CN114706245A - 彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制备方法，彩膜基板包括衬底基板、和设置在所述衬底基板上的黑色矩阵和彩色滤光层，所述彩色滤光层包括至少两个色阻，所述黑色矩阵设置在相邻两个所述色阻之间，所述黑色矩阵的两侧设置有台阶面，形成凸字形结构，且所述色阻覆盖在所述台阶面上，与所述台阶面具有重叠部。本申请通过以上方式将黑色矩阵设置为凸字形结构，在两侧形成台阶面，色阻覆盖在台阶面上，由于台阶面的缓冲作用，降低牛角段差现象，提高平坦性，进而降低生产成本。

Description

彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制备方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制备方法。

背景技术

现有的液晶显示面板通常由彩膜基板、阵列基板以及设置在彩膜基板和阵列基板之间的液晶层组成，随着市场的发展，高性价比的产品才会有更大的市场竞争力，而现有的彩膜基板的制作过程至少包括黑色矩阵、红色/绿色/蓝色色阻、平坦化层、隔垫物以及背镀金属氧化物层7道制程，而每层色阻与黑色矩阵的交叠处，由于黑色矩阵厚度的缘故，在交叠处的色阻会凸起更高，色阻的凸起处与该色阻在像素开口区平面处的高度差被称为牛角段差，牛角段差的存在，必须使用平坦化层来对色阻的表面进行平坦化，并且，牛角段差越严重(即色阻的凸起越高)，需要的平坦化层的厚度越大，制作彩膜基板的材料价格昂贵，成本也相对较高，不利于市场的需求。

因此，一种在提高产品品质的同时，解决牛角段差，进而降低产品的生产成本，成为本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

本申请的目的是提供一种彩膜基板、显示面板及彩膜基板的制备方法，通过在黑色矩阵两侧台阶面形成凸字形结构，并将色阻覆盖在台阶面上，由于台阶面的缓冲作用，降低牛角段差现象，提高平坦性，进而降低生产成本。

本申请公开了一种彩膜基板，包括衬底基板、和设置在所述衬底基板上的黑色矩阵和彩色滤光层，所述彩色滤光层包括至少两个色阻，所述黑色矩阵的两侧设置有台阶面，形成凸字形结构，且所述色阻覆盖在所述台阶面上，与所述台阶面具有重叠部。

可选的，所述彩膜基板还包括隔垫物，所述隔垫物直接设置在所述黑色矩阵上。

可选的，所述黑色矩阵的截面宽度设置为20μm～30μm，所述台阶面的截面宽度设置为3μm～6μm。

可选的，所述黑色矩阵包括凸出部，所述凸出部位于两侧的所述台阶面之间，两个所述台阶面的高度相等，且所述凸出部的高度比所述台阶面的高度高0.1μm～1.3μm。

可选的，所述台阶面的高度设置为0.5μm～1.2μm。

可选的，所述彩膜基板还包括平坦化层和隔垫物，所述平坦化层设置在所述黑色矩阵和所述彩色滤光层上，所述隔垫物设置在所述平坦化层上且与所述黑色矩阵位置对应；其中，所述平坦化层的厚度为0.5μm～1.0μm。

可选的，所述彩膜基板还包括金属氧化物层，所述金属氧化物层设置在所述衬底基板远离所述黑色矩阵的一侧，且所述金属氧化物层与所述彩色滤光层中的至多两种色阻所在的区域重叠。

本申请还公开了一种显示面板，包括阵列基板、液晶层和本申请公开的任意一种所述的彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板对盒设置，所述液晶层设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间。

本申请还公开了一种彩膜基板的制备方法，用于制备本申请公开的任意一种所述的彩膜基板，包括步骤：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成多个截面形状为凸字形的黑色矩阵，且形成的所述黑色矩阵的两侧具有台阶面；以及

在所述黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个所述黑色矩阵之间的色阻，且形成的所述色阻覆盖在所述台阶面上，以形成彩色滤光层，并在所述彩色滤光层上形成隔垫物，以得到彩膜基板。

