JPWO2006019004A1 - 金属酸化物ゾルの製造方法 - Google Patents
金属酸化物ゾルの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2006019004A1 JPWO2006019004A1 JP2006531628A JP2006531628A JPWO2006019004A1 JP WO2006019004 A1 JPWO2006019004 A1 JP WO2006019004A1 JP 2006531628 A JP2006531628 A JP 2006531628A JP 2006531628 A JP2006531628 A JP 2006531628A JP WO2006019004 A1 JPWO2006019004 A1 JP WO2006019004A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- sol
- metal oxide
- mass
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 72
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims abstract description 72
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 45
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims abstract description 41
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 24
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 claims abstract description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 11
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 34
- -1 yttrium compound Chemical class 0.000 claims description 34
- 150000001785 cerium compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 229940043430 calcium compound Drugs 0.000 claims description 9
- 150000001674 calcium compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001553 barium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002472 indium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 164
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 abstract description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 86
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 70
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 64
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 62
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 53
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 37
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 35
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 31
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 27
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 27
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 25
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 21
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 17
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 17
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 17
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 16
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 16
- VFHDWENBWYCAIB-UHFFFAOYSA-M hydrogen carbonate;tetramethylazanium Chemical compound OC([O-])=O.C[N+](C)(C)C VFHDWENBWYCAIB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 16
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 16
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 16
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 14
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 14
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 14
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 12
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 12
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 7
- 150000003754 zirconium Chemical class 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 6
- JHGFRCLDPHKRBS-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[Zr+4].[O-2].[O-2] Chemical class [Sn+2]=O.[O-2].[Zr+4].[O-2].[O-2] JHGFRCLDPHKRBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 4
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011240 wet gel Substances 0.000 description 4
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GHLITDDQOMIBFS-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);tricarbonate Chemical compound [Ce+3].[Ce+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O GHLITDDQOMIBFS-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- AUYOHNUMSAGWQZ-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(oxo)tin Chemical compound O[Sn](O)=O AUYOHNUMSAGWQZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NYWITVDHYCKDAU-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-) yttrium(3+) zirconium(4+) Chemical compound [O--].[O--].[Y+3].[Zr+4] NYWITVDHYCKDAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 3
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DDPNPTNFVDEJOH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Zr+4].[O-2].[Ce+3] Chemical class [O-2].[Zr+4].[O-2].[Ce+3] DDPNPTNFVDEJOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VCRLKNZXFXIDSC-UHFFFAOYSA-N aluminum oxygen(2-) zirconium(4+) Chemical compound [O--].[O--].[Al+3].[Zr+4] VCRLKNZXFXIDSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011162 ammonium carbonates Nutrition 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SKKXLLCGVBASOT-UHFFFAOYSA-N calcium oxygen(2-) zirconium(4+) Chemical class [O-2].[Zr+4].[O-2].[Ca+2] SKKXLLCGVBASOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- UNJPQTDTZAKTFK-UHFFFAOYSA-K cerium(iii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Ce+3] UNJPQTDTZAKTFK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOCC1CO1 ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- JXSUUUWRUITOQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);yttrium(3+);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3].[Zr+4].[Zr+4] JXSUUUWRUITOQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAJRRCSBKZOLPA-UHFFFAOYSA-M triethyl(methyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](C)(CC)CC JAJRRCSBKZOLPA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COCC1CO1 LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940113165 trimethylolpropane Drugs 0.000 description 2
- 150000003748 yttrium compounds Chemical class 0.000 description 2
- UVYDFPFCJDQZQF-UHFFFAOYSA-H yttrium(3+);tricarbonate;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Y+3].[Y+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O UVYDFPFCJDQZQF-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N zirconium nitrate Chemical compound [Zr+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSVFYHKZQNDJEV-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-tribromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(Br)C(Br)=C1Br ZSVFYHKZQNDJEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUPRYTFTHBNSBD-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-tribromophenyl) prop-2-enoate Chemical compound BrC1=CC=C(OC(=O)C=C)C(Br)=C1Br BUPRYTFTHBNSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C=C ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- JHVQWALHXJPODC-ALCCZGGFSA-N (z)-2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]but-2-enedioic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC\C(C(O)=O)=C\C(O)=O JHVQWALHXJPODC-ALCCZGGFSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C(C)=C HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJQXJNFUDNCYAX-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;ethane-1,2-diol Chemical compound OCCO.OCC(CO)(CO)CO IJQXJNFUDNCYAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOCCOC(=O)C=C FTALTLPZDVFJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORDZXCQDZLMHAM-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl-triphenoxysilane Chemical compound C1CC2OC2CC1CC[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ORDZXCQDZLMHAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl-tripropoxysilane Chemical compound C1C(CC[Si](OCCC)(OCCC)OCCC)CCC2OC21 ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COORVRSSRBIIFJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]-1-methoxyethanol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(O)COCCOCCO COORVRSSRBIIFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C=C PTJDGKYFJYEAOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBOWDTAJSXKQTL-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.CCC(CO)(CO)CO LBOWDTAJSXKQTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n-dimethylpyridine-2,5-diamine Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N)C=N1 OBOSXEWFRARQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 CEXQWAAGPPNOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAWQXWZJKKICSZ-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyl-2-methylidenebutanamide Chemical compound CC(C)(C)C(=C)C(N)=O ZAWQXWZJKKICSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXTGJIIBLZIQPK-UHFFFAOYSA-N 3-(2-prop-2-enoyloxyethyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(CCOC(=O)C=C)=C1C(O)=O UXTGJIIBLZIQPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-triphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)CCCOCC1CO1 GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-tripropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCOCC1CO1 DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWTKNKBWDQHROK-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]phthalic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O DWTKNKBWDQHROK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCCl KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropanenitrile Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC#N GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJXWHZXRUMIBNO-UHFFFAOYSA-N 4-[dimethoxy(methyl)silyl]oxybutan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)OCCCCN JJXWHZXRUMIBNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGDQQLAVJWUYSF-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-phenyl-1,3-thiazole-5-sulfonyl chloride Chemical compound S1C(S(Cl)(=O)=O)=C(C)N=C1C1=CC=CC=C1 NGDQQLAVJWUYSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFVSSVFCRKYPGC-UHFFFAOYSA-N 5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl-(2-phenylethoxy)silane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH2]OCCC1=CC=CC=C1 HFVSSVFCRKYPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOAINAXTDCHQFR-UHFFFAOYSA-N 5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl-phenylmethoxysilane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH2]OCC1=CC=CC=C1 UOAINAXTDCHQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSPRVWPULGKMRC-UHFFFAOYSA-N 57526-50-8 Chemical compound C12CCCC2C2CC(CO)C1C2 HSPRVWPULGKMRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEDNSMBVYXSBFC-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-2-chloroquinoline-4-carbonyl chloride Chemical compound C1=C(Br)C=C2C(C(=O)Cl)=CC(Cl)=NC2=C1 KEDNSMBVYXSBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSWPHHKKPFLMGX-UHFFFAOYSA-N 7-(oxiran-2-ylmethoxy)hept-3-enoxysilane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=CCCO[SiH3] KSWPHHKKPFLMGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- MMQAOIAEQAQOIF-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)OCCCCCCCCCCCCCCC.C(C=C)(=O)O Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCCCCCCCCCCCCCC.C(C=C)(=O)O MMQAOIAEQAQOIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXUCAOGYLVALIM-UHFFFAOYSA-N C(CC1C(CC)O1)CCCC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound C(CC1C(CC)O1)CCCC[Si](OC)(OC)OC AXUCAOGYLVALIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] Chemical compound C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SQUNKLNGFIILTR-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)CO[Si](OC)(OC)CC Chemical compound C1(CCCCC1)CO[Si](OC)(OC)CC SQUNKLNGFIILTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LESXMPZQWDHLDA-UHFFFAOYSA-N C[Si](OC)(OC)C.NCCC[Si](OCC)(OCC)C Chemical compound C[Si](OC)(OC)C.NCCC[Si](OCC)(OCC)C LESXMPZQWDHLDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L Calcium iodide Chemical compound [Ca+2].[I-].[I-] UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000003913 Coccoloba uvifera Nutrition 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N O.O.O.[Al] Chemical compound O.O.O.[Al] MXRIRQGCELJRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNDBLZYQVQNZKC-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.O=C1CCCCCO1 Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.O=C1CCCCCO1 JNDBLZYQVQNZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURCIPRUUASYLR-UHFFFAOYSA-N Omeprazole sulfide Chemical compound N=1C2=CC(OC)=CC=C2NC=1SCC1=NC=C(C)C(OC)=C1C XURCIPRUUASYLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000008976 Pterocarpus marsupium Species 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- UXRNWUYCCQFHIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C UXRNWUYCCQFHIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMEIFXQHEFYFMU-UHFFFAOYSA-N [K].[In] Chemical compound [K].[In] KMEIFXQHEFYFMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(3-chloropropyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)CCCCl YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STWYYQVVABMBIZ-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(2-hydroxyethoxy)phosphoryl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OP(O)(=O)OCCO STWYYQVVABMBIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M acetyloxyaluminum;dihydrate Chemical compound O.O.CC(=O)O[Al] HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940009827 aluminum acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940024546 aluminum hydroxide gel Drugs 0.000 description 1
- SMYKVLBUSSNXMV-UHFFFAOYSA-K aluminum;trihydroxide;hydrate Chemical compound O.[OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] SMYKVLBUSSNXMV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- DAPUDVOJPZKTSI-UHFFFAOYSA-L ammonium nickel sulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DAPUDVOJPZKTSI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K antimonic acid Chemical compound O[Sb](O)(O)=O AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- ODVXDADQEMTBPJ-UHFFFAOYSA-L azane nickel(2+) dichloride Chemical compound N.Cl[Ni]Cl ODVXDADQEMTBPJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ITHZDDVSAWDQPZ-UHFFFAOYSA-L barium acetate Chemical compound [Ba+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O ITHZDDVSAWDQPZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L barium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ba+2] WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001626 barium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N barium nitrate Chemical compound [Ba+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K bismuth chloride Chemical compound Cl[Bi](Cl)Cl JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000380 bismuth sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- TXKAQZRUJUNDHI-UHFFFAOYSA-K bismuth tribromide Chemical compound Br[Bi](Br)Br TXKAQZRUJUNDHI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- VSGNNIFQASZAOI-UHFFFAOYSA-L calcium acetate Chemical compound [Ca+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O VSGNNIFQASZAOI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001639 calcium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000011092 calcium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229960005147 calcium acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940046413 calcium iodide Drugs 0.000 description 1
