CN107678204B - 一种液晶显示面板、显示器及显示面板的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种液晶显示面板、显示器及显示面板的制作方法。该液晶显示面板包括上基板、与上基板相对设置的下基板、以及设置于上基板和下基板之间的液晶层;其中,上基板靠近下基板的一侧设置有第一遮光结构,下基板靠近上基板的一侧设置有与第一遮光结构对应的第二遮光结构,第一遮光结构和第二遮光结构共同构成上基板和下基板之间的间隔物。通过上述方式,本发明通过在上下基板各增加一遮光结构,从而遮蔽斜视角漏光,降低由于厚度太大使得遮光结构难以固化完全,从而影响成膜效果和高度的风险。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种液晶显示面板、显示器及显示面板的制作方法。
背景技术
随着液晶显示器的发展,人们对显示器的性能,尤其是对比度,暗态画面下的漏光等产生了很高的品质要求。由于漏光现象的存在使显示的黑色图像不黑,造成对比度降低,亮度均匀性变差,图像层次感模糊,清晰度下降,图像质量变差,因此有必要减少漏光现象。
漏光产生的原因有两种,一方面是液晶电视成像原理所带来的固有缺陷;另一方面是组装产生的挤压,这也是目前漏光产生的最主要来源,由于组装电视机要求没有面板那么严格,环境也差了很多,相对的工艺也比较粗糙,组装的时候边框跟显示器之间的衔接不紧密导致轻微的漏光。
发明内容
本发明主要解决的问题是提供一种液晶显示面板、显示器及显示面板的制作方法,通过在上下基板各增加一遮光结构,从而遮蔽斜视角漏光,降低由于厚度太大使得遮光结构难以固化完全,从而影响成膜效果和高度的风险。
解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是提供一种液晶显示面板,包括上基板、与上基板相对设置的下基板、以及设置于上基板和下基板之间的液晶层;其中,上基板靠近下基板的一侧设置有第一遮光结构,下基板靠近上基板的一侧设置有与第一遮光结构对应的第二遮光结构,第一遮光结构和第二遮光结构共同构成上基板和下基板之间的间隔物。
解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是提供一种液晶显示器,包括液晶显示面板以及背光,液晶显示面板是上述的液晶显示面板。
解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是提供一种液晶显示面板的制作方法,包括:提供一上基板和一下基板;在上基板上制作第一遮光结构,以及在下基板上制作与第一遮光结构对应的第二遮光结构;将上基板和下基板对盒,并在上基板和下基板之间填充液晶层;其中,第一遮光结构和与之对应的第二遮光结构共同构成上基板和下基板之间的间隔物。
通过上述方案,本发明的有益效果是:本发明提供的液晶显示面板包括上基板、与上基板相对设置的下基板、以及设置于上基板和下基板之间的液晶层;其中,上基板靠近下基板的一侧设置有第一遮光结构,下基板靠近上基板的一侧设置有与第一遮光结构对应的第二遮光结构,第一遮光结构和第二遮光结构共同构成上基板和下基板之间的间隔物。通过上述方式,本发明通过在上下基板各增加一遮光结构,从而遮蔽斜视角漏光,降低由于厚度太大使得遮光结构难以固化完全,从而影响成膜效果和高度的风险。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。其中:
图1是本发明提供的液晶显示面板一实施例的结构示意图;
图2是本发明提供的液晶显示面板一实施例遮光结构的结构示意图;
图3是本发明提供的液晶显示面板一实施例遮光结构的另一结构示意图;
图4是本发明提供的液晶显示面板一实施例中下基板的结构示意图;
图5是本发明提供的液晶显示面板另一实施例的结构示意图;