可选的，所述在所述黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个所述黑色矩阵之间的色阻，且形成的所述色阻覆盖在所述台阶面上，以形成彩色滤光层，并在所述彩色滤光层上形成隔垫物，以得到彩膜基板的步骤包括：

在相邻两个所述黑色矩阵之间分别涂布第一色阻材料，且涂布的所述第一色阻材料覆盖在所述台阶面上形成重叠部，形成的所述重叠部的宽度小于所述台阶面的截面宽度；

对所述第一色阻材料进行真空干燥操作，且真空干燥的时间为40min～50min，以使所述第一色阻材料流淌并填满所述台阶面，形成第一色阻；

参照形成所述第一色阻的步骤，分别形成多个第二色阻和多个第三色阻，以形成彩色滤光层；以及

在所述彩色滤光层上方直接形成隔垫物，且形成的所述隔垫物与所述黑色矩阵位置对应，以得到彩膜基板。

相对于黑色矩阵与色阻交叠处会形成牛角段差，牛角段差越严重需要的材料成本越高的方案来说，本申请的彩膜基板中，通过将黑色矩阵设置为凸字形结构，在两侧形成台阶面，并且色阻覆盖在台阶面上，与台阶面具有重叠部，由于台阶面具有缓冲作用，可以避免色阻与黑色矩阵的交叠处产生凸起，有效解决牛角段差问题，并且还有利于彩色滤光层中多个色阻的上表面齐平或接近齐平，提高彩膜基板的平坦性，这样，一方面，彩膜基板设置的平坦化层的厚度可以薄一些，可以减少制作彩膜基板的材料，降低生产成本；另一方面，当牛角段差完全解除或色阻的上表面接近齐平，且色阻的厚度与黑色矩阵的厚度相同时，彩膜基板也可以不设置平坦化层进行平坦化，这样，不仅可以减少制作彩膜基板的材料，还可以减少制作彩膜基板的制程，即省去平坦化层的制程，进一步降低生产成本，提高彩膜基板的市场竞争力。

附图说明

所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本申请的实施方式，并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：

图1是本申请实施例一彩膜基板的第一种示意图；

图2是本申请实施例一彩膜基板的第二种示意图；

图3是本申请实施例一黑色矩阵的俯视示意图；

图4是本申请实施例一黑色矩阵的截面示意图；

图5是本申请实施例二彩膜基板的第一种示意图；

图6是本申请实施例二彩膜基板的第二种示意图；

图7是本申请显示面板的示意图；

图8是本申请彩膜基板的制备方法的步骤示意图。

其中，10、显示面板；20、彩膜基板；210、衬底基板；220、黑色矩阵；221、台阶面；222、凸出部；230、彩色滤光层；231、色阻；240、平坦化层；250、隔垫物；260、配向膜；270、金属氧化物层；30、阵列基板；40、液晶层。

具体实施方式

需要理解的是，这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节，仅仅是为了描述具体实施例，是代表性的，但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现，不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。

在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示相对重要性，或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，除非另有说明，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征；“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形，意为不排他的包含，可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。

另外，“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语，是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的，仅是为了便于描述本申请的简化描述，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，或是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

下面参考附图和可选的实施例对本申请作详细说明。

实施例一：

图1是本申请实施例一彩膜基板的第一种示意图，图2是本申请实施例一彩膜基板的第二种示意图，参考图1和图2可知，作为本申请的实施例一，公开了一种彩膜基板20，包括衬底基板210、和设置在衬底基板210上的黑色矩阵220和彩色滤光层230，彩色滤光层230包括至少两个色阻231，黑色矩阵220的两侧设置有台阶面221，形成凸字形结构，且色阻231覆盖在台阶面221上，与台阶面221具有重叠部。

