JPWO2006035621A1 - カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2006035621A1 JPWO2006035621A1 JP2006537680A JP2006537680A JPWO2006035621A1 JP WO2006035621 A1 JPWO2006035621 A1 JP WO2006035621A1 JP 2006537680 A JP2006537680 A JP 2006537680A JP 2006537680 A JP2006537680 A JP 2006537680A JP WO2006035621 A1 JPWO2006035621 A1 JP WO2006035621A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- filter substrate
- color
- manufacturing
- colored layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/03—Viewing layer characterised by chemical composition
- C09K2323/031—Polarizer or dye
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
また、上記カラーフィルタ基板は、同色の混色欠陥が生じなかった絵素に対して修正が施された絵素の光透過率の差が20%以下であることが好ましく、17.5%以下であることがより好ましい。これによれば、基板全面に渡って着色層の光透過率が色毎に略均一化された高表示品位のカラーフィルタ基板を提供することができる。なお、光透過率の測定方法については、後述することから、ここでの説明は省略する。
上記(1)の方法は、混色材除去工程又は着色層除去工程で用いられるレーザ光の波長よりも長波長のレーザ光を混色材除去領域又は着色層除去領域に照射する工程を含むことが好ましい。これによれば、混色材除去工程にて発生したダストを除去することができるので、表面処理を行ったときの効果を高めることができる。ダスト除去の目的で照射されるレーザ光の波長帯は、可視領域であることが好ましい。
また、上記(1)の方法は、混色材除去領域又は着色層除去領域に紫外レーザ光を照射する工程を含むことが好ましい。これによれば、ガラス基板等の紫外レーザ光を吸収帯とする基板に当該レーザ光を照射することから、ダストを除去することができるとともに、基板表面を若干削って混色材除去(開口)領域の基板表面に親液性を付与することができる。上記紫外レーザ光照射工程は、混色材除去領域又は着色層除去領域の四隅に対して行われることが好ましい。これによれば、絵素領域を再度着色する際に、開口領域の四隅に着色層材料を含む液滴(インク)を充分に行き渡らせることができ、光漏れを抑制することができる。
〔実施例1〕 ピンホールの修正
図1は、カラーフィルタ(CF)基板の製造工程において、ブラックマトリクス(BM)に形成されたピンホールを修正する工程フローの一例を示す図である。図2(a)〜(c)は、BMに形成されたピンホールを修正する工程フローの一例を示す平面模式図であり、図3(a)〜(c)はそれぞれ、図2(a)〜(c)に示すCF基板を線分A−Bにて切断したときの断面模式図である。
まず、パターン検査工程の後、導入ガスに四フッ化炭素(CF4)を用いて、大気圧下にてプラズマ処理を行った(図1(iii))。この処理を行う目的は、ピンホール12周辺のBM11の撥液性を高め、後で行うインク吐出により滴下されたインクをピンホール12内にとどめることである。なお、プラズマ処理を行う前に、ピンホール12内の基板表面に対し、エキシマ紫外(UV)レーザを用いて親液性処理を施してもよいが、残渣等の影響で充分な親液性を発現させることができないおそれがある。ピンホール12の大きさは液滴の着弾径程度であると考えられることから必ずしもピンホール内を親液性とする必要はない。本実施例では、親液性処理を行わず、フッ素プラズマ処理のみを行って、ピンホール12の表面全体に撥液性を付与した。次に、インクジェット印刷装置を用いて、各着色層の形成に用いたインクと同一組成のインクをR(赤)、G(緑)、B(青)の順でピンホール12内に吐出し、図2(b)及び3(b)に示すように、ピンホール12内に混色インク13を形成した(図1(iv))。最後に、80℃及び240℃で30分ずつ焼成することにより、混色インク13の乾燥及び重合を行い(図1(v))、図2(c)及び3(c)に示すように、ピンホール12内に充分な遮光性を有する混色層(混色材)14を形成した。これにより、ピンホール12の修正を完了した。このような修正工程フローにより、BM11に形成されたピンホール12を簡便かつ安価に修正することができた。
(赤色の着色層形成用インクの組成)
顔料(C.I.ピグメントレッド254):5重量部
高分子分散剤(AVECIA社製、ソルスパース24000):2重量部
バインダー(ベンジルメタクリレート−メタクリル酸共重合体):3重量部
モノマー1(ジペンタエリスリトールペンタアクリレート):2重量部
モノマー2(トリプロピレングリコールジアクリレート):5重量部
開始剤(2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モンフォリノプロパン)−1−オン):2重量部
溶剤(ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、29.9dyn/cm):81重量部
(青色の着色層形成用インクの組成)
C.I.ピグメントレッド254の代わりに、C.I.ピグメントブルー15:6を顔料として等量含む以外は、赤色の着色層形成用インクと同一の組成である。
(緑色の着色層形成用インクの組成)
C.I.ピグメントレッド254の代わりに、C.I.ピグメントグリーン36を顔料として等量含む以外は、赤色の着色層形成用インクと同一の組成である。
〔実施例2〕 膜厚不足のBM(バンク材)の修正
