JP2008046428A - 表面に微細凹凸形状をもつ光学素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板表面に配列された樹脂の凸条によって目的の微細凹凸構造とは凹凸が逆のパターンを形成し、成膜法によってそのパターンの凹部を誘電体層で充填する。その樹脂は除去するが、材質によっては残してもよい。
【選択図】図3
Description
非特許文献2には、サブ波長構造の形成方法として、樹脂バルク材を用いる熱式ナノインプリント法が開示されている。
(1)基板素材をドライエッチングで溝加工する構造と、
(2)基板素材上に高屈折率材料を成膜し、これをドライエッチングする方法が提案されている。
さらに、後で図4を用いて定義される凹凸構造のフィリングファクタ(FF=L/Pの比)を大きくできないという課題もある。Pは凹凸構造のピッチ、Lはランド幅である。
(A)前記基板表面に配列された樹脂の凸条によって前記微細凹凸構造とは凹凸が逆のパターンを形成する工程、
(B)成膜法によって前記パターンの凹部を誘電体層で充填する成膜工程、及び
(C)前記樹脂を除去する工程。
(A)前記基板表面にシルセスキオキサンを塗布してシルセスキオキサン層を形成し、プリベークの後、そのシルセスキオキサン層に前記微細凹凸構造の金型を押し当ててインプリント法による形状転写を行なった後、シルセスキオキサンを熱硬化させてシルセスキオキサンの凸条によって前記微細凹凸構造とは凹凸が逆のパターンを形成する工程、及び
(B)成膜法によって前記パターンの凹部を誘電体層で充填する成膜工程。
シルセスキオキサンは硬化すると石英構造をもつため、光学素子に残存していても耐久性と耐環境性に優れている。硬化したシルセスキオキサンの屈折率は1.45程度である。
この成膜を基板側にバイアス電圧を印加しない従来の方法により実行すると、ラインパターンの頂部に堆積される成膜物質がスペース側にも成長してくるため、スペース内部には成膜物質が到達しにくくなり、スペース内の堆積膜厚には限界ある。また、スペース内でラインパターンよりには成膜物質が到達しにくいため、スペース内の堆積膜厚は不均一になる。その結果、従来の成膜方法は本発明では使用することができない。
(a)シリコン基板の(110)面にマスク材料により、得ようとする微細凹凸構造の平面パターンをもつマスクパターンを形成する工程、
(b)前記マスクパターンをマスクとして前記シリコン基板をアルカリ液でエッチングを行ない、側面に{111}面を有する微細凹凸を形成する工程、及び
(c)その後、前記マスクパターンを除去する工程。
フィリングファクタを大きくすることができるので、広帯域波長板を実現することが容易である。
図1は、位相板の一形態を説明するための図である。
この位相板は、図1(A)に示すように、平行平板状のガラス平板11の両面に薄層12a、12bが形成された構成となっている。薄層12a、12bは好ましくは屈折率が1.6以上の材料により形成され、その表面形状として断面矩形波状の微細凹凸構造がサブ波長構造として形成されている。
n(TE)={fn2+(1−f)}1/2 (1)
n(TM)=[n2/{f+(1−f)n2}]1/2 (2)
図2はナノインプリント工法を適用する工程で使用する金型を製作する工程を示したものである。
(A)金型の基板として(110)表面をもつシリコン基板20を用意する。
そのシリコン基板20の表面に電子線描画用レジスト22を塗布し、プリベークする。
レジスト22に対し、予め設定されたプログラムにしたがって金型パターンを形成するためのパターンを電子線描画する。このパターンは位相板の微細凹凸構造の平面パターンをもつパターンである。電子線描画は目的の位相板のピッチ及び線幅によって描画条件は異なったものとなる。
シリコン基板20はその表面が(110)面であるので、シリコン基板のアルカリ液によるエッチングは{111}面が壁面となるように基板表面に対して垂直方向に進行し、レジストパターン22aのピッチを維持したまま深さ方向にエッチングされる。
次に、図3により金型24を用いて製品基板26に誘電体材料で微細凹凸構造を形成して目的とする位相板を製作する第1の実施例の工程を説明する。
(A)製品基板26として平坦な表面をもつ平行平板の光透過性石英ガラス基板を使用する。製品基板26はパイレックス(登録商標)、テンパックス(登録商標)といったガラス材料を使用することもできる。
(C)基板26を、基板にバイアス電圧が印加可能な製膜装置に設置する。製膜は基板26を面内方向で回転させながら行なう。成膜する誘電体材料としては、Ta2O5,TiO2,Ti2O5,Nb2O5,In2O5,SnO2,Al2O3,CrO2など、前述の種々の材料を使用することができる。
成膜は樹脂パターン28aとほぼ同じ高さになるまで行なうが、好ましくは樹脂パターン28aよりもわずかに低いところまで誘電体材料30が充填されたところで成膜工程を完了する。
