JPWO2006003936A1 - スナバ回路及びスナバ回路を有するパワー半導体装置 - Google Patents

スナバ回路及びスナバ回路を有するパワー半導体装置 Download PDF

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勝則 浅野
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Abstract

従来のインバータの保護回路としてのスナバ回路は、アノードリアクトル、Siダイオード及び抵抗を有するが、動作中のSiダイオードの接合温度を125℃以下に保たなければならないので大型のヒートシンクを設ける必要があり、部品数が多いとともに小型化が困難であった。アノードリアクトルの電磁エネルギを環流させるスナバ回路のダイオードに、ヒートシンクを必要としないか、又は小型のヒートシンクで十分なワイドギャップ半導体(SiC)のダイオードを用いる。SiCダイオードの電流密度を常温動作時の20〜30倍にすると、オン抵抗が高くなり、スナバ回路の抵抗をこのオン抵抗で肩代わりさせることができる。電流密度の増加でSiCダイオードは高温になる。しかしSiCダイオードは300℃近くの温度でも支障なく動作可能であるので大型のヒートシンクを必要としない。

Description

本発明はスナバ回路及びこのスナバ回路を有する自己消弧型半導体素子を用いるパワー半導体装置に関する。
ゲートターンオフサイリスタ(以下、GTOと略記する)などの自己消弧型の半導体素子には、この半導体素子をオン・オフするときにそのカソードとアノード間に印加される電圧及び素子を流れる電流の急峻な立上がりを抑制するために、スナバ回路と呼ばれる保護回路が設けられている。スナバ回路は半導体素子に印加される急峻な立上がりの電圧及び電流あるいは過電圧によって、半導体素子が障害をうけるのを防止する機能を有する。スナバ回路には、前記の半導体素子に並列に接続される「並列スナバ回路」と直列に接続される「直列スナバ回路」とがある。並列スナバ回路及び直列スナバ回路は、必要に応じていずれか一方又は両方が用いられる。
図7はGTOをスイッチング素子として用いた典型的な従来の三相インバータ装置の回路図である。図において、直流DCの正端子20aと負端子20bとの間に、直列スナバ回路14a、第1のスイッチング回路15a及び第2のスイッチング回路16aの直列接続体が接続されている。同様にして正端子20aと負端子20b間に、直列スナバ回路14b、第1及び第2のスイッチング回路15b、16bの直列接続体、及び直列スナバ回路14c、第1及び第2のスイッチング回路15c、16cの直列接続体がそれぞれ接続され、三相のインバータ装置を構成している。なお第1のスイッチング回路15b、15cは第1のスイッチング回路15aと同じであり、第2のスイッチング回路16b、16cは第2のスイッチング回路16aと同じであるので、それぞれブロックで表示し、詳細な回路図を省略している。第1及び第2のスイッチング回路15aと16aの接続点17a、第1及び第2のスイッチング回路15bと16bの接続点17b、並びに第1及び第2のスイッチング回路15cと16cの接続点17cから三相の交流(AC)が出力される。直列スナバ回路14a、14b、及び14cは全て同じ構成を有し同じ動作をするので、代表として直列スナバ回路14aについて詳細に説明する。また第1及び第2のスイッチング回路15a、15b、15c、16a、16b、16cはすべて同じ構成を有し、同じ動作をするので、代表として第1のスイッチング回路15a(以下、スイッチング回路15aと記す)について詳細に説明する。
直列スナバ回路14aは、インダクタであるアノードリアクトル1aに、シリコン半導体(Si)のダイオード2aと抵抗3aの直列接続体が並列に接続された構成を有する。
スイッチング回路15aは、スイッチング素子としてSiのGTO4を有し、GTO4のアノード・カソード間にフリーホイーリングダイオード5が逆並列に接続されている。GTO4のアノード・カソード間には更に、ダイオード8と抵抗9の並列接続体に、コンデンサ10を直列に接続した並列スナバ回路が接続されている。GTO4のゲート端子には図示を省略した既知の制御回路から制御信号が印加される。この制御信号によりスイッチング回路15a〜15c、16a〜16cは所定のタイミングでオン・オフし、直流DCを交流に変換して交流ACを出力する。
GTO4がターンオンすると、直流DCからの電流が、アノードリアクトル1a及びGTO4を経て流れる。直列スナバ回路14aにおいて、アノードリアクトル1aはGTO4がターンオンするときの電流の立上がり(di/dt)を緩やかにする。
GTO4がターンオフすると、アノードリアクトル1aに蓄えられていた電磁エネルギーによる電流はダイオード2aと抵抗3aを経て流れ、抵抗3aによって消費される。
並列スナバ回路において、GTO4がターンオンすると、コンデンサ10は抵抗9を経て放電する。GTO4がターンオフすると、コンデンサ10はダイオード8を経て流れる電流により充電される。すなわち、アノードリアクトル1aのインダクタンス及び回路の配線のインダクタンスにより流れ続けようとする電流はダイオード8を経てコンデンサ10に流入して、GTO4のアノード・カソード間に発生する過電圧は抑制される。コンデンサ10の電荷は抵抗9を経て徐々に放電される。
特開2000−166248号公報 特開平8−196083号公報
前記従来のインバータ装置の直列スナバ回路14aでは、アノードリアクトル1aに電磁エネルギー環流用のダイオード2aと抵抗3aを必要とすることから、部品数が比較的多いという問題がある。またダイオード2a及び8はシリコンダイオードであるので、動作中の接合温度を125℃以下に保つ必要がある。このために、ダイオード2a及び8には大型の空冷又は水冷のヒートシンクを設けファン等で冷却している。さらに、ダイオード2a及び8を発熱の大きいGTO4から離して設け、温度が高くならないように設計している。しかしながらダイオード2a及び8をGTO4から離して設けると、スペース効率が低下してインバータ装置が大きくなり、当分野で求められている小型化に対応できなくなる。また各素子を接続する配線の長さが長くなり、配線によるインダクタンスの増加が避けられない。インダクタンスの増大によりスナバ回路の時定数が増加して動作速度が低下するとスナバ回路の機能が低下する。