- 229910001640 calcium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- QXDMQSPYEZFLGF-UHFFFAOYSA-L calcium oxalate Chemical compound [Ca+2].[O-]C(=O)C([O-])=O QXDMQSPYEZFLGF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- XMPZTFVPEKAKFH-UHFFFAOYSA-P ceric ammonium nitrate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Ce+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XMPZTFVPEKAKFH-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- ZMZNLKYXLARXFY-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);oxalate Chemical compound [Ce+3].[Ce+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O ZMZNLKYXLARXFY-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K cerium(3+);triacetate Chemical compound [Ce+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);trisulfate Chemical compound [Ce+3].[Ce+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- VZDYWEUILIUIDF-UHFFFAOYSA-J cerium(4+);disulfate Chemical compound [Ce+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O VZDYWEUILIUIDF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ODPUKHWKHYKMRK-UHFFFAOYSA-N cerium;nitric acid Chemical compound [Ce].O[N+]([O-])=O ODPUKHWKHYKMRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCl)(OCC)OCC ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011182 cobalt acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KAGOZRSGIYZEKW-UHFFFAOYSA-N cobalt(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Co+3].[Co+3] KAGOZRSGIYZEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEQZMQXCOWIHRY-UHFFFAOYSA-H dibismuth;trisulfate Chemical compound [Bi+3].[Bi+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O BEQZMQXCOWIHRY-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- JIOUJECYOVQAMA-UHFFFAOYSA-N dibutoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)CCCOCC1CO1 JIOUJECYOVQAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJLNSDMLAOWPOF-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane;prop-1-ene Chemical compound CC=C.CCO[Si](CC)(CC)OCC UJLNSDMLAOWPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)COCC1CO1 UMWZTDBPOBTQIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRJXZRBBFSDWFR-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethoxy]silane Chemical compound C1C(C(C)O[Si](C)(OCC)OCC)CCC2OC21 MRJXZRBBFSDWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(C)OCC1CO1 NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(CC)OCC1CO1 FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBDDFKGMGASJHE-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethoxy)silane Chemical compound C1C(CO[Si](C)(OC)OC)CCC2OC21 PBDDFKGMGASJHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)COCC1CO1 CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(C)OCC1CO1 RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(CC)OCC1CO1 KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOCC1CO1 PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOUCSUBTZWXKTA-UHFFFAOYSA-N dipotassium;dioxido(oxo)tin Chemical compound [K+].[K+].[O-][Sn]([O-])=O IOUCSUBTZWXKTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVQLLNFANZSCGY-UHFFFAOYSA-N disodium;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Sn]([O-])=O TVQLLNFANZSCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- ZSBOTBREDQGUMM-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCCO.CCC(CO)(CO)CO ZSBOTBREDQGUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMHJMWCGKHBEHZ-UHFFFAOYSA-N ethenoxy-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC=C GMHJMWCGKHBEHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(2,2,2-trimethoxyethoxy)silane Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]C=C GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSJWBNAOYWNTBI-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 CSJWBNAOYWNTBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMIHMHFIISTVLV-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CC(C)OCC1CO1 NMIHMHFIISTVLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- ZNAOFAIBVOMLPV-UHFFFAOYSA-N hexadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C ZNAOFAIBVOMLPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000337 indium(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K indium(iii) chloride Chemical compound Cl[In](Cl)Cl PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGCKLPDYTQRDTR-UHFFFAOYSA-H indium(iii) sulfate Chemical compound [In+3].[In+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O XGCKLPDYTQRDTR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H iron(3+) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N iron(3+);trinitrate Chemical compound [Fe+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VCJMYUPGQJHHFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 238000005374 membrane filtration Methods 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRGQSWVKLLRBRJ-UHFFFAOYSA-N methyl(2,2,2-triphenylethoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(CO[SiH2]C)C1=CC=CC=C1 MRGQSWVKLLRBRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRBAVICMCJULJS-UHFFFAOYSA-N methyl(tripentoxy)silane Chemical compound CCCCCO[Si](C)(OCCCCC)OCCCCC QRBAVICMCJULJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N methyl(triphenoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)OC1=CC=CC=C1 DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(2-methylphenoxy)-3-phenylpropyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C=1C=CC=CC=1C(CCNC)OC1=CC=CC=C1C LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-diphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)CCCOCC1CO1 CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOARQMXRPHXHID-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-dipropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)CCCOCC1CO1 VOARQMXRPHXHID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIHDEVWPDTQIM-UHFFFAOYSA-N methyl-tris(phenylmethoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[Si](OCC=1C=CC=CC=1)(C)OCC1=CC=CC=C1 GEIHDEVWPDTQIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADTJPOBHAXXXFS-UHFFFAOYSA-N n-[3-(dimethylamino)propyl]prop-2-enamide Chemical compound CN(C)CCCNC(=O)C=C ADTJPOBHAXXXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-enamide Chemical compound CNC(=O)C=C YPHQUSNPXDGUHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);diformate Chemical compound [Ni+2].[O-]C=O.[O-]C=O HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N nitric acid;oxozirconium Chemical compound [Zr]=O.O[N+]([O-])=O.O[N+]([O-])=O UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- IBSDADOZMZEYKD-UHFFFAOYSA-H oxalate;yttrium(3+) Chemical compound [Y+3].[Y+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O IBSDADOZMZEYKD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGRFMLCXNGPERX-UHFFFAOYSA-L oxozirconium(2+) carbonate Chemical compound [Zr+2]=O.[O-]C([O-])=O RGRFMLCXNGPERX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195143 oxyphenol Natural products 0.000 description 1
- UOURRHZRLGCVDA-UHFFFAOYSA-D pentazinc;dicarbonate;hexahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O UOURRHZRLGCVDA-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005650 polypropylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- KNWMJZSWRPRLNC-UHFFFAOYSA-N potassium cerium(3+) tetranitrate Chemical compound [K+].[Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KNWMJZSWRPRLNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MILWSGRFEGYSGM-UHFFFAOYSA-N propane-1,2-diol;propane-1,2,3-triol Chemical compound CC(O)CO.OCC(O)CO MILWSGRFEGYSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079864 sodium stannate Drugs 0.000 description 1