图6是本发明提供的液晶显示面板另一实施例的第一遮光结构排列平面示意图;
图7是本发明提供的液晶显示面板另一实施例的第二遮光结构排列平面示意图;
图8是本发明提供的液晶显示面板又一实施例的结构示意图;
图9是本发明提供的液晶显示器一实施例的结构示意图;
图10是本发明提供的液晶显示面板的制作方法一实施例的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
参阅图1,图1是本发明提供的液晶显示面板一实施例的结构示意图,该液晶显示面板包括上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、以及设置于上基板10和下基板20之间的液晶层30。
其中,上基板10靠近下基板20的一侧设置有第一遮光结构11,下基板20靠近上基板10的一侧设置有与第一遮光结构对应的第二遮光结构21,第一遮光结构11和第二遮光结构21共同构成上基板10和下基板20之间的间隔物。
其中,上基板10和下基板20一般采用透明的玻璃或者透明的塑料,遮光结构设置于相邻两个像素之间,用于消除相邻两个像素之间的光路的串扰。
可选的,如图2所示,在一实施例中,第一遮光结构11可以设置在上基板10的滤光片层12上,即上基板10包括层叠设置的上基板11、滤光片层12以及第一遮光结构11,其中,滤光片层12包括阵列排布的RGB(红绿蓝)三色滤光片,第一遮光结构11则设置在两个滤光片之间相邻的位置。
可选的,如图3所示,在另一实施例中,第一遮光结构11可以直接设置在上基板10上,然后在多个第一遮光结构11之间沉积滤光片层。
另外,上基板10上还设置有公共电极层(图未示),具体可以设置在滤光片层12靠近下基板20的一侧面,用以与下基板20上的像素电极形成电场,以改变液晶层30中液晶分子的偏转从而改变光线的透过率。
可以理解的,上述制作滤光片层或者遮光结构可以采用物理气相沉积或化学气相沉积的方式,这里不再举例。
可选的,第一遮光结构11和第二遮光结构21可以为黑矩阵或其他遮光材料,黑矩阵一般均要求低反射,反射愈低,色彩表现也会愈好。
另外,如图4所示,下基板20上还设置有TFT结构,具体地,可以包括依次层叠设置在下基板20上的TFT结构22、平坦层23以及像素电极24。由于像素电极24经过了图案化处理,所以第二遮光结构21可以设置在平坦层23上。
第一遮光结构11和第二遮光结构21可以为圆台形、圆柱形、四棱台、立方体或其他任意合理的形状;其中,第一遮光结构11和第二遮光结构21的形状可以不同,但是当第一遮光结构11和第二遮光结构21接触时,接触面积要在预设接触面积范围内。
例如,假设第一遮光结构11为圆柱,第二遮光结构21为三棱锥,预设接触面积为5μm2,第一遮光结构11和第二遮光结构21的高度和为液晶盒高度,此时第一遮光结构11和第二遮光结构21的接触面仅为三棱锥的顶点,不满足预设条件。
在现有技术中,一般是将遮光结构设置在上基板上,并且同时将遮光结构做厚,作为上基板和下基板之间的间隔物,由于上基板和下基板之间有一定的距离,间隔物需要做的较厚。可以理解的,遮光结构一般采用黑色的树脂材料制作,在与上基板固定时,一般是采用UV(紫外光)照射进行固化以使树脂材料能够固定在上基板上,但由于本实施例中的遮光结构同时作为间隔物,其厚度较大,UV不能很好的穿透,使得其不能固化完全。
在本实施例中,将遮光结构一分为二,在上基板和下基板分别设置第一遮光结构11和第二遮光结构21,使得第一遮光结构11或第二遮光结构21相较于现有的遮光结构更薄,减少遮光结构的厚度,由于遮光结构太厚,使得UV不易穿透到遮光结构的内部,出现遮光结构难以固化完全的问题,从而影响成膜效果和高度。