相对于黑色矩阵220与色阻231交叠处会形成牛角段差，牛角段差越严重需要的材料成本越高的方案来说，本申请的彩膜基板20中，通过将黑色矩阵220设置为凸字形结构，在两侧形成台阶面221，并且色阻231覆盖在台阶面221上，与台阶面221具有重叠部，由于台阶面221具有缓冲作用，可以避免色阻231与黑色矩阵220的交叠处产生凸起，有效解决牛角段差问题，并且还有利于彩色滤光层230中多个色阻231的上表面齐平或接近齐平，提高彩膜基板20的平坦性这样，一方面，彩膜基板20设置的平坦化层240的厚度可以薄一些，可以减少制作彩膜基板20的材料，降低生产成本；另一方面，当牛角段差完全解除或色阻231的上表面接近齐平，且色阻231的厚度与黑色矩阵220的厚度相同时，彩膜基板20也可以不设置平坦化层240进行平坦化，这样，不仅可以减少制作彩膜基板20的材料，还可以减少制作彩膜基板20的制程，即省去平坦化层240的制程，进一步降低生产成本，提高彩膜基板20的市场竞争力。

图3是本申请实施例一黑色矩阵的俯视示意图，图4是本申请实施例一黑色矩阵的截面示意图，参考图3和图4可知，黑色矩阵220的截面宽度W设置为20μm～30μm，台阶面221的截面宽度W1设置为3μm～6μm。

通常，彩膜基板20上的黑色矩阵220整体呈网格化矩阵结构排布，并且分别沿X轴和Y轴具有一定的宽度，其中，黑色矩阵220在X轴方向截面宽度Wx设置为20μm～30μm，Y轴方向截面宽度Wy设置为70μm～80μm，具体设置可以参考显示屏的分辨率来进行设计，以保证彩膜基板20的遮光效果。

本实施方式中，黑色矩阵220截面宽度W和台阶面221的截面宽度W1均指的是X轴方向的截面宽度，并且台阶面221在Y轴方向的截面宽度Wy保持不变，依然设置为70μm～80μm，黑色矩阵220的截面形状设计为凸字形结构，两侧分别形成有台阶面221，色阻231覆盖在台阶面221上，与台阶面221具有重叠部，即黑色矩阵220与色阻231重叠接触的地方形成台阶，该台阶可以是一级台阶、二级台阶、三级台阶等，具体的台阶级数可以根据黑色矩阵220的高度，色阻231的像素开口区大小做针对性的设计。本实施例中，黑色矩阵220的截面宽度W指的是黑色矩阵220的最大宽度，即黑色矩阵220在衬底基板210上的投影宽度W，台阶面221的截面宽度W1指的是黑色矩阵220每一侧形成的台阶面221的截面宽度W1，并且，每一侧台阶面221的宽度都相同，台阶面221的截面宽度W1也就是黑色矩阵220的截面宽度W与黑色矩阵220远离衬底基板210的截面宽度之差的二分之一，其中，黑色矩阵220两侧的台阶面221以黑色矩阵220沿宽度方向的中心线对称分布，黑色矩阵220的截面宽度W设置为20μm～30μm，每一侧台阶面221的截面宽度W1设置为3μm～6μm，这样可以保证形成的台阶面221的宽度能够缓解色阻231在靠近像素开口区域处形成牛角段差的现象，同时不会使得黑色矩阵220远离衬底基板210的截面宽度过小，不利于黑色矩阵220结构的稳定性。

通常黑色矩阵220的高度设置为2μm，并且设置为截面形状为矩形结构，本申请则通过增加黑色矩阵220的厚度的方式，并将黑色矩阵220设置为凸字形，在黑色矩阵220两侧形成台阶面221，解决牛角段差问题，并且，为了有效降低色阻231覆盖在黑色矩阵220上以后形成凸起的高度，黑色矩阵220包括凸出部222，凸出部222位于两侧的台阶面221之间，两个台阶面221的高度相等，且凸出部222的高度H1比台阶面221的高度H2高0.1μm～1.3μm。

黑色矩阵220的高度H指的是黑色矩阵220靠近衬底基板210的表面距黑色矩阵220远离衬底基板210的表面之间的高度，其中：凸出部222的高度H1为台阶面221距黑色矩阵220远离衬底基板210的表面之间的高度，而台阶面221的高度H2为台阶面221与衬底基板210表面之间的高度，本实施方式中，H1的高度设置为大于H2的高度，并且，H1的高度比H2的高度高0.1μm～1.3μm，以使得色阻231形成在黑色矩阵220上的凸起高度减小，防止牛角段差的效果较好，且此时凸出部222不会明显突出于色阻231的上表面。

