JPWO2005096037A1 - 光学部材およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
好ましい態様によれば、前記微細構造がモスアイ構造である。また、前記基材の屈折率が1.4〜1.9であり、前記微細構造が前記基材表面の法線方向に伸びる微細突起であり、かつ該突起はその先端に向かって細くなっている。
好ましい態様においては、上記製造方法は、基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程に先立って、該基材を不活性ガス雰囲気中または減圧下の空気中に置く工程、および、基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程の後に、該基材を不活性ガス雰囲気中または減圧下の空気中に再び置く工程を含む。好ましくは、前記微細構造はモスアイ構造である。また、前記基材の屈折率は1.4〜1.9であり、前記微細構造が前記基材表面の法線方向に伸びる微細突起であり、かつ該突起はその先端に向かって細くなっている。
フッ素ガスを含有する雰囲気は、好ましくは、不活性ガスを含有し、フッ素ガス濃度が0.1〜50重量%である。フッ素ガスを含有する雰囲気に曝す直前の基材中の酸素および水分量は共に1重量%以下である。フッ素ガスを含有する雰囲気中の酸素および水分濃度は共に100重量ppm以下である。基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝すときの基材表面温度が−50〜150℃である。
B・・屈折率nBの平板
C・・屈折率nCの正方柱
D・・屈折率nDの円錐
1・・チャンバー
2・・フッ素ガス供給ライン
3・・不活性ガス供給ライン
4・・排気ライン
5・・加熱装置
6・・微細構造を有する基材
ここで「微細構造」とは、表面に形成された微細な凹部または凸部を指し、好ましくは、微細構造は高さ5nm〜100μmの凸部および/または深さ5nm〜100μmの凹部からなる。
微細な寸法間隔で繰り返される屈折率nAおよび屈折率nB領域においては、これら領域を伝播する光の屈折率は、物質固有の屈折率とは異なる有効屈折率となる。
nTM=√(nA2nB2/(fnB2+(1−f)nA2)) 式(2)
f=t1/(t1+t2) 式(3)
このような傾斜した屈折率をもつ微細構造の表面では光の反射はなくなることになる。このような微細構造の代表例としてモスアイ構造がある。その他、本発明の光学部材に形成される微細構造は、前記特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、非特許文献1非特許文献2および非特許文献3などに開示されるものである。
なお、上記屈折率nA1.4〜1.9は、フッ素化されていない部分の屈折率を意味する。
ここで、隣接する微細構造の間隔とは、隣接する各微細構造の中心から中心までの距離を指す。もし微細構造が対称構造をしていない場合は、凸部の頂点から隣接する凸部の頂点までの距離、凹部の最深部から隣接する凹部の最深部までの距離、または、凸部の頂点から隣接する凹部の最深部までの距離である。これらの距離が、各微細構造間で異なる場合は、その平均値とする。
また、光学ガラス板におけるエッチング時の腐食マスクとしては、エッチングガスに冒されない限りレジストパターン層自体を直接用いてもよい。
内層部および表層部はともにガラスやプラスチックなどから選ばれた同種材料から構成され、積層界面が無く、表層部は内層部よりもフッ素原子含有量が多くなっている。フッ素原子含有量はX線電子分光法(ESCA)などの分析装置によって、確認することができる。フッ素原子含有量は、表層部から内層部に向かって徐々に減少していくような分布をなしてもいてもよいし、表層部から内層部に向って階段的に減少する分布をなしていてもよい。
本発明の製造方法を図4を参照しながら具体的に説明をする。
この工程(1)は必須ではないが、この工程を経ることによって、基材表層部に、フッ素原子含有量が多い相を面内分布なく存在させることができるようになるので、工程(1)を経ることが好ましい。
工程(1)の後、不活性ガス供給ライン3の弁を閉じ、必要に応じてチャンバー1を冷却し、次いでフッ素ガス供給ライン2の弁と、フッ素ガスの濃度を調整するために不活性ガス供給ライン3の弁を開き、フッ素ガスと不活性ガスをライン中で混合し、希釈されたフッ素ガスを得、これをチャンバー1に流入させ、チャンバー1内をフッ素ガスを含有する雰囲気にする。
フッ素ガスを含有する雰囲気に曝し、所定時間経過した後、不活性ガス供給ライン3を開き、フッ素ガス供給ライン2の弁を閉じて、チャンバー1を不活性ガス雰囲気にする。不活性ガスは前記工程(1)で説明したものと同じものが挙げられる。そして、加熱装置5によって基材6を加熱することが好ましい。この加熱によって基材6中に導入しきれなかったフッ素ガスを除去することができる。加熱温度は基材表面温度で、通常60〜180℃、好ましくは80〜130℃である。加熱時間は1〜400分、好ましくは1〜300分である。
前記位相差板は、その板面内で屈折率異方性を有する板であり、複屈折によって分かれた光波に位相のズレ(位相差)を生じさせる板である。
4インチシリコンウェハーに電子線レジスト(ZEP7000:日本ゼオン社製)を膜厚300nmで塗布した。電子線描画装置ELS−5700(エリオニクス社製)を使用して30mm×30mmの領域に高さ250nm、底面直径200nmの円錐形状を正方格子、ピッチ300nmで描画し、現像した。微細構造がパターニングされた面上にニッケル電鋳加工を行って、スタンパを作製した。そのスタンパをプレス機の鏡板に取り付けた。1mm厚みの環状オレフィン樹脂(ZNR1060R:日本ゼオン社製)のシートに前記スタンパが取り付けられたプレス機で200℃で熱プレス加工し、前記円錐正方格子構造を転写し、円錐正方格子構造を表面に有する環状オレフィン樹脂のシートを得た。
光束開口サイズ 7mmファイ、波長550nmの条件で分光光度計(V−570:日本分光社製)を用いて光反射率を測定した。それらの結果を表1に示す。
4インチシリコンウェハーに電子線レジスト(ZEP7000:日本ゼオン社製)を膜厚300nmで塗布した。電子線描画装置ELS−5700(エリオニクス社製)を使用して30mm×30mmの領域に高さ250nm、底面直径200nmの円錐形状を正方格子、ピッチ300nmで描画し、現像した。微細構造がパターニングされた面上にニッケル電鋳加工を行って、スタンパを作製した。そのスタンパをプレス機の鏡板に取り付けた。1mm厚みの環状オレフィン樹脂(ZNR1060R:日本ゼオン社製)のシートに前記スタンパが取り付けられたプレス機で200℃で熱プレス加工し、前記円錐正方格子構造を転写した。
4インチシリコンウェハーに電子線レジスト(ZEP7000:日本ゼオン社製)を膜厚300nmで塗布した。電子線描画装置ELS−5700(エリオニクス社製)を使用して30mm×30mmの領域に高さ250nm、底面直径200nmの円錐形状を正方格子、ピッチ300nmで描画し、現像した。微細構造がパターニングされた面上にニッケル電鋳加工を行って、スタンパを作製した。そのスタンパをプレス機の鏡板に取り付けた。1mm厚みの環状オレフィン樹脂(ZNR1060R:日本ゼオン社製)のシートに前記スタンパが取り付けられたプレス機で200℃で熱プレス加工し、前記円錐正方格子構造を転写した。
本発明の光学部材は、これらの特性を活かして、液晶表示装置、CRT表示装置、プラズマ表示装置、プロジェクターなどの表示装置、ならびにレンズおよび導光板などの光学素子などに用いられるため、有用である。
さらに、本発明の光学部材は、位相差板としても有用である。すなわち、本発明の光学部材からなる位相差板を透明接着剤を介して二枚以上積層した積層位相差板が好適な用途として挙げられる。
Claims (14)
- 表面に微細構造を有し、かつ隣接する微細構造の間隔が50〜1000nmである基材の表層部に、該基材の内層部よりもフッ素原子含有量が多い相がある、光の回折現象を利用した光学部材。
- 前記微細構造がモスアイ構造である請求項1に記載の光学部材。
- 前記基材の屈折率が1.4〜1.9であり、前記微細構造が前記基材表面の法線方向に伸びる微細突起であり、かつ該突起はその先端に向かって細くなっている請求項1に記載の光学部材。
- 表面に微細構造を有し、かつ隣接する微細構造の間隔が50〜1,000nmである基材の表面を、フッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程を含む、光の回折現象を利用した光学部材の製造方法。
- 前記微細構造がモスアイ構造である請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- 前記基材の屈折率が1.4〜1.9であり、前記微細構造が前記基材表面の法線方向に伸びる微細突起であり、かつ該突起はその先端に向かって細くなっている請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- フッ素ガスを含有する雰囲気が不活性ガスを含有し、フッ素ガスの濃度が0.1〜50重量%である請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- フッ素ガスを含有する雰囲気に曝す直前の該基材中の酸素および水分量が共に1重量%以下である請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- フッ素ガスを含有する雰囲気中の酸素および水分濃度が共に100重量ppm以下である請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- 該基材表面を、基材表面温度−50〜150℃において、フッ素ガスを含有する雰囲気に曝す請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- 該基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程に先立って、該基材を不活性ガス雰囲気中または減圧下の空気中に置く工程、および、該基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程の後に、該基材を不活性ガス雰囲気中または減圧下の空気中に再び置く工程を含む請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- 該基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程に先立って、該基材を不活性ガス雰囲気中で60〜180℃の範囲に保持する工程、および、該基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程の後に、該基材を不活性ガス雰囲気中で60〜180℃の範囲に再び保持する工程を含む請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- 該基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程に先立って、該基材を減圧下の空気中で15〜100℃の範囲に保持する工程、および、該基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程の後に、該基材を減圧下の空気中で15〜100℃の範囲に再び保持する工程を含む請求項4に記載の光学部材の製造方法。
- 該基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程に先立って、該基材を1〜500mmHgの範囲の圧力の空気中に保持する工程、および、該基材表面をフッ素ガスを含有する雰囲気に曝す工程の後に、該基材を1〜500mmHgの範囲の圧力の空気中に再び保持する工程を含む請求項4に記載の光学部材の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004107094 | 2004-03-31 | ||
JP2004107094 | 2004-03-31 | ||
PCT/JP2005/006318 WO2005096037A1 (ja) | 2004-03-31 | 2005-03-31 | 光学部材およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2005096037A1 true JPWO2005096037A1 (ja) | 2008-02-21 |
Family
ID=35063925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006511807A Withdrawn JPWO2005096037A1 (ja) | 2004-03-31 | 2005-03-31 | 光学部材およびその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080037124A1 (ja) |
EP (1) | EP1731931A4 (ja) |
JP (1) | JPWO2005096037A1 (ja) |
KR (1) | KR20070012438A (ja) |
TW (1) | TW200540209A (ja) |
WO (1) | WO2005096037A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2005096083A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2008-02-21 | 大見 忠弘 | 液晶表示用導光板およびその製造方法 |
JP2009023898A (ja) * | 2007-06-20 | 2009-02-05 | Asahi Glass Co Ltd | 合成石英ガラス体、その製造方法、光学素子および光学装置 |
BRPI0721635A2 (pt) * | 2007-09-28 | 2014-02-25 | Toppan Printing Co Ltd | Representação e artigo rotulado. |
KR101137390B1 (ko) | 2009-12-24 | 2012-04-26 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 광학필름 및 이를 구비하는 유기 발광 디스플레이 장치 |
TWI485452B (zh) * | 2012-10-31 | 2015-05-21 | Compal Electronics Inc | 複合導光板的製造方法 |
JP2014236202A (ja) * | 2013-06-05 | 2014-12-15 | 旭硝子株式会社 | 発光装置 |
CN105313528B (zh) * | 2014-08-01 | 2017-12-29 | 中钞特种防伪科技有限公司 | 一种全视差衍射光变图像光学防伪元件 |
WO2018219344A1 (en) * | 2017-06-01 | 2018-12-06 | The University Of Hong Kong | Sensors with gradient nanostructures and associated method of use |
JP7182438B2 (ja) | 2017-12-21 | 2022-12-02 | 信越化学工業株式会社 | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、及び眼鏡型ディスプレイ |
KR102129862B1 (ko) * | 2018-12-11 | 2020-07-03 | 포항공과대학교 산학협력단 | 메타 렌즈, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 광학 장치 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003279706A (ja) * | 2002-03-25 | 2003-10-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 反射防止部材 |
JP4265142B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2009-05-20 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 反射防止フィルム、低屈折率領域の作製方法、偏光板 |
JP2004039272A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP4617454B2 (ja) * | 2002-07-25 | 2011-01-26 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ドライエッチングによる微細加工用ガラス材料 |
JP4457340B2 (ja) * | 2003-08-29 | 2010-04-28 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 処理方法、型、再生方法及び再生装置 |
-
2005
- 2005-03-31 KR KR1020067022748A patent/KR20070012438A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-03-31 TW TW094110305A patent/TW200540209A/zh unknown
- 2005-03-31 US US11/547,397 patent/US20080037124A1/en not_active Abandoned
- 2005-03-31 WO PCT/JP2005/006318 patent/WO2005096037A1/ja active Application Filing
- 2005-03-31 EP EP05727995A patent/EP1731931A4/en not_active Withdrawn
- 2005-03-31 JP JP2006511807A patent/JPWO2005096037A1/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080037124A1 (en) | 2008-02-14 |
TW200540209A (en) | 2005-12-16 |
EP1731931A4 (en) | 2009-09-16 |
KR20070012438A (ko) | 2007-01-25 |
EP1731931A1 (en) | 2006-12-13 |
WO2005096037A1 (ja) | 2005-10-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
AA64 | Notification of invalidation of claim of internal priority (with term) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A241764 Effective date: 20070306 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070330 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070921 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
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A072 | Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination] |
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|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20100617 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20100625 |