本発明のパワー半導体装置は、電源からの電流をオン・オフする少なくとも1つのスイッチング部、前記スイッチング部と前記電源との間に接続されたインダクタ、前記電流の流れ方向に逆方向になるように前記インダクタに並列に接続されたワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子を有する。
この発明によれば、スイッチング部と電源との間に接続されたインダクタとワイドギャップ半導体ダイオード素子の並列接続体は直列スナバ回路として働く。スイッチング部のターンオン時には直列スナバ回路のインダクタによって電流の立上りが緩やかになり、スイッチング部を保護する効果がある。
スイッチング部のターンオフ時には、インダクタに蓄えられた電磁エネルギーによる電流が環流用のワイドギャップ半導体ダイオード素子を流れ、ワイドギャップ半導体ダイオード素子において熱に変わり消滅する。ワイドギャップ半導体ダイオード素子の温度は上昇するが、ワイドギャップ半導体ダイオード素子は常温よりはるかに高い温度で動作可能であるので、冷却手段が簡略化されるか不要になる。ワイドギャップ半導体ダイオード素子は、例えばシリコンダイオードに比べるとオン抵抗を高くして使うことができる。この高いオン抵抗により前記電磁エネルギーによる電力は熱に変わる。例えばシリコンダイオードを用いるスナバ回路ではシリコンダイオードに直列に抵抗を接続する必要があるが、本発明では前記抵抗の機能をワイドギャップ半導体ダイオード素子が分担する。
本発明の他の観点のパワー半導体装置は電源からの電流をオン・オフする少なくとも1つのスイッチング部、前記スイッチング部と前記電源との間に接続されたインダクタ、前記電流の流れ方向に逆方向になるように前記インダクタに並列に接続された、ワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子と抵抗との直列接続体を有する。
この発明によれば、スイッチング部と電源との間に接続されたインダクタと、前記インダクタに並列に接続された抵抗とワイドギャップ半導体ダイオード素子の直列接続体は直列スナバ回路として働く。スイッチング部のターンオン時には直列スナバ回路のインダクタによって電流の立上りが緩やかになり、スイッチング部を保護する効果がある。
スイッチング部のターンオフ時には、インダクタに蓄えられた電磁エネルギーによる電流がワイドギャップ半導体ダイオード素子を経て抵抗に流れ、ワイドギャップ半導体ダイオード素子と抵抗において熱に変わり消滅する。ワイドギャップ半導体ダイオード素子の温度は上昇するが、ワイドギャップ半導体ダイオード素子は常温よりはるかに高い温度で動作可能であるので、冷却手段が簡略化されるか不要になる。高温動作時のワイドギャップ半導体ダイオード素子は、例えばシリコンダイオードに比べるとオン抵抗が高い。この高いオン抵抗により前記電磁エネルギーによる電力は熱に変わる。本発明では前記抵抗の機能をワイドギャップ半導体ダイオード素子が分担するので、抵抗の値を小さくすることができる。
また、スイッチング部がターンオフする際には、アノードリアクトルの端子間に電圧が発生し、アノードリアクトルの電磁エネルギ環流用のダイオードに変位電流が流れ、その電流はアノードリアクトルを通って流れる電流に重畳され、スイッチング部の電流上昇率が大きくなるが、そのダイオードにワイドギャップ半導体ダイオードを用いると、Siダイオードに比べチップ面積を小さくできるので、その静電容量は小さくなり、変位電流を小さくでき、スイッチング部の電流上昇率を小さくできる。そのため、他方スイッチング部のフリーホイールダイオードの逆回復時間を遅くできるので、スイッチング部の電圧の上昇率も低減できる。
本発明の他の観点のパワー半導体装置は、電源の一方の端子に一端が接続されたインダクタ、前記インダクタに並列に接続された、前記電源の出力電流の方向に逆方向の第1のワイドギャップ半導体ダイオードと抵抗との直列接続体を有する。前記インダクタの他端に第1のスイッチング回路の一端が接続され、前記第1のスイッチング回路の他端に第2のスイッチング回路の一端が接続されている。第2のスイッチング回路の他端は前記電源の他方の端子に接続されている。前記抵抗と前記第1のワイドギャップ半導体ダイオード素子との接続点と、前記電源の他端との間にクランプコンデンサが接続されている。前記抵抗と前記第1のワイドギャップ半導体ダイオード素子との接続点と、前記第1及び第2のスイッチング回路の接続点との間に第1のスナバコンデンサが接続されている。前記第1及び第2のスイッチング回路の接続点と、前記電源の他方の端子との間に、第2のスナバコンデンサと順方向の第2のワイドギャップ半導体ダイオードとの直列接続体が接続されている。
この発明によれば、前記の作用効果に加えて、第1のスナバコンデンサは、第1のスイッチング回路のターンオフ時に第1のスイッチング回路に印加される過電圧を抑制する。また、第2のスナバコンデンサは第2のスイッチング回路のターンオフ時に第2のスイッチング回路に印加される過電圧を抑制する。
本発明の他の観点のパワー半導体装置は、電源の一方の端子に接続された少なくとも1つのインダクタ、前記インダクタのそれぞれに並列に接続された、前記電源の出力電流の方向に逆方向の第1のワイドギャップ半導体ダイオードと抵抗との直列接続体を有する。前記インダクタのそれぞれに第1のスイッチング回路が直列に接続されている。前記第1のスイッチング回路のそれぞれに第2のスイッチング回路が直列に接続されている。前記第2のスイッチング回路のそれぞれと、前記電源の他方の端子との間に第2のインダクタが接続されている。前記第2のインダクタに並列に、逆方向の第2のワイドギャップ半導体ダイオードと第2の抵抗との直列接続体が接続されている。また前記第1の抵抗と第1のワイドギャップ半導体ダイオードの接続点と、前記第2の抵抗と第2のワイドギャップ半導体ダイオードとの接続点との間にコンデンサが接続されている。
この発明によれば、第1のスイッチング回路と電源の間及び第2のスイッチング回路と電源の間にそれぞれ直列スナバ回路が設けられている。これにより、第1及び第2のスイッチング回路の動作にアンバランスが生じにくい。そのため回路の動作が安定になる効果がある。
本発明によれば、直列スナバ回路のアノードリアクトルの電磁エネルギーによる電流を環流するための環流ダイオードに、ワイドギャップ半導体によるダイオードを用いている。ワイドギャップ半導体のダイオードは常温よりはるかに高い温度で使用可能なので、冷却用のヒートシンクの小型化が可能になる。場合によってはヒートシンクは不要になるため、スナバ回路が小型になり、ひいてはパワー半導体装置の小型化ができる。