これにより、基板26上に誘電体材料30による凸条32が形成された微細凹凸構造をもつ位相板が完成する。誘電体材料30によるパターンは紙面垂直方向に伸びる凸条32であり、基板26の表面と凸条32とにより微細凹凸構造を構成している。
実施例2として、樹脂にシルセスキオキサンを使用し、誘電体からなる断面矩形波状の微細凹凸構造の隙間にシルセスキオキサンが存在している光学素子を製造する方法を説明する。
この実施例は、樹脂にシルセスキオキサンを使用し、図3(A)〜(H)の工程を実施する点は実施例1と同じである。そして、工程(I)を行なわないことにより、シルセスキオキサンを残存させる。
図4は基板26の両面に誘電体材料による凸条30a,30bからなる微細凹凸パターンを形成した実施例を示したものである。凸条30a,30bからなる微細凹凸パターンを基板26の両面に形成する場合も、図3と全く同じ方法により、誘電体材料によるパターンを基板26の片面ずつ形成する。
得られた位相板は、片面の微細凹凸構造の位相差がλ/4であるとすると、図5のように両面に微細凹凸構造をもつ位相板はその2倍のλ/2の位相差をもつものとなる。
(1)位相板A(青色映像光に対する1/2波長板相当の位相板)
薄層表面の微細凹凸構造:
ピッチ:P=0.20μm、
フィリングファクタ:f=0.6、
ランド幅:L=0.120μm、
スペース幅:S=0.080μm、
溝深さ:H=0.380μm
光学特性域:
使用波長:420〜520nm、
リタデーション:50±3%(50%は位相差:π)、
透過率:0.88±7%(偏光成分TE);0.93±7%(偏光成分TM)。
溝深さHは片面の凹凸構造の深さを表わしており、両面に凹凸構造が形成されているので、両面を合わせると溝深さは2Hとなる。以下の位相板でも同じである
薄層表面の微細凹凸構造:
ピッチ:P=0.22μm、
フィリングファクタ:f=0.7、
ランド幅:L=0.154μm、
スペース幅:S=0.066μm、
溝深さ:H=0.543μm、
光学特性:
使用波長域:520〜620nm、
リタデーション:50±3%(50%は位相差:π)、
透過率:0.88±9%(偏光成分TE);0.93±5%(偏光成分TM)。
薄層表面の微細凹凸構造:
ピッチ:P=0.30μm、
フィリングファクタ:f=0.5、
ランド幅:L=0.150μm、
スペース幅:S=0.150μm、
溝深さ:H=0.475μm、
光学特性:
使用波長域:620〜700nm、
リタデーション:50±4%(50%は位相差:π)、
透過率:0.88±5%(偏光成分TE)、0.93±4%(偏光成分TM)。
図3の製造方法で製作される光学素子の誘電体材料による凸条32が多層膜構造として形成されたものであり、その多層膜構造の屈折率構成が表面に反射防止効果を有する薄膜構成であるものである。
基板:石英ガラス基板(屈折率1.47)、
第1層目誘電体層:SiO2 (屈折率1.45) 膜厚86nm、
第2層目誘電体層:Al2O3(屈折率1.63) 膜厚77nm、
第3層目誘電体層:TiO2 (屈折率2.30) 膜厚109nm、
第4層目誘電体層:SiO2 (屈折率1.45) 膜厚86nm、
凸条32間の凹部:空気(屈折率1.00)
22 電子線描画用レジスト
22a レジストパターン
24 金型
26 製品基板
28 転写樹脂
28a 樹脂パターン
30 誘電体材料
32,32a,32b 誘電体材料による凸条
Claims (8)
- 基板の少なくとも一方の表面に誘電体からなる断面矩形波状の微細凹凸構造が形成された光学素子を以下の工程(A)から(C)を含んで製造することを特徴とする光学素子の製造方法。
(A)前記基板表面に配列された樹脂の凸条によって前記微細凹凸構造とは凹凸が逆のパターンを形成する工程、
(B)成膜法によって前記パターンの凹部を誘電体層で充填する成膜工程、及び
(C)前記樹脂を除去する工程。 - 前記工程(A)は基板表面に樹脂を塗布して樹脂層を形成し、プリベークの後、その樹脂層に前記微細凹凸構造の金型を押し当てるインプリント法による形状転写工程である請求項1に記載の製造方法。
- 基板の少なくとも一方の表面に誘電体からなる断面矩形波状の微細凹凸構造が形成され、その微細凹凸構造の隙間にシルセスキオキサンが存在している光学素子を以下の工程(A)と(B)を含んで製造することを特徴とする光学素子の製造方法。
(A)前記基板表面にシルセスキオキサンを塗布してシルセスキオキサン層を形成し、プリベークの後、そのシルセスキオキサン層に前記微細凹凸構造の金型を押し当ててインプリント法による形状転写を行なった後、シルセスキオキサンを熱硬化させてシルセスキオキサンの凸条によって前記微細凹凸構造とは凹凸が逆のパターンを形成する工程、及び
