JP2005008515A - 金属酸化物粒子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 プラスチックやガラスなどの帯電防止剤、紫外線吸収剤、熱線吸収剤、センサーなど種々の用途に用いられる金属酸化物粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 スズ原子、亜鉛原子、アンチモン原子及び酸素原子からなり、ＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に含有し、且つ５〜５００ｎｍの一次粒子径を有する金属酸化物粒子。スズ化合物、亜鉛化合物、及びアンチモン化合物をＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に混合し、３００〜９００℃で焼成する金属酸化物粒子の製造方法。
【選択図】 なし

Description

本願発明はスズ原子、亜鉛原子、アンチモン原子及び酸素原子からなり、ＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に含有し、且つ５〜５００ｎｍの一次粒子径を有する金属酸化物粒子及びその製造方法に関する。本願発明の金属酸化物粒子はルチル型の結晶構造を有するものである。本願発明の金属酸化物粒子は導電性及び熱線吸収能（赤外線吸収能）を有するためにプラスチックやガラスなどの帯電防止剤、紫外線吸収剤、熱線吸収剤、センサーなど種々の用途に用いられる。

塩基性炭酸亜鉛と五酸化アンチモンの酸性水性ゾルをＺｎＯ／Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比が０．５〜１０になるように混合して均一スラリーとし、５０〜１００℃でＣＯ_３／ＺｎＯのモル比が１／５〜１／５００になるまでスラリー中の塩基性炭酸亜鉛に脱炭酸反応を起こさせた後、このスラリーを１５０〜２５０℃で乾燥して得た五酸化アンチモンと酸化亜鉛からなる組成物が記載されている（例えば、特許文献１参照）。

亜鉛化合物とコロイダル酸化アンチモンをＺｎＯ／Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比が０．８〜１．２になるように混合した後、５００〜６８０℃で焼成することにより５〜５００ｎｍの一次粒子径を有し、０．１ｋΩ〜１ＭΩの導電性を有する無水アンチモン酸亜鉛を製造する方法が記載されている（例えば、特許文献２）。

亜鉛化合物とコロイダル酸化アンチモンをＺｎＯ／Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比が０．８〜１．２になるように混合した後、水蒸気を含有するガス中で、３００〜６８０℃で焼成することにより５〜１００ｎｍの一次粒子径を有する導電性無水アンチモン酸亜鉛を製造する方法が記載されている（例えば、特許文献３）。
特開平３−２６７１４３号公報（特許請求の範囲） 特開平６−２１９７４３号公報（特許請求の範囲） 特開平１１−１８９４１６号公報（特許請求の範囲）

本願発明はスズ化合物、亜鉛化合物、及びアンチモン化合物を焼成することによって、スズ原子、亜鉛原子、アンチモン原子及び酸素原子からなる酸化物とすることで導電性及び熱線吸収能を向上させた金属酸化物粒子が得られることを見いだした。
本願発明はスズ、亜鉛及びアンチモンのモル比、製造方法などを検討することにより、優れた導電性及び熱線吸収能を示す金属酸化物粒子を提供するものである。

本願発明は第１観点として、スズ原子、亜鉛原子、アンチモン原子及び酸素原子からなり、ＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に含有し、且つ５〜５００ｎｍの一次粒子径を有する金属酸化物粒子、
第２観点として、金属酸化物がルチル型の結晶構造を有し、且つ一般式〔（ＺｎＯ）_ｘ（Ｓｂ_２Ｏ_５）_ｙ〕_ａ（ＳｎＯ_２）_ｂ（但し、ｘ：ｙ＝０．８０〜１．２０：１、ａ：ｂ＝１：０．０１〜０．３０）で表される酸化スズがドープされたアンチモン酸亜鉛である第１観点に記載の金属酸化物粒子、
第３観点として、金属酸化物がルチル型の結晶構造を有し、且つ一般式〔（ＺｎＯ）_ｘ（Ｓｂ_２Ｏ_５）_ｙ〕_ａ（ＳｎＯ_２）_ｂ（但し、ｘ：ｙ＝０．８０〜１．２０：１、ａ：ｂ＝１：０．３０〜１．００）で表される酸化スズとアンチモン酸亜鉛からなる第１観点に記載の金属酸化物粒子、
第４観点として、スズ化合物、亜鉛化合物、及びアンチモン化合物をＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に混合し、３００〜９００℃で焼成することを特徴とする第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載の金属酸化物粒子の製造方法、
第５観点として、焼成が水蒸気を含有するガス中で行われる第４観点に記載の金属酸化物粒子の製造方法、
第６観点として、第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載の金属酸化物粒子を水性媒体に分散したゾル、
第７観点として、第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載の金属酸化物粒子を有機溶媒に分散したゾル、
第８観点として、第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載の金属酸化物粒子を含有するコーティング組成物、及び
第９観点として、光学基材表面に第８観点に記載のコーティング組成物より形成される硬化膜を有する光学部材である。

本願発明の導電性酸化物粒子はスズ原子、亜鉛原子、アンチモン原子及び酸素原子からなり、ＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に含有し、且つ５〜５００ｎｍの一次粒子径を有し、そしてルチル型の結晶構造を有する金属酸化物粒子である。

この金属酸化物粒子は一次粒子が５〜５００ｎｍの粒子であり、溶媒に分散することにより透明性が高いゾルを得ることができる。また、この金属酸化物は電子伝導性を有し、１０〜１０００Ωｃｍの比抵抗値を示す。この金属酸化物粒子は水溶液中や有機溶媒中でも安定であり、また高温でも安定である。さらに、本願発明の金属酸化物粒子は熱線吸収能が優れているという特徴もある。