また前記環流ダイオードが、スイッチング回路に設けられる並列スナバ回路のダイオードとしても働く構成にしたものでは、スイッチング回路の部品点数が減少し、パワー半導体装置の小型化と信頼性の向上につながる。
また、環流用ダイオードにワイドギャップ半導体ダイオードを用いると、チップ面積を小さくできるので、その静電容量が小さくなり、スイッチング部がターンオンする時の環流用ダイオードの変位電流を小さくでき、スイッチング部の電流上昇率を小さくできる。さらに、他方スイッチング部の電圧上昇率を小さくできる。
また、スイッチング素子及びフリーホイーリングダイオードをワイドギャップ半導体で構成したものでは、スイッチング素子及びフリーホイーリングダイオードを1つのパッケージ内に収納し、常温よりも高い高温度で動作させる。これにより、ヒートシンクなどの冷却手段が不要又は小型化されるので、パワー半導体装置の構成が簡単になり小型化が可能になるとともに、前記高温度の環境においても動作可能なパワー半導体装置を実現することができる。
図1は本発明のパワー半導体装置の第1実施例である三相インバータ装置の回路図である。 図2は本発明のパワー半導体装置の第2実施例である三相インバータ装置の1相分のスイッチング回路のみを示す回路図である。 図3は本発明のパワー半導体装置の第3実施例である三相インバータ装置の1相分のスイッチング回路のみを示す回路図である。 図4は本発明のパワー半導体装置の第4実施例である三相インバータ装置の1相分のスイッチング回路のみを示す回路図である。 図5は本発明のパワー半導体装置の第5実施例である三相インバータ装置の1相分のスイッチング回路のみを示す回路図である。 図6は本発明のパワー半導体装置の第6実施例の、三相インバータ装置に用いるSiCショットキーダイオードの断面図である。 図7は従来のインバータ装置の回路図である。
符号の説明
20a 正端子
20b 負端子
31a、31b、31c アノードリアクトル
32a、32b、32c SiC−pnダイオード
33a、33b、33c 抵抗
34a、34b、34c GTO
35a、35b、35c フリーホイーリングダイオード
36a、36b、36c SiC−GTO
37a、37b、37c フリーホイーリングダイオード
38a クランプコンデンサ
40a、41a スナバコンデンサ
45a 抵抗
46a SiCダイオード
54a、54b、54c 直列スナバ回路
55a、55b、55c 第1のスイッチング回路
56a、56b、56c 第2のスイッチング回路
57a、57b、57c 接続点
64a 直列スナバ回路
65a 第1のスイッチング回路
66a 第2のスイッチング回路
74a スナバ回路
76a 第2のスイッチング回路
80 SiCショットキーダイオード
84 カソード電極
85 アノード電極
以下、本発明のパワー半導体装置の好適な実施例を図1から図6を参照して説明する。
《第1実施例》
本発明の第1実施例のパワー半導体装置である三相インバータ装置を図1を参照して説明する。図において、直流入力DC(直流電源)の正端子20aと負端子20bの間に、直列スナバ回路54a、第1のスイッチング回路55a及び第2のスイッチング回路56aがこの順序で接続された直列接続体が接続されている。同様にして、直列スナバ回路54b、第1のスイッチング回路55b及び第2のスイッチング回路56bの直列接続体が正端子20aと負端子20bに接続されている。また、直列スナバ回路54c、第1のスイッチング回路55c、及び第2のスイッチング回路56cの直列接続体が正端子20aと負端子20bの間に接続されている。直列スナバ回路54a、第1及び第2のスイッチング回路55a、56aは、必ずしも上記の順番で正端子20aと負端子20b間に接続される必要はなく、任意の順番で接続してもよい。このことは他の直列スナバ回路54b、54c、第1のスイッチング回路55b、55c、第2のスイッチング回路56b、56cについても同様である。
第1のスイッチング回路55aは、スイッチング素子であるSi又はSiC半導体のGTO34aと、Si又はSiC半導体のフリーホイーリングダイオード35aとの逆並列接続体で構成されている。第1及び第2のスイッチング回路55b、55c、56a〜56cも第1のスイッチング回路55aと同じ構成を有する。各第1のスイッチング回路55a〜55c、第2のスイッチング回路56a〜56cは図示を省略した既知の制御回路からそれぞれのGTOのゲートに印加される制御信号により制御される。そして第1のスイッチング回路55aと第2のスイッチング回路56aとの接続点57a、第1のスイッチング回路55bと第2のスイッチング回路56bとの接続点57b、第1のスイッチング回路55cと第2のスイッチング回路56cの接続点57cから交流出力ACが得られる。図1の回路は、交流出力ACの端子に交流を入力することによりコンバータとしても動作させることができる。この場合直流入力DCの正端子20a、負端子20bに直流出力が得られる。この動作は、実施例2から5においても同様に可能である。
直列スナバ回路54a、54b、54cは同じ構成を有しかつ同じ動作をするので以下代表として直列スナバ回路54aについて詳細に説明する。また第1のスイッチング回路55a〜55c、及び第2のスイッチング回路56a〜56cは同じ構成を有し同じ動作をするので、代表として第1のスイッチング回路55a(以下、単にスイッチング回路55aと記す)について詳細に説明する。
直列スナバ回路54aは、コイル等のインダクタを含むアノードリアクトル31a、及びアノードリアクトル31aに並列に接続された、SiC−pnダイオード32aと抵抗(環流抵抗)33aの直列接続体を有する。SiC−pnダイオード32aは、ワイドギャップ半導体である炭化けい素(SiC)を用いたワイドギャップ半導体pnダイオード(以下、SiCダイオード32aと略記する)である。ワイドギャップ半導体には、窒化ガリウム(GaN)やダイヤモンド等があるが、本実施例ではSiCを用いたものを例に挙げて説明する。アノードリアクトル31aの一方の端子は正端子20aに接続され、他方の端子はスイッチング回路55aに接続されている。
スイッチング回路55aのGTO34aがターンオンすると、直流入力DCによりアノードリアクトル31aを経てGTO34aに電流が流れる。アノードリアクトル31aはGTO34aに流入する電流の立上り特性を緩やかにする。