可选的，台阶面221的高度H2设置为0.5μm～1.2μm，由于通常黑色矩阵220的高度设置为2μm，而本实施例将H2的高度设置为0.5μm～1.2μm，低于常规设计中黑色矩阵220的厚度，可有效降低色阻231覆盖在黑色矩阵220上以后形成凸起的高度。

而且，本申请中，将黑色矩阵220的高度H设置为1.8μm～3μm，H1的高度可以设置为0.6μm～2.5μm，因此，色阻231的高度可以设置为与黑色矩阵220的高度H相同，利于黑色矩阵220与色阻231表面的平坦化，还有利于降低彩膜基板20的生产成本。

进一步地，彩膜基板20还包括隔垫物250，隔垫物250直接设置在黑色矩阵220上。

本实施方式中，隔垫物250直接形成在黑色矩阵220上，不需要设置平坦化层240，这样在制作彩膜基板20时，可以省略制作平坦化层240的制程，还可以减少平坦化层240的材料成本，利于降低生产成本，提高产品的市场竞争力。并且，当隔垫物250设置在黑色矩阵220上时，隔垫物250与黑色矩阵220的中心线对齐，当隔垫物250底端(隔垫物250靠近黑色矩阵220的一端)的截面宽度大于黑色矩阵220中凸出部222的截面宽度时，可以通过设置在黑色矩阵220两侧的色阻231来保证隔垫物250的支撑平稳性，同时，当隔垫物250设置在黑色矩阵220上时，由于隔垫物250的重力作用，隔垫物250对色阻231与黑色矩阵220交界处有一定的压力作用，还有利于降低色阻231覆盖在黑色矩阵220上以后形成凸起的高度，再次降低牛角段差现象。

隔垫物250通常包括主隔垫物和辅隔垫物，主隔垫物的高度大于辅隔垫物的高度，且主隔垫物和辅隔垫物间隔设置，间隔设置在不同的黑色矩阵220上，以使得隔垫物250在后续彩膜基板20的成盒过程中起到支撑面板的作用。

此外，通常彩膜基板20可以应用于IPS(平面转换型)显示面板、VA(垂直配向型)显示面板或FFS(边缘场开关技术)显示面板等，为了提高彩膜基板20的稳定性和显示效果，彩膜基板20还包括金属氧化物层270，金属氧化物层270设置在衬底基板210远离黑色矩阵220的一侧，且金属氧化物层270与彩色滤光层230中的至多两种色阻231所在的区域重叠。

本实施方式中，彩膜基板20在衬底基板210远离黑色矩阵220的一侧还设置有金属氧化物层270，并且金属氧化物层270与彩色滤光层230中的至多两种色阻231所在的区域重叠，彩色滤光层230通常包括红色(R)色阻、绿色(G)色阻和蓝色(B)色阻等，通过设置金属氧化物层270的结构来调整R、G、B色阻231的亮度比例，同时还可以通过设计金属氧化物层270的膜厚来调整R、G、B色阻231的亮度比例幅度，从而调整面板色温。此外，设置金属氧化物层270还可以起到将外界的静电导出，使得彩膜基板20具有抗静电效果，其中，金属氧化物层270可以采用ITO(氧化铟锡)材料制作。

通常金属氧化物层270都不是整面都设置，而是有选择的与彩色滤光层230中的至多两种颜色色阻231所在的区域重叠，并且，通常情况下，在显示面板10的颜色设计中，显示面板10的背光光谱和彩膜光谱相关的颜色坐标存在差异，为了得到客户要求的颜色坐标或光学规格，会将蓝色色阻231的厚度设置为略厚于红色色阻231和绿色色阻231的厚度，而本申请中将三种色阻231的厚度设计为相同，会引起透过率与色温的差异，因此，本实施例中，以金属氧化物层270与R色阻231和G色阻231所在的区域重叠，并对应B色阻231的所在区域设置有开口，将B色阻231对应的金属氧化物层270蚀刻掉，适当提升B色阻231的透过率，以此调整色温，提高显示品质。