- HVTHJRMZXBWFNE-UHFFFAOYSA-J sodium zincate Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Na+].[Na+].[Zn+2] HVTHJRMZXBWFNE-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- FAKFSJNVVCGEEI-UHFFFAOYSA-J tin(4+);disulfate Chemical compound [Sn+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O FAKFSJNVVCGEEI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J titanium(4+);disulfate Chemical compound [Ti+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HDUMBHAAKGUHAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNHZOAONLKYQL-UHFFFAOYSA-K tribromoindigane Chemical compound Br[In](Br)Br JKNHZOAONLKYQL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAVPBWLGJVKEGZ-UHFFFAOYSA-N tributoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC)CCC2OC21 OAVPBWLGJVKEGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYWWLSIKWDAEC-UHFFFAOYSA-N tributoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)CCCOCC1CO1 FQYWWLSIKWDAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CCC)OCC1CO1 OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CC)OCC1CO1 NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(CC)OCC1CO1 FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCOCC1CO1 RWJUTPORTOUFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(C)OCC1CO1 CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C)OCC1CO1 KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSUKBUSXHYKMLU-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)butyl]silane Chemical compound C1C(CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 PSUKBUSXHYKMLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCOCC1CO1 GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCCC([Si](OC)(OC)OC)OCC1CO1 FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)OCC1CO1 DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(CC)OCC1CO1 FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)OCC1CO1 HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(C)OCC1CO1 ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQMWDQQWGKVOSQ-UHFFFAOYSA-N trinitrooxystannyl nitrate Chemical compound [Sn+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YQMWDQQWGKVOSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CENHPXAQKISCGD-UHFFFAOYSA-N trioxathietane 4,4-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OOO1 CENHPXAQKISCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940105965 yttrium bromide Drugs 0.000 description 1
- 229910000347 yttrium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- QVOIJBIQBYRBCF-UHFFFAOYSA-H yttrium(3+);tricarbonate Chemical compound [Y+3].[Y+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O QVOIJBIQBYRBCF-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- RTAYJOCWVUTQHB-UHFFFAOYSA-H yttrium(3+);trisulfate Chemical compound [Y+3].[Y+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RTAYJOCWVUTQHB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L zinc hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Zn+2] UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021511 zinc hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940007718 zinc hydroxide Drugs 0.000 description 1
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
- B01J13/0004—Preparation of sols
- B01J13/0047—Preparation of sols containing a metal oxide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/14—Methods for preparing oxides or hydroxides in general
- C01B13/36—Methods for preparing oxides or hydroxides in general by precipitation reactions in aqueous solutions
- C01B13/366—Methods for preparing oxides or hydroxides in general by precipitation reactions in aqueous solutions by hydrothermal processing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F17/00—Compounds of rare earth metals
- C01F17/20—Compounds containing only rare earth metals as the metal element
- C01F17/206—Compounds containing only rare earth metals as the metal element oxide or hydroxide being the only anion
- C01F17/218—Yttrium oxides or hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F17/00—Compounds of rare earth metals
- C01F17/20—Compounds containing only rare earth metals as the metal element
- C01F17/206—Compounds containing only rare earth metals as the metal element oxide or hydroxide being the only anion
- C01F17/224—Oxides or hydroxides of lanthanides
- C01F17/235—Cerium oxides or hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
- C01F7/00—Compounds of aluminium
- C01F7/02—Aluminium oxide; Aluminium hydroxide; Aluminates
- C01F7/44—Dehydration of aluminium oxide or hydroxide, i.e. all conversions of one form into another involving a loss of water
- C01F7/447—Dehydration of aluminium oxide or hydroxide, i.e. all conversions of one form into another involving a loss of water by wet processes
- C01F7/448—Dehydration of aluminium oxide or hydroxide, i.e. all conversions of one form into another involving a loss of water by wet processes using superatmospheric pressure, e.g. hydrothermal conversion of gibbsite into boehmite
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G1/00—Methods of preparing compounds of metals not covered by subclasses C01B, C01C, C01D, or C01F, in general
- C01G1/02—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G19/00—Compounds of tin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G23/00—Compounds of titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/02—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G30/00—Compounds of antimony
- C01G30/004—Oxides; Hydroxides; Oxyacids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/40—Compounds of aluminium
- C09C1/407—Aluminium oxides or hydroxides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/066—Zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/10—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of rare earths
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/20—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their non-solid state
- B01J35/23—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their non-solid state in a colloidal state
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/08—Heat treatment
- B01J37/10—Heat treatment in the presence of water, e.g. steam
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/70—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
- C01P2002/72—Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/04—Particle morphology depicted by an image obtained by TEM, STEM, STM or AFM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/50—Agglomerated particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/10—Solid density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Geology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Abstract
Description
第2観点として、前記第4級アンモニウムの炭酸塩が、(NR4)2CO3、NR4HCO3(前記各式中、Rは炭化水素基を表わす。)又はそれらの混合物であることを特徴とする第1観点に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、
第3観点として、前記第4級アンモニウムの炭酸塩中の第4級アンモニウムイオンが炭素原子数1乃至18の炭化水素基で構成されていることを特徴とする第1観点又は第2観点に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、
第4観点として、前記第4級アンモニウムの炭酸塩中の第4級アンモニウムイオンが炭素原子数1乃至4の炭化水素基で構成されていることを特徴とする第1観点又は第2観点に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、
第5観点として、前記金属化合物が、2価、3価、及び4価の原子価を有する金属に基づく化合物からなる群から選ばれた1種又は2種以上の金属化合物である第1観点乃至第4観点のいずれか1項に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、
第6観点として、前記2価の原子価を有する金属に基づく化合物が、マグネシウム化合物、カルシウム化合物、バリウム化合物、亜鉛化合物、及びニッケル化合物である第5観点に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、
第7観点として、前記3価の原子価を有する金属に基づく化合物が、イットリウム化合物、アルミニウム化合物、インジウム化合物、鉄化合物、コバルト化合物、セリウム化合物、及びビスマス化合物である第5観点に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、
第8観点として、前記4価の原子価を有する金属に基づく化合物が、チタン化合物、ジルコニウム化合物、ケイ素化合物、スズ化合物、及びセリウム化合物である第5観点に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、
第9観点として、前記金属化合物が、カルシウム化合物、アルミニウム化合物、イットリウム化合物、セリウム化合物、スズ化合物、ジルコニウム化合物、又はそれらの組み合わせである第1観点乃至第4観点に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、
第10観点として、前記金属酸化物が、単一金属酸化物又は複合金属酸化物である第1観点乃至第五観点のいずれか1項に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、
第11観点として、前記加熱工程後に、更に洗浄工程を付加する第1観点乃至第10観点のいずれか1項に記載の金属酸化物ゾルの製造方法、及び
第12観点として、前記洗浄工程及びその後の濃縮工程後のpHが8〜11である第11観点に記載の金属酸化物ゾルの製造方法である。
本願発明に用いられる金属化合物は、2価、3価、及び4価の原子価を有する金属に基づく化合物からなる群から選ばれた1種又は2種以上の金属化合物である。これらの金属化合物は、アルカリ水溶液に可溶であることが望ましい。そして、第4級アンモニウムの炭酸塩に由来する炭酸イオンと安定に存在することが可能な金属化合物、その加水分解中間体、又は加水分解物であることが望ましい。