GTO34aがターンオフすると、アノードリアクトル31aに蓄えられていた電磁エネルギーによる電流が、SiCダイオード32aと抵抗33aを流れ抵抗33aによって熱となって消費される。
本実施例の直列スナバ回路54aに用いられているSiCダイオード32aは以下に説明する特徴を有する。
SiCダイオード32aは、SiCの持つ耐高温度特性から、150℃から500℃程度の接合温度においても正常に動作する。本実施例においては、図1に示すインバータ装置が所望の定常交流電力を出力して動作している状態(以下、定常動作状態という)において、直列スナバ回路54aのSiCダイオード32aを流れる電流の電流密度を、定格動作の場合より高く設定する。すなわち、SiCダイオード32aの電流密度を、接合温度が常温(100℃以下の温度)で動作するときの電流密度の5ないし30倍になるようにする。電流密度を高くすると、SiCダイオード32aの接合温度が上昇する。具体的には、定常動作状態において接合部の温度が約150℃になるような接合面積を有するSiCダイオードを採用する。このことは、SiCダイオード32aを常温で動作させる場合、すなわち定格動作の場合に比べてはるかに小容量で接合面積が小さい、すなわち定格容量の小さいSiCダイオードを用いることになる。
発明者の実験によると、電流密度を定格動作時の約20〜30倍にすれば接合温度は約250℃になることが判った。この倍率はSiCダイオード32aに取付けるヒートシンクの放熱特性や熱抵抗によって変わる。
SiCダイオード32aはその電流密度を高くした結果、接合温度が上昇するとともに、オン抵抗も増大する。オン抵抗の増大によりオン電圧も高くなり、例えば3Vから20Vの範囲にある。オン抵抗の増大により、アノードリアクトル31aに蓄えられた電磁エネルギーによる電力はSiCダイオード32aのオン抵抗によっても消費される。従って抵抗33aで消費されるべき電力がSiCダイオード32aによって分担消費されることになる。そのため抵抗33aとして、図7に示す従来のインバータ装置における直列スナバ回路14aの抵抗3aよりも抵抗値が小さくかつ定格容量も小さいものを用いることができる。さらに、SiCダイオードにより静電容量が小さくなり、SiCダイオードの変位電流を小さくできるので、スイッチング部のターンオン時の電流上昇率を低減できる。
SiCダイオード32aはオフ状態からオン状態に移行する時間(オン時間)がSiダイオード等に比べて短い。そのためGTO34aのターンオフ時にアノードリアクトル31aからの電流を短時間で抵抗33aに流すことができる。これにより前記ターンオフ時にアノードリアクトル31aの両端子間に発生する電圧は低い。この電圧は図7に示すSiダイオード2aを用いた直列スナバ回路14aのものより約40%低減されることが実験により確認された。
直列スナバ回路54aのSiCダイオード32aの代りに高耐電圧のSiCショットキーダイオードを用いてもよい。SiCショットキーダイオードは高温ではSiC−pnダイオードよりオン抵抗が高い。そのためオン電圧も高く本実施例に用いたものでは約250℃のときオン電圧は約30Vである。このようなオン抵抗の高いSiCショットキーダイオードをSiCダイオード32aの代りに用いると、抵抗33aを省くことができる。抵抗33aは通常ヒートシンクを備えているので、抵抗33aを省くことによりそのヒートシンクも不要となり、部品の削減とスペースの削減効果は大きくインバータ装置を小型化する上で有効である。
本実施例の具体例において、直流入力DCの電圧が1000V、GTO34aを流れる電流が50Aのとき、GTO34aが50Aの電流を遮断したときGTO34aに発生する過電圧は約40Vであった。図7に示す従来例のように、直列スナバ回路14aにSiダイオード2aを用いた構成では、前記と同じ条件の直流電圧1000V、50Aの電流を遮断したとき過電圧は約380Vである。従って本実施例における過電圧は従来例のものの約10分の1である。
本実施例の図1に示すスイッチング回路55aでは、GTO34aとフリーホイーリングダイオード35aを一点鎖線で示す1つのパッケージ内に収納して、GTO34aとフリーホイーリングダイオード35a間の接続導線の短縮化を図っている。導線の短縮化によりインダクタンスが低減されてインバータ装置の高周波化が可能になる。またGTO34aとフリーホイーリングダイオード35aを1つのパッケージに収納することにより、個別部品を組合せた場合より部品点数が減るので信頼性が向上するとともに、トータルのコストが低減されかつ小型化が図れる。
前記パッケージ内に直列スナバ回路54aのSiCダイオード32aをも収納する構成(図示省略)にしてもよい。この構成では、スイッチング素子のGTO34aにSiC−GTOを用い、かつフリーホイーリングダイオード35aにSiCダイオードを用いる。すなわちすべての半導体素子をSiC半導体を用いたものとし、1つのパッケージ内に収納することにより、パッケージ内のすべてのSiCの半導体素子を250℃程度の高温で動作させることができる。そのため、パッケージのヒートシンクなどの冷却装置が簡略化され、構造が簡単になるとともに大幅な小型化が図れる。
本実施例の直列スナバ回路54aはアノードリアクトル31aに、SiCダイオード32aと抵抗33aの直列接続体を並列に接続しているが、その他の構成として、アノードリアクトル31aに、SiCダイオード32aと電力回生回路の直列接続体を接続した構成においても本実施と同様の効果が得られる。電力回生回路は、抵抗33aで熱となって消費される電気エネルギを回収して有効利用を図る回路である。
図1に示す本実施例において、直列スナバ回路54aを第1のスイッチング回路55aと第2のスイッチング回路56aの間に接続しても、同様の効果を得ることができる。
《第2実施例》
本発明の第2実施例のパワー半導体装置である三相インバータ装置を図2を参照して説明する。図2は本発明の第2実施例の三相インバータ装置の1相分のスイッチング回路を示す。図において、直流入力DC(直流電源)の正端子20aと負端子20b間に、スナバ回路64a、第1のスイッチング回路65a及び第2のスイッチング回路66aの直列接続体が接続されている。実際の三相のインバータ装置では同じ構成を有し同様の動作をする3相分の3つの直列接続体が正端子20aと負端子20b間に接続されているが、簡略化のため1相分のみを図示し他の2相分は図示及び説明を省略している。本実施例の三相インバータ装置は図示を省略した既知の制御回路により制御されるが、第1のスイッチング回路65aと第2のスイッチング回路66aは異なるタイミングでオンになり、同時にオンになることはない。