区别于现有技术,本实施例提供的液晶显示面板包括上基板、与上基板相对设置的下基板、以及设置于上基板和下基板之间的液晶层;其中,上基板靠近下基板的一侧设置有第一遮光结构,下基板靠近上基板的一侧设置有与第一遮光结构对应的第二遮光结构,第一遮光结构和第二遮光结构共同构成上基板和下基板之间的间隔物。通过上述方式,本发明通过在上基板和下基板分别设置第一遮光结构和第二遮光结构,从而遮蔽漏光,降低由于厚度太大使得遮光结构难以固化完全,从而影响成膜效果和高度的风险。
参阅图5和图6,图5是本发明提供的液晶显示面板另一实施例的结构示意图,图6是本发明提供的液晶显示面板另一实施例的第一遮光结构排列平面示意图,该液晶显示面板包括上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、以及设置于上基板10和下基板20之间的液晶层30。
为了控制每一个单独的显示单元,子像素之间以及边缘区域存在控制信号的走线,为了不让走线影响显示效果,除像素之外的区域,制作第一遮光结构11。
彩色滤光片12有条状排列、三角形排列、正方形排列、马赛克排列等。本实施例仅仅采用条状排列作为示例,因为当前的软件,多半都是窗口化的接口,所看到的屏幕内容,是一大堆大小不等的方框所组成的,而彩色滤光片的条状排列,恰好可以使这些方框的边缘看起来更笔直,而不会有毛边或锯齿状的感觉。
无论使用彩色滤光片的哪种排列方式,在每个像素之间的空隙部分均用第一遮光结构11填充。
第一遮光结构11以纵横交错的方式设置在上基板10上,参阅图6;第二遮光结构21以纵横交错的方式设置在下基板上20,参阅图7,其中22为空位。
其中,纵横交错的第一遮光结构11围设形成阵列分布的多个像素区域,多个像素区域中设置有彩色滤光片。
在围设形成一个像素区域的四个边上,至少有一个边上的第一遮光结构11与对应的第二遮光结构21接触,至少有一个边上的第一遮光结构11与对应的第二遮光结构21之间留有空隙,以供液晶流动,使得液晶制程滴注液晶并成盒的工艺更不容易产生气泡;同时具有限流的作用,使得像素内液晶不再受其他像素液晶偏向和扰动的影响。
在围设形成一个像素区域的四个边上,每个边上的第一遮光结构11的厚度和与之对应的第二遮光结构21的厚度相等。
第一遮光结构11和第二遮光结构21的制作材料可以为黑色树脂材料、铬或铬的氧化物等;第一遮光结构11或第二遮光结构21的厚度为1-2μm。
例如,采用黑矩阵材料,如果在一侧基板直接制备较厚的黑色遮光结构,使用一般的UV照射固化黑矩阵光阻材料,当厚度太大时,UV不易穿透到内部,使得其难以固化完全,影响成膜效果和高度。当在上基板和下基本分别制作遮光结构时,制备1-2um厚度的遮光结构即可满足要求,较为容易实现。
区别于现有技术,本实施例提供的液晶显示面板,通过在上基板设置多个第一遮光结构,在下基板设置与每个第一遮光结构对应的第二遮光结构,至少一个第一遮光结构与第二遮光结构之间间隙,至少一个第一遮光结构与第二遮光结构之间接触,遮光结构在遮光的同时,可以起到支撑的作用,在液晶显示面板受到挤压时,由于第一遮光结构与第二遮光结构之间存在间隙还可起到缓冲的作用。
参阅图8,图8是本发明提供的液晶显示面板又一实施例的结构示意图,该实施例与本发明提供的液晶显示面板另一实施例类似,该液晶显示面板包括上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、以及设置于上基板10和下基板20之间的液晶层30。不同之处在于:
在围设形成一个像素区域的四个边上,每个边上的第一遮光结构11与对应的第二遮光结构21之间均留有空隙。
其结构上述的实施例类似,在此不再赘述。
参阅图9,图9是本发明提供的液晶显示器一实施例的结构示意图。该液晶显示器90包括液晶显示面板91以及背光92,液晶显示面板91是上述实施例中所提供的液晶显示面板。
参阅图10,图10是本发明提供的液晶显示面板的制作方法一实施例的流程示意图。该方法包括:
步骤101:提供一上基板和一下基板。
