CN106501989A - 一种基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板及其制作方法，所述方法包括：在衬底基板上涂布色阻材料；使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；其中所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。本发明的基板及其制作方法，通过将彩膜色阻与相邻彩膜色阻交叠的部分的厚度制作的较薄些，从而降低了彩膜色阻交叠部分的高度，进一步使得基板的表面更加平整。

Description

一种基板及其制作方法
【技术领域】
本发明涉及液晶显示器技术领域，特别是涉及一种基板及其制作方法。
【背景技术】
现有技术中，由于相邻像素之间存在非驱动区域，在非驱动区域的液晶排列不受控制，导致面板出现漏光。因此通常在数据线和扫描线旁设置相应的黑色矩阵，以对非驱动区域进行遮光。
随后，通过将非驱动区域中的色阻RGB进行重叠，以使重叠的色阻层进行遮光，便省去黑色矩阵的制程。
如图1所示，由于彩膜色阻101-103(可分别代表红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜)的交叠，出现角段差L0，而色阻交叠的区域为两种色阻的厚度，相对于像素中央的显示区域会形成凸起的围墙结构，从而不利于液晶和配向膜材料的流动，会产生气泡以及导致配向膜材料不均匀等问题，最终影响显示效果。现有的解决办法是增加一层平坦部，但是这种方式会增加生产成本。
因此，有必要提供一种基板及其制作方法，以解决现有技术所存在的问题。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种基板及其制作方法，以解决现有技术色阻层的表面不平整，降低显示效果或者增加生产成本的技术问题。
为解决上述技术问题，本发明构造了一种基板的制作方法，所述方法包括：
在衬底基板上涂布色阻材料；
使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；
对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；其中所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。
在本发明的基板的制作方法中，所述平坦部位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位于所述彩膜色阻的中间。
在本发明的基板的制作方法中，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。
在本发明的基板的制作方法中，所述方法还包括：在所述彩膜色阻上形成透明导电层，所述透明导电层包括公共电极。
在本发明的基板的制作方法中，所述在衬底基板上涂布色阻材料的步骤包括：
在所述衬底基板上形成开关阵列层，所述开关阵列层包括多个开关元件；
在所述开关阵列层上涂布色阻材料。
在本发明的基板的制作方法中，在所述开关阵列层上涂布色阻材料的步骤包括：
在所述开关阵列层上形成绝缘层；
在所述绝缘层上涂布色阻材料。
本发明还提供一种基板，其包括
衬底基板；
色阻层，位于所述衬底基板上，所述色阻层包括多个彩膜色阻，所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。
在本发明的基板中，所述平坦部位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位于所述彩膜色阻的中间。
在本发明的基板中，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。
在本发明的基板中，所述基板还包括透明导电层，所述透明导电层位于所述色阻层上；所述透明导电层包括公共电极。
本发明的基板及其制作方法，通过将单个彩膜色阻中与相邻彩膜色阻交叠的部分的厚度制作的较薄些，从而降低了彩膜色阻交叠部分的高度，避免了色阻层出现角段差，进一步使得基板的表面更加平整。
【附图说明】
图1为现有技术中的色阻层的结构示意图。
图2为本发明实施例一基板的结构示意图。
图3为图2中单个彩膜色阻的放大示意图。
图4为本发明实施例一基板的优选结构示意图。
图5为本发明实施例二基板的结构示意图。
【具体实施方式】
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
请参照图2，图2为本发明实施例一基板的结构示意图。
本实施例的基板可以为彩膜基板。如图2所示，该基板包括衬底基板21、色阻层22以及透明导电层23，其中所述衬底基板21可为玻璃基板。该色阻层22位于所述衬底基板21上。所述透明导电层23位于所述色阻层22上；所述透明导电层23包括公共电极。所述色阻层21包括多个彩膜色阻，比如红色彩膜201、绿色彩膜202、蓝色彩膜203。
每个彩膜色阻包括平坦部和凸起部，该平坦部与遮光区的位置相对应。其中所述基板具有遮光区，也即该遮光区与数据线或者扫描线的位置对应，该凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度。比如以绿色彩膜为例，如图3所示，该绿色彩膜202包括凸起部24和平坦部25。