以上のことから本願発明の金属酸化物粒子は導電性及び熱線吸収性を有することから、プラスチック成形品、プラスチックフィルム、プラスチック繊維、ガラス、紙などに添加または塗布することにより帯電防止剤、電磁波遮蔽剤、熱線吸収剤として使用することができる。
また、紫外・赤外吸収剤として使用することができる。さらに高屈折率コーティング剤や反射防止剤として使用することもできる。特に透明性帯電防止剤、熱線吸収剤として有効である。また、ガラスやセラミックスの表面に塗布し、焼き付けることにより抵抗体として使用することができる。

本発明の金属酸化物粒子は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等のシランカップリング剤の部分加水分解液、エチルシリケートやメチルシリケートの加水分解液、樹脂エマルジョン、水溶性高分子液、メチルメタアクリレートなどの樹脂の有機溶媒溶解液、シリコーンオイル、塗料などと混合して使用することにより、透明性帯電防止剤、帯電防止能を有するコート剤、透明性電磁波遮蔽剤、電気粘性流体などとして用いることができる。

また、本発明の金属酸化物粒子は、水ガラス、リン酸アルミ水溶液、クロム酸水溶液、メッキ液などに混合することにより金属の表面処理剤などとして用いることができる。

また、この酸化物は金属、プラスチックス、セラミックス等の複合材料用のマイクロフィラーとしても使用することができる。

本願発明は、スズ原子、亜鉛原子、アンチモン原子及び酸素原子からなり、ＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に、好ましくはＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０２〜０．１０：０．８０〜１．２０：１．００の比率に含有し、且つ５〜５００ｎｍの一次粒子径を有する金属酸化物粒子である。

ここで一次粒子とは凝集形態にある金属酸化物粒子の直径ではなく、個々に分離したときの１個の金属酸化物粒子の直径として求められる。

上記の金属酸化物粒子の製造方法は、スズ化合物と亜鉛化合物及びアンチモン化合物をＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に混合し、乾燥した後、大気中、各種ガス中又は水蒸気を含有するガス中で３００〜９００℃で焼成することにより製造することができる。

本願発明に用いられるスズ化合物は、スズの酸化物、スズの無機酸塩、スズの有機酸塩及びスズ酸塩からなる群より選ばれた少なくとも１種類以上のスズ化合物を好ましく用いることができる。スズの酸化物としては酸化第一スズ、酸化第二スズ、メタスズ酸等が挙げられる。スズの無機酸塩としては塩化第一スズ、塩化第二スズ、硫酸第一スズ等が挙げられる。また、スズの有機酸塩としては蓚酸スズ、オクチル酸スズ等が挙げられる。スズ酸塩としてはスズ酸カリウムやスズ酸ナトリウム等が挙げられる。これらのスズ化合物は工業薬品として市販されているものを用いることができるが、スズの塩を用いる場合には焼成により揮発しやすい酸を持った塩、すなわち炭酸塩、有機酸塩が好ましく、これらを単独又は混合して用いることができる。これらスズ化合物は、水溶液、有機溶媒に分散や溶解した溶液、又は粉末状で用いることができる。

本願発明に用いられる亜鉛化合物は、亜鉛の水酸化物、亜鉛の酸化物、亜鉛の無機酸塩及び亜鉛の有機酸塩からなる群より選ばれた少なくとも１種以上の亜鉛化合物である。亜鉛の水酸化物としては水酸化亜鉛が、亜鉛の酸化物としては酸化亜鉛が挙げられる。亜鉛の無機酸塩としては、炭酸亜鉛、塩基性炭酸亜鉛、硝酸亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛等が挙げられる。また、亜鉛の有機酸塩としては、ギ酸亜鉛、酢酸亜鉛、蓚酸亜鉛等が挙げられる。これらの亜鉛化合物は工業薬品として市販されているものを用いることができるが、水酸化亜鉛や酸化亜鉛を用いる場合には、一次粒子径が１００ｎｍ以下のものが好ましい。亜鉛の塩を用いる場合には焼成により揮発しやすい酸を持った塩、すなわち炭酸塩、有機酸塩が好ましく、これらを単独又は混合して用いることができる。これら亜鉛化合物は、水溶液、有機溶媒に分散や溶解した溶液、又は粉末状で用いることができる。

本願発明に用いられるアンチモン化合物はコロイダル酸化アンチモンが好ましく、一次粒子径が１００ｎｍ以下の酸化アンチモンであり、五酸化アンチモンゾル、十三酸化六アンチモンゾル、水和四酸化アンチモンゾル、コロイド状三酸化アンチモンゾルなどが挙げられる。
五酸化アンチモンゾルは公知の方法、例えば三酸化アンチモンを酸化する方法（特公昭５７−１１８４８号公報）、アンチモン酸アルカリをイオン交換樹脂で脱アルカリする方法（米国特許第４１１０２４７号明細書）、アンチモン酸ソーダを酸処理する方法（特開昭６０−４１５３６号公報、特開昭６２−１８２１１６号公報）などにより製造することができる。十三酸化六アンチモンゾルは三酸化アンチモンを酸化する方法（特開昭６２−１２５８４９号公報）で、また、水和四酸化アンチモンゾルも三酸化アンチモンを酸化する方法（特開昭５２−２１２９８号公報）で製造することができる。コロイド状三酸化アンチモンは気相法（特開昭６１−３２９２号公報）によって製造することができる。

本願発明に用いられる酸化アンチモンゾルは、一次粒子径が２〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍでアミン類やアルカリ金属等のような塩基を含有していない酸性のゾルが特に好ましい。酸化アンチモンゾルは酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５又はＳｂ_６Ｏ_１３又はＳｂ_２Ｏ_４）濃度が１〜６０重量％のものを使用することができるが、これをスプレードライ、真空乾燥又は凍結乾燥などの方法により乾燥した酸化アンチモンゾルの乾燥物として使用することもできる。上記コロイダル酸化アンチモンは五酸化アンチモンゾル、五酸化アンチモン粉末、又は超微粒子三酸化アンチモン粉末の形態で工業薬品として市販されているものを使用することができる。

