CN104062844A - 用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版和方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版，所述掩膜版上形成有：光线能够完全通过的无遮挡区，对应于正性光刻胶上的包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的第一区域；光线能够部分通过的至少一个部分遮挡区，对应于正性光刻胶上的第二区域，所述第二区域属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域共边邻接；光线完全无法通过的完全遮挡区，对应于正性光刻胶上的第三区域，所述第三区域属于所述彩膜单元形成区的另一部分；所述第二区域和第三区域中保留的光刻胶形成所述彩膜单元。本发明还提供一种制作彩膜基板的彩膜单元的方法。本发明的有益效果是：通过部分遮挡区的设置，控制曝光强度以减小角段差。

Description

用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版和方法
技术领域
本发明涉及彩膜基板制作工艺技术领域，尤其涉及一种用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版和方法。
背景技术
对应彩膜基板的现有工艺制作中，RGB层(彩膜单元)会出现段差，并且以RGB顺序为例，在做完Red层(红色像素层)1后再制作Green层(绿色像素层)2时，由于靠近Red层1一侧已有膜层，会使得Green层2靠近Red层1的一侧的段差提高，而在制作Blue层(蓝色像素层)3时，由于Blue层3的两侧都有较厚的膜层，就导致Blue层3两侧的段差都有所提高，如图1所示。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明提供一种用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版和方法，达到减小角段差的目的。
为了达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版，所述掩膜版上形成有：
光线能够完全通过的无遮挡区，对应于正性光刻胶上的包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的第一区域；
光线能够部分通过的至少一个部分遮挡区，对应于正性光刻胶上的第二区域，所述第二区域属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域共边邻接；
光线完全无法通过的完全遮挡区，对应于正性光刻胶上的第三区域，所述第三区域属于所述彩膜单元形成区的另一部分；
所述第二区域和第三区域中保留的光刻胶形成所述彩膜单元。
进一步的，每一个部分遮挡区对应的第二区域与所述第一区域的邻接边邻接，且对应于一个已形成于所述第一区域外围的，与所述邻接边邻接的彩膜单元。
本发明还提供一种制作彩膜基板的彩膜单元的方法，包括：
涂胶步骤，在一基板上形成具有第一颜色的用于形成所述彩膜单元的正性光刻胶层；
曝光步骤，对正性光刻胶上的第一区域、第二区域和第三区域分别进行完全曝光、部分曝光和阻挡曝光，所述第一区域为包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的区域，所述第二区域属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域共边邻接，所述第三区域属于所述彩膜单元形成区的另一部分；
显影刻蚀步骤，进行显影刻蚀，保留第二区域中的部分正性光刻胶和第三区域中的全部正性光刻胶，形成所述彩膜单元。
进一步的，每一个第二区域与所述第一区域的邻接边邻接，且对应于一个已形成于所述第一区域外围的，与所述邻接边邻接的彩膜单元。
本发明的有益效果是：通过部分遮挡区的设置，控制曝光强度以减小角段差。
附图说明
图1表示现有技术中彩膜单元结构示意图；
图2表示本发明彩膜单元结构示意图；
图3表示用于制作绿色像素层的掩模板结构示意图；
图4表示用于制作蓝色像素层的掩模板结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的结构和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本发明，并非以此限定本发明的保护范围。
如图2-图4所示，本实施例提供一种用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版，所述掩膜版上形成有：
光线能够完全通过的无遮挡区，对应于正性光刻胶上的包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的第一区域100；
光线能够部分通过的至少一个部分遮挡区，对应于正性光刻胶上的第二区域200，所述第二区域200属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域100共边邻接；
光线完全无法通过的完全遮挡区，对应于正性光刻胶上的第三区域300，所述第三区域300属于所述彩膜单元形成区的另一部分；
所述第二区域200和第三区域300中保留的光刻胶形成所述彩膜单元。
所述第一区域100为光线能够完全通过的无遮挡区，即光刻胶去除区；所述第三区域300为光线完全无法通过的完全遮挡区，即光刻胶完全保留区；所述第二区域200与所述第一区域100共边邻接，而该区域为光线只能部分通过的部分遮挡区，则控制曝光量以降低膜厚，减小角段差。
本实施例中，每一个部分遮挡区对应的第二区域200与所述第一区域100的邻接边邻接，且对应于一个已形成于所述第一区域100外围的，与所述邻接边邻接的彩膜单元。
一般制作彩膜单元是按照RGB的顺序制作，即按照红色像素层、绿色像素层、蓝色像素层依次制作，但不以此为限。本实施例中以下按照RGB的制作顺序对用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版进行具体介绍。
本实施例中用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版则是针对在制作绿色像素层和蓝色像素层时易出现段差的问题，所以适用于制作绿色像素层的掩模板和制作蓝色像素层的掩模板。
所述红色像素层、所述绿色像素层和所述蓝色像素层均由多个子像素构成。
在制作绿色像素层时，红色像素层已形成，则第一绿色子像素21的一侧与已形成的红色像素层中的对应的第一红色子像素11相邻接，即所述掩模板上所述第二区域200与所述第一区域100共边邻接，由于第一红色子像素11的存在，第一绿色子像素21与相应的第一红色子像素11相邻接的一侧的膜层较厚，会使得第一绿色子像素21与相应的第一红色子像素11相邻接的一侧的段差提高，所以与所述第一绿色子像素21与相应的第一红色子像素11相邻接的一侧相对应的所述第二区域200设置为部分遮挡区，如图3所示，以降低膜厚，减小角段差。
本实施例中，所述部分遮挡区采用半透膜以控制曝光量降低膜厚，减小角段差。
在制作蓝色像素层时，由于红色像素层和绿色像素层均已形成，则在第一蓝色子像素31的两侧分别已形成第一绿色子像素21和第一红色子像素11，为了防止分别与所述第一绿色子像素21和第一红色子像素11相邻接的一侧的段差的提高，所述掩模板上与所述第一蓝色子像素31的两侧对应的第二区域200设置为部分遮挡区，如图4所示，控制曝光量以降低膜厚、减小角段差。
本实施例中，所述部分遮挡区采用半透膜以控制曝光量降低膜厚，减小角段差。
本发明还提供一种制作彩膜基板的彩膜单元的方法，包括：
涂胶步骤，在一基板上形成具有第一颜色的用于形成所述彩膜单元的正性光刻胶层；
曝光步骤，对正性光刻胶上的第一区域100、第二区域200和第三区域300分别进行完全曝光、部分曝光和阻挡曝光，所述第一区域100为包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的区域，所述第二区域200属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域100共边邻接，所述第三区域300属于所述彩膜单元形成区的另一部分；
显影刻蚀步骤，进行显影刻蚀，保留第二区域200中的部分正性光刻胶和第三区域300中的全部正性光刻胶，形成所述彩膜单元。
本实施例中，每一个第二区域200与所述第一区域100的邻接边邻接，且对应于一个已形成于所述第一区域100外围的，与所述邻接边邻接的彩膜单元。
本实施例中，按照红色像素层、绿色像素层、蓝色像素层的制作顺序对本实施例制作彩膜基板的彩膜单元的方法进行具体描述，需要指出的是，实际制作过程中，制作彩膜单元的顺序并不限于上述所述。
在制作绿色像素层时，制作彩膜基板的彩膜单元的方法包括以下步骤：
涂胶步骤，在一基板上形成具有绿颜色的用于形成所述彩膜单元的正性光刻胶层；
曝光步骤，对正性光刻胶上的第一区域100、第二区域200和第三区域300分别进行完全曝光、部分曝光和阻挡曝光，所述第一区域100为包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的区域，所述第二区域200属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域100共边邻接，所述第三区域300属于所述彩膜单元形成区的另一部分；
显影刻蚀步骤，进行显影刻蚀，保留第二区域200中的部分正性光刻胶和第三区域300中的全部正性光刻胶，形成所述彩膜单元。
本实施例中，形成绿色像素层后，所述第二区域200对应于第一绿色子像素21与已形成的第一红色子像素11相邻接的区域。
在制作蓝色像素层时，制作彩膜基板的彩膜单元的方法包括以下步骤：
涂胶步骤，在一基板上形成具有蓝颜色的用于形成所述彩膜单元的正性光刻胶层；
曝光步骤，对正性光刻胶上的第一区域100、第二区域200和第三区域300分别进行完全曝光、部分曝光和阻挡曝光，所述第一区域100为包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的区域，所述第二区域200属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域100共边邻接，所述第三区域300属于所述彩膜单元形成区的另一部分；
显影刻蚀步骤，进行显影刻蚀，保留第二区域200中的部分正性光刻胶和第三区域300中的全部正性光刻胶，形成所述彩膜单元。
本实施例中，形成蓝色像素层后，所述第二区域200对应于第一蓝色子像素31分别与相应的第一绿色子像素21和第一红色子像素11相邻接的两侧。
以上所述为本发明较佳实施例，需要指出的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明保护范围。