図2において、直列スナバ回路64aは、アノードリアクトル31a、及びアノードリアクトル31aに並列に接続された、環流ダイオードとして働くSiCダイオード32aと抵抗33aとの直列接続体を有している。SiCダイオード32aと抵抗33aの接続点と、負端子20bとの間にはクランプコンデンサ38aが接続されている。本実施例では、直列スナバ回路64aのSiCダイオード32aは、第1のスイッチング回路65aのパッケージ内に収納されている。第1及び第2のスイッチング回路65a及び66aのスイッチング素子はそれぞれSiC−GTO34a及びSiC−GTO36aであり、SiC半導体を用いたGTOである。スイッチング素子を、ワイドギャップ半導体のSiCを用いたSiC−GTO34a及び36aとすることにより、スイッチング速度はSi−GTOに比べて10倍以上となる。フリーホイーリングダイオードはフリーホイーリングダイオード35a及びフリーホイーリングダイオード37aである。第2のスイッチング回路66aにおいても、SiC−GTO36aとフリーホイーリングダイオード37aは1つのパッケージ内に収納されている。
本実施例では、SiCダイオード32aと抵抗33aの接続点と、負端子20b間にクランプコンデンサ38aを接続したことにより、SiCダイオード32aは第1及び第2のスイッチング回路65a及び66aの直列体に直流入力DCの電圧より高い過電圧が印加された時にクランプダイオードとしても機能する。SiCダイオード32aがクランプダイオードとして働くことにより、クランプダイオードを別に設ける必要がなくなる。そのため第1のスイッチング回路65aと直列スナバ回路64aを含む回路が簡単化され、配線の短縮化が図れる。その結果配線のインダクタンスが小さくなり、SiC−GTO34aがターンオフするとき、アノードとカソード間に印加される過電圧を低下させることができる。これによりSiC−GTO34aが過電圧により損傷をうけるのを防止することができる。
図2に示すインバータ装置の動作中において、第1のスイッチング回路65aのスイッチング素子であるSiC−GTO34aがターンオフすると、アノードリアクトル31aや配線のインダクタンスに保持されていた電磁エネルギーによって過電圧が発生する。この過電圧を抑制するために、過電圧による電流をクランプコンデンサ38aに流してこれを充電する。これによってSiC−GTO34aに過電圧が印加されるのを防止することができる。クランプコンデンサ38aに充電された余剰な電力は抵抗33aに流れて消費される。直列スナバ回路64aの環流用ダイオードにSiCダイオード32aを用いているので、SiC−GTO34aがターンオフしたときアノードリアクトル31aを流れる電流を高速でSiCダイオード32aを経て環流用の抵抗33aに流すことができる。そのためアノードリアクトル31aの電磁エネルギーによる過電圧がSiC−GTO34aに印加されるのを防止することができる。またSiCダイオード32aの大きなオン抵抗により、アノードリアクトル31aの電磁エネルギーによる電力を消費させることにより、抵抗33aのみで消費させる場合に比べてより速い速度で電力を減衰させることができる。またSiCダイオード32aの高速動作によりインバータ装置の駆動周波数を高くすることができる。
また、SiCダイオードの低静電容量により、スイッチング部の電流上昇率を抑制できるので、他方スイッチング部に印加される電圧の上昇率を抑えることができる。
前記の第1実施例と同様に、本実施例においても、直列スナバ回路64aのSiCダイオード32aは約250℃の高温においても動作できるようになされている。また、SiCダイオード32aと同じパッケージ内のSiC−GTO34a及びフリーホイーリングダイオード35aも、高い電流密度で動作させるので前記SiCダイオード32aとほぼ同じ温度になる。SiCダイオード32aを高い電流密度で動作させることによって、前記第1実施例において説明したと同様の作用効果が得られる。また第1のスイッチング回路65aと同様に第2のスイッチング回路66aをも高温で動作させることができるので、第1及び第2のスイッチング回路65a及び66aのヒートシンク等が不要になるか又は小型化され、インバータ装置全体の小型化が達成される。第1及び第2のスイッチング回路65a及び66aをそれぞれパッケージ内に収納することにより部品点数が少なくなるとともに信頼性が向上し、インバータ装置の小型化及びコストの低減が図れる。
電流密度を高くすることで直列スナバ回路64aのSiCダイオード32aのオン抵抗が高くなるので、抵抗33aの抵抗をSiCダイオード32aのオン抵抗で肩代わりさせて、抵抗33aを除くこともできる。この場合クランプコンデンサ38aは、SiCダイオード32aとフリーホイーリングダイオード35aの接続点と、負端子20bとの間に接続する。これにより更なる小型化が図れる。
第1及び第2のスイッチング回路65a、66aをそれぞれのパッケージ内に収納することにより各素子間を接続する接続導体の長さが短縮されるので接続導体のインダクタンスが減少する。前記インダクタンスの減少により、このインダクタンスに起因する過電圧の発生を抑制することができるとともに、インバータ装置の駆動周波数を高くすることが可能になる。
《第3実施例》
本発明の第3実施例のパワー半導体装置である三相インバータ装置を図3を参照して説明する。図3は三相インバータ装置の1相分のスイッチング回路を示す回路図であり、他の2相分の回路は図示を省略している。図3において、アノードリアクトル31a、SiCダイオード32a及び抵抗33aからなる直列スナバ回路64aは図2に示す前記第2実施例と同じである。
第1のスイッチング回路65aは、SiC−GTO34aと逆並列接続のSiCのフリーホイーリングダイオード35aとを有し、SiC−GTO34a、SiCダイオード32a、35aは1つのパッケージ内に収納されている。SiCダイオード32aのカソードと負端子20b間にクランプコンデンサ38aが接続され、SiCダイオード32aのカソードとSiC−GTO34aのカソード間にスナバコンデンサ40aが接続されている。SiCダイオード32aとスナバコンデンサ40aは第1のスイッチング回路65aの並列スナバ回路を構成している。従ってSiCダイオード32aは直列スナバ回路64aと並列スナバ回路に共通の要素として機能する。
第2のスイッチング回路76aは、SiC−GTO36a、SiC−GTO36aに逆並列に接続されたフリーホイーリングダイオード37a及びSiC−GTO36aのアノードとカソード間に接続された、スナバコンデンサ41aとSiCダイオード39aの直列接続体を有する。SiCダイオード39aとスナバコンデンサ41aは、第2のスイッチング回路76aの並列スナバ回路を構成している。
本実施例においても、前記第2実施例と同様にSiCダイオード32a、35a及びSiC−GTO34aは250℃程度の高温で動作させることができる。第2のスイッチング回路76aのSiC−GTO36a及びSiCのフリーホイーリングダイオード37a、39aは常温で動作させてもよく、また250℃程度の高い温度で動作させてもよい。
本実施例の三相インバータ装置では、SiCダイオード32aとスナバコンデンサ40aにより、SiC−GTO34aのターンオフ時にSiC−GTO34aに印加される過電圧を低く抑制することができる。またSiC−ダイオード39aとスナバコンデンサ41aにより、SiC−GTO36aのターンオフ時にSiC−GTO36aに印加される過電圧を低く抑制することができる。過電圧を吸収するためにスナバコンデンサ40aに蓄えられたエネルギーは直列スナバ回路64aの抵抗33aで一部分が消費され、残りは電源に戻る。
本実施例では、直列スナバ回路64aのアノードリアクトル31aの電磁エネルギーを環流するためのSiCダイオード32aが、スナバコンデンサ40aとの組合せで構成される並列スナバ回路の構成要素を兼ねている。そのため部品点数が減少する。本実施例においても第1及び第2のスイッチング回路65a及び76aの各要素を250℃以上の高温で動作させることができるので、ヒートシンクを小型化することができる。これにより、インバータ装置の小型化が可能となる。またスナバコンデンサ40a、41aを有する並列スナバ回路を有するので、スイッチング素子として、Si−GTOよりもスイッチング時間がはるかに短いSiC−GTO34a、36aを用いた第1及び第2のスイッチング回路65a、76aにおけるターンオフ時の大きな過電圧が効果的に抑制される。
《第4実施例》
図4は本発明の第4実施例のパワー半導体装置である三相インバータ装置の1相分の回路図である。他の2相分の回路は前記1相分の回路と同じであるので図示を省略している。
図4において、直列スナバ回路64a、第1及び第2のスイッチング回路65a及び76aは、図3に示す前記第3実施例のものと同じである。
本実施例においては、第2のスイッチング回路76aのSiC−GTO36aのカソードと直流入力DCの負端子20b間にもう1つのアノードリアクトル43aが接続されている。またSiCダイオード46aのアノードと負端子20b間にもう1つの抵抗45aが接続されている。直列スナバ回路64aのSiCダイオード32aのカソードと前記SiCダイオード46aのアノードとの間にクランプコンデンサ38aが接続されている。
本実施例では、第1のスイッチング回路65aのパッケージ内に、SiC−GTO34a、フリーホイーリングダイオード35a及びSiCダイオード32aが収納されている。また第2のスイッチング回路76aも1つのパッケージ内に収納されている。SiC−GTO34a及び36a、SiCダイオード32a、35a、37a及び46aは常温より高い例えば250℃程度の温度において動作させる。これによりヒートシンクの小型化が可能になりインバータ装置の小型化につながる。
本実施例のインバータ装置の動作中において、SiC−GTO34aのターンオフにおいて、SiCダイオード32a及びフリーホイーリングダイオード35aのリカバリー時に、SiC−GTO34a及びフリーホイーリングダイオード35aに印加される過電圧はクランプコンデンサ38aによって抑制される。SiC−GTO36aのターンオフにおいて、フリーホイーリングダイオード37a及びSiCダイオード46aのリカバリー時に、SiC−GTO36a及びフリーホイーリングダイオード37aに印加される過電圧はクランプコンデンサ38aによって抑制される。またアノードリアクトル31a及び43aのインダクタンスを所定値にすると、フリーホイーリングダイオード35a又は37aのリカバリー回復時にSiC−GTO34a又は36aに印加される電圧の上昇率をSiC−GTO34a、36aの臨界電圧上昇率よりも低くなるように抑制することができる。これによりSiC−GTO34a又は36aが誤点弧することはなく、誤点弧によりSiC−GTO34a、36aが障害をうけるのを防止することができる。
本実施例のインバータ装置では、第1のスイッチング回路65aと正端子20aの間にアノードリアクトル31aを設け、かつ第2のスイッチング回路76aと負端子20bの間にアノードリアクトル43aを設けているので、インバータ回路の上下アームにおける過電圧のアンバランスや電圧上昇率の違いを小さくすることができる。
《第5実施例》
図5は本発明の第5実施例のパワー半導体装置である三相インバータ装置の1相分の回路図であり、他の2相分の回路は図示を省略している。
図5に示す回路は、図4に示す前記第4実施例の回路において、SiCダイオード32aのカソードとSiC−GTO34aのカソードとの間にスナバコンデンサ40aを接続し、SiCダイオード46aのアノードとSiC−GTO36aのアノードとの間にスナバコンデンサ41aを接続している。その他の構成は、図4に示すものと同じである。
本実施例のインバータ装置の動作中において、SiC−GTO34a又はSiC−GTO36aがターンオフするときに生じる過電圧は、それぞれのスナバコンデンサ40a又は41aの充電により低減される。また、フリーホイーリングダイオード35a又は37aのリカバリー時に生じる急激な電圧上昇もスナバコンデンサ40a又は41aの充電により抑制される。その結果SiC−GTO34a、36aの誤点弧を防止することができ、誤点弧によりSiC−GTO34a又は36aが破壊されたり障害をうけるおそれはない。