図4は、カラーフィルタ(CF)基板の製造工程において、BMの欠陥部分を修正する工程フローの一例を示す図である。図5(a)〜(c)は、膜厚不足のBMを修正する工程フローの一例を示す平面模式図であり、図6(a)〜(c)はそれぞれ、図5(a)〜(c)に示すCF基板を線分C−Dにて切断したときの断面模式図である。
図7(a)〜(c)は、断線不良のBMを修正する工程フローの一例を示す平面模式図であり、図8(a)〜(c)はそれぞれ、図7(a)〜(c)に示すCF基板を線分E−Fにて切断したときの断面模式図である。
図9(a)〜(c)は、細線不良のBMを修正する工程フローの一例を示す平面模式図であり、図10(a)〜(c)はそれぞれ、図9(a)〜(c)に示すCF基板を線分G−Hにて切断したときの断面模式図である。
図11(a)〜(c)及び12(a)〜(c)はそれぞれ、カラーフィルタ(CF)基板の製造工程において、BM上に形成された混色層を薄膜化する工程フローを示す断面模式図である。
図11(a)及び12(a)に示すように、インクジェット方式による着弾誤差やサテライトの発生等により混色不良を起こした絵素間に挟まれるBM(バンク材)11上には、混色層(混色材)14が形成される。BM11上に形成された混色層14の膜厚が厚いと、セル厚不良を起こし、表示上不具合を来たすおそれがあるため、当該混色層14を薄膜化する必要が生じる場合がある。本実施例では、混色不良を起こした絵素間に挟まれたBM11上の混色層14を薄膜化する場合について、二通り(イ)、(ロ)を記述する。
まず、図11(b)に示すように、BM11上の混色層14を研磨装置により薄膜化した。その後、図11(c)に示すように、イットリウムアルミニウムガーネット(YAG)パルスレーザの第2高調波(波長:532nm)を用いて絵素内の混色層14を除去し、混合不良を起こした絵素領域を開口した。以上により、混色層14がBM11の代替として用いられ、かつセル厚不良を起こさないBM修正基板が完成した。なお、この方法では、混色不良を起こした絵素のレーザ光による開口工程において、混色層14は一部レーザアブレーションにより除去されることから、研磨後に絵素内を開口する工程を行うことで、研磨工程で発生するダストの一部を除去することができる。
まず、図12(b)に示すように、混色不良が発生した絵素内の混色層14をイットリウムアルミニウムガーネット(YAG)パルスレーザの第2高調波(波長:532nm)を用いて絵素内の混色層14を除去し、混合不良を起こした絵素領域を開口した。その後、図12(c)に示すように、同レーザをBM11上の混色層14上に強度を落として照射することにより、混色層14を薄膜化した。以上により、混色層14がBM11の代替として用いられ、かつセル厚不良を起こさないBM修正基板が完成した。なお、この方法では、レーザ光を用いて混色層14の薄膜化を行うため、研磨装置を用いて薄膜化を行う場合に比べ、ダストの発生を抑制することができる。
〔実施例6〕
図13(a)〜(d)は、カラーフィルタ(CF)基板の製造工程において、混色層を利用することで、混色不良絵素を修正する工程フローの一例を示す平面模式図である。図14(a)〜(d)はそれぞれ、図13(a)〜(d)に示すCF基板を線分I−Jにて切断したときの断面模式図であり、図14(e)及び(f)は、図14(d)に示すCF基板の混色層を薄膜化した後の断面模式図である。
<透過分光測定>
1)測定する光の波長に対応した複数の光源を使用し、回折格子を用いる方法やその他の方法で光源から出た光を分光する。
2)試料に分光された光を入射させ、表面での透過光のそれぞれの波長に対する強度を試料が無い場合の強度を100%として求める。
3)色特性の計算は、可視光(380〜780nm:JIS−Z−8701による)の範囲でのみ行う。
分光光度計を用いた測定によって得られた各波長に対する透過率のデータを用いて、JIS−Z−8701に記載の方法に従って色特性の計算を行う。
1)各標準光源に対するスペクトル三刺激純値(青(z)・緑(y)・赤(x)の3色での係数)を用いて各波長に対する透過率の係数を乗じる。
まず、光源色の三刺激純値は以下のように求められる。
次に、透過色の三刺激純値を求める。
図15(a)〜(d)は、混色不良絵素を開口する工程において、紫外レーザ光を用いた場合の修正工程フローの一例を示す断面模式図である。
本実施例においては、図15(a)に示すような混色不良を起こした絵素領域を開口するのに、ガラス(基板)の吸収帯である紫外レーザ光を用いた場合について述べる。紫外レーザ光を用いた場合には、混色層(混色材)14のレーザアブレーションによる除去の割合が高くなり、可視レーザ光では取りきれない表面の残渣が除去され、レーザ強度によっては図15(b)に示すように、ガラス表面が若干削られ、開口領域に対する親液性処理が不要になる。以下に、その修正工程フローの詳細について述べる。
図16(a)〜(d)は、混色不良絵素を開口した後の開口領域に対する親液性処理工程において、紫外レーザ光を用いた場合の修正工程フローの一例を示す断面模式図である。
本実施例では、イットリウムアルミニウムガーネット(YAG)パルスレーザの第2高調波(波長:532nm)を用いたレーザ開口後の親液性処理について述べる。
11:ブラックマトリクス(BM、バンク材)
12:ピンホール(貫通孔)
13: 混色インク
14: 混色層(混色材)
15a:第一色層(着色層)
15b:第二色層(着色層)
15c:第三色層(着色層)
Claims (48)
- 基板上にバンク材と着色層とを必須部材として備えるカラーフィルタ基板であって、
該カラーフィルタ基板は、2色以上の着色層材料からなる混色材がバンク材の欠落部分又は周囲に形成された構造を有する
ことを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 前記バンク材は、少なくとも一部がブラックマトリクスにより構成されるものであることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板。