これら金属化合物としては、上記金属の塩化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、水酸化物、金属酸塩、オキシ酸塩、錯塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ギ酸塩、アルコキシド、及びスルファミン酸塩等を用いることが出来る。
第1工程に用いられる水性媒体のpHは9〜12であり、この水性媒体中の第4級アンモニウムの炭酸塩の含量は、3〜50質量%である。また、金属化合物の含量は、この水性媒体中でMOX(但しMは金属元素)に換算して1〜20質量%である。第一工程では、加熱温度が60℃以下の場合、十分に加水分解が進行せずに、これらを水熱処理しても安定な金属酸化物ゾルは得られない。また、加熱温度が110℃以上の場合、加水分解の熟成時間がなくなり、直接に水熱処理することとなり好ましくない。この第一工程は、通常は1〜20時間で行われる。
A成分:一般式(I)
(R1)a(R3)bSi(OR2)4-(a+b) (I)
(式中、R1、R3はそれぞれアルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、ハロゲン基、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、フェニル基、メルカプト基、メタクリルオキシ基及びシアノ基からなる群より選ばれた有機基を表わし、R2は炭素原子数1乃至8のアルキル基、アルコキシ基、アシル基及びフェニル基からなる群より選ばれる有機基を表わし、a及びbは0又は1の整数を表わす。)で表される有機ケイ素化合物又はその加水分解物。
B成分:一般式(II)
{(OX)3-aSi(R4)}2Y (II)
(式中、R4は炭素原子数1乃至5の有機基を表わし、Xは炭素原子数1乃至4のアルキル基又は炭素原子数1乃至4のアシル基を表わし、Yは炭素原子数2乃至20の有機基を表わし、aは0又は1の整数を表わす。)で表される有機ケイ素化合物又はその加水分解物。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液950gと、純水950gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら95℃まで加熱した後、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で585.2g投入した。添加終了後、更に加熱熟成を継続し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら95℃で3時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、ZrO2として9.9質量%含有し、pHは9.5であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下140℃で3時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物もなく完全にゾル化しており、ZrO2として9.9質量%含有し、pHは8.8であった。次いで、このゾルを限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、ZrO2濃度48.9質量%の高濃度のジルコニアゾル453gが得られた。この得られたゾルは、比重1.722、pH8.8、粘度5.5mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)1.2質量%、動的光散乱法による粒子径は82nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が凝集や結合した凝集粒子がほとんどで、その凝集粒子1個の大きさは30〜200nmであった。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図1に示した。そして、このゾルを110℃で乾燥した粉末のX線回折パターンを図11に示した。この粒子は単斜晶形であった。また、このジルコニアゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液1227gと、純水673gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら95℃まで加熱した後、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で585.2g投入した。添加終了後、更に加熱熟成を継続し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら95℃で3時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、ZrO2として9.9質量%含有し、pHは9.8であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下140℃で3時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物もなく完全にゾル化しており、ZrO2として9.9質量%含有し、pHは9.1であった。次いで、このゾルを限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、ZrO2濃度40.0質量%の高濃度のジルコニアゾル535gが得られた。この得られたゾルは、比重1.532、pH8.8、粘度3.9mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)1.0質量%、動的光散乱法による粒子径は70nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が凝集や結合した凝集粒子がほとんどで、その凝集粒子1個の大きさは20〜150nmであった。また、このジルコニアゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液1306.1gと、純水592.2gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら95℃まで加熱した後、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で801.7g投入した。添加終了後、更に105℃まで加温した後、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、ZrO2として12.5質量%含有し、pHは10.6であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下140℃で3時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物もなく完全にゾル化しており、ZrO2として12.5質量%含有し、pHは9.8であった。次いで、このゾルを限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、ZrO2濃度40.6質量%の高濃度のジルコニアゾル748gが得られた。この得られたゾルは、比重1.540、pH8.9、粘度4.1mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)1.0質量%、動的光散乱法による粒子径は77nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が凝集や結合した凝集粒子がほとんどで、その凝集粒子1個の大きさは20〜150nmであった。また、このジルコニアゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
5Lのガラス製容器に、実施例3の限外ろ過装置を使用したゾルの洗浄、濃縮工程の際、排出された濾水(水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して19.4質量%及びZrO2として0.5質量%を含有する。)2546.4gと炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液196.0gとを投入し混合水溶液とした。この混合液の混合比率は、(排出濾水中の炭酸水素テトラメチルアンモニウム):(新たに加える炭酸水素テトラメチルアンモニウム)=85:15(ただし、この値は水酸化テトラメチルアンモニウムに換算した質量比である。)であった。この水溶液を攪拌しながら95℃まで加熱した後、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で771.5g投入した。添加終了後、更に105℃まで加温した後、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、ZrO2として12.5質量%含有し、pHは10.7であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下140℃で3時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物もなく完全にゾル化しており、ZrO2として12.5質量%含有し、pHは10.0であった。次いで、このゾルを限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、ZrO2濃度40.6質量%の高濃度のジルコニアゾル732gが得られた。この得られたゾルは、比重1.540、pH9.0、粘度4.2mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)1.0質量%、動的光散乱法による粒子径は91nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が凝集や結合した凝集粒子がほとんどで、その凝集粒子1個の大きさは20〜200nmであった。また、このジルコニアゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。この得られたゾルは、実施例3で得られたジルコニアゾルと比較して、ゾルの物性及び安定性いずれもほぼ同等であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液713.0gと、純水1983.1gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら50℃まで加熱した後、炭酸セリウム粉末(Ce2(CO3)3、AMR製、CeO2として50.8質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で236.2g投入した。添加終了後、続けて35質量%過酸化水素水を67.7g投入し、1時間攪拌した。その後、更に105℃まで加温した後、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、CeO2として4.0質量%含有し、pHは10.2であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下150℃で3時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、若干の未溶解物や沈降するウェットゲルが見られたがそれ以外の部分は完全にゾル化しており、CeO2として3.9質量%含有し、pHは10.2であった。次いで、このゾルを静定して、未溶解物や沈降するウェットゲルを沈降させ除去した後、限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、CeO2濃度41.5質量%の高濃度のセリアゾル202gが得られた。この得られたゾルは、比重1.566、pH9.0、粘度128mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)0.8質量%、動的光散乱法による粒子径は237nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が様々な方向に繋がって凝集しており、その凝集粒子の長さは20〜500nmであった。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図2に示した。
また、このセリアゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液325.7gと、純水1795.2gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら、メタスズ酸粉末(SnO2として86.0質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で279.1g投入した。添加終了後、この混合液を攪拌しながら105℃まで加熱し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、SnO2として10.0質量%含有し、pHは10.2であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下145℃で3時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物もなく完全にゾル化しており、SnO2として10.0質量%含有し、pHは10.4であった。次いで、このゾルを限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、SnO2濃度42.2質量%の高濃度の酸化スズゾル406gが得られた。この得られたゾルは、比重1.580、pH9.5、粘度11.3mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)1.2質量%、動的光散乱法による粒子径は157nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、5〜50nmの一次粒子が単独でもしくは数個繋がって存在しており、繋がった凝集粒子の長さは20〜300nmであった。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図3に示した。また、この酸化スズゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液1807.2gと、純水1029.3とを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら80℃まで加熱した後、乾燥水酸化アルミニウムゲル粉末(Al(OH)3、協和化学工業(株)製、Al2O3として55.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で163.5g投入した。添加終了後、この混合液を攪拌しながら更に105℃まで加熱し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、Al2O3として3.0質量%含有し、pHは11.5であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下150℃で8時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、若干の未溶解物や沈降するウェットゲルが見られたがそれ以外の部分はコロイド性を有しており、Al2O3として2.8質量%含有し、pHは11.1であった。次いで、このゾルを静定して、未溶解物や沈降するウェットゲルを沈降させ除去した後、限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄したところ、Al2O3濃度3.0質量%のアルミナゾル2100.0gが得られた。この得られたゾルは、pH9.3、粘度290mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)0.2質量%、動的光散乱法による粒子径は450nmであり、洗浄により粒子の凝集が発生したため、Al2O3濃度が比較的低いにも関わらず、粘度が比較的高く動的光散乱法による粒子径も大きくなった。このゾルの凝集をせん断する目的で、このゾル2100.0gをディスパーで強攪拌しながら、10質量%の硝酸25.0gを徐々に添加し、添加終了後1時間攪拌した。得られたゾルは、pH3.8で酸性であった。このゾルをロータリーエバポレーターを使用して減圧濃縮したところ、Al2O3濃度8.0質量%のアルミナゾル788gが得られた。この得られたゾルは、比重1.065、pH4.3、粘度11.4mPa・s、NO3は0.3質量%、動的光散乱法による粒子径は266nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、5〜50nmの一次粒子が単独でもしくは数個繋がって存在しており、繋がった凝集粒子の長さは20〜300nmであった。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図4に示した。また、このアルミナゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液1126.5gと、純水852.8gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、 第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で786.4g投入した。添加終了後、続けて炭酸イットリウム三水和物(関東化学(株)製、Y2O3として54.9質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で34.3g投入した。