由于将两个彩膜色阻交叠区域(也即遮光区)的单个彩膜色阻的厚度设置的比较薄，从而降低了相邻两个彩膜色阻交叠处的整体厚度，也即防止了色阻层出现角段差，使得色阻层的表面平整。此外由于不需要制作平坦层，降低了生产成本。
优选地，结合图2和图3，所述平坦部25位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位24于所述彩膜色阻的中间。
优选地，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。该预设范围比如为接近0的范围，也即交叠区域的色阻层的厚度总和与非交叠区的色阻层的厚度近似相等，从而使得基板的表面更加平整。因此不必再制作一层平坦部，降低了生产成本。
优选地，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和小于对应的彩膜色阻的凸起部的厚度。如图4所示，比如红色彩膜201的平坦部和绿色彩膜202的平坦部的厚度总和小于所述红色彩膜201凸起部的厚度，或者小于所述绿色彩膜202凸起部的厚度。
进一步，为了提高遮光效果，可以在两个平坦部重叠(交叠)的位置上设置黑色矩阵26。具体可以对黑色矩阵进行图案化处理，以使交叠区域以外的黑色矩阵被显影掉，从而使得基板的表面平整。也即黑色矩阵26的上表面可以与彩膜色阻的上表面齐平。
具体地，上述基板的制作过程如下：
S101、在衬底基板上涂布色阻材料；
所述衬底基板可为玻璃基板，所述色阻材料可以为负性光阻材料。
S102、使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；
使用半色调掩膜板对色阻材料进行曝光；曝光的过程具体是采用紫外线对光阻材料进行照射。
所述半色调掩膜板包括多个预设图案，所述预设图案包括全透光区域和部分可透光区域，所述部分可透光区域位于所述预设图案的两侧，所述全透光区域位于所述预设图案的中间。
当色阻材料为负性光阻材料时，未照到紫外光的光阻材料将被显影液去除；而照射到光的光阻材料不被去除。因此，可以将每个彩膜色阻中间部分对应的掩膜版的图案设置为全透光的，而将每个彩膜色阻两侧部分对应的掩膜版的图案设置为部分透光的。
S103、对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；
经过上述步骤后，得到两侧比较矮中间比较高的彩膜色阻，也即每个彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；其中所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。
当所述遮光区对应平坦部的厚度总和小于对应的彩膜色阻的凸起部的厚度时，上述方法还可包括：
S104、在所述彩膜色阻上涂布黑色矩阵材料，对所述黑色矩阵材料进行图案化处理，以在所述遮光区的平坦部上形成黑色矩阵。
具体地，可以通过曝光、显影的方式将平坦部以外的黑色矩阵去除，仅保留遮光区(或者平坦区)上方的黑色矩阵材料，且通过蚀刻等工艺使得黑色矩阵的上表面与彩膜色阻的上表面齐平。所述黑色矩阵材料可以为不透光的负性光阻材料。
本发明的基板及其制作方法，通过将彩膜色阻与相邻彩膜色阻交叠的部分的厚度制作的较薄些，从而降低了彩膜色阻交叠部分的高度，避免了色阻层出现角段差，进一步使得基板的表面更加平整。由于不需要制作平坦层，因此还可以降低生产成本。
请参照图5，图5为本发明实施例二的基板的结构示意图。
本实施例的基板为COA基板，如图5所示，该基板与上一实施例的基板的区别在于，该基板还包括开关阵列层31，所述开关阵列层31位于所述衬底基板21和所述色阻层22之间，所述开关阵列层31包括多个开关元件，每个像素对应一开关元件。在该开关阵列层31与色阻层22之间还设置有绝缘层(图中未示出)。
此外，本实施例中的色阻层22上也可形成透明导电层(图中未示出)，该透明导电层包括像素电极。在该透明导电层与色阻层22之间还设置有另一绝缘层(图中未示出)。
每个彩膜色阻包括平坦部和凸起部，该平坦部与遮光区的位置相对应。其中所述基板具有遮光区，也即该遮光区与数据线或者扫描线的位置对应，该凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度。比如以绿色彩膜为例，如图3所示，该绿色彩膜202包括凸起部24和平坦部25。
由于将两个彩膜色阻交叠区域(也即遮光区)的单个彩膜色阻的厚度设置的比较薄，从而降低了交叠处的彩膜色阻的整体厚度，也即防止了色阻层出现角段差，使得色阻层的表面平整。此外由于不需要制作平坦层，降低了生产成本。
优选地，结合图5和图3，所述平坦部25位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位24于所述彩膜色阻的中间。
优选地，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。该预设范围比如为接近0的范围，也即交叠区域的色阻层的厚度与非交叠区的色阻层的厚度近似相等，从而使得基板的表面更加平整。因此不必再制作一层平坦部，降低了生产成本。
优选地，所述遮光区对应的平坦部的厚度总和小于对应的彩膜色阻的凸起部的厚度。比如红色彩膜201的平坦部和绿色彩膜202的平坦部的厚度总和小于所述红色彩膜201凸起部的厚度，或者小于所述绿色彩膜202凸起部的厚度。