- 前記バンク材の欠落部分は、ブラックマトリクスに形成された貫通孔であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板。
- 前記バンク材の欠落部分は、バンク材の膜厚が相対的に薄い部分であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板。
- 前記バンク材の欠落部分は、バンク材の幅が相対的に細い部分であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板。
- 前記バンク材の欠落部分は、バンク材の断線部分であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板。
- 前記混色材は、着色層を囲むバンク材の少なくとも内壁面を覆って形成されたものであることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板。
- 前記バンク材の内壁面を覆って形成された混色材は、隣接する着色層の色に応じて幅が異なることを特徴とする請求項7記載のカラーフィルタ基板。
- 前記カラーフィルタ基板は、同色の混色欠陥が生じなかった絵素に対して修正が施された絵素の光透過率の差が20%以下であることを特徴とする請求項7記載のカラーフィルタ基板。
- 前記基板は、混色材に隣接する少なくとも1つの絵素内に他の絵素よりも厚さの薄い領域を有することを特徴とする請求項7記載のカラーフィルタ基板。
- 前記厚さの薄い領域は、絵素の四隅に位置することを特徴とする請求項10記載のカラーフィルタ基板。
- 前記着色層は、インク固化物により形成されたものであることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタ基板。
- 請求項1記載のカラーフィルタ基板を備えてなることを特徴とする液晶表示装置。
- 基板上にバンク材と着色層とを必須部材として備えるカラーフィルタ基板であって、
該カラーフィルタ基板は、バンク材の欠落部分に着色層が形成された構造を有する
ことを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 前記バンク材の欠落部分は、バンク材の膜厚が相対的に薄い部分であることを特徴とする請求項14記載のカラーフィルタ基板。
- 前記バンク材の欠落部分は、バンク材の幅が相対的に細い部分であることを特徴とする請求項14記載のカラーフィルタ基板。
- 前記バンク材の欠落部分は、バンク材の断線部分であることを特徴とする請求項14記載のカラーフィルタ基板。
- 前記着色層は、インク固化物により形成されたものであることを特徴とする請求項14記載のカラーフィルタ基板。
- 請求項14記載のカラーフィルタ基板を備えてなることを特徴とする液晶表示装置。
- 基板上にバンク材と着色層とを必須部材として備えるカラーフィルタ基板の製造方法であって、
該カラーフィルタ基板の製造方法は、2色以上の着色層材料からなる混色材をバンク材の欠落部分又は周囲に形成することでバンク材を修正するものである
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記バンク材は、少なくとも一部がブラックマトリクスにより構成されるものであり、
前記カラーフィルタ基板の製造方法は、ブラックマトリクスを貫通する欠落部分に着色層材料を含む液滴を2色以上滴下して混色材を形成する工程を含む
ことを特徴とする請求項20記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、混色材形成工程の前に、ブラックマトリクスを貫通する欠落部分の表面に撥液処理を施す工程を含むことを特徴とする請求項21記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、混色不良が発生した絵素領域の混色材を除去する工程を含むことを特徴とする請求項20記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記バンク材は、少なくとも一部がブラックマトリクスにより構成されるものであり、
前記カラーフィルタ基板の製造方法は、着色層材料を含む液滴を絵素領域毎に滴下する工程と、バンク材の欠落部分を挟んで隣接する絵素領域に混色不良が発生して混色材が形成された場合に、少なくともバンク材として代替使用する部分を残して絵素領域の混色材を除去する工程とを含む
ことを特徴とする請求項23記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記バンク材は、少なくとも一部がブラックマトリクスにより構成されるものであり、
前記カラーフィルタ基板の製造方法は、バンク材の欠落部分を検出した場合に、着色層材料を含む液滴を絵素領域毎に滴下するとともに、バンク材の欠落部分を挟んで隣接する絵素領域の少なくとも一方に異なる色の着色層材料を含む液滴を滴下することで混色不良を発生させて混色材を形成する工程と、少なくともバンク材として代替使用する部分を残して絵素領域の混色材を除去する工程とを含む
ことを特徴とする請求項23記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記バンクの欠落部分は、膜厚不足の部分、幅不足の部分及び/又は断線部分であることを特徴とする請求項20記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記バンク材は、少なくとも一部がブラックマトリクスにより構成されるものであり、
前記カラーフィルタ基板の製造方法は、着色層材料を含む液滴を絵素領域毎に滴下する工程と、混色不良絵素が発生して混色材が形成された場合に、混色不良絵素の外縁の混色材を残して絵素領域の混色材を除去する工程とを含む