本実施例においても、SiC−GTO34a、SiCダイオード32a及びフリーホイーリングダイオード35aは1つのパッケージ内に収納されている。またSiC−GTO36a、SiCダイオード46a及びフリーホイーリングダイオード37aも1つのパッケージ内に収納されている。各パッケージ内の半導体素子はすべてワイドギャップ半導体のSiCを用いているので常温より高い例えば250℃程度の温度においても使用可能である。従ってヒートシンクなどの冷却手段を簡略化できるとともに、場合によっては省くことも可能である。SiC−GTO34a、SiCダイオード32a及びフリーホイーリングダイオード35aを1つのパッケージ内に収納し、SiC−GTO36a、SiCダイオード46a及びフリーホイーリングダイオード37aを1つのパッケージ内に収納することで、それぞれのパッケージ内で素子相互間の接続導体が短縮される。これにより第1及び第2のスイッチング回路65a及び76aにおける高周波特性が改善されるとともに小型化を図ることができる。
また、SiC−GTO34a、SiCダイオード32a及びフリーホイーリングダイオード35aを1つのパッケージ内に収納することにより、これら3つの素子の温度がほぼ同じになり、動作時の特性がほぼ同じになるという効果も得られる。この効果については第2のスイッチング回路76a内の各素子についても同様である。
《第6実施例》
図6は、本発明の第6実施例のパワー半導体装置である三相インバータ装置の直列スナバ回路に用いるSiCショットキーダイオードの断面図である。本実施例のSiCショットキーダイオードは、図1から図5に示す前記第1から第5実施例の三相インバータ装置において、SiCダイオード32a、39a及び46aに代えて用いることができる。
図6において、高不純物濃度(n+)のn型4H−SiC半導体の厚さ300μmの基板81の上に、窒素を不純物として含む低不純物濃度(n−)の、厚さ50〜100μmのn−SiC半導体のドリフト層82を形成する。ドリフト層82の不純物濃度は、1×1013〜5×1014cm−3の範囲にするのが望ましい。基板81の下面にはニッケル(Ni)や金等によるカソード電極84を設け、ドリフト層82の上面にはニッケルによるアノード電極85を設けている。
一般に、SiC半導体ダイオードはドリフト層の層厚を厚くしたり、不純物濃度を低くするとオン抵抗が高くなる。本実施例では、SiCショットキーダイオード80のドリフト層82の層厚を厚くすることによりオン抵抗を高くする。また不純物濃度を低くしてオン抵抗を高くする。本実施例におけるSiCショットキーダイオード80は、ドリフト層82の層厚を100μm程度にしている。ドリフト層82の層厚は、このSiCショットキーダイオード80に印加される逆電圧に耐えるために必要な層厚の1.5倍以上の厚さに厚くしている。これにより、オン抵抗も標準的な設計基準により作ったSiCショットキーダイオードの約1.5倍以上になる。SiC−pnダイオードもドリフト層の層厚を厚くしたり、不純物濃度を低くするとオン抵抗は増加する。また温度が高くなると、オン抵抗が高くなるが、SiCショットキーダイオード程高くはならない。
本実施例のSiCショットキーダイオード80を、例えば図1のSiCダイオード32aの代わりに用いる。SiCショットキーダイオード80のオン抵抗による素子内の電力消費が大きいので、ショットキーダイオード80は発熱して温度が上昇する。ショットキーダイオード80は高温ではSiC−pnダイオードよりオン抵抗が高くなるので、抵抗33aの抵抗を肩代わりすることができる。場合によっては抵抗33aを省くことも可能となる。
前記の第1から第5実施例ではスイッチング素子としてSiC−GTOを用いているが、SiC以外の窒化ガリウム(GaN)やダイヤモンドなどの他のワイドギャップ半導体のGTOであってもよく、この場合でも同様の作用及び効果を得ることができる。また各実施例に用いたGTOはゲートがカソード側にある構造のものであるが、ゲートがアノード側にあるGTO(図示省略)でも使用可能であり、同様の効果を得ることができる。
本発明は、高耐電圧かつ小型のパワー半導体装置に利用可能である。

Claims (23)

  1. インダクタ、及び
    前記インダクタに並列に接続されたワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子
    を有するスナバ回路。
  2. インダクタ、及び
    前記インダクタに並列に接続された、ワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子と抵抗との直列接続体
    を有するスナバ回路。
  3. インダクタ、及び
    前記インダクタに並列に接続された、ワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子と電力回生回路との直列接続体
    を有するスナバ回路。
  4. 電源からの電流をオン・オフする少なくとも1つのスイッチング部、
    前記スイッチング部に直列に接続されたインダクタ、及び
    前記インダクタに並列に接続されたワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子
    を有するパワー半導体装置。
  5. 電源からの電流をオン・オフする少なくとも1つのスイッチング部、
    前記スイッチング部に直列に接続されたインダクタ、及び
    前記インダクタに並列に接続された、ワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子と抵抗との直列接続体
    を有するパワー半導体装置。
  6. 電流をオン・オフする第1のスイッチング部、
    前記第1のスイッチング部に直列に接続された第2のスイッチング部及び
    前記第1又は第2のスイッチング部に直列に接続されたインダクタ、及び
    前記インダクタに並列に接続されたワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子と抵抗との直列接続体を有するパワー半導体装置。
  7. 電流をオン・オフする第1のスイッチング部、
    前記第1のスイッチング部に直列に接続された第2のスイッチング部及び
    前記第1のスイッチング部に直列に接続された第1のインダクタ、
    前記第1のインダクタに並列に接続された、ワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子と抵抗との直列接続体
    前記第2のスイッチング部に直列に接続された第2のインダクタ、及び
    前記第2のインダクタに並列に接続された、ワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体ダイオード素子と抵抗との直列接続体
    を有するパワー半導体装置。
