CN103558712A - 一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置，由于在黑矩阵与触控电极层之间新增一层第一正性光刻胶层，这样可以将黑矩阵与触控电极层进行隔离，从而可以避免在对黑矩阵进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响；在触控电极层与彩色树脂层之间新增一层第二正性光刻胶层，这样可以将触控电极层与彩色树脂层进行隔离，从而可以避免在对彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响，从而避免触控电极层出现短路或断路的问题，保证了触控品质。

Description

一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置。

背景技术

触摸屏按照组成结构可以分为：外挂式触摸屏（Add on Mode Touch Panel）、覆盖表面式触摸屏（On Cell Touch Panel）、以及内嵌式触摸屏（In Cell TouchPanel）。其中，内嵌式触摸屏将触摸屏的触控电极层内嵌在液晶显示屏内部，可以减小模组整体的厚度，降低触摸屏的制作成本。

目前，内嵌式触摸屏将触控电极层设置在彩膜基板一侧，如图1所示的彩膜基板，包括衬底基板1，位于衬底基板1上的黑矩阵2（黑色阴影部分），位于黑矩阵2上的触控电极层3（斜线阴影部分），以及位于触控电极层3上的彩色树脂层4，图1是图2沿AA方向的剖面图。在对黑矩阵2和彩色树脂层4进行构图的过程中，需先涂覆一层负性光刻胶，然后经过曝光、显影、刻蚀、剥离等处理得到黑矩阵2和彩色树脂层4的图案，其中，显影液为无机物氢氧化钾（KOH）；在对触控电极层3进行构图的过程中，需先涂覆一层正性光刻胶，例如DQN（DQ为重氮醌，N为酚醛树脂），然后经过曝光、显影、刻蚀、剥离处理得到触控电极层3的图案。通过实际测试得知，在对黑矩阵2与彩色树脂层4进行构图时使用到的显影液会对触控电极层3产生影响，导致触控电极层3容易出现短路或断路的问题，最终影响内嵌式触摸屏的触控品质。其中，具体测试采用的是PE探针测试方法，在位于彩膜基板上、且与触控电极相连的各接线端子（如图11a所示的GND、R1-R12）中任意选取两个接线端子，测量它们之间的电阻值，图11b和图11c示出了针对上述各接线端子进行两次测试得到的电阻值，各接线端子之间的电阻值均小于3MΩ，证明与触控电极相连的各接线端子之间确实存在短路的问题。

因此，如何避免在对黑矩阵与彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置，用以避免在对黑矩阵与彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响。

因此，本发明实施例提供了一种彩膜基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵，位于所述黑矩阵上的触控电极层，以及位于所述触控电极层上的彩色树脂层，还包括：

位于所述黑矩阵与所述触控电极层之间的第一正性光刻胶层；和/或，位于所述触控电极层与所述彩色树脂层之间的第二正性光刻胶层。

本发明实施例提供的上述彩膜基板，由于在黑矩阵与触控电极层之间新增一层第一正性光刻胶层，这样可以将黑矩阵与触控电极层进行隔离，从而可以避免在对黑矩阵进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响；在触控电极层与彩色树脂层之间新增一层第二正性光刻胶层，这样可以将触控电极层与彩色树脂层进行隔离，从而可以避免在对彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响，从而避免触控电极层出现短路或断路的问题，保证了触控品质。

较佳地，所述触控电极层具有的图案在所述衬底基板上的正投影在所述黑矩阵的图案所在区域内。

进一步地，所述第一正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案；或，

所述第一正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。

进一步地，所述第二正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案；或，

所述第二正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。

本发明实施例还提供了一种内嵌式触摸屏，包括本发明实施例提供的上述彩膜基板。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述内嵌式触摸屏。

针对本发明实施例提供的上述彩膜基板的实施方式，本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案，在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案，在形成有所述触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案，还包括：

在形成所述黑矩阵的图案之后且在形成所述触控电极层的图案之前，形成第一正性光刻胶层；和/或，

在形成所述触控电极层的图案之后且在形成所述彩色树脂层的图案之前，形成第二正性光刻胶层。

在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案，具体包括：

利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括黑矩阵的图案；

所述在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案，具体包括：

利用正性光刻胶采用构图工艺形成包括触控电极层的图案；

所述在形成有所述触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案，具体包括：

利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括彩色树脂层的图案。

较佳地，所述触控电极层具有的图案在所述衬底基板上的正投影在所述黑矩阵的图案所在区域内。

进一步地，所述第一正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案，或所述第一正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案；

所述第二正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案，或所述第二正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。