ことを特徴とする請求項23記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記混色材除去工程は、混色材除去後の絵素領域に形成される着色層の色に応じて除去面積を変更することを特徴とする請求項23記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、混色不良を起こしていない絵素に対して混色不良を修正した絵素の光透過率の差が20%以下となるように、混色材除去後の絵素領域に着色層を形成することを特徴とする請求項23記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、混色材除去後の絵素の外縁に残された混色材に撥液処理を施す工程を含むことを特徴とする請求項23記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、基板による吸収が略ゼロである波長のレーザ光を用いて混色材除去工程を行うものであり、かつ混色材除去領域に親液処理を施す工程を含むことを特徴とする請求項23記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、混色材除去工程で用いられるレーザ光の波長よりも長波長のレーザ光を混色材除去領域に照射する工程を含むことを特徴とする請求項31記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、混色材除去領域に紫外レーザ光を照射する工程を含むことを特徴とする請求項31記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記紫外レーザ光照射工程は、混色材除去領域の四隅に対して行われることを特徴とする請求項33記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、基板により吸収される波長のレーザ光を用いて混色材除去工程を行うものであることを特徴とする請求項23記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、インクジェット装置を用いて着色層材料を含む液滴を滴下することを特徴とする請求項20記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、バンク材上に形成された混色材を削る工程を含むことを特徴とする請求項20記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 基板上に、少なくとも一部がブラックマトリクスにより構成されるバンク材と、着色層とを必須部材として備えるカラーフィルタ基板の製造方法であって、
該カラーフィルタ基板の製造方法は、バンク材の欠落部分を検出した場合に、バンク材の欠落部分を挟んで隣接する絵素領域に対して着色層材料を含む液滴を1色滴下する工程と、バンク材の欠落部分を挟んで隣接する一方の絵素領域に形成された部分及びバンク材として代替使用する部分を残して他方の絵素領域の着色層を除去する工程とを含む
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記バンクの欠落部分は、膜厚不足の部分、幅不足の部分及び/又は断線部分であることを特徴とする請求項38記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、基板による吸収が略ゼロである波長のレーザ光を用いて着色層除去工程を行うものであり、かつ着色層除去領域に親液処理を施す工程を含むことを特徴とする請求項38記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、着色層除去工程で用いられるレーザ光の波長よりも長波長のレーザ光を着色層除去領域に照射する工程を含むことを特徴とする請求項40記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、着色層除去領域に紫外レーザ光を照射する工程を含むことを特徴とする請求項40記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記紫外レーザ光照射工程は、着色層除去領域の四隅に対して行われることを特徴とする請求項42記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、基板により吸収される波長のレーザ光を用いて着色層除去工程を行うものであることを特徴とする請求項38記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、インクジェット装置を用いて着色層材料を含む液滴を滴下することを特徴とする請求項38記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記カラーフィルタ基板の製造方法は、バンク材上に形成された着色層を削る工程を含むことを特徴とする請求項38記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 請求項20記載のカラーフィルタ基板の製造方法を用いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
- 請求項38記載のカラーフィルタ基板の製造方法を用いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006537680A JP4854512B2 (ja) | 2004-09-29 | 2005-09-16 | カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004285076 | 2004-09-29 | ||
JP2004285076 | 2004-09-29 | ||
JP2006537680A JP4854512B2 (ja) | 2004-09-29 | 2005-09-16 | カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法 |
PCT/JP2005/017172 WO2006035621A1 (ja) | 2004-09-29 | 2005-09-16 | カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006035621A1 true JPWO2006035621A1 (ja) | 2008-05-15 |