原料として用いる酸化アンチモンはスズ化合物及び亜鉛化合物と焼成して金属酸化物粒子に変化する際に、ごく僅かな粒子径変化を伴うために、生成物の粒子径範囲よりやや広い粒子径範囲を選択することができる。

本願発明では原料として五酸化アンチモンゾルを使用する場合、例えば、三酸化アンチモンと塩基性炭酸亜鉛をＺｎＯ／Ｓｂ_２Ｏ_３のモル比で０．０１〜０．２の割合で水に分散させ、過酸化水素で反応させて得られるＺｎＯをドープさせた五酸化アンチモンのゾルを原料として使用することができる。この時、ドープさせたＺｎＯは最終的に得られた金属酸化物粒子のモル比に含まれるものである。

上記スズ化合物と亜鉛化合物及び酸化アンチモンゾルの混合はサタケ式撹拌機、ファウドラー型撹拌機、ディスパーなどの装置を用い、混合温度は０〜１００℃、混合時間は０．１〜３０時間で行うことができる。上記スズ化合物と亜鉛化合物及び酸化アンチモンゾルの乾燥物あるいはコロイド状三酸化アンチモンの混合は乳鉢、Ｖ型ミキサー、ヘンシェルミキサー、ボールミルなどの装置により行うことができる。

本願発明においてＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に、錫化合物、亜鉛化合物、アンチモン化合物からなる水性スラリーを形成し、それらスラリーを乾燥後、所定の温度で焼成する。

上記スラリーは、例えば上記スズ化合物と亜鉛化合物及び酸化アンチモンゾルあるいはその乾燥物又はコロイド状三酸化アンチモンを混合することが好ましい。本願発明において上記スズ化合物と亜鉛化合物及び酸化アンチモンゾルの混合物（スラリー）の乾燥はスプレードライヤー、ドラムドライヤー、箱形熱風乾燥機、真空乾燥機、凍結乾燥機などにより乾燥することができる。尚、乾燥温度は特に限定されないが、装置あるいは操作から考えて３００℃以下が好ましい。また、このスラリーを吸引ろ過、遠心ろ過、フィルタープレス等で分離し、場合によっては原料に由来の可溶性不純物を注水洗浄により除外し、ウェットケーキとした後、このケーキを上記の乾燥機などにより乾燥することもできる。

本願発明において、アンチモン化合物、スズ化合物、及び亜鉛化合物の水性スラリーを製造する場合、スズ化合物は亜鉛化合物より溶解性が低い場合がある。例えば五酸化アンチモンゾル、メタスズ酸及び塩基性炭酸亜鉛を原料として用いる際に、五酸化アンチモンのイオン交換能を利用して、五酸化アンチモンゾルにメタスズ酸を加えた後、塩基性炭酸亜鉛を加えて水性スラリーを形成することで均一なスラリーとすることが可能である。

スラリー中のアンチモン化合物、スズ化合物、及び亜鉛化合物の反応を促進する目的で、過酸化水素水及び有機酸を添加することができる。これにより、より均一なスラリーを得ることができ、その結果として焼成温度の低下が達成されることにより、粒子成長が抑制され、それら導電性及び熱線吸収能を有する金属酸化物を含むコート液を製造した際に透明性の向上、導電性の向上、熱線吸収能の向上が達成される。過酸化水素の添加量は、特に限定されないが、通常はＨ_２Ｏ_２／Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比で０．１〜１０である。

上記有機酸としては水性媒体への溶解性の点から炭素数の少ない有機酸が用いられる。例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸が好ましく用いられる。これら有機酸の添加量は（有機酸）／Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比で０．００５〜０．５である。

本願発明において上記スズ化合物と亜鉛化合物及び酸化アンチモンゾルの混合物の乾燥物又は上記スズ化合物と亜鉛化合物及び酸化アンチモンゾルの乾燥物あるいはコロイド状三酸化アンチモンとの混合物を、大気中、各種ガス中又は水蒸気を含有するガス中で、３００〜９００℃の温度で、好ましくは４００〜６００℃の温度で、０．５〜５０時間好ましくは２〜１０時間の焼成が行われる。このように焼成することによって固相反応により、酸化スズと酸化亜鉛及び酸化アンチモンが反応してルチル型の結晶構造を有する金属酸化物粒子が得られる。

上記焼成は大気中で行うこともできるが、各種ガス気流中、又は水蒸気を含有するガス気流中で行うことができる。

各種ガスとしては、酸化性ガス、還元性ガス及び不活性ガスを用いることができる。酸化性ガスとしては例えば酸素、空気、窒素と酸素の混合ガス等が挙げられる。還元性ガスとしては水素、一酸化炭素、水素と窒素の混合ガス等が挙げられる。不活性ガスとしては窒素、炭酸ガス、ヘリウム、アルゴン等が挙げられる。

焼成時に水蒸気を含有するガスを使用する場合、水蒸気を混合する温度は、結露防止のため１００℃以上で行われる。水蒸気を含有させるガスとしては、酸化性ガス、還元性ガス及び不活性ガスを用いることができる。酸化性ガスとしては例えば酸素、空気、窒素と酸素の混合ガス等が挙げられる。還元性ガスとしては水素、一酸化炭素、水素と窒素の混合ガス等が挙げられる。不活性ガスとしては窒素、炭酸ガス、ヘリウム、アルゴン等が挙げられる。これらのうち特に空気、窒素を用いることが好ましい。

水蒸気とガスの分圧比は（水蒸気の分圧）／（ガスの分圧）が０．０５〜２．０、好ましくは０．１〜１．０である。ガスと水蒸気の分圧比の制御は、温浴中にガスをバブリングさせて温浴温度で水蒸気分圧を制御する方法、又は１００℃以上でガスと水蒸気を直接混合することによりガスと水蒸気の分圧比を制御する方法がある。