附图说明

图1为现有技术中彩膜基板的结构示意图之一；

图2为现有技术中彩膜基板的结构示意图之二；

图3为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图之一；

图4为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图之二；

图5为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图之三；

图6为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图之四；

图7为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图之五；

图8为本发明实例一中的彩膜基板的制作方法的流程图；

图9为本发明实例二中的彩膜基板的制作方法的流程图；

图10为本发明实例三中的彩膜基板的制作方法的流程图；

图11a为现有技术中彩膜基板上与触控电极相连的各接线端子示意图；

图11b和图11c为现有技术中彩膜基板上与触控电极相连的各接线端子之间的电阻值；

图11d为本发明实施例提供的彩膜基板上与触控电极相连的各接线端子之间的电阻值。

具体实施方式

下面结合附图，对本发明实施例提供的彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。

附图中各膜层的形状和厚度不反映彩膜基板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

本发明实施例提供的一种彩膜基板，如图3所示，包括衬底基板1，位于衬底基板1上的黑矩阵2，位于黑矩阵2上的触控电极层3，以及位于触控电极层3上的彩色树脂层4，还包括：

位于黑矩阵2与触控电极层3之间的第一正性光刻胶层5；和/或，位于触控电极层3与彩色树脂层4之间的第二正性光刻胶层6。

图3是以在黑矩阵2与触控电极层3之间设置有第一正性光刻胶层5，且在触控电极层3与彩色树脂层4之间同时设置有第二正性光刻胶层6为例进行说明的。本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，可以仅在黑矩阵2与触控电极层3之间设置有第一正性光刻胶层5；也可以仅在触控电极层3与彩色树脂层4之间设置有第二正性光刻胶层6；还可以如图3所示在黑矩阵2与触控电极层3之间设置有第一正性光刻胶层5，且在触控电极层3与彩色树脂层4之间同时设置有第二正性光刻胶层6，在此不做限定。

本发明实施例提供的上述彩膜基板，由于在黑矩阵与触控电极层之间新增一层第一正性光刻胶层，这样可以将黑矩阵与触控电极层进行隔离，从而可以避免在对黑矩阵进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响；在触控电极层与彩色树脂层之间新增一层第二正性光刻胶层，这样可以将触控电极层与彩色树脂层进行隔离，从而可以避免在对彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响，通过实际测试得知，确实避免了触控电极层出现短路或断路的问题，保证了触控品质。其中，具体测试采用的是PE探针测试方法，在位于彩膜基板上、且与触控电极相连的各接线端子（如图11a所示的GND、R1-R12）中任意选取两个接线端子，测量它们之间的电阻值，图11d示出了对上述各接线端子进行测试得到的电阻值，各接线端子之间的电阻值均大于3MΩ，证明与触控电极相连的各接线端子之间没有出现短路的问题。

在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，触控电极层3的材料可以为金属，例如，铝、银等；也可以为透明导电氧化物，例如，氧化铟锡（IndiumTin Oxides）、氧化铟锌（Indium Zinc Oxides）等，在此不做限定。金属材料的触控电极层3具有的图案在衬底基板1上的正投影可以在黑矩阵2的图案所在区域内；透明导电氧化物材料的触控电极层3具有的图案在衬底基板1上的正投影可以在黑矩阵2的图案所在区域内，也可以不限制在黑矩阵2的图案所在区域内，例如菱形图案，这种图案的触控电极层3的触控面积较大，具有良好的触控精度和灵敏度，在此不做限定。并且，触控电极层3的图案可以覆盖所有黑矩阵2的图案，也可以覆盖部分黑矩阵2的图案，在此不做限定。在本发明下述实施例都是以触控电极层3的材料为金属为例进行说明的。

本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，第一正性光刻胶层5和/或第二正性光刻胶层6的材料可以为热固型光刻胶，例如丙烯酸树脂类，也可以为光固型光刻胶，例如DQN，在此不做限定。其中，热固型光刻胶只能进行整面涂覆，经过后烘处理可以使其固化，固化后的热固型光刻胶不再受显影液的影响；光固型光刻胶可以进行整面涂覆，也可以在整面涂覆后，经过曝光、显影处理对其进行构图工艺，最后经过后烘处理得到固化，固化后的光固型光刻胶不再受显影液的影响，在此不做具体限定。

本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，以第一正性光刻胶层5的材料为光固型光刻胶为例进行说明，如图4所示，可以整面涂覆光固型光刻胶作为第一正性光刻胶5；也可以对第一正性光刻胶层5进行构图处理，经过构图处理后可以得到第一正性光刻胶层5的图案，其中，如图3所示，第一正性光刻胶层5的图案可以与黑矩阵2的图案相同，如图5所示，也可以与触控电极层3的图案相同，在此不做限定。并且，对第一正性光刻胶层5进行曝光处理时，可以使用与形成触控电极层3的图案相同的掩膜板，这样，相对于现有技术而言，本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，不会增加新的掩膜板，从而不会增加生产成本。