并且，在设置金属氧化物层270时，金属氧化物层270与彩色滤光层230中的至多两种色阻231所在的区域重叠，这样，如图1示出，将其中一种颜色的色阻231背面的金属氧化物层270蚀刻掉，将对应其他两种颜色色阻231区域的金属氧化物层270图形的边界，可以设置为与黑色矩阵220的中心线齐平。当然，也可以如图2示出，将对应其他两种颜色色阻231区域的金属氧化物层270图形的边界，也可以设置为与靠近另外一个色阻231区域处黑色矩阵220的边界线齐平，仅蚀刻掉对应另外一个色阻231的像素开口区处的金属氧化物层270。通过金属氧化物层270的这两种设置方式，均可以起到通过提升某个颜色色阻231的透过率，来达到调节色温的效果。

当然，金属氧化物层270图形也可以仅对应一种颜色的色阻231设置，在设置时，金属氧化物层270图形的边界可以仅对应该色阻231的像素开口区设置，不包含相邻两侧的黑色矩阵220区域；当然，金属氧化物层270图形的边界也可以不仅对应该色阻231的像素开口区设置，还包括对应相邻两侧的黑色矩阵220区域。

另外，在彩膜基板20制作完成后，在成盒阶段，彩膜基板20上还设置有配向膜260，由于黑色矩阵220设置有台阶面221，改善了牛角段差现象，彩膜基板20表面具有良好的平坦性，因此，在制作配向膜260时，可以适时采用粘度较低的配向膜260溶液，由于粘度较低，其具有更好的流平性，配向膜260可以形成适当的厚度，同时也可根据需求设置合适的厚度。

实施例二：

图5是本申请实施例二彩膜基板的第一种示意图，图6是本申请实施例二彩膜基板的第二种示意图，参考图5和图6可知，作为本申请的实施例二，与实施例一不同的是，彩膜基板20还包括平坦化层240和隔垫物250，平坦化层240设置在黑色矩阵220和彩色滤光层230上，隔垫物250设置在平坦化层240上且与黑色矩阵220位置对应；其中，平坦化层240的厚度为0.5μm～1.0μm。

本实施方式中，彩膜基板20还设置有平坦化层240和隔垫物250，平坦层设置在黑色矩阵220和彩色滤光层230上对其进行平坦化，并且，平坦化层240的厚度为0.5μm～1.0μm，由于正常情况下，平坦化层240的厚度会设置为2μm，在通过黑色矩阵220设置台阶，解决了色阻231由于凸起会产生的牛角段差问题后，本申请的平坦化层240了可以设置的薄一些，进而将隔垫物250设置在平坦化层240上，并对应黑色矩阵220的位置设置，以保证隔垫物250的遮光效果，在提高彩膜基板20的平坦性的同时，还可以减少一部分平坦化层240的材料成本，也可以起到降低成本的效果。

另外，在衬底基板210远离黑色矩阵220的一侧设置金属氧化物层270，不仅可以起到将外界的静电导出，使得彩膜基板20具有抗静电效果，而且还可以对金属氧化物层270的结构进行设计，使得彩膜基板20的色温可以得到调节，达到提高画质的效果。如图3示出，可以将对应其中一种颜色的色阻231区域的金属氧化物层270刻蚀掉，而对应其他两种颜色色阻231区域的金属氧化物层270图形的边界，可以设置为与黑色矩阵220的中心线齐平；或者，如图4示出，将对应其中一种颜色的色阻231区域的金属氧化物层270刻蚀掉，而对应其他两种颜色色阻231区域的金属氧化物层270图形的边界，也可以设置为与靠近另外一个色阻231区域处黑色矩阵220的边界线齐平，仅蚀刻掉对应另外一个色阻231的像素开口区处的金属氧化物层270。

图7是本申请显示面板的示意图，参考图7可知，本申请还公开了一种显示面板10，包括阵列基板30、液晶层40和本申请公开的任意一种的彩膜基板20，阵列基板30和彩膜基板20对盒设置，液晶层40设置在阵列基板30和彩膜基板20之间。