(B)成膜法によって前記パターンの凹部を誘電体層で充填する成膜工程。 - 前記工程(B)はその途中に基板側にバイアス電圧を印加して行なうバイアスプラズマ成膜工程を含む請求項1から3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記バイアスプラズマ成膜工程は基板側にバイアス電圧を印加した状態で逆スパッタリングを行なう基板バイアスエッチング工程を含む請求項5に記載の製造方法。
- 前記工程(B)は前記誘電体層を多層膜構造として形成する請求項1から5のいずれかに記載の製造方法。
- 前記多層膜構造の屈折率構成は、表面が反射防止効果を有する薄膜構成である請求項6に記載の製造方法。
- 前記金型は、以下の工程により製作する請求項2又は3に記載の製造方法。
(a)シリコン基板の(110)面にマスク材料により前記微細凹凸構造の平面パターンをもつマスクパターンを形成する工程、
(b)前記マスクパターンをマスクとして前記シリコン基板をアルカリ液でエッチングを行ない、側面に{111}面を有する微細凹凸を形成する工程、及び
(c)その後、前記マスクパターンを除去する工程。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015201666A (ja) * | 2010-03-26 | 2015-11-12 | テトラサン インコーポレイテッド | 高効率結晶太陽電池における遮蔽された電気接点およびパッシベーション化誘電体層を通じたドーピング、ならびにその構造および製造方法 |
KR20180083885A (ko) * | 2015-11-24 | 2018-07-23 | 프레지던트 앤드 펠로우즈 오브 하바드 칼리지 | 가시 스펙트럼 내의 파장들에 대한 유전체 메타표면들을 제조하기 위한 원자 층 퇴적 공정 |
US11579456B2 (en) | 2017-08-31 | 2023-02-14 | Metalenz, Inc. | Transmissive metasurface lens integration |
US11927769B2 (en) | 2022-03-31 | 2024-03-12 | Metalenz, Inc. | Polarization sorting metasurface microlens array device |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000323463A (ja) * | 2000-01-01 | 2000-11-24 | Hitachi Ltd | プラズマ処理方法 |
JP2005099099A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 波長板 |
JP2005202104A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Nikon Corp | 偏光化素子の製造方法、偏光化素子、および画像投影装置の製造方法、並びに画像投影装置 |
JP2005308859A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Konica Minolta Holdings Inc | 複屈折光学素子及びその製造方法 |
JP2006058506A (ja) * | 2004-08-19 | 2006-03-02 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 積層構造体及びその製造方法、光学素子、並びに光学製品 |
JP2007010713A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Seiko Epson Corp | 光学素子の製造方法、投射型表示装置 |
-
2006
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000323463A (ja) * | 2000-01-01 | 2000-11-24 | Hitachi Ltd | プラズマ処理方法 |
JP2005099099A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 波長板 |
JP2005202104A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Nikon Corp | 偏光化素子の製造方法、偏光化素子、および画像投影装置の製造方法、並びに画像投影装置 |
JP2005308859A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Konica Minolta Holdings Inc | 複屈折光学素子及びその製造方法 |