本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，以第二正性光刻胶层6的材料为光固型光刻胶为例进行说明，如图6所示，可以整面涂覆光固型光刻胶作为第二正性光刻胶6；也可以对第二正性光刻胶层6进行构图处理，经过构图处理后可以得到第二正性光刻胶层6的图案，其中，如图3所示，第二正性光刻胶层6的图案可以与黑矩阵2的图案相同，如图7所示，也可以与触控电极层3的图案相同，在此不做限定。并且，对第二正性光刻胶层6进行曝光处理时，可以使用与形成触控电极层3的图案相同的掩膜板，这样，相对于现有技术而言，本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，不会增加新的掩膜板，从而不会增加生产成本。具体地，第一正性光刻胶层5的图案和第二正性光刻胶层6的图案可以相同，也可以不同，在此不做限定。

针对本发明实施例提供的上述彩膜基板的实施方式，本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案，在形成有黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案，在形成有触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案，还包括：

在形成黑矩阵的图案之后且在形成触控电极层的图案之前，形成第一正性光刻胶层；和/或，

在形成触控电极层的图案之后且在形成彩色树脂层的图案之前，形成第二正性光刻胶层。

下面通过三个具体的实例对本发明实施例提供的上述制作方法的具体实现方式进行详细的说明。

实例一：仅在黑矩阵与触控电极层之间形成第一正性光刻胶层，如图8所示。

本发明实例一中的彩膜基板的制作方法，具体步骤包括：

S101、在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案；

具体地，利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括黑矩阵的图案；

S102、在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一正性光刻胶层；

S103、在形成有第一正性光刻胶层的衬底基板上形成包括触控电极层的图案；

具体地，利用正性光刻胶采用构图工艺形成包括触控电极层的图案；

S104、在形成有触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案；

具体地，利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括彩色树脂层的图案。

其中，构图工艺具体包括：首先涂覆一层正性光刻胶或负性光刻胶，然后利用掩膜板对正性光刻胶或负性光刻胶进行曝光、显影处理，接着刻蚀处理，最后剥离正性光刻胶或负性光刻胶得到图案。

在本发明实施例提供的上述制作方法中，可以采用金属制作触控电极层，例如，铝、银等；也可以采用透明导电氧化物制作触控电极层，例如，氧化铟锡（Indium Tin Oxides）、氧化铟锌（Indium Zinc Oxides）等，在此不做限定。采用金属制作的触控电极层具有的图案在衬底基板上的正投影可以在黑矩阵的图案所在区域内；采用透明导电氧化物制作的触控电极层具有的图案在衬底基板上的正投影可以在黑矩阵的图案所在区域内，也可以不限制在黑矩阵2的图案所在区域内，例如菱形图案，这种图案的触控电极层3的触控面积较大，具有良好的触控精度和灵敏度，在此不做限定。并且，触控电极层3的图案可以覆盖所有黑矩阵2的图案，也可以覆盖部分黑矩阵2的图案，在此不做限定。

本发明实施例提供的上述制作方法在具体实施时，可以采用热固型光刻胶，例如丙烯酸树脂类制作第一正性光刻胶层，也可以采用光固型光刻胶，例如DQN制作第一正性光刻胶层，在此不做限定。以采用光固型光刻胶制作第一正性光刻胶层为例进行说明，在步骤S102在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一正性光刻胶层中，可以整面涂覆光固型光刻胶作为第一正性光刻胶；也可以对第一正性光刻胶层进行构图处理，可以得到与黑矩阵的图案相同的图案，也可以得到与触控电极层的图案相同的图案，在此不做限定。并且，对第一正性光刻胶层进行曝光处理时，可以使用与形成触控电极层的图案相同的掩膜板，这样，相对于现有技术而言，本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，不会增加新的掩膜板，从而不会增加生产成本。

在本发明实施例提供的上述方法中的步骤104在形成有触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案之后，可以在形成有彩色树脂层的衬底基板上形成保护层和隔垫物，并对保护层进行干刻打孔处理，以露出触控电极层的接线端子区域。

实例二：仅在触控电极层与彩色树脂层之间形成第二正性光刻胶层，如图9所示。

本发明实例二中的彩膜基板的制作方法，具体步骤包括：

S201、在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案；

具体地，利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括黑矩阵的图案；

S202、在形成有黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案；

具体地，利用正性光刻胶采用构图工艺形成包括触控电极层的图案；

S203、在形成有触控电极层的衬底基板上形成第二正性光刻胶层；

S204、在形成有第二正性光刻胶层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案。

具体地，利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括彩色树脂层的图案。

其中，构图工艺具体包括，首先涂覆一层正性光刻胶或负性光刻胶，然后利用掩膜板对正性光刻胶或负性光刻胶进行曝光、显影处理，接着刻蚀处理，最后剥离正性光刻胶或负性光刻胶得到图案。

在本发明实施例提供的上述制作方法中，可以采用金属制作触控电极层，例如，铝、银等；也可以采用透明导电氧化物制作触控电极层，例如，氧化铟锡（Indium Tin Oxides）、氧化铟锌（Indium Zinc Oxides）等，在此不做限定。采用金属制作的触控电极层具有的图案在衬底基板上的正投影可以在黑矩阵的图案所在区域内；采用透明导电氧化物制作的触控电极层具有的图案在衬底基板上的正投影可以在黑矩阵的图案所在区域内，也可以不限制在黑矩阵2的图案所在区域内，例如菱形图案，这种图案的触控电极层3的触控面积较大，具有良好的触控精度和灵敏度，在此不做限定。并且，触控电极层3的图案可以覆盖所有黑矩阵2的图案，也可以覆盖部分黑矩阵2的图案，在此不做限定。

本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，可以采用热固型光刻胶，例如丙烯酸树脂类制作第二正性光刻胶层，也可以采用光固型光刻胶，例如DQN制作第二正性光刻胶层，在此不做限定。以采用光固型光刻胶制作第二正性光刻胶层为例进行说明，在步骤S203在形成有触控电极层的衬底基板上形成第二正性光刻胶层中，可以整面涂覆光固型光刻胶作为第二正性光刻胶；也可以对第二正性光刻胶层进行构图处理，可以得到与黑矩阵的图案相同的图案，也可以得到与触控电极层的图案相同的图案，在此不做限定。并且，对第二正性光刻胶层进行曝光处理时，可以使用与形成触控电极层的图案相同的掩膜板，这样，相对于现有技术而言，本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，不会增加新的掩膜板，从而不会增加生产成本。

在本发明实施例提供的上述方法中的步骤S203在形成有触控电极层的衬底基板上形成第二正性光刻胶层之后，需要对第二正性光刻胶层进行干刻打孔处理，以露出触控电极层的接线端子区域。在本发明实施例提供的上述方法中的步骤S204在形成有第二正性光刻胶层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案之后，可以在形成有彩色树脂层的衬底基板上形成保护层和隔垫物，并对保护层进行干刻打孔处理，以露出触控电极层的接线端子区域。并且，在步骤S203与步骤S204之后的干刻打孔处理可以分别进行，也可以同时进行，在此不做限定。

实例三：在黑矩阵与触控电极层之间形成一层第一正性光刻胶层，且在触控电极层与彩色树脂层之间形成一层第二正性光刻胶层，如图10所示。

本发明实例三中的彩膜基板的制作方法，具体步骤包括：

S301、在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案；

具体地，利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括黑矩阵的图案；

S302、在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一正性光刻胶层；

S303、在形成有第一正性光刻胶层的衬底基板上形成包括触控电极层的图案；

具体地，利用正性光刻胶采用构图工艺形成包括触控电极层的图案；

S304、在形成有触控电极层的衬底基板上形成第二正性光刻胶层；

S305、在形成有第二正性光刻胶层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案。

具体地，利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括彩色树脂层的图案。

其中，构图工艺具体包括，首先涂覆一层正性光刻胶或负性光刻胶，然后利用掩膜板对正性光刻胶或负性光刻胶进行曝光、显影处理，接着刻蚀处理，最后剥离正性光刻胶或负性光刻胶得到图案。

在本发明实施例提供的上述制作方法中，可以采用金属制作触控电极层，例如，铝、银等；也可以采用透明导电氧化物制作触控电极层，例如，氧化铟锡（Indium Tin Oxides）、氧化铟锌（Indium Zinc Oxides）等，在此不做限定。采用金属制作的触控电极层具有的图案在衬底基板上的正投影可以在黑矩阵的图案所在区域内；采用透明导电氧化物制作的触控电极层具有的图案在衬底基板上的正投影可以在黑矩阵的图案所在区域内，也可以不限制在黑矩阵2的图案所在区域内，例如菱形图案，这种图案的触控电极层3的触控面积较大，具有良好的触控精度和灵敏度，在此不做限定。并且，触控电极层3的图案可以覆盖所有黑矩阵2的图案，也可以覆盖部分黑矩阵2的图案，在此不做限定。