Claims (4)

1.一种用于制作彩膜基板的彩膜单元的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版上形成有：
光线能够完全通过的无遮挡区，对应于正性光刻胶上的包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的第一区域；
光线能够部分通过的至少一个部分遮挡区，对应于正性光刻胶上的第二区域，所述第二区域属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域共边邻接；
光线完全无法通过的完全遮挡区，对应于正性光刻胶上的第三区域，所述第三区域属于所述彩膜单元形成区的另一部分；
所述第二区域和第三区域中保留的光刻胶形成所述彩膜单元。
2.根据权利要求1所述的用于制作彩膜基板的彩膜单元掩膜版，其特征在于，每一个部分遮挡区对应的第二区域与所述第一区域的邻接边邻接，且对应于一个已形成于所述第一区域外围的，与所述邻接边邻接的彩膜单元。
3.一种制作彩膜基板的彩膜单元的方法，其特征在于，包括：
涂胶步骤，在一基板上形成具有第一颜色的用于形成所述彩膜单元的正性光刻胶层；
曝光步骤，对正性光刻胶上的第一区域、第二区域和第三区域分别进行完全曝光、部分曝光和阻挡曝光，所述第一区域为包围待形成所述彩膜单元的彩膜单元形成区的区域，所述第二区域属于所述彩膜单元形成区的一部分，且与所述第一区域共边邻接，所述第三区域属于所述彩膜单元形成区的另一部分；
显影刻蚀步骤，进行显影刻蚀，保留第二区域中的部分正性光刻胶和第三区域中的全部正性光刻胶，形成所述彩膜单元。
4.根据权利要求3所述的制作彩膜基板的彩膜单元的方法，其特征在于，每一个第二区域与所述第一区域的邻接边邻接，且对应于一个已形成于所述第一区域外围的，与所述邻接边邻接的彩膜单元。
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