本願発明で水蒸気を含有するガス中で焼成することにより、焼成温度の低下が達成され、その結果として、粒子成長が抑制され、それら導電性及び熱線吸収能を有する金属酸化物を含むコート液を製造した際に透明性の向上、導電性の向上、熱線吸収能の向上が達成される。

本発明の金属酸化物粒子は緑〜濃青色を呈する。本発明の方法により得られた金属酸化物粒子のＸ線回折ピークよりルチル型の結晶構造を有することが確認された。

この金属酸化物粒子はルチル型の結晶構造を有し、且つ一般式〔（ＺｎＯ）_ｘ（Ｓｂ_２Ｏ_５）_ｙ〕_ａ（ＳｎＯ_２）_ｂ（但し、ｘ：ｙ＝０．８０〜１．２０：１、ａ：ｂ＝１：０．０１〜０．３０）で表される範囲では、酸化スズがドープされたアンチモン酸亜鉛である。

また、この金属酸化物粒子はルチル型の結晶構造を有し、且つ一般式〔（ＺｎＯ）_ｘ（Ｓｂ_２Ｏ_５）_ｙ〕_ａ（ＳｎＯ_２）_ｂ（但し、ｘ：ｙ＝０．８０〜１．２０：１、ａ：ｂ＝１：０．３０〜１．００）で表される範囲では、酸化スズとアンチモン酸亜鉛からなる金属酸化物粒子である。

また、本発明の金属酸化物粒子は透過型電子顕微鏡観察の結果、一次粒子が５〜５００ｎｍ、好ましくは５〜３００ｎｍ、更に好ましくは５〜５０ｎｍであり、コロイドレベルの微粒子であることを確認した。

更に本発明の金属酸化物粒子は３００ｋｇ／ｃｍ^２でプレス成型した場合、１０〜１０００Ωｃｍの比抵抗値を示し、良好な電子伝導性を有する導電性酸化物粒子であることを確認した。

本発明により得られた金属酸化物粒子は、水または有機溶媒中でサンドグラインダー、ボールミル、ホモジナイザー、ディスパー、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザーなどにより湿式粉砕することで容易に水性ゾルまたは有機溶媒ゾルとすることができる。

本発明では、得られた金属酸化物粒子の水性ゾルは、所望により、イオン交換樹脂と接触させることにより、不純物イオンを除去し、高純度の金属酸化物粒子の水性ゾルとすることができる。

本発明の金属酸化物粒子を湿式粉砕し、水又は有機溶媒のゾルとする場合、必要に応じてアンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アセトン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン類、アセチルアセトン、アセトニルアセトン等のβ-ジケトン類、アセト酢酸エステル、乳酸エステル、２−メトキシエチルアセテート、２−エトキシエチルアセテートなどのエステル類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、Ｎ−メチルピロリドンなどの複素環化合物および塩酸、硝酸などの無機酸、乳酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸などのオキシカルボン酸を加えて安定化することができる。

本願発明では、金属酸化物粒子の水性ゾルとして得た後に、上記記載の有機溶媒による置換を行って有機溶媒ゾルとすることもできる。有機溶媒による溶媒置換後も、有機溶媒中の金属酸化物粒子の粒子径は、水性ゾル中の金属酸化物粒子の粒子径と大きな変化はない。
有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、２−プロピルアルコール、ブチルアルコールなどのアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ヘキシレングリコールなどのグリコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのエーテル類、メチルエチルケトン等のケトン類、キシレン、トルエン等の炭化水素類を用いることができる。

２−プロピルアルコール、エチレングリコール、メチルエチルケトン、トルエン等の高沸点溶媒を分散媒とする金属酸化物粒子のゾルを製造する場合は、メタノールを分散媒とするゾルを製造した後にこれらの高沸点溶媒に溶媒置換する方法が好ましい。

また、メチルエチルケトン等のケトン類、トルエン等の芳香族炭化水素を分散媒とする金属酸化物粒子のゾルを製造する場合は、比較的高沸点のアルコール類、たとえば２−プロピルアルコール等を加えて混合溶媒とすることで分散性の高い高沸点溶媒ゾルを得ることができる。

そして、高沸点溶媒のゾルは超音波を照射することで、金属酸化物粒子がより高度に分散したゾルを得ることができる。超音波の照射は、ゾルを入れた容器を超音波発生器内に置くことで達成することができる。

本願発明の金属酸化物粒子又はそれらを含有するゾルは、ケイ素化合物、活性エネルギー線重合型メタアクリレート、樹脂エマルジョン、水溶性高分子液、シリコーンオイル、塗料などと混合しコーティング組成物を作成することにより、透明性帯電防止剤、帯電防止能を有するコート剤、透明性電磁波遮蔽剤、電気粘性流体などとして用いることができる。

ケイ素化合物としては、例えば以下のＡ成分及び／またはＢ成分を含む。
Ａ成分：一般式（Ｉ）
（Ｒ^１）_ａ（Ｒ^３）_ｂＳｉ（ＯＲ^２）_{４−（ａ＋ｂ）} （Ｉ）
（ここでＲ^１、Ｒ^３はそれぞれアルキル基、アルケニル基、アリール基、アシル基、ハロゲン基、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、フェニル基、メルカプト基、メタクリルオキシ基およびシアノ基からなる群より選ばれた有機基を示し、Ｒ^２は炭素数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アシル基およびフェニル基からなる群より選ばれる有機基を示し、ａおよびｂは０または１の整数である。）で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物。
Ｂ成分：一般式（ＩＩ）
｛（ＯＸ）_３−ａＳｉ（Ｒ^４）｝_２Ｙ （ＩＩ）
（ここでＲ^４は炭素数１〜５の有機基を示し、Ｘは炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基を示し、Ｙは炭素数２〜２０の有機基を示し、ａは０また１の整数である）で表される有機ケイ素化合物またはその加水分解物。