本发明实施例提供的上述制作方法在具体实施时，可以采用热固型光刻胶，例如丙烯酸树脂类制作第一正性光刻胶层，也可以采用光固型光刻胶，例如DQN制作第一正性光刻胶层，在此不做限定。以采用光固型光刻胶制作第一正性光刻胶层为例进行说明，在步骤S302在形成有黑矩阵的衬底基板上形成第一正性光刻胶层中，可以整面涂覆光固型光刻胶作为第一正性光刻胶；也可以对第一正性光刻胶层进行构图处理，可以得到与黑矩阵的图案相同的图案，也可以得到与触控电极层的图案相同的图案，在此不做限定。并且，对第一正性光刻胶层进行曝光处理时，可以使用与形成触控电极层的图案相同的掩膜板，这样，相对于现有技术而言，本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，不会增加新的掩膜板，从而不会增加生产成本。

本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，可以采用热固型光刻胶制作第二正性光刻胶层，也可以采用光固型光刻胶制作第二正性光刻胶层，在此不做限定。以采用光固型光刻胶制作第二正性光刻胶层为例进行说明，在步骤S304在形成有触控电极层的衬底基板上形成第二正性光刻胶层中，可以整面涂覆光固型光刻胶作为第二正性光刻胶；也可以对第二正性光刻胶层进行构图处理，可以得到与黑矩阵的图案相同的图案，也可以得到与触控电极层的图案相同的图案，在此不做限定。并且，对第二正性光刻胶层进行曝光处理时，可以使用与形成触控电极层的图案相同的掩膜板，这样，相对于现有技术而言，本发明实施例提供的上述彩膜基板在具体实施时，不会增加新的掩膜板，从而不会增加生产成本。具体地，第一正性光刻胶层的图案和第二正性光刻胶层的图案可以相同，也可以不同，在此不做限定。

在本发明实施例提供的上述方法中的步骤304在形成有触控电极层的衬底基板上形成第二正性光刻胶层之后，需要对第二正性光刻胶层进行干刻打孔处理，以露出触控电极层的接线端子区域。在本发明实施例提供的上述方法中的步骤305在形成有第二正性光刻胶层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案之后，可以在形成有彩色树脂层的衬底基板上形成保护层和隔垫物，并对保护层进行干刻打孔处理，以露出触控电极层的接线端子区域。并且，在步骤S304与步骤S305之后的干刻打孔处理可以分别进行，也可以同时进行，在此不做限定。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种内嵌式触摸屏，包括本发明实施例提供的上述彩膜基板，该内嵌式触摸屏的实施可以参见上述彩膜基板的实施例，重复之处不再赘述。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述内嵌式触摸屏，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

本发明实施例提供的一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置，由于在黑矩阵与触控电极层之间新增一层第一正性光刻胶层，这样可以将黑矩阵与触控电极层进行隔离，从而可以避免在对黑矩阵进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响；在触控电极层与彩色树脂层之间新增一层第二正性光刻胶层，这样可以将触控电极层与彩色树脂层进行隔离，从而可以避免在对彩色树脂层进行构图工艺中使用到的显影液对触控电极层产生影响，从而避免触控电极层出现短路或断路的问题，保证了触控品质。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵，位于所述黑矩阵上的触控电极层，以及位于所述触控电极层上的彩色树脂层，其特征在于，还包括：

位于所述黑矩阵与所述触控电极层之间的第一正性光刻胶层；和/或，位于所述触控电极层与所述彩色树脂层之间的第二正性光刻胶层。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述触控电极层具有的图案在所述衬底基板上的正投影在所述黑矩阵的图案所在区域内。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案；或，

所述第一正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。

4.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案；或，

所述第二正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。

5.一种内嵌式触摸屏，其特征在于，包括如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板。

6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求5所述的内嵌式触摸屏。

7.一种如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案，在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案，在形成有所述触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案，其特征在于，还包括：

在形成所述黑矩阵的图案之后且在形成所述触控电极层的图案之前，形成第一正性光刻胶层；和/或，

在形成所述触控电极层的图案之后且在形成所述彩色树脂层的图案之前，形成第二正性光刻胶层。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案，具体包括：

利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括黑矩阵的图案；

所述在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案，具体包括：

利用正性光刻胶采用构图工艺形成包括触控电极层的图案；

所述在形成有所述触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案，具体包括：

利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括彩色树脂层的图案。

9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述触控电极层具有的图案在所述衬底基板上的正投影在所述黑矩阵的图案所在区域内。

10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述第一正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案，或所述第一正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案；

所述第二正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案，或所述第二正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。

Images