この混合液中のY2O3は、Y2O3/(ZrO2+Y2O3)として3モル%含有しており、pH9.5であった。この混合液を攪拌しながら105℃まで加熱し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、(ZrO2+Y2O3)濃度として12.5質量%含有し、pHは10.7であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下140℃で3時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物もなく完全にゾル化しており、(ZrO2+Y2O3)濃度として12.5質量%含有し、pHは9.7であった。次いで、このゾルを限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、(ZrO2+Y2O3)濃度40.5質量%の高濃度の酸化イットリウム−酸化ジルコニウム複合ゾル778gが得られた。この得られたゾルは、比重1.534、pH8.7、粘度16.0mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)0.9質量%、動的光散乱法による粒子径は69nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が凝集や結合した凝集粒子がほとんどで、その凝集粒子1個の大きさは10〜100nmであった。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図5に示した。また、このゾル1gに硫酸2gと水5gを加え、加熱して溶解させた後、水で希釈して希釈溶解液を作成した。この希釈溶解液中のZrO2及びY2O3の含有量をICP発光分析法で測定したところ、Y2O3はY2O3/(ZrO2+Y2O3)として3.5モル%含有していた。更に、この乾燥物の結晶形をX線回折を使用して調べたところ、正方晶又は立方晶のピークが主で単斜晶のピークはほとんど見られなかった。このゾルを110℃で乾燥した粉末のX線回折パターンを図12に示した。また更に、このゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液1472.4gと、純水1180.1gとを投入し希釈水溶液とした。この水溶液を攪拌しながら、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で473.2g投入した。添加終了後、続けて炭酸イットリウム三水和物(関東化学(株)製、Y2O3として54.9質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で74.3g投入した。この混合液中のY2O3はY2O3/(ZrO2+Y2O3)として10モル%含有しており、pH10.0であった。この混合液を攪拌しながら105℃まで加熱し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、(ZrO2+Y2O3)濃度として7.5質量%含有し、pHは10.6であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下150℃で8時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物もなく完全にゾル化しており、(ZrO2+Y2O3)濃度として7.5質量%含有し、pHは10.3であった。次いで、このゾルを限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、(ZrO2+Y2O3)濃度25.0質量%の高濃度の酸化イットリウム−酸化ジルコニウム複合ゾル768gが得られた。この得られたゾルは、比重1.276、pH9.1、粘度66.7mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)0.5質量%、動的光散乱法による粒子径は86nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が凝集や結合した凝集粒子がほとんどで,その凝集粒子1個の大きさは3〜50nmであった。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図6に示した。また、このゾル1gに硫酸2gと水5gを加え、加熱して溶解させた後、水で大希釈して希釈溶解液を作成した。この希釈溶解液中のZrO2及びY2O3の含有量をICP発光分析法で測定したところ、Y2O3はY2O3/(ZrO2+Y2O3)として14.1モル%含有していた。更に、この乾燥物の結晶形をX線回折を使用して調べたところ、正方晶又は立方晶のピークが主で単斜晶のピークはほとんど見られなかった。また更に、このゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
また、このゾル300gに攪拌下で70質量%のグリコール酸水溶液2.2gを添加し、続けて25質量%の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液14.1gを添加し、添加後、1時間攪拌した。この得られたゾルは、(ZrO2+Y2O3)濃度23.7質量%、pH10.5、粘度7.1mPa・s、動的光散乱法による粒子径は49nmであった。このゾルをロータリーエバポレーターを使用して減圧濃縮したところ、(ZrO2+Y2O3)濃度39.7質量%のゾルが得られた。この得られたゾルは、pH10.6、粘度50.6mPa・s、動的光散乱法による粒子径は49nmであり、高濃度化が可能であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液1528.2gと、純水1115.8gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で491.2g投入した。添加終了後、続けて炭酸セリウム粉末(AMR製、CeO2として50.8質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で64.8g投入した。この混合液中のCeO2はCeO2/(ZrO2+CeO2)として10モル%含有しており、pHは10.0であった。この混合液を攪拌しながら105℃まで加熱し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、(ZrO2+CeO2)濃度として7.5質量%含有し、pHは10.8であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下150℃で8時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、若干の未溶解物が見られたがそれ以外の部分は完全にゾル化しており、(ZrO2+CeO2)濃度として7.4質量%含有し、pHは10.8であった。次いで、このゾルを静定して、未溶解物を沈降させ除去した後、限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、(ZrO2+CeO2)濃度30.5質量%の高濃度の酸化セリウム−酸化ジルコニウム複合ゾル669gが得られた。この得られたゾルは、比重1.352、pH8.9、粘度15.4mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)0.5質量%、動的光散乱法による粒子径は128nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が凝集や結合した凝集粒子がほとんどで、その凝集粒子1個の大きさは20〜200nmであった。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図7に示した。また、このゾル1gに硫酸2gと水5gを加え、加熱して溶解させた後、水で希釈して希釈溶解液を作成した。この希釈溶解液中のZrO2及びCeO2の含有量をICP発光分析法で測定したところ、CeO2はCeO2/(ZrO2+CeO2)として11.3モル%含有していた。更に、このゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液1636.0gと、純水924.1gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で526.9g投入した。添加終了後、続けて炭酸カルシウム粉末(関東化学(株)製、CaOとして56.0質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で20.0g投入した。この混合液中のCaOはCaO/(ZrO2+CaO)として10モル%含有しており、pH10.0であった。この混合液を攪拌しながら105℃まで加熱し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、(ZrO2+CaO)濃度として7.5質量%含有し、pHは10.8であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下150℃で8時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、若干の未溶解物が見られたがそれ以外の部分は完全にゾル化しており、(ZrO2+CaO)濃度として7.4質量%含有し、pHは10.2であった。次いで、このゾルを静定し、未溶解物を沈降させ除去した後、限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、(ZrO2+CaO)濃度30.5質量%の高濃度の酸化カルシウム−酸化ジルコニウム複合ゾル630gが得られた。この得られたゾルは、比重1.354、pH8.9、粘度6.0mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)0.4質量%、動的光散乱法による粒子径は59nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が凝集や結合した凝集粒子がほとんどで、その凝集粒子1個の大きさは20〜100nmであった。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図8に示した。また、このゾル1gに硫酸2gと水5gを加え、加熱して溶解させた後、水で希釈して希釈溶解液を作成した。この希釈溶解液中のZrO2及びCaOの含有量をICP発光分析法で測定したところ、CaOはCaO/(ZrO2+CaO)として5.9モル%含有していた。更に、このゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液1636.0gと、純水924.1gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で526.9g投入した。添加終了後、続けて乾燥水酸化アルミニウムゲル(協和化学工業(株)製、Al2O3として55.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で37.0g投入した。この混合液中のAl2O3はAl2O3/(ZrO2+Al2O3)として10モル%含有しており、pH10.3であった。この混合液を攪拌しながら105℃まで加熱し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら105℃で6時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、(ZrO2+Al2O3)濃度として7.5質量%含有し、pHは10.8であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下150℃で8時間の水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、若干の未溶解物が見られたがそれ以外の部分は完全にゾル化しており、(ZrO2+Al2O3)濃度として7.4質量%含有し、pHは10.2であった。次いで、このゾルを静定し、未溶解物を沈降させ除去した後、限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、(ZrO2+Al2O3)濃度24.4質量%の高濃度の酸化アルミニウム−酸化ジルコニウム複合ゾル836gが得られた。この得られたゾルは、比重1.259、pH9.1、粘度13.1mPa・s、水酸化テトラメチルアンモニウム濃度(滴定法)0.6質量%、動的光散乱法による粒子径は106nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。透過型電子顕微鏡により粒子を確認したところ、10nm前後の一次粒子が凝集や結合した凝集粒子がほとんどで、その凝集粒子1個の大きさは20〜100nmであった。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図9に示した。また、このゾル1gに硫酸2gと水5gを加え、加熱して溶解させた後、水で希釈して希釈溶解液を作成した。この希釈溶解液中のZrO2及びAl2O3の含有量をICP発光分析法で測定したところ、Al2O3はAl2O3/(ZrO2+Al2O3)として12.1モル%含有していた。更に、このゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液1190gと、純水982gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら、炭酸ジルコニル粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で364.0g投入した。添加終了後、80℃に加温、1時間熟成した。その後、メタスズ酸44.3g(SnO2として37.6g含有)を徐々に添加し、還流下で5時間加温熟成を行った。
この熟成終了時点では、混合液はゾル状であり、(ZrO2+SnO2)濃度として7.0質量%含有し、pHは10.6であった。このゾルを、3Lステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下150℃で5時間の水熱反応を行った。反応後に得られたものは、(ZrO2+SnO2)濃度として6.8質量%含有し、pHは10.0であった。次いで、このゾルを限外ろ過装置を使用して、純水を徐々に添加しながら、ゾルを洗浄、濃縮したところ、(ZrO2+SnO2)濃度が12.5質量%の高濃度の酸化スズ−酸化ジルコニウム複合ゾル1264gが得られた。この得られたゾルは、pH8.5、粘度2.0mPa・s、透過型電子顕微鏡観察による粒子径は5〜50nm、動的光散乱法による粒子径は20nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。このゾルの電子顕微鏡写真(倍率は20万倍)を図10に示した。
(被覆物A製造/五酸化アンチモンコロイドの製造)
100Lの容器に三酸化アンチモン(広東三国製、Sb2O3として99.5質量%を含有する。)を12.5kg、純水66.0kg及び水酸化カリウム(KOHとして95質量%含有)12.5kgを添加し、攪拌下で、35%過酸化水素8.4kgを徐々に添加した。得られたアンチモン酸カリウム水溶液はSb2O5として15.25質量%、水酸化カリウムとして5.36質量%含有し、K2O/Sb2O5のモル比は1.0であった。
得られたアンチモン酸カリウムの水溶液を2.5質量%に希釈し、カチオン型イオン交換樹脂を充填したカラムに通液した。イオン交換後のアンチモン酸の溶液にジイソプロピルアミンを攪拌下で6.6kg添加し、アルカリ成分含有五酸化アンチモンコロイド溶液を得た。濃度はSb2O5として1.8質量%、ジイソプロピルアミンとして1.2質量%含有し、ジイソプロピルアミン/Sb2O5のモル比は1.69であり、透過型電子顕微鏡による観測で一次粒子径は、1〜10nmであった。
(被覆物B製造/五酸化アンチモン−シリカ複合体コロイドの調整)
ケイ酸カリウム水溶液(SiO2として15.4質量%含有)546gを純水542gにて希釈を行った後、攪拌下にアンチモン酸カリウム水溶液(Sb2O5として14.6質量%含有)を混合して、1時間攪拌を続け、ケイ酸カリウムとアンチモン酸カリウムの混合水溶液を得た。
得られたケイ酸カリウムとアンチモン酸カリウムの混合水溶液を5質量%になるように純水で希釈した後、カチオン型イオン交換樹脂を充填したカラムに通液することで五酸化アンチモン−シリカの複合体コロイドを得た。
(変性ゾルの製造)
被覆物A製造で得られたアミン含有五酸化アンチモンのコロイド水溶液416.0g(Sb2O5として5.0g)に、攪拌下で、実施例13で得られた酸化スズ−酸化ジルコニウム複合ゾル400.0g(ZrO2として50.0g)を純水で5000gに希釈したものを、Sb2O5/ZrO2の質量比が0.1の割合となるよう添加混合し、ついで95℃にて2時間加温熟成を行った。更に240℃にて5時間水熱処理を行った。