本实施方式中，显示面板10可以作为液晶显示面板，由阵列基板30、彩膜基板20和设置在阵列基板30和彩膜基板20之间的液晶层40组成，阵列基板30和彩膜基板20对盒设置，并且，彩膜基板20中的黑色矩阵220设置为凸字形结构，在两侧形成台阶面221，台阶面221可以有效降低色阻231覆盖在黑色矩阵220上以后形成凸起的高度，解决牛角段差现象，彩膜基板20具有良好的平坦性，可以省去平坦化层240的制作，或者减薄平坦化层240的厚度，简化工艺，降低成本，进而使得显示面板10的生产成本降低，提高产品的市场竞争力。

图8是本申请彩膜基板的制备方法的步骤示意图，参考图8可知，本申请还公开了一种彩膜基板的制备方法，用于制备本申请公开的任意一种所述的彩膜基板，包括步骤：

S1：提供一衬底基板；

S2：在所述衬底基板上形成多个截面形状为凸字形的黑色矩阵，且形成的所述黑色矩阵的两侧具有台阶面；以及

S3：在所述黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个所述黑色矩阵之间的色阻，且形成的所述色阻覆盖在所述台阶面上，以形成彩色滤光层，并在所述彩色滤光层上形成隔垫物，以得到彩膜基板。

本实施方式中，在制作彩膜基板时，首先提供一衬底基板210，衬底基板可以是玻璃基板，然后在玻璃基板上制作多个截面形状为凸字形的黑色矩阵220，在制作黑色矩阵时，适当增加黑色矩阵的厚度，比如，通常黑色矩阵的厚度会设置为2μm，而本申请的黑色矩阵的高度H设置为1.8μm～3.0μm，同时，采用灰阶色调掩膜版(Gray Tone Mask)工艺，使黑色矩阵图形的两侧形成台阶面221，使黑色矩阵的两侧均具有台阶面221。

接着在黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个黑色矩阵220之间的色阻231，并且形成的色阻覆盖在黑色矩阵的台阶面221上，使得台阶面与色阻具有重叠部，其中，形成的黑色矩阵的台阶面的高度H2设置为0.5μm～1.2μm，H2小于正常黑色矩阵的厚度2μm，起到降低后面形成的色阻覆盖在台阶面上的凸起高度，有效缓解牛角段差的问题，以在黑色矩阵上形成彩色滤光层230。

并且在彩色滤光层制作完成后直接进行隔垫物的制作，制作的隔垫物对应设置在黑色矩阵上，以得到彩膜基板。

具体地，所述在所述黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个所述黑色矩阵之间的色阻，且形成的所述色阻覆盖在所述台阶面上，以形成彩色滤光层，并在所述彩色滤光层上形成隔垫物，以得到彩膜基板的步骤S3包括：

S311：在相邻两个所述黑色矩阵之间分别涂布第一色阻材料，且涂布的所述第一色阻材料覆盖在所述台阶面上形成重叠部，形成的所述重叠部的宽度小于所述台阶面的截面宽度；

S312：对所述第一色阻材料进行真空干燥操作，且真空干燥的时间为40min～50min，以使所述第一色阻材料流淌并填满所述台阶面，形成第一色阻；

S313：参照形成所述第一色阻的步骤，分别形成多个第二色阻和多个第三色阻，以形成彩色滤光层；以及

S314：在所述彩色滤光层上方直接形成隔垫物，且形成的所述隔垫物与所述黑色矩阵位置对应，以得到彩膜基板。

本实施方式中，彩色滤光层230通常包括第一色阻232、第二色阻233和第三色阻234，通常，第一色阻232、第二色阻233和第三色阻234分别可以是红色(R)色阻、绿色(G)色阻和蓝色(B)色阻中的一种，在形成彩色滤光层的过程中，采用Island(岛状)设计，并将三种颜色色阻的膜厚均设置成与黑色矩阵的厚度H相同。

具体地，首先在黑色矩阵上涂布第一色阻材料，涂布的第一色阻材料位于相邻两个黑色矩阵之间，且第一色阻材料覆盖在台阶面上形成重叠部，而且重叠部的宽度小于台阶面的截面宽度W1，由于，台阶面的截面宽度W1设置为3μm～6μm，因此，在涂布第一色阻材料时，将第一色阻材料在台阶面上形成的重叠部的宽度设置为2μm～5μm，使得第一色阻材料与台阶面之间形成一定的间隙。

接着，在完成涂布第一色阻材料后，对第一色阻材料进行真空干燥操作，且真空干燥时间为40min～50min，以使第一色阻材料流淌并填满台阶面，形成第一色阻，通常情况下，色阻材料的干燥时间为30min，而本实施例中，对第一色阻材料的干燥时间为40min～50min，相对于正常制作情况下，将色阻材料的干燥时间延长10min～20min，由于第一色阻材料与台阶面之间留有一定的间隙，延长干燥时间，可以利于加快第一色阻材料的流动性，并填满台阶面，减小第一色阻材料在黑色矩阵上形成的凸起的可能。并且，形成的第一色阻与黑色矩阵的厚度趋于一致，可以有效降低第一色阻覆盖在黑色矩阵上形成的凸起高度，解决牛角段差现象。

在完成第一色阻的制作后，参照形成第一色阻的步骤，先涂布第二色阻材料，并在对第二色阻材料进行真空干燥40min～50min，形成第二色阻；在第二色阻制作完成后，再涂布第三色阻材料，并对第三色阻材料进行真空干燥40min～50min，形成第三色阻，以形成彩色滤光层。

其中，本申请的彩色滤光层的制程中，对色阻的布置采用Island设计，因为黑色矩阵设计有台阶面作为缓冲，并且H2的厚度略小，并分别减小了第一色阻材料、第二色阻材料和第三色阻材料在黑色矩阵的台阶面处的重叠量宽度，利用色阻的流平性等材料特性，在工艺上做出调整，将色阻的厚度与黑色矩阵的厚度H设置为相同，并延长色阻材料的真空干燥时间，来降低色阻在形成后覆盖在黑色矩阵上形成的凸起高度，因此，可以有效改善牛角段差，使黑色矩阵和彩色滤光层一起形成的上表面较为平坦。

同时，本实施方式中，黑色矩阵的厚度与色阻的厚度设置为相同，在解决牛角段差的同时，还利于提高彩膜基板的平坦性，在彩色滤光层制作完成后，直接进行隔垫物的制作，并且形成的隔垫物对应设置在黑色矩阵上，以得到彩膜基板，可以省略平坦化层的制程，简化工艺，降低生产成本。

另外，对应本申请的实施例二中彩膜基板的制备方法，所述在所述黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个所述黑色矩阵之间的色阻，且形成的所述色阻覆盖在所述台阶面上，以形成彩色滤光层，并在所述彩色滤光层上形成隔垫物，以得到彩膜基板的步骤S3还可以包括：

S321：在相邻两个所述黑色矩阵之间分别涂布第一色阻材料，且涂布的所述第一色阻材料覆盖在所述黑色矩阵的台阶面上形成重叠部，形成的所述重叠部的宽度小于所述台阶面的截面宽度；

S322：对所述第一色阻材料进行真空干燥操作，且真空干燥的时间为25min～35min，形成第一色阻；

S323：参照形成所述第一色阻的步骤，分别形成多个第二色阻和多个第三色阻，以形成彩色滤光层；

S324：在所述彩色滤光层上方形成厚度为0.5μm～1.0μm的平坦化层；以及

S325：在所述平坦化层上方形成隔垫物，且形成的所述隔垫物与所述黑色矩阵的位置对应，以得到彩膜基板。

本实施方式中，黑色矩阵的两侧分别形成有台阶面，并且对色阻材料的真空干燥时间为25min～35min，采用正常的干燥时间30min，由于色阻材料与台阶面之间设置有间隙，因此，形成的色阻不会在台阶面上形成凸起，并且为了保证彩膜基板具有良好的平坦性，在彩色滤光层制作完成后，进行平坦化层的制程，但是，由于对黑色矩阵的台阶面的设计，改善了牛角段差现象，平坦化层的厚度可以设置的薄一些，本实施例中，将平坦化层的厚度可以设置为0.5μm～1.0μm，由于常规的平坦化层的厚度为2μm，将平坦化层的厚度做薄，也可以起到减少平坦化层的材料，降低生产成本的效果，后面将隔垫物设置在平坦化层上，且隔垫物对应黑色矩阵的位置设置，也可以提高彩膜基板的市场竞争力。