JP4854512B2 JP4854512B2 (ja) | 2012-01-18 |
Family
ID=36118773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006537680A Expired - Fee Related JP4854512B2 (ja) | 2004-09-29 | 2005-09-16 | カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8273423B2 (ja) |
JP (1) | JP4854512B2 (ja) |
WO (1) | WO2006035621A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5205733B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2013-06-05 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
KR101060472B1 (ko) * | 2007-11-30 | 2011-08-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시패널의 불량셀 리페어방법 |
WO2010013654A1 (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-04 | 旭硝子株式会社 | 隔壁と画素が形成された基板を製造する方法 |
US7991498B2 (en) * | 2009-02-03 | 2011-08-02 | Objet Geometries Ltd. | Method and system for building painted three-dimensional objects |
JPWO2011129283A1 (ja) * | 2010-04-13 | 2013-07-18 | 旭硝子株式会社 | 隔壁の修正方法 |
TW201237472A (en) * | 2011-03-01 | 2012-09-16 | Au Optronics Corp | Color filter array and manufacturing method thereof |
WO2015133090A1 (ja) * | 2014-03-07 | 2015-09-11 | 株式会社Joled | バンクの補修方法、有機el表示装置およびその製造方法 |
CN103969855A (zh) * | 2014-04-18 | 2014-08-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板的修复方法、显示基板及显示装置 |
WO2017201473A1 (en) | 2016-05-19 | 2017-11-23 | Pylon Manufacturing Corp. | Windshield wiper blade |
CN106444138B (zh) * | 2016-10-21 | 2019-10-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩膜基板母板 |
KR102455695B1 (ko) | 2017-07-21 | 2022-10-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR20210114080A (ko) * | 2020-03-09 | 2021-09-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 표시 장치의 리페어 방법 |
CN114839804B (zh) * | 2022-04-18 | 2023-06-27 | 广州华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002055220A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-20 | Canon Inc | 表示装置用パネル、表示装置用パネルの製造方法及び製造装置、表示装置用パネルを備えた液晶表示装置および該液晶表示装置の製造方法、該液晶表示装置を備えた装置および該装置の製造方法、複数の凹部を有する基板、該基板の製造方法および製造装置、カラーフィルタ、該カラーフィルタの製造方法および製造装置 |
JP2002071939A (ja) * | 1995-06-15 | 2002-03-12 | Ntn Corp | カラーフィルタの欠陥修正方法 |
JP2003098336A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-03 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタとその製造方法および装置、ならびに電気光学装置 |
JP2003322844A (ja) * | 2002-05-01 | 2003-11-14 | Dainippon Printing Co Ltd | ブラックマトリックスの欠陥部分の修正方法、およびこの方法を用いて製造されたカラーフィルタ |
JP2004077905A (ja) * | 2002-08-20 | 2004-03-11 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの欠陥修正装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03274504A (ja) | 1990-03-26 | 1991-12-05 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの修正方法及び修正済みカラーフィルタ |