得られたゾルを、更に、被覆物B製造で得られた五酸化アンチモン−シリカの複合体コロイド250.0g(Sb2O5+SiO2として5.0g)に、攪拌下でSb2O5+SiO2/ZrO2+SnO2の質量比が0.1の割合となるよう徐々に添加混合し、ついで95℃にて2時間加温熟成を行った。
得られた変性された酸化スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル(希薄液)を分画分子量10万の限外ろ過膜のろ過装置により濃縮し、高濃度の変性された酸化スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル530gを得た。このゾルは比重1.097、粘度1.4mPa・s、pH8.2、動的光散乱法による粒子径18.5nm、全金属酸化物濃度11.0質量%で安定であった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。
上記高濃度の変性された酸化スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル530gをロータリーエバポレーターにて微減圧下でメタノール7Lを徐々に加えながら水を留去することにより、水性ゾルをメタノールで置換した変性された酸化スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル210gを得た。この変性された酸化ジルコニウム複合体メタノールゾルは比重1.016、粘度2.3mPa・s、pH7.8(水との等質量混合物)、金属酸化物に換算した濃度は24.8質量%、水分1.0質量%であった。このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で3ヶ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘等の異常は認められず安定であった。
実施例1で得られたジルコニア水性ゾル221.6gをロータリーエバポレーターにて微減圧下でメタノール5.8Lを徐々に加えながら水を留去することにより、水性ゾルをメタノールで置換して変性されたメタノールジルコニアゾル280gを得た。この変性されたメタノールジルコニアゾルはZrO2濃度38.7質量%、比重1.227、粘度4.9mPa・s、pH11.2(水との等質量混合物)、水分1.0質量%、動的光散乱法による粒子径80nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。また、このメタノールジルコニアゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった。
実施例1で得られたジルコニアゾル295gをステンレス製の容器に入れ、120℃の乾燥器で3時間乾燥後、ミキサーにて粉砕してジルコニア粉末160gを得た。この乾燥粉末を電気炉に入れ、室温から4℃/分の速度で昇温し、700℃に到達後、その温度で5時間焼成することにより、焼成ジルコニア粉末144gを得た。次いで、500mLの容器に、10質量%の硝酸水溶液10.5gと純水145.5gを投入し、ディスパーによる強攪拌下で、この希釈溶液中に焼成ジルコニア粉末を徐々に添加し、合計で144g投入した後、そのまま30分攪拌した。この攪拌終了時点では、混合液はスラリー状であり、ZrO2濃度は48.0質量%含有し、pHは1.8であった。このスラリー300gと5mmの直径を持つジルコニア製硬質ビーズ700gを、9cmの直径を持つサンドミル容器中へ投入し、1000rpmの回転速度で14時間サンドミル処理を実施したところ、スラリー状溶液は、コロイド状のジルコニア溶液となり、焼成ジルコニアの未粉砕物はほとんど見られなかった。その後、ナイロンメッシュを使用して、ビーズを分離し、ZrO2濃度45.7質量%の高濃度のジルコニアゾル310gを回収した。このジルコニアゾルは、比重1.612、pH3.4、粘度3.7mPa・s、NO30.3質量%、動的光散乱法による粒子径は105nmであった。動的光散乱法ではゾル中の粒子の粒子径が観測され、粒子同士の凝集があるときはそれらの凝集粒子の平均粒子径が観測される。また、このジルコニアゾルは、沈降物もなく、50℃の条件下で1ヶ月以上安定であった
3Lのガラス製容器に、炭酸水素テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製、水酸化テトラメチルアンモニウムに換算して44.5質量%を含有する。)水溶液950gと、純水950gとを投入し希釈水溶液とした。この水溶液を室温下で攪拌しながら、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で585.2g投入した後、そのまま室温下で30分攪拌した。この攪拌終了時点では、混合液はスラリー状であり、ZrO2濃度は9.9質量%含有し、pHは9.3であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下140℃で3時間水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物があり、放置すると沈降物が発生し、スラリーに近い状態であった。
3Lのガラス製容器に、25質量%の水酸化テトラメチルアンモニウム(多摩化学工業(株)製)水溶液1657.6gと、純水185.6gとを投入し希釈水溶液とした。この水溶液を攪拌しながら95℃まで加熱した後、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で556.8g投入した。添加終了後、更に加熱熟成を継続し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら95℃で3時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、ZrO2として10.0質量%を含有し、pHは14以上であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下140℃で3時間水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物があり、放置すると二層分離が見られ、スラリーに近い状態であった。
3Lのガラス製容器に、炭酸アンモニウム(アンモニアとして30質量%を含有する。)331.0gと純水1903.0gとを投入し希釈水溶液とする。この水溶液を攪拌しながら95℃まで加熱した後、オキシ炭酸ジルコニウム粉末(ZrOCO3、第一稀元素化学工業(株)製、ZrO2として42.1質量%を含有する。)を水溶液中に徐々に添加し、合計で712.6g投入した。添加終了後、更に加熱熟成を継続し、適宜純水を添加し、濃度調整を行いながら95℃で3時間熟成した。この熟成終了時点では、混合液はスラリー状であり、ZrO2として10.0質量%を含有し、pHは8.6であった。このスラリーを、ステンレス製オートクレーブ容器に移し替え、攪拌下140℃で3時間水熱合成反応を行った。この反応後に得られたものは、未溶解物があり、放置すると二層分離が見られ、スラリーに近い状態であった。
Claims (12)
- 第4級アンモニウムの炭酸塩を含む水性媒体中で金属化合物を60〜110℃で加熱する工程と、110〜250℃で水熱処理を行う工程とを含むことを特徴とする金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記第4級アンモニウムの炭酸塩が、(NR4)2CO3、NR4HCO3(前記各式中、Rは炭化水素基を表わす。)又はそれらの混合物であることを特徴とする請求項1に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記第4級アンモニウムの炭酸塩中の第4級アンモニウムイオンが炭素原子数1乃至18の炭化水素基で構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記第4級アンモニウムの炭酸塩中の第4級アンモニウムイオンが炭素原子数1乃至4の炭化水素基で構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記金属化合物が、2価、3価、及び4価の原子価を有する金属に基づく化合物からなる群から選ばれた1種又は2種以上の金属化合物である請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記2価の原子価を有する金属に基づく化合物が、マグネシウム化合物、カルシウム化合物、バリウム化合物、亜鉛化合物、及びニッケル化合物である請求項5に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記3価の原子価を有する金属に基づく化合物が、イットリウム化合物、アルミニウム化合物、インジウム化合物、鉄化合物、コバルト化合物、セリウム化合物、及びビスマス化合物である請求項5に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記4価の原子価を有する金属に基づく化合物が、チタン化合物、ジルコニウム化合物、ケイ素化合物、スズ化合物、及びセリウム化合物である請求項5に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記金属化合物が、カルシウム化合物、アルミニウム化合物、イットリウム化合物、セリウム化合物、スズ化合物、ジルコニウム化合物、又はそれらの組み合わせである請求項1乃至請求項4に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記金属酸化物が、単一金属酸化物又は複合金属酸化物である請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記加熱工程後に、更に洗浄工程を付加する請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
- 前記洗浄工程及びその後の濃縮工程後のpHが8〜11である請求項11に記載の金属酸化物ゾルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006531628A JP4968450B2 (ja) | 2004-08-17 | 2005-08-08 | 金属酸化物ゾルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004237311 | 2004-08-17 | ||
JP2004237311 | 2004-08-17 | ||
JP2005190454 | 2005-06-29 | ||
JP2005190454 | 2005-06-29 | ||
JP2006531628A JP4968450B2 (ja) | 2004-08-17 | 2005-08-08 | 金属酸化物ゾルの製造方法 |
PCT/JP2005/014526 WO2006019004A1 (ja) | 2004-08-17 | 2005-08-08 | 金属酸化物ゾルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2006019004A1 true JPWO2006019004A1 (ja) | 2008-05-08 |
JP4968450B2 JP4968450B2 (ja) | 2012-07-04 |
Family
ID=35907394
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006531628A Active JP4968450B2 (ja) | 2004-08-17 | 2005-08-08 | 金属酸化物ゾルの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7553474B2 (ja) |
EP (2) | EP1798201B1 (ja) |
JP (1) | JP4968450B2 (ja) |
KR (1) | KR101205231B1 (ja) |
CN (1) | CN101031512B (ja) |
TW (1) | TWI374118B (ja) |
WO (1) | WO2006019004A1 (ja) |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5035545B2 (ja) * | 2005-06-29 | 2012-09-26 | 日産化学工業株式会社 | アルカリ性ジルコニアゾルの製造方法 |
JP4582789B2 (ja) * | 2005-07-25 | 2010-11-17 | 多木化学株式会社 | セリア−ジルコニア固溶体ゾル及びその製造方法 |
CN100340489C (zh) * | 2005-09-27 | 2007-10-03 | 广东省生态环境与土壤研究所 | 一种以工业偏钛酸为原料制备高活性二氧化钛溶胶的方法 |
US20090148380A1 (en) * | 2006-06-05 | 2009-06-11 | Yutaka Ohmori | Method for Producing Metal Oxide Particle |
DE102006032759B4 (de) * | 2006-07-14 | 2010-08-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Stabile Suspensionen von kristallinen ZrO2-Partikeln aus hydrothermal behandelten Sol-Gel-Vorstufenpulvern |
JP4996152B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2012-08-08 | Hoya株式会社 | プラスチックレンズの製造方法 |
EP2045215B1 (en) * | 2006-07-14 | 2013-03-06 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Method for producing modified zirconium oxide-tin oxide composite sol |
JP5209857B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2013-06-12 | Hoya株式会社 | コーティング組成物の製造方法 |
EP2058702A1 (en) | 2006-08-25 | 2009-05-13 | National University Corporation The University of Electro - Communications | Photosensitive composition comprising organic-zirconia composite microparticle |
JP4918880B2 (ja) * | 2007-05-23 | 2012-04-18 | 日産化学工業株式会社 | ジルコニアゾルの製造方法 |
JP2010111536A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Osaka Univ | 金属酸化物分散液およびその製造方法 |
JP5365231B2 (ja) * | 2009-02-06 | 2013-12-11 | 日産自動車株式会社 | 導電性酸化物担体の製造方法 |
SG178248A1 (en) * | 2009-08-11 | 2012-03-29 | Univ Nanyang Tech | Titanate / titania composite nanoparticle |
JP5831946B2 (ja) * | 2011-01-14 | 2015-12-09 | 株式会社三徳 | 触媒の製造法 |
JPWO2012124466A1 (ja) * | 2011-03-15 | 2014-07-17 | 日産化学工業株式会社 | 希土類ドープ酸化ジルコニウムゾル及びその製造方法 |
DE102012211345A1 (de) * | 2011-07-01 | 2013-01-03 | Ceramtec Gmbh | Piezokeramischer bleifreier Werkstoff |
RU2509727C2 (ru) * | 2011-12-30 | 2014-03-20 | Учреждение Российской академии наук Институт химии твердого тела Уральского отделения РАН | Способ получения нанопорошка сложного оксида циркония, иттрия и титана |
JP6036177B2 (ja) * | 2012-10-31 | 2016-11-30 | 住友大阪セメント株式会社 | 親水性膜と親水性膜コーティング物品及び親水性膜形成用塗布液並びに親水性膜の製造方法 |
CN102925060B (zh) * | 2012-11-09 | 2014-03-26 | 济南大学 | 一种大理石复合抛光粉的制备方法 |