需要说明的是，本方案中涉及到的各步骤的限定，在不影响具体方案实施的前提下，并不认定为对步骤先后顺序做出限定，写在前面的步骤可以是在先执行的，也可以是在后执行的，甚至也可以是同时执行的，只要能实施本方案，都应当视为属于本申请的保护范围。

需要说明的是，本申请的发明构思可以形成非常多的实施例，但是申请文件的篇幅有限，无法一一列出，因而，在不相冲突的前提下，以上描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例，各实施例或技术特征组合之后，将会增强原有的技术效果。

本申请的技术方案可以广泛用于各种显示面板，如TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)显示面板、IPS(In-Plane Switching，平面转换型)显示面板、VA(VerticalAlignment，垂直配向型)显示面板、MVA(Multi-Domain Vertical Alignment，多象限垂直配向型)显示面板，均可适用上述方案。

以上内容是结合具体的可选实施方式对本申请所作的进一步详细说明，不能认定本申请的具体实施只局限于这些说明。对于本申请所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，包括衬底基板、和设置在所述衬底基板上的黑色矩阵和彩色滤光层，其特征在于，

所述彩色滤光层包括至少两个色阻，所述黑色矩阵设置在相邻两个所述色阻之间，所述黑色矩阵的两侧设置有台阶面，形成凸字形结构，且所述色阻覆盖在所述台阶面上，与所述台阶面具有重叠部。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括隔垫物，所述隔垫物直接设置在所述黑色矩阵上。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵的截面宽度设置为20μm～30μm，所述台阶面的截面宽度设置为3μm～6μm。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵包括凸出部，所述凸出部位于两侧的所述台阶面之间，两个所述台阶面的高度相等，且所述凸出部的高度比所述台阶面的高度高0.1μm～1.3μm。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述台阶面的高度设置为0.5μm～1.2μm。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括平坦化层和隔垫物，所述平坦化层设置在所述黑色矩阵和所述彩色滤光层上，所述隔垫物设置在所述平坦化层上且与所述黑色矩阵位置对应；其中，所述平坦化层的厚度为0.5μm～1.0μm。

7.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括金属氧化物层，所述金属氧化物层设置在所述衬底基板远离所述黑色矩阵的一侧，且所述金属氧化物层与所述彩色滤光层中的至多两种色阻所在的区域重叠。

8.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板、液晶层和如权利要求1至7任意一项所述的彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板对盒设置，所述液晶层设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间。

9.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，用于制备如权利要求1至8任意一项所述的彩膜基板，包括步骤：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成多个截面形状为凸字形的黑色矩阵，且形成的所述黑色矩阵的两侧具有台阶面；以及

在所述黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个所述黑色矩阵之间的色阻，且形成的所述色阻覆盖在所述台阶面上，以形成彩色滤光层，并在所述彩色滤光层上形成隔垫物，以得到彩膜基板。

10.根据权利要求9所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述在所述黑色矩阵上依次形成多个位于相邻两个所述黑色矩阵之间的色阻，且形成的所述色阻覆盖在所述台阶面上，以形成彩色滤光层，并在所述彩色滤光层上形成隔垫物，以得到彩膜基板的步骤包括：

在相邻两个所述黑色矩阵之间分别涂布第一色阻材料，且涂布的所述第一色阻材料覆盖在所述台阶面上形成重叠部，形成的所述重叠部的宽度小于所述台阶面的截面宽度；

对所述第一色阻材料进行真空干燥操作，且真空干燥的时间为40min～50min，以使所述第一色阻材料流淌并填满所述台阶面，形成第一色阻；

参照形成所述第一色阻的步骤，分别形成多个第二色阻和多个第三色阻，以形成彩色滤光层；以及

在所述彩色滤光层上方直接形成隔垫物，且形成的所述隔垫物与所述黑色矩阵位置对应，以得到彩膜基板。

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