原子又はアミノ基である。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C2アルキル基及びC1−C2アルコキシ基からなる群から選択される1〜2個の置換基である。)又はシアノ基である、請求項1乃至6記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- Aが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、C1−C3アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、C2−C4アルケニル基、2−クロロ−2−プロペニル基、3−クロロ−2−プロペニル基、C2−C4アルキニル基、3−クロロ−2−プロピニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、フルオロシクロプロピル基、ジフルオロシクロプロピル基、クロロシクロプロピル基、ジクロロシクロプロピル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、アミノ(ヒドロキシイミノ)メチル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ジヒドロチアジアゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基又はシアノ基である、請求項1乃至6記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、ヒドロキシルメチル基、1−ヒドロキシルエチル基、2−ヒドロキシルエチル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、エチニル基、1−プロピニル基、2−ブチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、(エトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、ピリジル基又はシアノ基である、請求項1乃至6記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−プロペニル基、エチニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、(メトキシイミノ)メチル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基、チアジアゾリル基又はシアノ基である、請求項1乃至6記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- Aが、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、シクロプロピル基、2−プロペニル基、(ヒドロキシイミノ)メチル基、チアゾリル基、オキサジアゾリル基、ジヒドロオキサジアゾリル基又はシアノ基である、請求項1乃至6記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- Xが、弗素原子又は塩素原子である、請求項1乃至11記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- Xが、弗素原子である、請求項1乃至11記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- mが、0乃至2の整数である、請求項1乃至13記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- mが、0又は1の整数である、請求項1乃至13記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- nが、0の整数である、請求項1乃至15記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- Qが、式(Q−1)又は(Q−2)で表される基である、請求項1乃至16記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- Qが、式(Q−1)で表される基である、請求項1乃至16記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R2、R5及びR8が、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個の弗素原子又は1個のハロゲン原子である。)である、請求項1乃至18記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R2、R5及びR8が、メチル基、エチル基、プロピル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基である、請求項1乃至18記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R2、R5及びR8が、メチル基、エチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基又は2,2,2−トリフルオロエチル基である、請求項1乃至18記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R2、R5及びR8が、メチル基又はエチル基である、請求項1乃至18記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、置換されていてもよいC1−C4アルキル基(当該置換基は、1−9個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルコキシ基(当該置換基は、1−7個のフッ素原子又は1個の塩素原子である。)、置換されていてもよいC1−C4アルキルチオ基(当該置換基は、1−7個の弗素原子又は1個の塩素原子である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C3アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C3アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜3個の置換基である。]である、請求項1乃至22記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、C1−C4アルキル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、メトキシ基、エトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、フルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、フェニル基又は弗素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基及びメトキシ基からなる群から選択される1−2個の置換基で置換されたフェニル基である、請求項1乃至22記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R3、R4、R6、R7、R9及びR10が、水素原子、弗素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2−フルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3−フルオロプロピル基、2,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、クロロフェニル基、(トリフルオロメチル)フェニル基又は(トリフルオロメトキシ)フェニル基である、請求項1乃至22記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- R3、R6及びR9が、水素原子、塩素原子又はメチル基であり、R4、R7及びR10が、水素原子、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ジフルオロメトキシ基、ジフルオロメチルチオ基又は2,2,2−トリフルオロエチルチオ基である、請求項1乃至22記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。
- 一般式(I)で表される化合物が、
1−メチル−5−[4−メチル−3−(プロピルスルフィニル)フェニル]−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
5−{4−クロロ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−(プロピルチオ)ベンゾニトリル、
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
4−[1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
4−[1−エチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
4−[1−メチル−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−3−(ペンタフルオロエチル)−1H−ピラゾール、
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]ベンゾニトリル、
4−[3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル]−2−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]ベンゾニトリル、
3−(へプタフルオロプロピル)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1H−ピラゾール、
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール
5−{4−ブロモ−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
5−{4−エチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
1−メチル−5−{4−(2−プロぺニル)−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
4−クロロ−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
5−{4−シクロプロピル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール、
3−(ジフルオロメトキシ)−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール、
3−[(ジフルオロメチル)チオ]−1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−1H−ピラゾール又は
1−メチル−5−{4−メチル−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]フェニル}−3−[(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ]−1H−ピラゾール
である、請求項1記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩。 - 下記の一般式(II)
[式中、
Aは、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ヒドロキシル基及びハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルケニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC2−C6アルキニル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC3−C6シクロアルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−6個の置換基である。)、式 −C(Y)=NOR (式中、Rは、水素原子又はC1−C6アルキル基を表し、Yは、水素原子又はアミノ基を表す。)で表される基、置換されていてもよく、一部が飽和されていてもよい、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選択される1−3個のヘテロ原子を含有する5−6員環へテロアリール基(当該置換基は、ハロゲン原子、C1−C6アルキル基及びC1−C6アルコキシ基からなる群から選択される1〜3個の置換基である。)又はシアノ基を表し、
Xは、mが2又は3の整数を表す場合、同一又は異なってもよく、ハロゲン原子を表し、
X1は、水素原子、弗素原子、アミノ基、ニトロ基、メルカプト基又は式 −S(C=Z)Ra (式中、Raは、C1−C6アルキル基、C1−C6アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Zは、酸素原子又は硫黄原子を表す。)で表される基を表し、
mは、0乃至3の整数を表し、
Qは、下記の一般式(Q−1)、(Q−2)又は(Q−3):
[式中、
R2、R5及びR8は、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)を表し、
R3、R4、R6、R7、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)、置換されていてもよいC1−C6アルキルチオ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)又は置換されていてもよいフェニル基[当該置換基は、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1−C6アルキル基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−9個の置換基である。)及び置換されていてもよいC1−C6アルコキシ基(当該置換基は、ハロゲン原子からなる群から選択される1−7個の置換基である。)からなる群から選択される1〜5個の置換基である。]を表す。]
で表される置換フェニルピラゾール化合物。 - 請求項1乃至27記載の(3−硫黄原子置換フェニル)ピラゾール誘導体又はその塩を有効成分として含有する農薬組成物。
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