JP2006058506A (ja) * | 2004-08-19 | 2006-03-02 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 積層構造体及びその製造方法、光学素子、並びに光学製品 |
JP2007010713A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Seiko Epson Corp | 光学素子の製造方法、投射型表示装置 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015201666A (ja) * | 2010-03-26 | 2015-11-12 | テトラサン インコーポレイテッド | 高効率結晶太陽電池における遮蔽された電気接点およびパッシベーション化誘電体層を通じたドーピング、ならびにその構造および製造方法 |
US9443994B2 (en) | 2010-03-26 | 2016-09-13 | Tetrasun, Inc. | Shielded electrical contact and doping through a passivating dielectric layer in a high-efficiency crystalline solar cell, including structure and methods of manufacture |
US9966481B2 (en) | 2010-03-26 | 2018-05-08 | Tetrasun, Inc. | Shielded electrical contact and doping through a passivating dielectric layer in a high-efficiency crystalline solar cell, including structure and methods of manufacture |
KR20180083885A (ko) * | 2015-11-24 | 2018-07-23 | 프레지던트 앤드 펠로우즈 오브 하바드 칼리지 | 가시 스펙트럼 내의 파장들에 대한 유전체 메타표면들을 제조하기 위한 원자 층 퇴적 공정 |
JP2018536204A (ja) * | 2015-11-24 | 2018-12-06 | プレジデント・アンド・フェロウズ・オブ・ハーバード・カレッジ | 可視スペクトルの波長のための誘電体メタサーフェス(metasurface)を製造するための原子層堆積プロセス |
CN111580190A (zh) * | 2015-11-24 | 2020-08-25 | 哈佛学院院长及董事 | 制造针对可见光谱波长的电介质超颖表面的原子层沉积处理 |
CN111580190B (zh) * | 2015-11-24 | 2021-12-28 | 哈佛学院院长及董事 | 制造针对可见光谱波长的电介质超颖表面的原子层沉积处理 |
US11366296B2 (en) | 2015-11-24 | 2022-06-21 | President And Fellows Of Harvard College | Atomic layer deposition process for fabricating dielectric metasurfaces for wavelengths in the visible spectrum |
US11815668B2 (en) | 2015-11-24 | 2023-11-14 | President And Fellows Of Harvard College | Atomic layer deposition process for fabricating dielectric metasurfaces for wavelengths in the visible spectrum |
KR102643957B1 (ko) * | 2015-11-24 | 2024-03-07 | 프레지던트 앤드 펠로우즈 오브 하바드 칼리지 | 가시 스펙트럼 내의 파장들에 대한 유전체 메타표면들을 제조하기 위한 원자 층 퇴적 공정 |
US11579456B2 (en) | 2017-08-31 | 2023-02-14 | Metalenz, Inc. | Transmissive metasurface lens integration |
US11927769B2 (en) | 2022-03-31 | 2024-03-12 | Metalenz, Inc. | Polarization sorting metasurface microlens array device |
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