进一步，为了提高遮光效果，可以在两个平坦部交叠的位置上设置黑色矩阵。具体可以对黑色矩阵进行图案化处理，以使交叠区域以外的黑色矩阵被显影掉，从而使得基板的表面平整。也即黑色矩阵的上表面可以与彩膜色阻的上表面齐平。
具体地，该基板的制作过程如下：
S201、在所述衬底基板上形成开关阵列层，所述开关阵列层包括多个开关元件。
具体地，该衬底基板为玻璃基板，比如在衬底基板上依次形成第一金属层、栅绝缘层、有源层、第二金属层。该第一金属层包括栅极，该第二金属层包括源极和漏极。具体地，对第一金属层和第二金属层分别进行图案化处理，得到栅极、源极以及漏极。
S202、在所述开关阵列层上涂布色阻材料。
具体地，在开关阵列层中的第二金属层上涂布色阻材料。
S203、使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；
使用半色调掩膜板对色阻材料进行曝光；曝光的过程具体是采用紫外线对色阻材料进行照射。所述半色调掩膜板包括多个预设图案，所述预设图案包括全透光区域和部分可透光区域。
当色阻材料为负性光阻材料时，未照到紫外光的部分将被显影液去除；而照射到光的部分不被去除。因此，可以将每个彩膜色阻中间部分对应的掩膜版的图案设置为全透光的，而将每个彩膜色阻两侧部分对应的掩膜版的图案设置为部分透光的。也即，此时所述部分可透光区域位于所述预设图案的两侧，所述全透光区域位于所述预设图案的中间。
S204、对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；
经过上述步骤后，得到多个彩膜色阻，其中每个彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；其中所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。
优选地，为了防止色阻材料侵蚀金属层，降低开关元件的性能，上述步骤S202还可包括：
S2021、在所述开关阵列层上形成绝缘层；
S2022、在所述绝缘层上涂布色阻材料。
本发明的基板及其制作方法，通过将单个彩膜色阻中与相邻彩膜色阻交叠的部分的厚度制作的较薄些，从而降低了彩膜色阻交叠部分的高度，避免了色阻层出现角段差，进一步使得基板的表面更加平整。由于不需要制作平坦层，因此还可以降低生产成本。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种基板的制作方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上涂布色阻材料；
使用半色调掩膜板对所述色阻材料进行曝光；
对所述曝光后的色阻材料进行显影，以形成多个彩膜色阻；其中所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。
2.根据权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，
所述平坦部位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位于所述彩膜色阻的中间。
3.根据权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，
所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。
4.根据权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：
在所述彩膜色阻上形成透明导电层，所述透明导电层包括公共电极。
5.根据权利要求1所述的基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上涂布色阻材料的步骤包括：
在所述衬底基板上形成开关阵列层，所述开关阵列层包括多个开关元件；
在所述开关阵列层上涂布色阻材料。
6.根据权利要求5所述的基板的制作方法，其特征在于，在所述开关阵列层上涂布色阻材料的步骤包括：
在所述开关阵列层上形成绝缘层；
在所述绝缘层上涂布色阻材料。
7.一种基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
色阻层，位于所述衬底基板上，所述色阻层包括多个彩膜色阻，所述彩膜色阻包括平坦部和凸起部，所述凸起部的厚度大于所述平坦部的厚度；所述平坦部与遮光区的位置相对应，以使所述基板的表面平整，所述基板具有所述遮光区。
8.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，
所述平坦部位于所述彩膜色阻的两侧，所述凸起部位于所述彩膜色阻的中间。
9.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，
所述遮光区对应的平坦部的厚度总和与所述彩膜色阻的凸起部的厚度之间的差值位于预设范围内。
10.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，
所述基板还包括透明导电层，所述透明导电层位于所述色阻层上；所述透明导电层包括公共电极。
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