其中,上基板为彩膜基板,下基板为TFT阵列基板。
可选的,该上基板上还设置有彩色滤光片和公共电极,该下基板上还设置有TFT结构和像素电极。
步骤102:在上基板上制作第一遮光结构,以及在下基板上制作与第一遮光结构对应的第二遮光结构。
第一遮光结构和第二遮光结构与上述实施例中的相同,在此不再赘余。
步骤103:将上基板和下基板对盒,并在上基板和下基板之间填充液晶层。
其中,第一遮光结构和与之对应的第二遮光结构共同构成上基板和下基板之间的间隔物。
可以理解的,第一遮光结构和第二遮光结构的数量是多个。具体地,可以在每个像素之间均设置该第一遮光结构和第二遮光结构。可选的,相对应的第一遮光结构和第二遮光结构可以接触以形成主间隔物,也可以不接触留有缝隙进行辅间隔物。另外,辅间隔物之间的缝隙还可以供相邻两个像素之间的液晶流动,使得液晶制程滴注液晶并成盒的工艺更不容易产生气泡;同时具有限流的作用,使得像素内液晶不再受其他像素液晶偏向和扰动的影响。
区别于现有技术,本实施的液晶显示面板的制作方法包括:提供一上基板和一下基板;在上基板上制作第一遮光结构,以及在下基板上制作与第一遮光结构对应的第二遮光结构;将上基板和下基板对盒,并在上基板和下基板之间填充液晶层。通过上述方式,将遮光结构一分为二分别对应设置在上下两个基板上,能够起到遮光作用,防止漏光以及相邻两个像素之间的混光,还能够使得遮光结构变薄,更易固化,还能够起到上下基板之间的间隔作用。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (4)
1.一种液晶显示面板,其特征在于,包括上基板、与所述上基板相对设置的下基板、以及设置于所述上基板和所述下基板之间的液晶层;
其中,所述上基板靠近所述下基板的一侧设置有第一遮光结构,所述下基板靠近所述上基板的一侧设置有与所述第一遮光结构对应的第二遮光结构,所述第一遮光结构和所述第二遮光结构为黑矩阵,所述第一遮光结构和所述第二遮光结构共同构成所述上基板和所述下基板之间的间隔物,所述第一遮光结构以纵横交错的方式设置在所述上基板上,所述第二遮光结构以纵横交错的方式设置在所述下基板上;其中,纵横交错的第一遮光结构围设形成阵列分布的多个像素区域,在围设形成一个像素区域的四个边上,每个边上的第一遮光结构与对应的所述第二遮光结构之间均留有空隙,且每个边上的第一遮光结构的厚度和与之对应的第二遮光结构的厚度相等,所述第一遮光结构或所述第二遮光结构的厚度为1-2μm。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,
所述多个像素区域中设置有彩色滤光片。
3.一种液晶显示器,包括液晶显示面板以及背光,其特征在于,所述液晶显示面板是如权利要求1-2任一项所述的液晶显示面板。
4.一种液晶显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一上基板和一下基板;
在所述上基板上制作第一遮光结构,以及在所述下基板上制作与所述第一遮光结构对应的第二遮光结构;
将所述上基板和所述下基板对盒,并在所述上基板和所述下基板之间填充液晶层;
其中,所述第一遮光结构和所述第二遮光结构为黑矩阵,所述第一遮光结构和与之对应的第二遮光结构共同构成所述上基板和所述下基板之间的间隔物,所述第一遮光结构以纵横交错的方式设置在所述上基板上,所述第二遮光结构以纵横交错的方式设置在所述下基板上;其中,纵横交错的第一遮光结构围设形成阵列分布的多个像素区域,在围设形成一个像素区域的四个边上,每个边上的第一遮光结构与对应的所述第二遮光结构之间均留有空隙,且每个边上的第一遮光结构的厚度和与之对应的第二遮光结构的厚度相等,所述第一遮光结构或所述第二遮光结构的厚度为1-2μm。
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