Ａ成分は、上述した一般式（Ｉ）で示され、その具体的な有機ケイ素化合物またはその加水分解物の例としては、メチルシリケート、エチルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｉｓｏ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、テトラアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアセチキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチルトリフェネチルオキシシラン、グルシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、αーグリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシトリエチキシシラン、β−グリシドキシトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α―グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α―グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β―グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β―グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、α―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β―グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルビニルメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルビニルエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルビニルフェニルメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルビニルフェニルエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ―クロロプロピルトリメトキシシラン、γ―クロロプロピルトリエトキシシラン、γ―クロロプロピルトリアセトキシシラン、３、３、３―トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ―メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ―メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ―メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β―シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、Ｎ―（β―アミノエチル）γ―アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ―（β―アミノエチル）γ―アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ―アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、Ｎ―（β―アミノエチル）γ―アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ―（β―アミノエチル）γ―アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ―クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ―クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ―メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ―メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ―メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ―メルカプトメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン等およびこれらの加水分解物があげられる。

次にＢ成分について説明する。Ｂ成分は、上述した一般式（ＩＩ）で示され、その具体的な有機ケイ素化合物またはその加水分解物の例としては、メチレンビスメチルジメトキシシラン、エチレンビスエチルジメトキシシラン、プロピレンビスエチルジエトキシシラン、ブチレンビスメチルジエトキシシラン等およびこれらの加水分解物があげられる。

Ａ成分、Ｂ成分の有機ケイ素化合物は、Ａ成分あるいはＢ成分のみで単独で、またＡ成分、Ｂ成分を混合して用いることができる。なお、当然のことながらＡ成分を２種類以上用いること、またＢ成分を２種類以上用いることも可能である。

Ａ成分、Ｂ成分の有機ケイ素の加水分解は、Ａ成分、Ｂ成分の有機ケイ素化合物中に、塩酸水溶液、硫酸水溶液、酢酸水溶液などの酸性水溶液を添加し撹拌することにより行われる。

活性エネルギー線重合型メタアクリレートとしては、分子内に１個以上のメタアクリロイル基を有する紫外線もしくは電子線硬化可能なメタアクリレートから任意に選択でき、単独もしくは混合して利用することができる。このメタアクリレートの具体例としては、２−ヒドロキシエチルメタアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、ｔ−ブチルメタアクリレート、イソブチルメタアクリレート、２−エチルヘキシルメタアクリレート、ステアリルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、ωーカルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、アクリロイルオキシエチル酸、アクリル酸ダイマー、ラウリルメタアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、ステアリルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタアクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、イソボニルメタアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルグリシジルエーテルエポキシアクリレート、フェノキシエチルメタアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノールエトキシ化アクリレート、アクリロイルオキシエチルフタル酸、トリブロモフェニルアクリレート、トリブロモフェノールエトキシ化メタアクリレート、メチルメタクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、メタクリロイルオキシエチル酸、メタクリロイルオキシエチルマレイン酸、メタクリロイルオキシエチルフタル酸、ポリエチレングリコールメタアクリレート、ポリプロピレングリコールメタアクリレート、β−カルボキシエチルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアマイド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアマイド、Ｎ−エトキシメチルアクリルアマイド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアマイド、ｔ−ブチルアクリルアミドスルホン酸、ステアリル酸ビニル、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、グリシジルメタアクリレート、ｎ−ブチルメタアクリレート、エチルメタアクリレート、メタクリル酸アリル、セチルメタクリレート、ペンタデシルメタアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタアクリレート、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、メタクロイルオキシエチル琥珀酸、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチル、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、グリコールジアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタアクリロイルフォスフェート、ビスフェノールＡエチレングリコール付加物アクリレート、ビスフェノールＦエチレングリコール付加物アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレートジアクリレート、２−ヒドロキシ−１−アクリロキシ−３−メタクリロキシプロパン、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレングリコール付加物トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレングリコール付加物トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレートトリアクリレート、変性ε−カプロラクトントリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、グリセリンプロピレングリコール付加物トリスアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエチレングリコール付加物テトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、不飽和ポリエステルなどがあげられるが、これらに限定されるものではない。これらのものは単独もしくは任意に混合使用することができるが、好ましくは分子内にメタアクリロイル基を２個以上含有する多官能メタクリレートモノマーもしくはオリゴマーが重合後の皮膜が硬く、対擦傷性が良好で好適である。

製造例１
原料となる五酸化アンチモンゾルの製造
三酸化アンチモン（三国精錬（株）製、９９．９重量％）１００．０ｋｇと塩基性炭酸亜鉛（境化学（株）製、３ＺｎＣＯ_３・４Ｚｎ（ＯＨ）_２、ＺｎＯに換算して７２．７重量％を含有）０．７６７ｋｇを水１２４３ｋｇに分散させ、次いで３５％過酸化水素水１３３．２ｋｇと８７％蟻酸を０．７８８ｋｇ添加し、９０〜１００℃に加温し２時間反応させ五酸化アンチモンゾルを得た。得られたゾルのＳｂ_２Ｏ_５濃度は１４．１重量％であった。

実施例１
製造例１で得られた五酸化アンチモンゾル１１４１ｇに攪拌下でメタ錫酸（昭和化工（株）製、ＳｎＯ_２に換算して８５．６重量％含有）を添加し１時間攪拌した後、３５％過酸化水素水４８．３ｇと蟻酸０．５ｇを添加し、次いで塩基性炭酸亜鉛（境化学（株）製、３ＺｎＣＯ_３・４Ｚｎ（ＯＨ）_２、ＺｎＯに換算して７１．１重量％含有）を添加した後４時間攪拌を行いスラリーを得た。このスラリーの仕込み時のＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比は０．０５：０．９７：１．００である。このスラリーを乾燥機にて１１０℃で乾燥することにより、２１６ｇの粉末を得た。この乾燥粉５ｇを３０ｍｍφ×６００ｍｍのガラス焼成管に仕込み、空気を流量０．６リットル／分で８０℃の温浴にバブリングさせることにより得られた水蒸気／空気の分圧比として０．４７の混合ガスをガラス管に導入し、５００℃で４時間焼成した。得られた粉末は濃青色で、Ｘ線回折測定の結果、ルチル型の結晶構造を有していると考えられる（図１）。この焼成粉のＢＥＴ法による比表面積は４６．８ｍ^２／ｇ、比表面積より算出したＢＥＴ法による粒子径は２０．７ｎｍで、透過型電子顕微鏡観察による一次粒子径は１０〜３０ｎｍであった（図２）。この粉末を３００ｋｇ／ｃｍ^２でプレス成型したものは、四探針法抵抗率測定装置（商品名ロレスター、三菱化学（株）製）による体積抵抗値は５８Ωｃｍであった。また、この粉末を分光式色差計ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ（東京電色（株）製）でＬ、ａ、ｂ、ＹＩを測定した結果を表１に示す。

実施例２
スラリーの仕込み時のＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比を０．０２：０．９７：１．００とした以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末は濃青色であった。この焼成粉のＢＥＴ法による比表面積は４７．１ｍ^２／ｇ、比表面積より算出したＢＥＴ法による粒子径は２０．８ｎｍであった。この粉末を３００ｋｇ／ｃｍ^２でプレス成型したものは、四探針法抵抗率測定装置（商品名ロレスター、三菱化学（株）製）による体積抵抗値は５８Ωｃｍであった。また、この粉末を分光式色差計ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ（東京電色（株）製）でＬ、ａ、ｂ、ＹＩを測定した結果を表１に示す。

実施例３
スラリーの仕込み時のＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比を０．１０：０．９７：１．００とした以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末は濃青色であった。この焼成粉のＢＥＴ法による比表面積は４８．１ｍ^２／ｇ、比表面積より算出したＢＥＴ法による粒子径は２０．１ｎｍであった。この粉末を３００ｋｇ／ｃｍ^２でプレス成型したものは、四探針法抵抗率測定装置（商品名ロレスター、三菱化学（株）製）による体積抵抗値は６１Ωｃｍであった。また、この粉末を分光式色差計ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ（東京電色（株）製）でＬ、ａ、ｂ、ＹＩを測定した結果を表１に示す。

実施例４
スラリーの仕込み時のＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比を０．２０：０．９７：１．００とした以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末は青緑色であった。この焼成粉のＢＥＴ法による比表面積は４６．６ｍ^２／ｇ、比表面積より算出したＢＥＴ法による粒子径は２０．８ｎｍであった。この粉末を３００ｋｇ／ｃｍ^２でプレス成型したものは、四探針法抵抗率測定装置（商品名ロレスター、三菱化学（株）製）による体積抵抗値は８１Ωｃｍであった。また、この粉末を分光式色差計ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ（東京電色（株）製）でＬ、ａ、ｂ、ＹＩを測定した結果を表１に示す。

実施例５
スラリーの仕込み時のＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比を０．３０：０．９７：１．００とした以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末は青緑色であった。この焼成粉のＢＥＴ法による比表面積は４４．８ｍ^２／ｇ、比表面積より算出したＢＥＴ法による粒子径は２１．６ｎｍであった。この粉末を３００ｋｇ／ｃｍ^２でプレス成型したものは、四探針法抵抗率測定装置（商品名ロレスター、三菱化学（株）製）による体積抵抗値は１０５Ωｃｍであった。また、この粉末を分光式色差計ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ（東京電色（株）製）でＬ、ａ、ｂ、ＹＩを測定した結果を表１に示す。

実施例６
スラリーの仕込み時のＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比を１．００：０．９７：１．００とした以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末は緑色であった。この焼成粉のＢＥＴ法による比表面積は４６．５ｍ^２／ｇ、比表面積より算出したＢＥＴ法による粒子径は２０．８ｎｍであった。この粉末を３００ｋｇ／ｃｍ^２でプレス成型したものは、四探針法抵抗率測定装置（商品名ロレスター、三菱化学（株）製）による体積抵抗値は６９Ωｃｍであった。また、この粉末を分光式色差計ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ（東京電色（株）製）でＬ、ａ、ｂ、ＹＩを測定した結果を表１に示す。

実施例７
実施例１で得られた金属酸化物粒子を乳鉢で粉砕した後、粉砕粉１３３ｇと純水３１０ｇ及び０．５ｍｍφガラスビーズをサンドグラインダーに収容し、４時間湿式粉砕を行った。湿式粉砕後、純水１３９５ｇを用い、ガラスビーズと分離した後に、陽イオン交換樹脂（ＩＲ−１２０Ｂ、オルガノ（株）製）７００ｍｌ及び陰イオン交換樹脂（ＩＲＡ−４１０、オルガノ（株）製）７００ｍｌに通液し、次いで攪拌下でジイソプロピルアミン０．６２ｇを添加することにより金属酸化物粒子の水性ゾル２７３１ｇを得た。得られた水性ゾルをロータリーエバポレーターで３９７ｇまで濃縮した。得られた金属酸化物粒子の水性ゾルは透明性を有する濃青色であり、比重１．３６９、ｐＨ６．７、粘度３．０ｍＰａ・ｓ、電導度５３４μＳ／ｃｍ、金属酸化物粒子の固形分濃度は３１．９重量％であった。このゾルは５０℃に１ヶ月保存しても安定であった。このゾルは透過型電子顕微鏡観察により一次粒子径が１０〜３０ｎｍで、レーザー散乱法粒度分布測定機（商品名コールターＮ４、コールター社製）による測定では９８ｎｍ、遠心沈降法（ＣＡＰＡ−７００、（株）堀場製作所製）による測定では平均粒子径が０．０７μｍであった。また、このゾルの乾燥物のＢＥＴ法による比表面積は５３．６ｍ^２／ｇ、比表面積より算出した粒子径は１８．１ｎｍであった。

上記水性ゾル２６８．５ｇをナス型フラスコに採取し、ロータリーエバポレーターにて減圧下でメタノール３．５リットルをチャージしながら溶媒置換を行い、金属酸化物粒子をメタノールに分散させたメタノールゾル２０８ｇを得た。このメタノールゾルにジイソプロピルアミン０．１ｇを添加してｐＨを調整したメタノールゾルを得た。このｐＨ調整後のメタノールゾルは比重１．２３４、ｐＨ（等重量の水で希釈して測定）８．８２、粘度１．８ｍＰａ・ｓ、電導度１２２μＳ／ｃｍ、金属酸化物粒子の固形分濃度は４０．９重量％であった。このゾルは５０℃に１ヶ月保存しても安定であった。このゾルは透過型電子顕微鏡観察により一次粒子径が１０〜３０ｎｍで、レーザー散乱法粒度分布測定機（商品名コールターＮ４、コールター社製）による測定では７７ｎｍ、遠心沈降法（ＣＡＰＡ−７００、（株）堀場製作所製）による測定では平均粒子径が０．０７μｍであった。また、このゾルの乾燥物のＢＥＴ法による比表面積は５３．６ｍ^２／ｇ、比表面積より算出した粒子径は１８．１ｎｍであった。

このメタノールゾルをメタノールで３０％に希釈した後、０．００１インチのアプリケーターでガラス板に塗布した後、自記分光式光度計ＵＶ−３１５０ＰＣ（（株）島津製作所製）で３００ｎｍ〜２０００ｎｍまでの波長の透過率を測定し、その結果を図３に示す
実施例８
実施例７で得られた水性ゾル３７６ｇに純水８２４ｇを加え、陰イオン交換樹脂（ＩＲＡ−４１０、オルガノ（株）製）２００ｃｃ及び陰イオン交換樹脂（ＩＲ−１２０Ｂ、オルガノ（株）製）２００ｃｃに通液することで酸性ゾル １２２５ｇを得た。得られた酸性ゾルに撹拌下でジイソプロピルアミンを０．１８ｇ添加し、ロータリーエバポレーターにて微減圧下（７００Ｔｏｒｒ）で６リットルのメタノールをチャージしながら溶媒置換を行い、金属酸化物粒子をメタノールに分散させた。得られたメタノールゾルにグリコール酸を０．１２ｇ加えた後、４リットルの２−プロピルアルコールをチャージしながら溶媒置換を行い、金属酸化物微粒子を２−プロピルアルコールに分散させた。得られた２−プロピルアルコールゾルに超音波を照射して１０分間分散させることにより、分散性の高い２−プロピルアルコールゾルを得た。この分散性の高い２−プロピルアルコールゾルは比重０．９６、ｐＨ（等重量の水で希釈して測定）５．７、粘度３．７ｍＰａ・ｓ、電導度１３μＳ／ｃｍ、金属酸化物微粒子の固形分濃度は２０．８％であった。このゾルはレーザー散乱法粒度分布測定機（商品名コールターＮ４、コールター社製）による測定では１１８ｎｍ、遠心沈降法（ＣＡＰＡ−７００、（株）堀場製作所製）による測定では平均粒子径が０．０５μｍであった。

実施例９
実施例７で得られた水性ゾル３７６ｇに純水８２４ｇを加え、陰イオン交換樹脂（ＩＲＡ−４１０、オルガノ（株）製）２００ｃｃ及び陰イオン交換樹脂（ＩＲ−１２０Ｂ、オルガノ（株）製）２００ｃｃに通液することで酸性ゾル１２２７ｇを得た。得られた酸性ゾルに撹拌下でジイソプロピルアミンを０．１８ｇ添加し、ロータリーエバポレーターにて微減圧下（７００Ｔｏｒｒ）で５リットルのメタノールをチャージしながら溶媒置換を行い、金属酸化物粒子をメタノールに分散させた。得られたメタノールゾルにグリコール酸を０．１９ｇ及びｎ−ドデシルアミン１．２ｇを加えた後、２リットルのメチルエチルケトンをチャージしながら溶媒置換を行った。得られたメチルエチルケトンゾルに２−プロピルアルコールを３１．５ｇ加えた後、超音波を照射して１０分間分散させることにより、メチルエチルケトンと２−プロピルアルコールの混合溶媒ゾルを得た。得られたメチルエチルケトンと2−プロピルアルコールの混合溶媒ゾルは比重０．９７、ｐＨ（等重量の水で希釈して測定）７．４、粘度２．０ｍＰａ・ｓ、電導度３４μＳ／ｃｍ、金属酸化物微粒子の固形分濃度は２０．０％であった。

実施例１０
実施例７で得られたメタノールゾル７．５ｇに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）３．０ｇ、光開始剤イルガキュアー１８４（チバガイギー社製）０．３ｇ、トルエン４．２ｇを混合した紫外線硬化性樹脂組成物を配合し、金属酸化物微粒子の樹脂組成物を得た。得られた組成物の分散状態は良好であった。これをガラス板の一面に、膜厚１０μｍのアプリケーターを用いて塗布した後、紫外線照射機にて紫外線を照射し、導電性及び熱線吸収特性を持つフィルムを得た。
得られたフィルムを分光式色差計ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ（東京電色（株）製）を用いて測定した結果、Ｌ＝９１．７１、ａ＝−１．９９、ｂ＝２．３４、ＹＩ＝３．２３であり、分光ヘイズメーターＴＣ−Ｈ３ＤＰＫ−ＭＫＩＩ（東京電色（株）製）をもちいてヘイズを測定した結果、ヘイズ値は１．３であった。このフィルムの表面抵抗率測定装置ハイレスターＵＰ（三菱化学（株）製）による表面抵抗値は８×１０^８Ω／□であった。このフィルムを自記分光式光度計ＵＶ−３１５０ＰＣ（（株）島津製作所製）で３００ｎｍ〜２０００ｎｍまでの波長における透過率を測定し、その結果を図４に示す。

比較例１
スラリーの仕込み時のＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比を０：０．９７：１．００となるアンチモン酸亜鉛の組成とした以外は実施例１と同様に行った。得られた粉末は青緑色であった。この焼成粉のＢＥＴ法による比表面積は４３．０ｍ^２／ｇ、比表面積より算出したＢＥＴ法による粒子径は２２．５ｎｍであった。この粉末を３００ｋｇ／ｃｍ^２でプレス成型したものは、四探針法抵抗率測定装置（商品名ロレスター、三菱化学（株）製）による体積抵抗値は１０６Ωｃｍであった。また、この粉末を分光式色差計ＴＣ−１８００ＭＫ−ＩＩ（東京電色（株）製）でＬ、ａ、ｂ、ＹＩを測定した結果を表１に示す。

比較例２
比較例１で得られたアンチモン酸亜鉛粉末を用いた以外は実施例７と同様に行いアンチモン酸亜鉛をメタノールに分散させたメタノールゾルを得た。得られたメタノールゾルをメタノールで３０％に希釈した後、０．００１インチのアプリケーターでガラス板に塗布した後、自記分光式光度計ＵＶ−３１５０ＰＣ（（株）島津製作所製）で３００ｎｍ〜２０００ｎｍまでの波長の透過率を測定し、その結果を図３に示す。
（表１）
表１
――――――――――――――――――――――――――――――
Ｌ ａ ｂ ＹＩ
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実施例１ 33.21 −2.43 −9.09 −54.03
実施例２ 32.54 −2.72 −8.83 −54.37
実施例３ 35.45 −2.94 −8.09 −46.58
実施例４ 39.69 −3.62 −6.93 −37.53
実施例５ 42.25 −3.48 −7.05 −35.56
実施例６ 51.56 −4.03 −5.51 −24.50
比較例１ 46.87 −5.58 −5.60 −29.70
――――――――――――――――――――――――――――――
Ｌは白と黒の関係を示す。ａは（＋）ａ方向が赤色を増し、（−）ａ方向が緑色を増す。ｂは（＋）ｂ方向が黄色を増し、（−）ｂ方向が青色を増す。

表１の分光式色差計の数値はａ値はゼロに近く、ｂ値は小さく、ＹＩ値も小さくすることが好ましい。この様な数値をとることは焼成分の青味が強くなり赤外領域の透過率が低くなるという結果が期待される。

図１から判るように、実施例７の金属酸化物粒子を塗布したガラス板は比較例２のアンチモン酸亜鉛を塗布したガラス板に比べて、可視域の透明性が同等であるが、赤外領域の透過率が低く赤外線の吸収能が高いと言える。

本願発明の金属酸化物粒子は導電性及び熱線吸収能（赤外線吸収能）を有するためにプラスチックやガラスなどの帯電防止剤、紫外線吸収剤、熱線吸収剤、センサーなど種々の用途に用いられる。

実施例１で得られた金属酸化物粒子の粉末Ｘ線回折図である。 実施例１で得られた金属酸化物粒子の粒子構造を示す透過型電子顕微鏡写真であり、倍率は２０万倍である。 実施例７で得られた金属酸化物粒子を塗布したガラス板と、比較例２で得られたアンチモン酸亜鉛粒子を塗布したガラス板とを自記分光式光度計で３００ｎｍ〜２０００ｎｍまでの波長の透過率の測定結果である。 実施例１０で得られた金属酸化物粒子を塗布したフィルムを、自記分光式光度計で３００〜２０００ｎｍまでの波長の透過率の測定結果である。

Claims (9)

1. スズ原子、亜鉛原子、アンチモン原子及び酸素原子からなり、ＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に含有し、且つ５〜５００ｎｍの一次粒子径を有する金属酸化物粒子。
2. 金属酸化物がルチル型の結晶構造を有し、且つ一般式〔（ＺｎＯ）_ｘ（Ｓｂ_２Ｏ_５）_ｙ〕_ａ（ＳｎＯ_２）_ｂ（但し、ｘ：ｙ＝０．８０〜１．２０：１、ａ：ｂ＝１：０．０１〜０．３０）で表される酸化スズがドープされたアンチモン酸亜鉛である請求項１に記載の金属酸化物粒子。
3. 金属酸化物がルチル型の結晶構造を有し、且つ一般式〔（ＺｎＯ）_ｘ（Ｓｂ_２Ｏ_５）_ｙ〕_ａ（ＳｎＯ_２）_ｂ（但し、ｘ：ｙ＝０．８０〜１．２０：１、ａ：ｂ＝１：０．３０〜１．００）で表される酸化スズとアンチモン酸亜鉛からなる請求項１に記載の金属酸化物粒子。
4. スズ化合物、亜鉛化合物、及びアンチモン化合物をＳｎＯ_２：ＺｎＯ：Ｓｂ_２Ｏ_５のモル比として０．０１〜１．００：０．８０〜１．２０：１．００の比率に混合し、３００〜９００℃で焼成することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の金属酸化物粒子の製造方法。
5. 焼成が水蒸気を含有するガス中で行われる請求項４に記載の金属酸化物粒子の製造方法。
6. 請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の金属酸化物粒子を水性媒体に分散したゾル。
7. 請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の金属酸化物粒子を有機溶媒に分散したゾル。
8. 請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の金属酸化物粒子を含有するコーティング組成物。
9. 光学基材表面に請求項８に記載のコーティング組成物より形成される硬化膜を有する光学部材。

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