  8. 前記スイッチング部は、前記電流の流れ方向に順方向に接続された半導体スイッチング素子及び前記スイッチング素子に逆並列に接続されたフリーホイーリングダイオードを有する請求項4に記載のパワー半導体装置。
  9. 前記ワイドギャップ半導体ダイオード素子は、動作中の接合部の温度が常温より高い温度になるように、前記接合部の電流密度が設定されていることを特徴とする請求項4に記載のパワー半導体装置。
  10. 前記ワイドギャップ半導体ダイオード素子は、動作中の接合部の温度が150℃以上になるように、前記接合部の電流密度が設定されていることを特徴とする請求項4に記載のパワー半導体装置。
  11. 前記スイッチング部は、ワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体スイッチング素子及び前記ワイドギャップ半導体スイッチング素子に逆並列に接続されたワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体フリーホイーリングダイオードを有し、前記ワイドギャップ半導体スイッチング素子、前記ワイドギャップ半導体フリーホイーリングダイオード及び前記ワイドギャップ半導体ダイオード素子を1つのパッケージ内に設けたことを特徴とする請求項4に記載のパワー半導体装置。
  12. 前記電源の一方の端子に一端が接続された抵抗の他端と前記ワイドギャップ半導体ダイオード素子との接続点と、前記電源の他端との間にコンデンサを接続したことを特徴とする請求項6に記載のパワー半導体装置。
  13. 電源の一方の端子に一端が接続されたインダクタ、
    前記インダクタに並列に接続された、前記電源の出力電流の方向に逆方向の第1のワイドギャップ半導体ダイオードと抵抗との直列接続体、
    前記インダクタの他端に一端が接続された第1のスイッチング回路、
    前記第1のスイッチング回路の他端に一端が接続され、他端は前記電源の他方の端子に接続された第2のスイッチング回路、
    前記抵抗と前記第1のワイドギャップ半導体ダイオード素子との接続点と、前記第2のスイッチング回路の他端との間に接続されたクランプコンデンサ、
    前記抵抗と前記第1のワイドギャップ半導体ダイオード素子との接続点と、前記第1及び第2のスイッチング回路の接続点との間に接続された第1のスナバコンデンサ、及び
    前記第1及び第2のスイッチング回路の接続点と、前記第2のスイッチング回路の他端との間に接続された、第2のスナバコンデンサと順方向の第2のワイドギャップ半導体ダイオードとの直列接続体
    を有するパワー半導体装置。
  14. 電源の一方の端子に接続された少なくとも1つのインダクタ、
    前記インダクタのそれぞれに並列に接続された、前記電源の出力電流の方向に逆方向の第1のワイドギャップ半導体ダイオードと抵抗との直列接続体、
    前記インダクタのそれぞれに直列に接続された第1のスイッチング回路、
    前記第1のスイッチング回路のそれぞれに直列に接続された第2のスイッチング回路、
    前記第2のスイッチング回路のそれぞれと、前記電源の他方の端子との間に接続された第2のインダクタ、
    前記第2のインダクタに並列に接続された、逆方向の第2のワイドギャップ半導体ダイオードと第2の抵抗との直列接続体、及び
    前記第1の抵抗と第1のワイドギャップ半導体ダイオードの接続点と、前記第2の抵抗と第2のワイドギャップ半導体ダイオードとの接続点との間に接続されたコンデンサ
    を有するパワー半導体装置。
  15. 前記第1の抵抗と第1のワイドギャップ半導体ダイオードの接続点と、前記第1のスイッチング回路と前記第2のスイッチング回路の接続点との間に接続された第2のコンデンサ、及び
    前記第2の抵抗と第2のワイドギャップ半導体ダイオードの接続点と、前記第1のスイッチング回路と前記第2のスイッチング回路の接続点との間に接続された第3のコンデンサ
    を更に有する請求項14記載のパワー半導体装置。
  16. 前記第1及び第2のスイッチング部はそれぞれ、前記電流の流れ方向に順方向に接続された半導体スイッチング素子及び前記スイッチング素子に逆並列に接続されたフリーホイーリングダイオードを有する請求項14に記載のパワー半導体装置。
  17. 前記第1及び第2のワイドギャップ半導体ダイオード素子は、動作中の接合部の温度が常温より高い温度になるように、前記接合部の電流密度が設定されていることを特徴とする請求項14に記載のパワー半導体装置。
  18. 前記第1及び第2のワイドギャップ半導体ダイオード素子は、動作中の接合部の温度が150℃以上になるように、前記接合部の電流密度が設定されていることを特徴とする請求項14に記載のパワー半導体装置。
  19. 前記第1及び第2のスイッチング部はそれぞれ、ワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体スイッチング素子及び前記ワイドギャップ半導体スイッチング素子に逆並列に接続されたワイドギャップ半導体を用いたワイドギャップ半導体フリーホイーリングダイオードを有し、前記ワイドギャップ半導体スイッチング素子、前記ワイドギャップ半導体フリーホイーリングダイオード及びワイドギャップ半導体ダイオード素子を1つのパッケージ内に設けたことを特徴とする請求項16に記載のパワー半導体装置。
  20. 前記ワイドギャップ半導体ダイオード素子が、ワイドギャップ半導体ショットキーダイオードであることを特徴とする請求項4に記載のパワー半導体装置。
  21. 前記ワイドギャップ半導体ダイオード素子のドリフト層の層厚を、前記ワイドギャップ半導体ダイオード素子の所望の逆耐電圧に対応する厚さよりも厚くしたことを特徴とする請求項4に記載のパワー半導体装置。
  22. 前記ワイドギャップ半導体ダイオード素子のドリフト層の不純物濃度を薄くしたことを特徴とする請求項4に記載のパワー半導体装置。
  23. インダクタと、前記インダクタに並列に接続された、第1のワイドギャップ半導体ダイオードと抵抗との直列接続体を有する少なくとも1つのスナバ回路、
    前記スナバ回路に直列に接続された第1のスイッチング回路、及び
    第1のスイッチング回路と前記スナバ回路のいずれかに直列に接続された第2のスイッチング回路、
    を有するパワー半導体装置。
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