JPH0527111A (ja) | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Sharp Corp | カラー液晶表示装置におけるカラーフイルタの欠陥修正方法 |
JPH0572528A (ja) | 1991-09-17 | 1993-03-26 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフイルターの修正方法 |
JP3034438B2 (ja) | 1994-03-31 | 2000-04-17 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造装置 |
JPH08292312A (ja) | 1995-04-20 | 1996-11-05 | Canon Inc | カラーフィルタの修正方法および修正装置及びカラーフィルタ及び液晶表示装置及びこの液晶表示装置を備えた装置 |
JPH11271752A (ja) | 1998-03-18 | 1999-10-08 | Seiko Epson Corp | カラーフィルターの修正方法及びカラーフィルターの製造方法 |
US6232022B1 (en) * | 1998-09-09 | 2001-05-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing a color filter, and a liquid-crystal device using a color filter manufactured by the method |
JP4521741B2 (ja) * | 1999-06-25 | 2010-08-11 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの欠陥修正方法 |
JP4237982B2 (ja) | 2002-06-12 | 2009-03-11 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの欠陥修正方法 |
JP4217949B2 (ja) | 2002-07-22 | 2009-02-04 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ修正用装置 |
US7530682B2 (en) * | 2002-08-02 | 2009-05-12 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Correction ink for micro defect of color pattern, color filter, method for correcting micro defect of color pattern, and process for producing ink |
KR20040050770A (ko) * | 2002-12-09 | 2004-06-17 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 컬러필터 기판 제조 방법 |
TWI232318B (en) * | 2004-06-23 | 2005-05-11 | Himax Tech Inc | Color filter and the manufacturing method thereof |
KR101076430B1 (ko) * | 2004-06-30 | 2011-10-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 칼라 필터 기판의 핀홀 리페어 방법 |
JP2006098555A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP4508806B2 (ja) | 2004-09-29 | 2010-07-21 | シャープ株式会社 | カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法 |
US7612861B2 (en) * | 2005-06-13 | 2009-11-03 | Lg. Display Co., Ltd. | Liquid crystal display panel capable of minimizing a defect rate caused by bright point and repairing method thereof |
TWI437282B (zh) * | 2007-01-29 | 2014-05-11 | Semiconductor Energy Lab | 彩色濾波器及其製造方法、及具有該彩色濾波器的電子用品 |
-
2005
- 2005-09-16 JP JP2006537680A patent/JP4854512B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-09-16 US US11/663,584 patent/US8273423B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-09-16 WO PCT/JP2005/017172 patent/WO2006035621A1/ja active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002071939A (ja) * | 1995-06-15 | 2002-03-12 | Ntn Corp | カラーフィルタの欠陥修正方法 |
JP2002055220A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-20 | Canon Inc | 表示装置用パネル、表示装置用パネルの製造方法及び製造装置、表示装置用パネルを備えた液晶表示装置および該液晶表示装置の製造方法、該液晶表示装置を備えた装置および該装置の製造方法、複数の凹部を有する基板、該基板の製造方法および製造装置、カラーフィルタ、該カラーフィルタの製造方法および製造装置 |