US9861962B2 (en) * | 2013-10-08 | 2018-01-09 | Industry Foundation Of Chonnam National University | Selective surface impregnation method for catalytically active materials on particulate catalyst support using mutual repulsive force and soblubility difference between hydrophilic solvent and hydrophobic solvent |
JP6169120B2 (ja) * | 2014-03-13 | 2017-07-26 | 第一稀元素化学工業株式会社 | セリウム含有溶液及びその製造方法 |
TWI543938B (zh) | 2014-05-13 | 2016-08-01 | 國立中央大學 | 金屬氧化物奈米顆粒材料 |
JP6696711B2 (ja) * | 2015-12-28 | 2020-05-20 | 多木化学株式会社 | ニッケルゾル |
RU2615688C1 (ru) * | 2016-04-01 | 2017-04-06 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова Российской академии наук (ИОНХ РАН) | Способ получения стабильных водных коллоидных растворов наночастиц диоксида церия |
JP6774014B2 (ja) * | 2016-08-19 | 2020-10-21 | 公立大学法人兵庫県立大学 | 金属酸化物ナノ粒子の製造方法 |
CN109328179B (zh) * | 2016-10-07 | 2021-12-24 | 托普索公司 | CZTS、CZTSe或CZTSSe型的锌黄锡矿材料 |
JP7117063B2 (ja) * | 2016-12-28 | 2022-08-12 | 多木化学株式会社 | コバルトゾル |
CN107032398A (zh) * | 2017-06-07 | 2017-08-11 | 合肥汇之新机械科技有限公司 | 一种金属氧化锆溶胶的制备工艺 |
RU2652713C1 (ru) * | 2017-06-13 | 2018-04-28 | Федеральное Государственное Бюджетное Учреждение Науки Институт Химии Коми Научного Центра Уральского Отделения Российской Академии Наук | Способ получения концентрированного гидрозоля диоксида циркония |
KR102005862B1 (ko) * | 2017-09-04 | 2019-08-01 | 한경티이씨 주식회사 | 용매열 합성법을 이용한 ysz 나노졸의 제조방법 |
KR20230022831A (ko) * | 2020-03-20 | 2023-02-16 | 더 리전츠 오브 더 유니버시티 오브 캘리포니아 | 탄산세륨(iii) 분산액의 제조 |
CN111420650B (zh) * | 2020-03-31 | 2023-04-18 | 成都信息工程大学 | 1,4-丁二醇选择性脱水制3-丁烯-1-醇用催化剂及其制备与应用 |
CN113292837B (zh) * | 2021-06-07 | 2023-03-10 | 广东顾纳凯材料科技有限公司 | 仿金属外观母粒及其制备方法、聚烯烃复合材料 |
CN113578309B (zh) * | 2021-08-20 | 2023-06-27 | 合肥学院 | 一种高效光催化剂Bi4Ti3O12的制备方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4828813A (en) * | 1981-12-30 | 1989-05-09 | Union Oil Company Of California | Siliceous metal-containing crystalline compositions |
JPH0258213B2 (ja) * | 1986-03-19 | 1990-12-07 | Taki Chemical | |
JPH08208228A (ja) * | 1995-01-31 | 1996-08-13 | Nissan Chem Ind Ltd | 無定形酸化チタンゾルの製造方法 |
JP2555475B2 (ja) * | 1990-10-16 | 1996-11-20 | 工業技術院長 | 無機質微小球体の製造方法 |
JPH1094955A (ja) * | 1996-08-01 | 1998-04-14 | Nissan Chem Ind Ltd | 表面改質された酸化第二セリウム粒子からなる研磨剤及び研磨方法 |
JPH1095614A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-04-14 | Nissan Chem Ind Ltd | 結晶性酸化第二セリウムの製造方法 |
JP3250243B2 (ja) * | 1991-12-24 | 2002-01-28 | 日産化学工業株式会社 | ジルコニア系ゾルの製造方法 |
JP2003026422A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-29 | Fm Giken Kk | 金属酸化物及び/又は金属過酸化物の微粒子分散ゾルとその製造方法並びに微粒子粉体 |
WO2006115043A1 (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 酸性ジルコニアゾル及びその製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60176920A (ja) | 1984-02-21 | 1985-09-11 | Etsuro Kato | ジルコニア系単結晶超微粒子の分散したゾルおよび製造方法 |
JPS6461325A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-08 | Taki Chemical | Titanium oxide-iron solid solution sol and production thereof |
JPS6483519A (en) | 1987-09-24 | 1989-03-29 | Toray Industries | Production of basic crystallized zirconia-based sol |
JPH0665610B2 (ja) | 1989-12-01 | 1994-08-24 | 株式会社日本触媒 | ジルコニアゾルの製造方法 |
JPH0258213A (ja) | 1988-08-23 | 1990-02-27 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2671099B2 (ja) * | 1993-11-05 | 1997-10-29 | テイカ株式会社 | 酸化アンチモン水性ゾルの製造方法 |
FR2736343B1 (fr) * | 1995-07-03 | 1997-09-19 | Rhone Poulenc Chimie | Composition a base d'oxyde de zirconium et d'oxyde de cerium, procede de preparation et utilisation |
US5897958A (en) * | 1995-10-26 | 1999-04-27 | Asahi Glass Company Ltd. | Modified titanium oxide sol, photocatalyst composition and photocatalyst composition-forming agent |
US5962343A (en) * | 1996-07-30 | 1999-10-05 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Process for producing crystalline ceric oxide particles and abrasive |
US6506705B2 (en) * | 1996-12-06 | 2003-01-14 | Rhodia Chimie | Composition based on cerium oxide or on cerium and zirconium oxides, in the extruded form, process for the preparation thereof and use thereof as catalyst |
KR100473904B1 (ko) * | 1999-05-04 | 2005-03-08 | 악조 노벨 엔.브이. | 실리카-기초졸 |
KR100460102B1 (ko) * | 2002-07-15 | 2004-12-03 | 한화석유화학 주식회사 | 금속산화물 초미립자의 제조방법 |
JP4045453B2 (ja) | 2005-02-02 | 2008-02-13 | 船井電機株式会社 | ディスク装置及びその制御方法 |
-
2005
- 2005-08-08 WO PCT/JP2005/014526 patent/WO2006019004A1/ja active Application Filing
- 2005-08-08 EP EP05768872A patent/EP1798201B1/en active Active
- 2005-08-08 JP JP2006531628A patent/JP4968450B2/ja active Active
- 2005-08-08 US US11/660,086 patent/US7553474B2/en active Active
- 2005-08-08 CN CN200580027297XA patent/CN101031512B/zh active Active
- 2005-08-08 EP EP12156654.1A patent/EP2468682B1/en active Active
- 2005-08-08 KR KR1020077003500A patent/KR101205231B1/ko active IP Right Grant
- 2005-08-12 TW TW094127551A patent/TWI374118B/zh active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4828813A (en) * | 1981-12-30 | 1989-05-09 | Union Oil Company Of California | Siliceous metal-containing crystalline compositions |
JPH0258213B2 (ja) * | 1986-03-19 | 1990-12-07 | Taki Chemical | |
JP2555475B2 (ja) * | 1990-10-16 | 1996-11-20 | 工業技術院長 | 無機質微小球体の製造方法 |
JP3250243B2 (ja) * | 1991-12-24 | 2002-01-28 | 日産化学工業株式会社 | ジルコニア系ゾルの製造方法 |
JPH08208228A (ja) * | 1995-01-31 | 1996-08-13 | Nissan Chem Ind Ltd | 無定形酸化チタンゾルの製造方法 |
JPH1095614A (ja) * | 1996-07-30 | 1998-04-14 | Nissan Chem Ind Ltd | 結晶性酸化第二セリウムの製造方法 |
JPH1094955A (ja) * | 1996-08-01 | 1998-04-14 | Nissan Chem Ind Ltd | 表面改質された酸化第二セリウム粒子からなる研磨剤及び研磨方法 |
JP2003026422A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-29 | Fm Giken Kk | 金属酸化物及び/又は金属過酸化物の微粒子分散ゾルとその製造方法並びに微粒子粉体 |
WO2006115043A1 (ja) * | 2005-04-18 | 2006-11-02 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 酸性ジルコニアゾル及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101205231B1 (ko) | 2012-11-28 |
CN101031512A (zh) | 2007-09-05 |
KR20070050922A (ko) | 2007-05-16 |
CN101031512B (zh) | 2010-12-01 |
EP1798201A1 (en) | 2007-06-20 |
TW200609183A (en) | 2006-03-16 |
EP1798201B1 (en) | 2013-04-03 |
TWI374118B (en) | 2012-10-11 |
JP4968450B2 (ja) | 2012-07-04 |
US7553474B2 (en) | 2009-06-30 |
WO2006019004A1 (ja) | 2006-02-23 |
EP1798201A4 (en) | 2011-01-05 |
EP2468682B1 (en) | 2014-01-15 |
EP2468682A1 (en) | 2012-06-27 |
US20080138272A1 (en) | 2008-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4968450B2 (ja) | 金属酸化物ゾルの製造方法 | |
EP0992456B1 (en) | Process for producing composite sols, coating composition, and optical member | |
US8697757B2 (en) | Hydrophobic organic solvent-dispersed sol of anhydrous zinc antimonate colloidal particles and method for producing the same | |
JPH07187613A (ja) | 金属酸化物粉末およびその製造方法 | |
JP7190431B2 (ja) | 被覆無機微粒子及びその製造方法 | |
US6149888A (en) | Method of producing anhydrous zinc antimonate | |
EP1589078B1 (en) | Anhydrous zinc antimonate sol and process for producing same | |
DE60129524T2 (de) | Elektrisch leitfähige Oxidteilchen und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
JP6214412B2 (ja) | コアシェル型酸化物微粒子の分散液、その製造方法、およびその用途 | |
US6093749A (en) | Anhydrous zinc antimonate sol and method for producing the same | |
JP2008239461A (ja) | 金属酸化物微粒子分散物及びその製造方法 | |
JP4605375B2 (ja) | 無水アンチモン酸亜鉛ゾル及びその製造方法 | |
JP2005008515A (ja) | 金属酸化物粒子及びその製造方法 | |
KR102019698B1 (ko) | 개질 지르코니아 미립자 분말, 개질 지르코니아 미립자 분산졸 및 그의 제조방법 | |
JP4171871B2 (ja) | 導電性酸化物粒子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080704 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111214 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120307 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120320 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150413 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4968450 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150413 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |