CN103969855A - 一种显示基板的修复方法、显示基板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示基板的修复方法、显示基板及显示装置，由于在衬底基板上形成黑矩阵图形后直接制作彩膜层图形，之后才对黑矩阵图形中的第一图形缺失区域进行激光处理，消除衬底基板在该第一图形缺失区域内的所有图形，接着，在经过激光处理后的第一图形缺失区域内填充第一修补材料，这样第一修补材料可以被限制在已形成的彩膜层图形中的相邻的两个色阻之间，通过控制第一修补材料的使用量，可以使第一修补材料不会扩散到衬底基板的开口区域，不仅可以省去采用激光处理消除扩散到显示面板的开口区域的第一修补材料的步骤，还可以节省第一修补材料的使用，并且，采用上述方法修复后的黑矩阵图形的表面较平整，还可以提高显示面板的显示品质。

Description

一种显示基板的修复方法、显示基板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板的修复方法、显示基板及显示装置。
背景技术
在彩膜基板的制作过程中，一般采用构图工艺在衬底基板上依次形成黑矩阵图形和彩膜层图形等。在经过构图工艺形成黑矩阵图形后，需要对形成的黑矩阵图形进行检查，判断黑矩阵图形中是否存在缺失区域（缺失区域是指本应有黑矩阵图形的区域无黑矩阵图形的情况）或残留区域（残留区域是指本应无黑矩阵图形的区域有黑矩阵图形的情况）。黑矩阵图形中存在缺失区域会导致显示面板产生漏光的问题，黑矩阵图形中存在残留区域会影响显示面板的开口率，这两种情况都会影响显示面板的显示品质。
目前，在现有的对黑矩阵图形中的缺失区域进行修复的方法中，在衬底基板上采用构图工艺形成黑矩阵图形之后，一般进行如下步骤：首先，采用激光对黑矩阵图形101中的缺失区域102进行清除处理，如图1a所示；然后，在黑矩阵图形101中的缺失区域102滴入黑色光刻胶103，如图1b所示；接着，对扩散到衬底基板的开口区域的黑色光刻胶103再次进行激光清除处理，即清除如图1c所示的斜线阴影区域；最后，得到修复后的黑矩阵图形101，如图1d所示。而对于黑矩阵图形中的残留区域的修复方法，一般直接对黑矩阵图形中的残留区域进行激光处理，清除位于衬底基板的开口区域的黑矩阵图形，即可完成对黑矩阵图形中的残留区域的修复。在对黑矩阵图形修复完成后，再进行诸如构图形成彩膜层图形等后续工艺。
上述对黑矩阵图形中的缺失区域的修复方法较为复杂，需要进行两次激光清除处理，并且，需要滴入的黑色光刻胶只有部分用于修复黑矩阵图形中的缺失区域，其余部分的黑色光刻胶被激光清除掉，这样会造成资源浪费；此外，采用上述修复方法修复后的黑矩阵图形的表面会类似于球面，造成修复后的黑矩阵图形的表面不平整，从而影响显示面板的显示品质。
因此，如何优化对彩膜基板中的黑矩阵图形的修复方式，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示基板的修复方法、显示基板及显示装置，用以优化对黑矩阵图形的修复方式。
因此，本发明实施例提供了一种显示基板的修复方法，包括：
在衬底基板上形成黑矩阵图形；
在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置；
在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形；
根据所述第一图形缺失区域的位置，对所述衬底基板的第一图形缺失区域进行激光处理，消除所述衬底基板在所述第一图形缺失区域内的所有图形；
在经过激光处理后的所述衬底基板的第一图形缺失区域内填充第一修补材料，对所述第一图形缺失区域进行修复处理。
本发明实施例提供的上述显示基板的修复方法，由于在衬底基板上形成黑矩阵图形后直接制作彩膜层图形，之后，才对黑矩阵图形中的第一图形缺失区域进行激光处理，消除衬底基板在该第一图形缺失区域内的所有图形，接着，在经过激光处理后的第一图形缺失区域内填充第一修补材料，这样第一修补材料可以被限制在已形成的彩膜层图形中的相邻的两个色阻之间，通过控制第一修补材料的使用量，可以使第一修补材料不会扩散到衬底基板的开口区域，不仅可以省去采用激光处理消除扩散到显示面板的开口区域的第一修补材料的步骤，还可以节省第一修补材料的使用，并且，采用上述方法修复后的黑矩阵图形的表面较平整，还可以提高显示面板的显示品质。
较佳地，为了避免对黑矩阵图形中的第一图形缺失区域的修复出现遗漏的问题，在本发明实施例提供的上述修复方法中，所述在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置，具体包括：在形成的所述黑矩阵图形中确定是否存在第一图形缺失区域，在确定存在第一图形缺失区域时，标记所述第一图形缺失区域的位置信息。
较佳地，为了使修复后的黑矩阵图形中的第一图形缺失区域的表面更加平整，从而提高显示面板的显示品质，在本发明实施例提供的上述修复方法中，填充于所述第一图形缺失区域的第一修补材料的厚度小于或等于所述黑矩阵图形的厚度。
较佳地，为了避免形成的黑矩阵图形扩散到显示面板的开口区域，影响显示面板的开口率，在本发明实施例提供的上述修复方法中，在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形之前，还包括：
在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形残留区域及其位置，根据所述第一图形残留区域的位置，对所述衬底基板的第一图形残留区域进行激光处理，消除所述衬底基板在所述第一图形残留区域内的所有图形。
进一步地，为了简化修复的过程，节省修复的时间，在本发明实施例提供的上述修复方法中，在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置的同时，确定存在的所述第一图形残留区域及其位置。
具体地，在本发明实施例提供的上述修复方法中，在所述衬底基板上形成彩膜层图形之前，在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置。
具体地，在本发明实施例提供的上述修复方法中，在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形之后，还包括：
确定所述彩膜层图形中存在的第二图形缺失区域及其位置，根据所述第二图形缺失区域的位置，对所述第二图形缺失区域进行修复处理；
确定所述彩膜层图形中存在的第二图形残留区域及其位置，根据所述第二图形残留区域的位置，对所述第二图形残留区域进行修复处理。
本发明实施例还提供了一种显示基板，所述显示基板采用本发明实施例提供的上述方法制得。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示基板。
附图说明
图1a-图1d分别为现有技术中彩膜基板中黑矩阵图形中的缺失区域的修复方法中各步骤的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的显示基板的修复方法的流程图；
图3a-图3c分别为本发明实施例提供的显示基板的修复方法中各步骤的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明实施例提供的显示基板的修复方法、显示基板及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。
本发明实施例提供的一种显示基板的修复方法，如图2所示，具体步骤包括：
S201、在衬底基板上形成黑矩阵图形；
具体地，以利用正性光刻胶采用构图工艺在衬底基板上形成黑矩阵图形为例进行说明，首先，在衬底基板上依次形成黑矩阵薄膜和光刻胶薄膜；然后，采用掩膜板对光刻胶薄膜进行曝光、显影处理；接着，对没有覆盖光刻胶的黑矩阵薄膜进行刻蚀处理；最后，剥离剩余的光刻胶，得到黑矩阵图形；
S202、在形成的黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置；
具体地，在采用构图工艺在衬底基板上形成黑矩阵图形之后，对形成的黑矩阵图形进行检查，确定在形成的黑矩阵图形中存在的第一图形缺失区域及其位置；
S203、在形成有黑矩阵图形1的衬底基板上形成彩膜层图形2，如图3a所示；
具体地，本发明实施例提供的上述修复方法在具体实施时，由于彩膜层图形的形成不会因为黑矩阵图形中存在第一图形缺失区域而受到影响，因此，在衬底基板上形成黑矩阵图形之后，可以暂时不对黑矩阵图形中存在的第一图形缺失区域进行修复，而是在形成彩膜层图形之后再对形成的黑矩阵图形中的第一图形缺失区域进行修复；
并且，在执行步骤S201在衬底基板上形成黑矩阵图形之后，可以先执行步骤S202在形成的黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置，然后执行步骤S203在形成有黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形；或者，也可以先执行步骤S203在形成有黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形，然后执行步骤S202在形成的黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置，在此不做限定；
S204、根据第一图形缺失区域3的位置，对衬底基板的第一图形缺失区域3进行激光处理，消除衬底基板在第一图形缺失区域3内的所有图形，如图3b所示，这样可以为后续在衬底基板的第一图形缺失区域内填充第一修补材料做好准备工作，以便于后续在对衬底基板的第一图形缺失区域内填充第一修补材料后达到的修复效果更佳；
S205、在经过激光处理后的衬底基板的第一图形缺失区域3内填充第一修补材料，对第一图形缺失区域3进行修复处理，如图3c所示；
具体地，第一修补材料可以为形成黑矩阵图形的材料，例如：黑色光刻胶等；或者，还可以为其他不透光的材料，在此不做限定。
本发明实施例提供的上述显示基板的修复方法，由于在衬底基板上形成黑矩阵图形后直接制作彩膜层图形，之后，才对黑矩阵图形中的第一图形缺失区域进行激光处理，消除衬底基板在该第一图形缺失区域内的所有图形，接着，在经过激光处理后的第一图形缺失区域内填充第一修补材料，这样第一修补材料可以被限制在已形成的彩膜层图形中的相邻的两个色阻之间，通过控制第一修补材料的使用量，可以使第一修补材料不会扩散到衬底基板的开口区域，不仅可以省去采用激光处理消除扩散到显示面板的开口区域的第一修补材料的步骤，还可以节省第一修补材料的使用，并且，采用上述方法修复后的黑矩阵图形的表面较平整，还可以提高显示面板的显示品质。
较佳地，为了避免对黑矩阵图形中的第一图形缺失区域的修复出现遗漏的问题，本发明实施例提供的上述修复方法中的步骤S202在形成的黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置，具体可以包括：在形成的黑矩阵图形中确定是否存在第一图形缺失区域，在确定存在第一图形缺失区域时，标记第一图形缺失区域的位置信息；具体地，可以通过自动光学检查机制定坐标系检测第一图形缺失区域的具体位置，然后将第一图形缺失区域的位置信息记录并生成文件，再将记录有第一图形缺失区域的位置信息的文件上传服务器。
具体地，在读取上传给服务器的文件之后，采用相同的坐标系，根据标记的第一图形缺失区域的位置信息，对黑矩阵图形中的第一图形缺失区域进行修复处理，在完成对黑矩阵图形中的第一图形缺失区域的修复后，再将文件上传服务器，后续工序在文件中添加新的检测信息，从而保证第一图形缺失区域的位置信息的继承。
较佳地，为了使修复后的黑矩阵图形中的第一图形缺失区域的表面更加平整，从而提高显示面板的显示品质，在本发明实施例提供的上述修复方法中，需要保证填充于第一图形缺失区域的第一修补材料的厚度小于或等于黑矩阵图形的厚度。
较佳地，为了避免形成的黑矩阵图形覆盖显示面板的开口区域，影响显示面板的开口率，在本发明实施例提供的上述修复方法中的步骤S203在形成有黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形之前，还可以包括：在形成的黑矩阵图形中确定存在的第一图形残留区域及其位置，根据第一图形残留区域的位置，对衬底基板的第一图形残留区域进行激光处理，消除衬底基板在第一图形残留区域内的所有图形。
进一步地，为了简化修复的过程，节省修复的时间，在本发明实施例提供的上述修复方法中，在对形成的黑矩阵图形进行检测时，在形成的黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置的同时，确定存在的第一图形残留区域及其位置，即在同一次检测工艺时完成对第一图形残留区域和第一图形缺失区域的检测。
基于此，由于对形成的黑矩阵图形中的第一图形残留区域的修复过程需要在步骤S203在形成有黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形之前进行，因此，与在形成的黑矩阵图形中确定存在的第一图形残留区域及其位置同时进行的步骤S202在形成的黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置也需要在步骤S203在形成有黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形之前进行，即在衬底基板上形成彩膜层图形之前，在形成的黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置。
具体地，在本发明实施例提供的上述修复方法中，在形成有黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形之后，还可以包括：确定彩膜层图形中存在的第二图形缺失区域及其位置，根据第二图形缺失区域的位置，对第二图形缺失区域进行修复处理；确定彩膜层图形中存在的第二图形残留区域及其位置，根据第二图形残留区域的位置，对第二图形残留区域进行修复处理。
具体地，以包括三种颜色（红色、绿色和蓝色）的色阻的彩膜层图形为例，通过三次构图工艺分别形成红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻，本发明实施例提供的上述修复方法在具体实施时，在红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中均可能存在第二图形缺失区域，以对红色色阻中存在的第二图形缺失区域进行修复处理为例进行说明，具体步骤可以包括：
首先，对衬底基板的第二图形缺失区域进行激光处理，消除衬底基板在第二图形缺失区域内的所有图形；
然后，在经过激光处理后的衬底基板的第二图形缺失区域内填充第二修补材料，对第二图形缺失区域进行修复处理。具体地，第二修补材料为形成彩膜层图形中的红色色阻的材料。
具体地，本发明实施例提供的上述修复方法在具体实施时，在红色色阻、绿色色阻或蓝色色阻中均可能存在第二图形残留区域，在形成的彩膜层图形中确定存在第二图形残留区域及其位置后，可以对衬底基板的第二图形残留区域进行激光处理，消除衬底基板在第二图形残留区域内的所有图形。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示基板，该显示基板采用本发明实施例提供的上述方法制得。该显示基板的实施可以参见上述显示基板的修复方法的实施例，重复之处不再赘述。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示基板，该显示装置可以为：液晶面板、OLED面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述显示基板的实施例，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的一种显示基板的修复方法、显示基板及显示装置，由于在衬底基板上形成黑矩阵图形后直接制作彩膜层图形，之后，才对黑矩阵图形中的第一图形缺失区域进行激光处理，消除衬底基板在该第一图形缺失区域内的所有图形，接着，在经过激光处理后的第一图形缺失区域内填充第一修补材料，这样第一修补材料可以被限制在已形成的彩膜层图形中的相邻的两个色阻之间，通过控制第一修补材料的使用量，可以使第一修补材料不会扩散到衬底基板的开口区域，不仅可以省去采用激光处理消除扩散到显示面板的开口区域的第一修补材料的步骤，还可以节省第一修补材料的使用，并且，采用上述方法修复后的黑矩阵图形的表面较平整，还可以提高显示面板的显示品质。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (9)

1.一种显示基板的修复方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成黑矩阵图形；
在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置；
在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形；
根据所述第一图形缺失区域的位置，对所述衬底基板的第一图形缺失区域进行激光处理，消除所述衬底基板在所述第一图形缺失区域内的所有图形；
在经过激光处理后的所述衬底基板的第一图形缺失区域内填充第一修补材料，对所述第一图形缺失区域进行修复处理。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置，具体包括：在形成的所述黑矩阵图形中确定是否存在第一图形缺失区域，在确定存在所述第一图形缺失区域时，标记所述第一图形缺失区域的位置信息。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，填充于所述第一图形缺失区域的第一修补材料的厚度小于或等于所述黑矩阵图形的厚度。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形之前，还包括：
在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形残留区域及其位置，根据所述第一图形残留区域的位置，对所述衬底基板的第一图形残留区域进行激光处理，消除所述衬底基板在所述第一图形残留区域内的所有图形。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置的同时，确定存在的所述第一图形残留区域及其位置。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成彩膜层图形之前，在形成的所述黑矩阵图形中确定存在的第一图形缺失区域及其位置。
7.如权利要求1-6任一项所述的方法，其特征在于，在形成有所述黑矩阵图形的衬底基板上形成彩膜层图形之后，还包括：
确定所述彩膜层图形中存在的第二图形缺失区域及其位置，根据所述第二图形缺失区域的位置，对所述第二图形缺失区域进行修复处理；
确定所述彩膜层图形中存在的第二图形残留区域及其位置，根据所述第二图形残留区域的位置，对所述第二图形残留区域进行修复处理。
8.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板采用如权利要求1-7任一项所述的方法制得。
9.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求8所述的显示基板。
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