JP2009133980A - カラーフィルタの欠陥修正方法 - Google Patents

Abstract

【課題】複数色にわたるカラーフィルタの欠陥部分の修正を短時間で簡易に行ない、修正部分が識別され難い修正を可能にする。
【解決手段】カラーフィルタの欠陥修正方法において、基板上の着色画像欠落領域に、２色以上の色パターンを有する転写フィルムを用いて前記色パターンの少なくとも一部を転写するパターン転写工程を設けて構成されている。
【選択図】なし

Description

本発明はカラーフィルタの欠陥を修正する欠陥修正方法に関する。

液晶表示装置用カラーフィルタの製造工程において、歩留りを改善するためにカラーフィルタ上の欠陥を修正することが知られている。

欠陥修正方法には、例えば、針の先端にレジストを付着させ、このレジストを欠陥部分に滴下することによって修正を行う方法がある。

また、別の欠陥修正方法として、フィルム転写方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。この方法では、カラーフィルタ基板の着色層がない白欠陥部分に、単色の着色層を有する単色フィルムを密着させて、フィルムから１色ごとに着色層を転写して欠陥部分の修正が行なわれる。
特開２００５−９５９７１号公報

しかし、レジストを欠陥部分に滴下する方法では、レジストの粘度によって滴下量が変化するため、滴下量や修正精度のコントロールが難しく、安定して修正することが困難である。さらに、乾燥工程が必要となり、修正に長時間を必要とし、生産性が低かった。特に、欠陥部分のサイズが大きい場合、例えば欠陥部分の長径が１００μｍを超える場合には、欠陥部分を短時間で修正することは難しく、修正を放棄せざるを得なかった。

また、上記のフィルム転写方法では、欠陥部分を短時間に修正することは可能ではあるが、単色フィルムを用いるため、特に、複数色にわたって欠陥部分が生じているような場合など、欠陥部分のサイズが大きい場合は、欠陥修正が困難であり、しかも修正箇所が目視で容易に識別できる程度の修正しか行なえず、結果として液晶表示装置とした場合の表示品質が低下する要因となる。

本発明は、上記に鑑みなされたものであり、複数色にわたるカラーフィルタの欠陥部分を短時間で簡易に修正することができ、修正部分が識別され難いカラーフィルタの欠陥修正方法を提供することを目的とする。

前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞ 基板上の着色画像欠落領域に、２色以上の色パターンを有する転写フィルムを用いて前記色パターンの少なくとも一部を転写するパターン転写工程を有するカラーフィルタの欠陥修正方法である。

＜２＞ 基板上の着色画像の欠陥部分をレーザー光の照射により除去する除去工程を更に有し、前記着色画像欠落領域は、基板上の着色画像の欠陥部分をレーザー光の照射により除去して形成された領域である前記＜１＞に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法である。

＜３＞ 前記転写フィルムは、仮支持体上に、黒色パターンと、前記黒色パターンで離隔された少なくとも１色の画像パターンとを有することを特徴とする前記＜１＞又は前記＜２＞に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法である。

＜４＞ 前記画像パターンは、赤色、緑色、青色、及び透明無彩色から選択される２色以上のパターンで構成されていることを特徴とする前記＜３＞に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法である。

＜５＞ 転写フィルムの前記２色以上の色パターンは、前記基板上の着色画像のパターンの少なくとも一部と同一のパターンを有することを特徴とする前記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタの欠陥修正方法である。

＜６＞ 前記着色画像欠落領域の最大長さが１００μｍ以上であることを特徴とする前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のカラーフィルタの欠陥修正方法である。

本発明によれば、複数色にわたるカラーフィルタの欠陥部分を短時間で簡易に修正することができ、修正部分が識別され難いカラーフィルタの欠陥修正方法を提供することができる。

本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法は、基板上の着色画像欠落領域に、２色以上の色パターンを有する転写フィルムを用いて前記色パターンの少なくとも一部を転写するパターン転写工程を設けて構成されたものである。この欠陥修正方法は、パターン転写工程前に予め、基板上の着色画像の欠陥部分をレーザー光の照射により除去する除去工程などの他の工程を必要に応じて設けることができる。

本発明においては、基板上の着色画像欠落領域に対して、予め所定のパターン状に形成された２色以上の色パターンを転写することで、着色画像欠落領域のうち、着色層及び／又はブラックマトリクス等の黒色層（以下、単にブラックマトリクスという。）の形成が予定されている部分を短時間で安定的に修正することができる。また、１色以上の着色層及びブラックマトリクスから選ばれた所望の色相の２色以上の色パターンを、少なくとも２色まとめて転写することにより形成し、予定された色相を得ることで、従来のレジスト滴下による方法やフィルム転写方法に比べて、より簡易に、しかも修正部分の識別が困難なカラーフィルタを再現することができる。
前記２色以上の色パターンの転写は、ＲＧＢ及び透明無彩色を含む色相から選ばれる２色以上の画像パターン又は、１色もしくは２色以上の画像パターン及びブラックマトリクスパターンであってもよい。

前記着色画像欠落領域は、カラーフィルタを構成する着色層及び／又はブラックマトリクスが形成されていない基板上の領域であり、カラーフィルタの製造時に形成された着色画像欠落領域であっても、カラーフィルタの欠陥部分等を除去して形成された着色画像欠落領域であってもよい。
本発明においては、基板上のカラーフィルタを構成する着色画像の欠陥部分をレーザー光の照射により除去する除去工程を更に設けて、カラーフィルタにおける欠陥部分をレーザー光を照射して除去することにより、着色画像欠落領域を形成しておき、その後に欠陥修正する態様が好ましい。

本発明において、カラーフィルタにおける欠陥部分とは、着色層及び／又はブラックマトリクスが所望の態様に形成されていない基板上の領域を意味する。例えば、着色層の欠落、着色層の膜厚不足、着色層の混色、ブラックマトリクスの欠落、着色異物の付着、無色異物の付着等を挙げることができる。かかる基板上の欠陥部分の存在は、表示装置を構成した場合に、表示装置の表示特性の低下を招くことになる。

本発明の欠陥修正方法は、前記カラーフィルタ上の着色画像欠落領域のサイズが大きい場合ほど、あるいは着色画像欠落領域が、色パターン（例えば、赤(R)、緑(G)、青(B)等の着色領域）が黒パターン（例えば、いわゆるブラックマトリクス）で離隔されてなる画像パターンにおいて黒パターンとこの黒パターンを跨いで設けられた画像パターンとにわたる場合に、従来のレジスト滴下による方法やフィルム転写方法に比べ、複数色にわたって欠陥部分が生じている場合の欠陥修正がより好適に行なえ、より識別し難い修正を行なえる。
また、カラーフィルタにおける着色画像欠落領域のサイズとしては、最大長さが１００μｍ以上である場合が好ましく、１００μｍ以上１０００μｍ以下である場合がより好ましい。ここで、欠陥部分の最大長さとは、カラーフィルタにおける欠陥部分の形状のうち、最も長い距離を意味する。
本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法は、特に、欠陥部分の最大長さが１００μｍ以上の大きな欠陥、例えば複数色にわたって形成されている欠陥部分を修正する場合に、欠陥修正効率及び修正部分が識別困難である点で顕著な効果を奏する。

本発明における除去工程で用いるレーザー光の光源としては、基板上の欠陥部分を除去可能なものであれば特に制限なく用いることができる。中でも、欠陥除去効率の観点から、パルスレーザー光源であることが好ましい。本発明においては、欠陥除去効率の観点から、ＹＡＧレーザーが好ましく、ＱスイッチＹＡＧレーザーであることがより好ましい。

また、本発明におけるレーザー光は、ビーム成形機構によって欠陥除去に好適なスポット形状に成形することができる。ビーム成形機構としてはアパーチャー、スリット、レンズ等を備えた公知のビーム成形機構を用いることができる。

カラーフィルタ上の欠陥部分をレーザー光の照射により除去する方法としては、欠陥部分を構成する着色層及びブラックマトリクスを除去することができれば、特に制限はない。本発明においては、欠陥部分の除去効率、微細領域の除去の観点から、レーザー光によるアブレーションであることが好ましい。
また、欠陥部分の除去においては、修復効率の観点から、欠陥部分に加えて欠陥部分の周辺領域を同時に除去してもよい。

本発明におけるパターン転写工程に用いられる転写フィルムは、仮支持体上に２色以上の色パターンを設けて構成されたものである。この２色以上の色パターンは、黒色層、黒色以外の有彩色の着色層、及び実質的に着色のない無彩色の透明無彩色層から選択される着色樹脂層からなることができる。また、前記仮支持体と前記着色樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有していてもよい。また、転写フィルムは、前記着色樹脂層の上に保護フィルムを更に有していてもよい。

前記仮支持体は、化学的および熱的に安定であって、また可撓性の物質で構成されることができる。更に前記レーザー光を吸収しない物質で構成されることが好ましい。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の薄いシートもしくはこれらの積層物を用いることができる。支持体の厚みは、５〜３００μｍとすることができ、特に２０〜１５０μｍであることができる。

前記着色樹脂層は、透明無彩色に構成するときには硬化性組成物を、黒色や有彩色に構成するときには着色剤及び硬化性組成物を、少なくとも含んでなることができる。
着色剤としては、着色層やブラックマトリクスを形成可能な着色剤の中から、公知の顔料及び染料を特に制限なく選択して用いることができる。例えば、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を挙げることができる。具体的には、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボンブラック等を挙げることができる。着色樹脂層中における着色剤の含有量としては、形成されるブラックマトリクスパターンの光学濃度と強度の観点から、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。

前記硬化性組成物は、光硬化性組成物であっても熱硬化性組成物であってもよく、目的に応じて適宜選択することができる。
本発明においては、２色以上の色パターン（画像パターン及びブラックマトリクスパターンを含む。以下同様。）をフォトリソ法で形成する場合には、前記硬化性組成物は光硬化性組成物であることが好ましい。また、２色以上の色パターンをインクジェット法で形成する場合には、前記硬化性組成物は熱硬化性組成物であることが好ましい。

前記光硬化性組成物は、バインダーポリマーと、エチレン性不飽和結合含有モノマーと、光重合開始剤とを少なくとも含んでなることができる。
バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合含有モノマー及び光重合開始剤については公知の材料を特に制限なく用いることができる。例えば、特開２００５−３８６１号公報に記載の材料を挙げることができる。

また、前記熱硬化性組成物は、加熱により硬化する組成物であれば特に制限はなく用いることができ、例えば、公知の熱硬化性官能基を有する熱硬化性化合物を含んでなることができる。

前記熱硬化性化合物としては、例えば、エポキシ基、メチロール基、アルコキシメチル基、及びアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの基を有するものが好ましい。
更に好ましい熱硬化性化合物としては、ａ）エポキシ化合物、ｂ）メチロール基、アルコキシメチル基及びアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換された、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物又はウレア化合物、ｃ）メチロール基、アルコキシメチル基及びアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換された、フェノール化合物、ナフトール化合物又はヒドロキシアントラセン化合物、が挙げられる。中でも、熱硬化性化合物としては、多官能エポキシ化合物が特に好ましい。

前記着色樹脂層の層厚は、修正対象となるカラーフィルタが有するブラックマトリクスの膜厚と略同厚みとなるような膜厚に設定することができ、例えば、１〜５μｍとすることができる。

前記保護フィルムとしては、例えば、特開２００５−３８６１号公報に記載の保護フィルムを好適に用いることができる。

また、前記熱可塑性樹脂層としては、例えば、特開２００５−３８６１号公報、特開平１１−３３８１３４号公報等に記載の熱可塑性樹脂層を好適に用いることができる。

本発明における転写フィルムは、着色樹脂層の転写効率の観点から、特開平１１−３３８１３４号公報に記載の構成を有する転写フィルムであることが好ましい。これにより良好な転写性を得ることができ、また、支持体と熱可塑性樹脂層とを着色樹脂層から同時に剥離することができ、生産性が向上する。

本発明における２色以上の色パターンを有する転写フィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの仮支持体の上に、インクジェット法やフォトリソグラフィ法、転写法などを用いて、少なくとも２色からなる色パターンを予め形成することにより作製することができる。作製工程上の観点から、ブラックマトリクスをフォトリソグラフィ法で形成し、ブラックマトリクス以外の画像パターンをインクジェット法で形成することが好ましい。

色パターンとしては、ブラックマトリクス等の遮光性画像を形成するための黒色パターン、黒色パターン以外の赤(R)、緑(G)、青(B)等に着色された画像パターン、透明無彩色の無彩色パターンを設けることができる。色パターンとして、例えば、ＲとＧ、ＧとＢ、ＢとＲ、あるいは、Ｒ又はＧ又はＢと透明無彩色のように、２色を左右に並べたパターンが設けられてもよい。パターンは、ストライプ状、マトリクス状など、修正対象である着色画像のパターンに応じて、適宜選択すればよい。この場合、修正する欠陥部分の色相に応じ、使用する転写する転写フィルムにおける色パターンの色の組合せを選択することができる。
色パターンは、ＲＧＢの３色、又はＲＧＢ及び透明無彩色の４色に形成されていると、より大きな欠陥（好ましくは、最大長さが１００μｍ以上の着色画像欠落領域）の修正が可能となって好ましい。更に、該色パターンは、基板上の着色画像のパターンと対応し得るように、基板上の修正対象である着色画像のパターンの一部もしくは全部と同一のパターンを有して形成されていることが好ましく、欠陥修正対象である着色画像のパターンと同一ないし略同一のパターンに形成されていることがより好ましい。
また、２色以上の色パターンは、色と色の間にブラックマトリクスがある等、黒色パターンと該黒色パターンで離隔された１色もしくは２色以上の画像パターンとが設けられていることが好ましい。

このように作製された転写フィルムを用い、この転写フィルムの２色以上の色パターンを、所望により選択された色パターンを欠陥が除去された着色画像欠落領域に適宜位置合わせを行なって転写し、着色画像欠落領域の修正を行なうことができる。

具体的には、２色以上の色パターンを有する転写フィルムは、例えば下記のようにして作製することができる。
仮支持体上に、熱可塑性樹脂層用塗布液を公知の塗布方法で塗布・乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成し、この熱可塑性樹脂層上に更に、黒色に調色された感光性樹脂組成物（黒色感光性樹脂層形成用の塗布液）を公知の塗布方法で塗布・乾燥させて黒色感光性樹脂層を形成することにより、仮支持体上に熱可塑性樹脂層と黒色感光性樹脂層とが積層されたものを作製する。次いで、所望のブラックマトリクス用パターンを有するマスクを介してパターン露光し、現像処理することで、仮支持体上の熱可塑性樹脂層の上に、黒色感光性樹脂層が硬化してなるブラックマトリクスパターンを形成する。次いで、形成されたブラックマトリクスパターンで区画された複数の凹状領域に、第１色目の色相（例えば赤色（Ｒ））の着色熱硬化性組成物をインクジェット法で吐出して凹状領域の一部をパターン状に満たし、乾燥させてＲ画像パターンを形成する。続いて、第２色目、第３色目の色相（例えば緑色（Ｇ）、青色（Ｂ））の着色熱硬化性組成物を順次、Ｒ画像パターンの形成と同様に吐出、乾燥を繰り返すことで、第２色目、第３色目の画像パターン（例えば、Ｇ画像パターン、Ｂ画像パターン）を形成する。このようにして、ＲＧＢ３色とブラックマトリクスとで構成された４色のパターンを有する転写フィルムが作製される。
上記では、ＲＧＢの各画像パターンの形成をインクジェット法で行なった場合を説明したが、インクジェット法によらず、ブラックマトリクスパターンの形成と同様に、塗布、露光、現像を繰り返し行なってＲＧＢの各画像パターンを形成し、ＲＧＢ３色とブラックマトリクスとで構成された４色のパターンを有する転写フィルムを作製してもよい。

前記インクジェット法については、カラーフィルタの作製に用いられる一般的な方法を本発明においても好適に適用することができる。インクジェット法としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
インクは、油性、水性のいずれも使用できる。また、そのインクに含まれる着色剤は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタの作製の際の塗布に用いられる着色インク（例えば特開２００５−３８６１号公報の段落番号［００３４］〜［００６３］に記載の着色樹脂組成物）や、特開２００４−３２５７３６号公報に記載の着色インク、特開２００２−３７２６１３号公報に記載のインクなど、公知のインクを使用することもできる。インクジェット法に用いるインクには、付与後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することができる。加熱によって硬化する成分としては、各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、エネルギー線によって硬化する成分としては、例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものが例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。

このようにして、２色以上の色パターン、具体的には、ＲＧＢ及び透明無彩色を含む色相から選ばれる２色以上の画像パターン又は、１色もしくは２色以上の画像パターン及びブラックマトリクスパターンを有する転写フィルムを作製することができる。

本発明においては、欠陥修正に要する時間の観点、及び大サイズ（好ましくは最大長さが１００μｍ以上）の着色画像欠落領域の欠陥修正が可能になる観点から、転写フィルム上に形成される画像パターン及びブラックマトリクスパターンは、欠陥修正対象であるカラーフィルタが有する画像パターン及びブラックマトリクスパターンと略同一パターンであることが好ましい。

本発明において、転写フィルムの２色以上の色パターン（画像パターン及びブラックマトリクスパターンを含む。）を、基板上の着色画像欠落領域に転写するパターン転写工程は、２色以上の色パターンが転写される被転写材である基板上の位置に転写フィルムを固定する工程と、転写フィルムから基板上へ２色以上の色パターンの少なくとも一部を転写する工程とを含むことができる。

前記「２色以上の色パターンが転写される被転写材である基板上の位置に転写フィルムを固定する工程」は、転写フィルムの２色以上の色パターンと欠陥修正対象のカラーフィルタを構成する２色以上の着色画像とが転写後に連続する構造に形成され得る位置に転写フィルムを固定する工程であることが好ましい。

前記「転写フィルムから基板上へ２色以上の色パターンの少なくとも一部を転写する工程」では、例えば、加熱及び／又は圧着により、転写フィルム上の２色以上の色パターンを基板上の着色画像欠落領域に転写することができる。本発明においては、転写効率の観点から、熱圧着によって転写することが好ましい。熱圧着方法については、特に制限はない。欠陥修正の効率の観点から、ヒーターブロックによる熱圧着により行なうことが好ましい。
また、ヒーターブロックによる熱圧着に先立ち、赤外線等による予備加熱処理を行なってもよい。

本発明のカラーフィルタの欠陥修正方法の実施態様の一例を、図面を参照して、更に詳細に説明する。図１は、本発明の実施に用いることができる欠陥修正装置の構成の一例を示す概略図である。
この欠陥修正装置は、図１に示すように、ステージ７上に載せられた欠陥修正対象である基板６の上方に、基板６側から順に、転写フィルム５、対物レンズ４が配置されており、対物レンズ４にレーザー光を照射するレーザー光路上には、対物レンズ４側からハーフミラー３、ハーフミラー１１、ＣＣＤカメラ１２が順次配置されている。ハーフミラー３には、短パルスレーザー光源１から照射され、ビーム成形機構２でビーム形状が成形されたレーザービームが入射されるようになっており、ハーフミラー１１には、ランプ光源９から照射されてフィルタ１０を通過した光が入射されるようになっている。また、レーザー光路上のハーフミラー３、１１を介して、ＣＣＤカメラ１２で観察可能な構成となっている。転写フィルム５は、２つのフィルムリール８で支持されており、フィルムリール回転手段１４で回転可能になっている。対物レンズ４の下方には、エアの噴出口が設けられ、この噴出口にエアを供給するための噴出エア噴出手段１３が接続されている。

本実施態様において、欠陥を修正する対象の基板６は液晶表示装置の液晶パネルに用いられるカラーフィルタ基板である。このカラーフィルタ用の基板６は通常、透明なガラス基板の上に画素を構成する着色層及びブラックマトリクスが設けられている。ステージ７はＸＹ駆動機構（図示せず）を備え、ＸＹ方向に移動可能なＸＹステージであり、基板６を任意の位置に移動できるようになっている。本発明における欠陥修正装置は、基板６の欠陥を検出するための欠陥検出機構及び検出した欠陥を修正するための欠陥修正機構を備えており、基板６をステージ７の上に水平に載置して、カラーフィルタ基板の各画素に欠陥が有るか否かを判断し、修正することができる。具体的には、欠陥検出機構により、欠陥の位置を把握した後に、欠陥修正機構により、基板６の欠陥部分にレーザーを照射して欠陥部分を除去し、修正する。なお、図示した欠陥検出機構及び欠陥修正機構の光学系等の構成は一例であり、その他のフィルタ、レンズ、ミラー等の光学部品を備えていてもよい。

まず、欠陥検出機構について説明する。欠陥検出機構は、ランプ光源９とフィルタ１０とハーフミラー１１とＣＣＤカメラ１２とを用いて欠陥を検出する。観察用光源としてランプ光源９が設けられており、ランプ光源９は基板６の表面を照明するための白色光を出射する。ランプ光源９から出射した観察用の光はフィルタ１０を通過して、ハーフミラー１１に入射する。フィルタ１０は波長可変フィルタであり、所定の波長のみを遮光することができる。ここで、フィルタ１０は転写フィルム５の透過率に合わせて波長を補正し、検出される光が白色光になるようしてもよい。ハーフミラー１１に入射した光は基板６の方向に反射される。反射された光はハーフミラー３を通過して、対物レンズ４に入射する。対物レンズ４と基板６の間には厚さが約１０μｍのポリイミドからなる転写フィルム５が基板６と対向して設けられている。そして、対物レンズ４で集光された光は転写フィルム５を透過して基板６の表面に入射して、基板の一部を照明する。基板６で反射された光は転写フィルム５、対物レンズ４、ハーフミラー３及びハーフミラー１１を透過してＣＣＤカメラ１２に入射する。ＣＣＤカメラ１２は基板６の表面で反射した反射光に基づいて画像を検出する。ＣＣＤカメラ１２はパーソナルコンピューター（ＰＣ）等の情報理装置に接続されており、検出された画像に基づいて基板６の欠陥の有無を判断する。基板の欠陥の有無を判断する方法としては、例えば、検出した画像をリファレンスダイと比較するダイツーダイ方式（Ｄｉｅ−ｔｏ−Ｄｉｅ）を用いることができる。検出した画像がリファレンスダイと異なる場合は、欠陥部分であると判断する。この欠陥検出機構では、不透明な黒欠陥及び透明な白欠陥を区別して検出することができる。

さらに、ＰＣはステージ７のＸＹ駆動機構と接続され、欠陥検出時のステージ７の位置から検出箇所が特定され、基板上における欠陥画素の座標が検出される。更に、ステージ７を移動させることにより、基板６とランプ光源９からの光の相対位置を変化させて、基板６の全面の欠陥検出を行う。
もちろん、欠陥検出機構は図示した構成に限らず、これ以外の構成を備える欠陥検出機構を用いてもよい。この欠陥検出機構については従来の欠陥検出装置と同様の構成を用いることができる。

上述の欠陥検出機構により検出された欠陥は欠陥修正機構により、修正が行われる。欠陥修正機構について以下に説明する。欠陥修正機構は短パルスレーザー光源１とビーム成形機構２とハーフミラー３とを用いて欠陥を修正する。短パルスレーザー光源１は、例えばＱスイッチＹＡＧレーザーであり、１０ｎｓｅｃ以下の短パルス光を出射することができる。短パルスレーザー光源１から出射した短パルスレーザー光はビーム成形機構２に入射する。ビーム成形機構２はアパーチャー、スリット、レンズ等を備えており、短パルス光のスポットを適当な形状のビームスポットに成形することが可能である。例えば、基板上での短パルス光のビームスポットをカラーフィルタの画素と略同じ矩形状に成形する。あるいは欠陥の形状と略同じ形状に成形するようにしてもよい。ハーフミラー３は、短パルス光を基板６の方向に反射する。ここで、短パルスレーザー光源１とランプ光源９からの光が同軸になるようにそれぞれの光学部品が配置されている。ハーフミラー３で反射した短パルス光は転写フィルム５に照射される。

転写フィルム５は、フィルムリール回転手段１４に接続された２つのフィルムリール８に巻きつけられている。フィルムリール回転手段１４はモータ等を備えており、フィルムリール８のそれぞれを回転させることができる。２つのフィルムリール８を回転させることにより、転写フィルム５が連続的にＹ方向に送り出されていく。欠陥修正する前に転写フィルム５にたわみを持たせるようにフィルムリール回転手段１４を駆動させ、フィルムリール８の一つを回転させる。ここで、転写フィルム５は基板６と接触しない程度にたわみを持たせるようにする。エア噴出手段１３はエアタンク、配管、イオナイザー及びフィルター等を備えており、転写フィルム５の上からイオナイズされた空気を噴出させることができるようになっている。例えば、対物レンズ４の下に基板側の底面が開いた円筒を設ける。この円筒はテーパ状になっており、基板側の開口径が小さくなっている。その円筒内にエアを流すことができるよう側面に配管が接続され、配管から供給されたエアを流すことにより、円筒内の内圧が高くなり、転写フィルム５側にエアが噴出される。欠陥修正時にはエアを噴出して転写フィルム５を基板側に近づけて、転写フィルム５と基板６とを近接させる。転写フィルム５と基板６を近接させることにより、欠陥部分において基板６と転写フィルム５に微小な隙間が設けられる。この場合、基板６の欠陥部分以外の突出部分と転写フィルム５とは接触するようにしてもよい。この転写フィルム５と基板６との距離の調整は、エア噴出手段１３の噴出量等により調整する。あるいは、フィルムリール回転手段１４によって転写フィルム５のたわみや張力を調整してもよい。さらには、ステージ７にＺ方向に移動させる機構を持たせて間隔を調整してもよい。エア噴出手段１３より転写フィルム５と基板６を近接させることにより、転写フィルム５を基板に密着させる必要がなくなる。これにより、安定した修正を行うことができ、さらに基板６のパターンに与える影響を低減することができる。

この転写フィルム５は、図２に示すように、修正する欠陥の種類に応じて異なるフィルムに変更する。欠陥修正装置のフィルムは少なくとも、欠陥除去用の転写フィルム５ａ及びフィルムリール８ａ、並びに２色以上の色パターン（例えばＲＧＢ３色の画像パターン及びブラックマトリクス）が形成された欠陥修正用の転写フィルム５ｂ及びフィルムリール８ｂから構成されており、他の色パターンが形成された欠陥修正用フィルム及びフィルムリールを更に有していてもよい。また、別の形態として、例えば、欠陥除去用の転写フィルム５ａ及びフィルムリール８ａ、並びにＲＧ２色の画像パターン及びブラックマトリクスが形成された欠陥修正用の転写フィルム及びフィルムリール、ＧＢ２色の画像パターン及びブラックマトリクスが形成された欠陥修正用の転写フィルム及びフィルムリール、及びＢＲ２色の画像パターン及びブラックマトリクスが形成された欠陥修正用の転写フィルム及びフィルムリールから構成されてもよい。

フィルムリール８は、リニアガイド等のリール移動手段（図示せず）に取り付けられており、Ｘ方向にスライド可能に設けられている。フィルムリール８ａ及びフィルムリール８ｂをＸ方向に移動させて、修正する対象の欠陥に応じた転写フィルム５に短パルス光を照射する。すなわち、欠陥部分を除去する時は、短パルスレーザー光源１からの短パルス光のレーザースポット１５の位置に転写フィルム５ａを移動させる。一方、白欠陥を修正する時は、短パルスレーザー光源１からの短パルス光のレーザースポット１５の位置に転写フィルム５ｂを移動させる。この短パルスレーザー光源１とランプ光源９からの光は同じ光軸上になるように調整されているので、転写フィルム５におけるレーザースポット１５と観察用の光は略同じ位置になる。フィルムリール８の移動時及び転写フィルム５の送り出し時にはフィルムリール８を回転させて、転写フィルム５に適当な張力を与え、基板６と転写フィルム５に隙間を設けておく。そして、エアを噴出させずにフィルムの移動及び送り出しを行う。一方、欠陥を除去、修正するときは転写フィルム５をたわませ、エア噴出手段１４により、エアを噴出させて転写フィルム５を基板表面に近接させることができる。

この転写フィルム５ａと基板６との構成について図３を参照して説明する。図３は修正箇所の構成を示す拡大断面図である。図３（ａ）は短パルス光を照射中のフィルムと基板配置を示している。図３（ｂ）は欠陥が除去された基板の構成を示している。基板６上には赤色（Ｒ）の着色層６１、緑色（Ｇ）の着色層６２、青色（Ｂ）の着色層６３、ブラックマトリックス（ＢＭ）６４が設けられ、カラーフィルタが形成されている。図３（ａ）に示すように、カラーフィルタ上に異物６５が付着している場合、異物６５が付着した欠陥部分は、欠陥検出機構により光を透過しない黒欠陥として検出される。このとき転写フィルム５ａは基板６上のカラーフィルタと略接触している。

この異物６５が付着した欠陥部分に、短パルスレーザー光源１からの１０ｎｓｅｃ以下の短パルス光が照射されると、対物レンズ４によって集光された短パルス光はエア噴出手段により基板６と近接する転写フィルム５ａに入射する。この短パルス光はレーザーアブレーションにより転写フィルム５ａが部分的に開口できるようにパワーが調整されている。ここでは一例として、転写フィルム５ａとしてポリイミドフィルムを用いている。ＹＡＧ短パルスレーザー光源１の３倍高調波の３５５ｎｍ又は４倍高調波の２６６ｎｍを使用すれば、ポリイミドフィルムが短パルス光を吸収するので容易に転写フィルム５ａに開口部を設けることができる。また、ポリイミドフィルムは可視光領域で吸収がなく略透明であるので観察が容易であり、ランプ光源９を用いて欠陥を検出することができる。なお、転写フィルム５ａはポリイミドに限らず、光の照射によって、化学分解、熱的な分解、昇華又はアブレーション等によって開口する材質を用いることが出来る。レーザー光はビーム成形機構２によって、欠陥の形状又は画素の形状になるように成形されているので、転写フィルム５ａの開口部の形状は、例えば、欠陥部分の形状と略同じ形状にすることができる。レーザーアブレーションによって異物６５とフィルムの一部を略同時に除去することができる。

除去された異物６５ａは図３（ｂ）に示すように転写フィルム５ａの開口部を通って、基板から離脱する。また、修正部周辺はフィルムでカバーされているため、異物６５が修正部周辺のフィルムに付着して、修正部周辺に新たな欠陥を作ることがない。このように、レーザーアブレーションによりフィルムと欠陥を略同時に除去することができる。なお、除去された異物６５ａは１片となっているが多数のデブリとなって、フィルム上に着地する場合もある。

また、短パルスレーザー光源１のパワーは徐々に転写フィルム５ａに穴を開けるように調整してもよいし、フィルムの穴あけと異物の除去を同時に行うように調整してもよい。徐々に転写フィルム５ａに穴を開ける場合には、転写フィルム５ａが薄くなった状態とし、さらに転写フィルム５ａが薄くなった箇所に短パルスレーザー光を照射して異物を除去するようにする。

また、開口部の大きさが小さい場合は、フィルムを送り出しながら開口部を設けるようにしてもよい。遠紫外線を用いれば転写フィルム５ａが化学的に分解するので、異物除去後に基板表面にフィルムの残渣が残った場合は、遠紫外線を照射してフィルムの残渣を取り除くことが出来る。

なお、異物６５が透明な場合、異物に短パルス光を照射しても、光の吸収がないのでレーザーアブレーションが生じない。これに対し、転写フィルム５としてポリイミドなどの光を吸収するフィルムを用いて、吸収フィルムを異物の上部に略接触させた状態で短パルスレーザー光を照射すると、フィルムがレーザーアブレーションで開口するのと同時に前方にとんだガスやデブリによって異物が基板に一瞬押し付けられ、その後の反跳によって基板から離脱することができる。

上述の処理により基板上の異物６５とともにブラックマトリクス６４、着色層６１、６２が除去されるため、黒欠陥は光を透過する着色画像欠落領域６６となる。この着色画像欠落領域６６を修正するため、図４に示すようにフィルムリール８ａ及びフィルムリール８ｂをＸ方向に移動させて、転写フィルム５ｂをレーザースポット１５の位置に移動させる。そして、転写フィルム５ｂを着色画像欠落領域６６に熱圧着させて、着色画像欠落領域６６を修正する。

この着色画像欠落領域の修正方法について図５を参照して説明する。図５は、転写フィルム５ｂと基板６との間の配置構成を示す断面拡大図である。転写フィルム５ｂの基板６側の面には、画像パターン５１，５２、ブラックマトリクスパターン５４が形成されている。転写フィルム５ｂには、厚さが１００μｍ程度のポリエチレンテレフタレートフィルムをベースフィルムとして、ベースフィルム上に厚さが１μｍ程度の画像パターン５１，５２及びブラックマトリクスパターン５４が形成されたドライフィルムレジストを用いることができる。
また、ベースフィルムと画像パターン５１，５２及びブラックマトリクスパターン５４との間には、厚さ１０μｍ程度の熱可塑性樹脂層が更に形成されていることが好ましい。

転写フィルム５ｂは、ポリエチレンに限らず、ポリプロピレンやＰＥＴフィルム等を用いることができ、厚さも上記の厚さに限られない。また、画像パターン５１，５２、ブラックマトリクスパターン５４には、基板６側の着色層６１，６２、ブラックマトリクス６４と略同じ材質を用いることも可能である。これにより、液晶表示装置の品質の劣化をより効果的に防ぐことができる。もちろん、転写フィルム５ｂやブラックマトリクスパターン５４、画像パターン５１，５２の材質や厚さは、上記のものに限られるものではない。

また、欠陥修正装置には、転写フィルム５ｂ上に形成された画像パターン５１，５２及びブラックマトリックスパターン５４を基板上に熱転写するためのヒーターブロック２０が設けられている。ヒーターブロック２０は、上下に移動可能に設けられており、転写フィルム５ｂの画像パターン５１，５２及びブラックマトリックスパターン５４を付着させるときには、下に移動して転写フィルム５ｂを基板６に押圧、加熱する。これにより、着色画素欠落領域に画像パターン５１ａ，５２ａ、及びブラックマトリクスパターン５４ａを転写形成することができる。

本発明においては、転写フィルム５ｂと基板６との間にレーザーで開口した転写フィルム５ａが挟まれた状態とすることが好ましい。転写フィルム５ａの開口部を介して画像パターン５１，５２及びブラックマトリックスパターン５４を転写することにより、欠陥箇所以外の領域に画像パターン５１，５２やブラックマトリックスパターン５４が付着されることを防止できる。これにより、簡易な構成で欠陥箇所のみに画像パターン５１ａ，５２ａ、及びブラックマトリクスパターン５４ａを転写することができ、正確に欠陥を修正することが可能になる。また、余分な領域に着色層が付着されないため、生産性を向上させることができる。

１箇所の欠陥修正に対して、光学系やステージの移動を伴わずにフィルムリール８の移動のみで修正できるので以上の動作を全て１つの対物レンズ下で観察しながら行うことができる。さらに１つの短パルスレーザー光源１のみで異物の除去及び色付けが可能になり、白欠陥及び黒欠陥の修正を行うことができる。さらには修正動作が終了した後に、修正が正確に行われているかＣＣＤカメラ１２で検出しても良い。

上記のようにブラックマトリクスパターンを転写した後に、ブラックマトリクスパターンで区画された着色画像欠落領域には、予定された所定の色相に合せて、インクジェット法を用いて着色層を形成することが好ましい。これにより、面積の広い欠陥部分を修正する場合であってもより効率的に修正を行うことができる。

上述の説明では液晶表示装置用のカラーフィルタ基板で説明したが、ＣＣＤカメラ等の固体撮像素子用のカラーフィルタ基板に利用することもできる。もちろん、カラーフィルタ基板以外のパターン基板に対して利用可能である。例えば、ＰＤＰやブラウン管等の蛍光体の修正に利用することも可能である。また、上述の説明では異物６５は黒欠陥となる不透明な材質としたが、透明な材質からなる異物でもよく。さらには、精度良く設けられていない着色層等を除去しても良い。これらの除去しなければならない異物等を欠陥と称するものとする。この欠陥を除去することにより欠陥を修正することができる。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。

（実施例１）
−カラーフィルタの作製−
特開２００６−２７６８１８号公報の段落番号［００６４］〜［００６９］に記載の方法で、カラーフィルタを作製した。

−転写フィルムの作製−
ベースフィルム（仮支持体）として厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートを用い、このフィルム上に下記組成の熱可塑性樹脂層形成用塗布液を１０μｍの乾燥膜厚となるように塗布乾燥し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に熱可塑性樹脂層としてエチレン−エチルアクリレート共重合体樹脂膜が形成された仮支持体を得た。

＊熱可塑性樹脂層形成用塗布液：
・エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂 ・・・１０ｇ
（三井−デュポンポリケミカル社製、商品名：ＥＶＡＦＬＥＸ−ＥＥＡ−７０９、エチルアクリレート含有量３５％）
・トルエン ・・・１００ｇ

次に、前記仮支持体の熱可塑性樹脂層上に下記黒色感光性樹脂層用塗布液を１．８μｍの膜厚となるように塗布し、乾燥させて、黒色感光性樹脂層を形成した。

＊黒色感光性樹脂層用塗布液：
・ポリマーＡ ・・・７０部
（スチレン／メチルメタクリレート／エチルアクリレート／アクリル酸／グリシジルメタクリレートの共重合樹脂、重量平均分子量＝約３５０００、酸価＝１１０）
・モノマー：ペンタエリスリトールテトラアクリレート ・・・３０部
・光開始剤：イルガキュアー３６９ ・・・２．２部
（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）
・Ｎ，Ｎ−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン ・・・２．２部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテル ・・・４９２部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール ・・・０．１部
・界面活性剤：パーフルオロアルキルアルコキシレート ・・・０．０１部
・着色剤：カーボンブラック ・・・２２部

塗布形成された黒色感光性樹脂層に対して、平行光露光機ＭＡＰ１２００Ｌ（大日本スクリーン社製）を用いて、ブラックマトリクス用パターンが形成されたネガマスクを通して１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光した。次いで、スプレー式現像装置ＤＶＷ９１１（大日本スクリーン社製）を用い、ＫＯＨ系現像液（商品名ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）で、２５℃で６０秒間スプレー現像して未露光部を除去し、乾燥させてブラックマトリクスパターンを形成した。

−カラーフィルタ用インクジェットインクの調製−
＜青色インクジェットインクの調製＞
（１）顔料分散液の調製
下記組成中の各顔料、顔料分散剤、及び有機溶剤を下記の割合で混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ５００部を加え、ペイントシェーカー（浅田鉄鋼社製）を用いて４時間分散し、ＰＢ１５：６（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）顔料分散液及びＰＶ２３（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３）顔料分散液をそれぞれ調製した。

［顔料分散液の組成］
・顔料（ＰＢ１５：６又はＰＶ２３） ・・・１０部
・顔料分散剤（Disperbyk161、ビックケミー・ジャパン社製） ・・・１０部
（ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ＢＣＡ；溶剤）中に固形分３０％）
・顔料分散補助剤（Ｎ−フェニルマレイミド／ベンジルメタクリレート共重合体） ・・・１０部
（溶剤ＢＣＡ中に固形分３０％）
・ＢＣＡ（ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート） ・・・７０部

（２）バインダー組成物の調製
サンプル瓶にテフロン（登録商標）被覆した回転子を入れ、マグネチックスターラーに設置した。このサンプル瓶の中に、下記の割合に従って下記バインダー性エポキシ化合物、多官能エポキシ樹脂等を加え、室温で十分に攪拌溶解し、次いで、粘度調整のために希釈溶剤を加えて攪拌溶解した後、これを濾過してバインダー組成物を得た。

［バインダー組成物の配合割合］
・下記バインダー性エポキシ化合物（溶剤ＢＣＡ中に固形分３０％） ・・・１５部
・多官能エポキシ樹脂（エピコート１５４、油化シェルエポキシ社製） ・・・３部
・ネオペンチルグリコールグリシジルエーテル ・・・１．５部
・トリメリット酸 ・・・３部
・ＢＣＡ（ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート） ・・・７．５部

＊バインダー性エポキシ化合物は、特開２００６−２８４７５２号公報の段落番号［０１２８］〜［０１２９］の記載にしたがって調製した。

（３）インクジェットインクの調製
上記で調製したＰＢ１５：６顔料分散液４６．８部と、ＰＶ２３顔料分散液３．２部と、バインダー組成物３０部と、ＢＣＡ１５部とを充分に混合した後、ｎ−ドデカンをインク全量に対して５％となるように添加して、カラーフィルタ用青色インクジェットインク（Ｂインク１）を調製した。

＜赤色インクジェットインクの調製＞
（１）顔料分散液の調製
下記組成中の顔料、顔料分散剤、及び有機溶剤を下記の割合で混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ５００部を加え、ペイントシェーカー（浅田鉄鋼社製）を用いて４時間分散し、ＰＲ２５４（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４）顔料分散液及びＰＲ１７７（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７）顔料分散液をそれぞれ調製した。

［顔料分散液の組成］
・顔料（ＰＲ２５４又はＰＲ１７７） ・・・１０部
・顔料分散剤（Disperbyk161、ビックケミー・ジャパン社製） ・・・１０部
（溶剤ＢＣＡ中に固形分３０％）
・顔料分散補助剤（Ｎ−フェニルマレイミド／ベンジルメタクリレート共重合体） ・・・１０部
（溶剤ＢＣＡ中に固形分３０％）
・ＢＣＡ（ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート） ・・・７０部

（２）インクジェットインクの調製
上記で調製したＰＲ２５４顔料分散液６８．８５部と、ＰＲ１７７顔料分散液６．１５部と、上記バインダー組成物２０部と、ＢＣＡ５部とを充分に混合した。その後、ｎ−ドデカンを５部添加してカラーフィルタ用赤色インクジェットインク（Ｒインク１）を調製した。

＜緑色インクジェットインクの調製＞
（１）顔料分散液の調製
下記組成中の顔料、顔料分散剤、及び有機溶剤を下記の割合で混合し、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ５００部を加え、ペイントシェーカー（浅田鉄鋼社製）を用いて４時間分散し、ＰＧ３６（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）顔料分散液と、ＰＧ７（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７）顔料分散液と、ＰＹ１３８（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８）顔料分散液と、ＰＹ１５０（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０）顔料分散液とをそれぞれ調製した。

［顔料分散液の組成］
・顔料（ＰＧ３６又はＰＧ７又はＰＹ１３８又はＰＹ１５０） ・・・１０部
・顔料分散剤（Disperbyk161、ビックケミー・ジャパン社製） ・・・１０部
（溶剤ＢＣＡ中に固形分３０％）
・顔料分散補助剤（Ｎ−フェニルマレイミド／ベンジルメタクリレート共重合体） ・・・１０部
（溶剤ＢＣＡ中に固形分３０％）
・ＢＣＡ（ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート） ・・・７０部

（２）インクジェットインクの調製
上記で調製したＰＧ３６顔料分散液１９．２５部と、ＰＧ７顔料分散液１３．６５部と、ＰＹ１３８顔料分散液２４．６４部と、ＰＹ１５０顔料分散液１２．４６部と、上記バインダー組成物２２部と、ＢＣＡ３部とを充分に混合した。その後、ｎ−ドデカンを５部添加してカラーフィルタ用緑色インクジェットインク（Ｇインク１）を調製した。

−インクジェットインクによるＲＧＢ画素の形成−
次に、上記より得たＲインク１、Ｇインク１、Ｂインク１を順次用いて、下記のようにしてＲＧＢ３色の画像パターンを形成した。
まず、Ｂインク１を用い、ブラックマトリクスパターンが形成された仮支持体の、ブラックマトリクスパターンで区画されて凹形状に形成された凹状領域のうち、青色画素が形成されるべき領域に所望の濃度が得られる量のＢインク１を、Ｄｉｍａｔｉｘ社製インクジェットヘッド（ＳＥ−１２８、ヘッド温度２８℃）により所望の濃度になるまで吐出し、均一に付着させてＢ着色領域を形成した。これと同様にして、緑色画素及び赤色画素が形成されるべき凹状領域に、上記のＲインク１、Ｇインク１をそれぞれ均一に付着させて、Ｇ着色領域、Ｒ着色領域を形成した。その後、各色の着色領域に対し、１３３３Ｐａ（１０Ｔｏｒｒ）で１２０秒間、減圧乾燥を行なった。

本実施例では、Ｒ顔料、Ｇ顔料、Ｂ顔料の塗設量がそれぞれ１．１ｇ／ｍ^２、１．８ｇ／ｍ^２、０．７５ｇ／ｍ^２になるように、搬送速度、駆動周波数を制御した。

吐出後、各色の着色領域が吐出形成された仮支持体は、露光部に搬送され、インク滴の着弾後の約０．５秒経過後に、紫外発光ダイオードＮＣＣＵ０３３（日亜化学工業（株）製；ＵＶ−ＬＥＤ）により露光を行なって硬化させ、ＲＧＢ３色の画素パターン（Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素）を形成した。

次に、熱可塑性樹脂層上に形成されたＲＧＢ３色の画像パターン及びブラックマトリクスを、カバーフィルムとして４０μｍのポリプロピレンフィルムで被覆し、転写フィルムとしてロール状に巻取り、ベースフィルム上に、熱可塑性樹脂層、ＲＧＢ３色の画像パターン層及びブラックマトリクスパターン層、カバーフィルムが順次積層された転写フィルムを作製した。

上記で得られたカラーフィルタに対して、上記の転写フィルムと、図１に示すカラーフィルタ欠陥修正装置とを用いて、カラーフィルタを検査し、更にカラーフィルタ上に検出された最大長さが５００μｍの欠陥を以下の手順で修正した。

−欠陥部分の除去−
レーザー光源としてＱスイッチＹＡＧレーザー（波長２６６ｎｍ、パルス時間１０ｎｓｅｃ）を用い、１０μｍのポリイミドフィルムを介して、短パルスレーザー光を欠陥部分に照射し、レーザーアブレーションにより欠陥部分上のポリイミドフィルムと欠陥部分とを除去し、着色画像欠落領域を形成した。
このときレーザー光はビーム成形機構により、欠陥部分とほぼ同じ形状となるようにした。

−パターンの転写−
上記で得られた転写フィルムを、カバーフィルムを除去した後に、そのブラックマトリクス等形成面側において対向するように前記着色画像欠落領域に近接させ、ヒーターブロック（温度１２０℃）を圧力９．８×１０^４Ｐａで０．５秒間、ブラックマトリクス等非形成面側から転写フィルムに押圧して、ＲＧＢ３色の画素パターン（Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素）及びブラックマトリクスパターンを一括して熱転写した。
このとき、転写されたＲＧＢ３色の画素パターン（Ｒ画素、Ｇ画素、Ｂ画素）とブラックマトリクスパターンとは、基板上に形成されていたＲ画素、Ｇ画素、Ｂ画素、及びブラックマトリクスパターンと連続するパターンを形成するように、転写フィルムの位置を調整した。

その後、２００℃のクリーンオーブン内で３０分間加熱し、さらに２３０℃で３０分間加熱してポストベークを行ない、基板上に乾燥硬化後の平均膜厚が１．８μｍのＲＧＢ３色の画素パターンをブラックマトリクスと共に形成し、カラーフィルタ中の欠陥を修正した。

次いで、ＲＧＢ画素パターンを形成した基板を洗浄乾燥した後、基板設定温度２００℃、０．８Ｐａ（６×１０^−３Ｔｏｒｒ）の真空下で、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）電極が１２０ｎｍの厚さになるように成膜されたカラーフィルタを得た。

上記した実施例では、ＲＧＢ３色の画素パターン及びブラックマトリクスパターンが形成された転写フィルムを用いた場合を中心に説明したが、修正対象であるカラーフィルタの欠陥部分の形状や位置、サイズ等によって、例えば、ＲＧ２色の画像パターンが形成された転写フィルム、ＧＢ２色の画像パターン及びブラックマトリクスパターンが形成された転写フィルム、あるいはＲ色の画像パターン及び透明無彩色の画素パターンが形成された転写フィルム、などを適宜選択した場合でも同様の効果を得ることができる。

また、上記の実施例では、転写フィルムの作製を、仮支持体上にフォトリソ法でブラックマトリクスを形成後インクジェット法で画素パターンを形成して行なう形態を中心に説明したが、転写フィルムは、ブラックマトリクス及び画素パターンの全てをインクジェット法で形成して作製されてもよく、また、ブラックマトリクスのみならず、画素パターンをも塗布、露光、現像を行なうフォトリソグラフィ法で形成して作製されてもよく、これらの場合にも上記実施例と同様の効果を得ることができる。

以上のように、本発明のカラーフィルタの修正方法によれば、最大長さが１００μｍ以上（実施例では５００μｍ）の欠陥の修正が可能になり、しかも欠陥の修正に要する時間が従来のレジスト滴下による方法やフィルム転写方法に比べて短時間であった。また、欠陥修正後のカラーフィルタを目視で観察したところ、従来のレジスト滴下による方法やフィルム転写方法で欠陥修正したカラーフィルタでは修正部分が容易に視認できたが、本発明の欠陥修正方法で欠陥修正したカラーフィルタでは、修正部分を視認することはできなかった。

カラーフィルタの欠陥修正装置の構成を示す概略図である。 カラーフィルタの欠陥修正装置のフィルムの構成を示す平面図である。 着色画像欠落領域の形成工程を説明するための拡大断面図であって、（ａ）はカラーフィルタ上に異物が付着した状態を示す拡大断面図であり、（ｂ）は異物が除去され着色画像欠落領域が形成された状態を示す拡大断面図である。 カラーフィルタの欠陥修正装置のフィルムの構成を示す平面図である。 着色画像欠落領域にＲＧＢ３色の画素パターン及びブラックマトリクスパターンを転写するパターン転写工程を説明するための拡大断面図であって、（ａ）は転写フィルム上のＲＧＢ３色の画素パターン及びブラックマトリクスとヒーターブロックとの位置関係を示す拡大断面図であり、（ｂ）は着色画像欠落領域にＲＧＢ３色の画素パターン及びブラックマトリクスパターンが転写された状態を示す拡大断面図である。

符号の説明

１…短パルスレーザー光源
２…ビーム成形機構
３，１１…ハーフミラー
４…対物レンズ
５…転写フィルム
６…基板
７…ステージ
８…フィルムリール
９…ランプ光源
１０…波長可変フィルタ
１２…ＣＣＤカメラ
１３…エア噴出手段
１４…フィルムリール回転手段
１５…レーザースポット
２０…ヒーターブロック
５４，６４…ブラックマトリクス
６１…赤色の画像パターン（着色層）
６２…緑色の画像パターン（着色層）
６３…青色の画像パターン（着色層）
６５，６５ａ…異物
６６…着色画像欠落領域

Claims (6)

1. 基板上の着色画像欠落領域に、２色以上の色パターンを有する転写フィルムを用いて前記色パターンの少なくとも一部を転写するパターン転写工程を有するカラーフィルタの欠陥修正方法。
2. 基板上の着色画像の欠陥部分をレーザー光の照射により除去する除去工程を更に有し、
   前記着色画像欠落領域は、基板上の着色画像の欠陥部分をレーザー光の照射により除去して形成された領域であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法。
3. 前記転写フィルムは、仮支持体上に、黒色パターンと、前記黒色パターンで離隔された少なくとも１色の画像パターンとを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法。
4. 前記画像パターンは、赤色、緑色、青色、及び透明無彩色から選択される２色以上のパターンで構成されていることを特徴とする請求項３に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法。
5. 転写フィルムの前記２色以上の色パターンは、前記基板上の着色画像のパターンの少なくとも一部と同一のパターンを有することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法。
6. 前記着色画像欠落領域の最大長さが１００μｍ以上であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のカラーフィルタの欠陥修正方法。

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