JP2003098336A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-03 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタとその製造方法および装置、ならびに電気光学装置 |
JP2003322844A (ja) * | 2002-05-01 | 2003-11-14 | Dainippon Printing Co Ltd | ブラックマトリックスの欠陥部分の修正方法、およびこの方法を用いて製造されたカラーフィルタ |
JP2004077905A (ja) * | 2002-08-20 | 2004-03-11 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの欠陥修正装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080286528A1 (en) | 2008-11-20 |
JP4854512B2 (ja) | 2012-01-18 |
WO2006035621A1 (ja) | 2006-04-06 |
US8273423B2 (en) | 2012-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4854512B2 (ja) | カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法 | |
JP4521741B2 (ja) | カラーフィルタの欠陥修正方法 | |
WO2017170910A1 (ja) | 透過型色較正用チャートおよび較正用スライドガラス | |
JP4217949B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ修正用装置 | |
US20100027146A1 (en) | Method for manufacturing color filter and color filter manufactured by the same | |
JP4508806B2 (ja) | カラーフィルタ基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法 | |
JPH11271752A (ja) | カラーフィルターの修正方法及びカラーフィルターの製造方法 | |
US20040179028A1 (en) | Pixel defect correcting method, color mura correcting method and image display device | |
JP5205733B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
JP4566326B2 (ja) | カラーフィルタの分光特性測定方法および分光特性測定装置 | |
JP2009092735A (ja) | カラーフィルタの欠陥修正方法 | |
JP2004013133A (ja) | カラーフィルタの欠陥修正方法 | |
JP4632324B2 (ja) | カラーフィルタの欠陥修正方法 | |
JP2009133980A (ja) | カラーフィルタの欠陥修正方法 | |
JP5488170B2 (ja) | カラーフィルタの修正方法及びカラーフィルタ | |
JP5182126B2 (ja) | カラーフィルタ基板の修正方法 | |
JP4323893B2 (ja) | 光量調節部材の製造方法、光量調節部材、光量調節装置及び撮影装置 | |
JP2009058891A (ja) | カラーフィルタの欠陥修正方法 | |
JP2013041137A (ja) | カラーフィルタの欠陥修正方法及びカラーフィルタ基板 | |
WO2023119773A1 (ja) | 光学部材の製造方法、光学部材及び眼鏡 | |
JP2006047800A (ja) | カラーフィルタ | |
KR100685145B1 (ko) | 칼라필터 결함 리페어 장치 | |
JP4578194B2 (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
JP2004279464A (ja) | 画素欠陥補正方法、及び画像表示装置 | |
JP2006030283A (ja) | カラーフィルタの修正方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100326 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100326 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100427 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100907 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101029 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110802 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110929 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111025 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111025 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141104 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4854512 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |