JPS642792B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、半導体の洗浄等のために純水を吐出
させるためのポンプに関する。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

半導体は、極端に塵埃を嫌う。そこで、従来か
らその洗浄のために、製造過程において、ノズル
から高圧の純水を噴射して塵埃を除去することが
行なわれている。

そして、純水を高圧でノズルへ導くために、従
来第１図のようなポンプが用いられていた。

これを説明すると、１は被圧室２を構成するた
めの中空円盤状ヘツドで、この両端には流入弁座
管３を介して流入管４が、流出弁座管５を介して
流出管６がそれぞれ連結されている。流入弁座管
３および流出弁座管５内にはスプリング７，８に
より付勢されたボール状流入弁９および流出弁１
０がそれぞれ内装されている。

１１は作動流体室１２を構成する作動流体室壁
で、その中央にシリンダー１３Ａ，１３Ｂを有し
ている。シリンダー内１３Ａ内にはピストン１４
が、シリンダー１３Ｂ内には往復動ピストン１４
と連結棒１５によつて連結され背後からクランク
バー１６を介して作動せられる摺動部材１７がそ
れぞれ収容されている。作動流体室壁１１の前部
には、フロント部材１８が一体的に設けられてい
る。このフロント部材１８とヘツドとに挟着され
て可撓性円形ダイアフラム１９が配されている。
ヘツド１のダイアフラム側壁１ａの外面は切欠球
面状に凹陥されたダイアフラム１９の当り面を構
成しており、またヘツド１のダイアフラム側の壁
１ａには、前室２ａと被圧室２とを連通する多数
の透孔１ｂが形成されている。他方、フロント部
材１８の前部には当り部材２０が取付けられてい
る。当り部材２０の前面は切欠球状に凹陥し、ま
た当り部材２０には、フロント部材１８の凹部に
よつて構成された押圧室２１と後室２１ａとを連
通する多数の透孔２１ｂが形成されている。２２
はエア抜き孔である。

さらに、押圧室２１と作動流体室１２とは、吸
込弁２３、ならびにダイアフラム１９の保護のた
め限界圧になつたとき作動するリリーフ弁２４に
よつて連通可能となつている。

かかるポンプにおいて、外部の駆動源によつて
ピストン１４が後退すると、押圧室２１内が減圧
され、これに判つてダイアフラム１９が当り部材
２０へ撓み、その結果、流入弁９がスプリング７
に抗して開となり、純水Ｗが被圧室２および前室
２ａ内に流入する。このとき、流出弁１０は閉状
態にある。その後、ピストン１４が後退限から前
進過程に入ると、押圧室２１内が加圧状態にな
り、ダイアフラム１９がダイアフラム側の壁１ａ
に当るまで撓み、これに伴つて、流入弁９は閉と
され、今まで閉じていた流出弁１０が開き、前室
２ａおよび被圧室２内に流入し満たされていた純
水が高圧状態で吐出される。吐出された純水は洗
浄装置のノズルへ導かれる。

ところで、従来、純水Ｗの圧送のために、押圧
室２１および作動流体室１２内に満たされる作動
流体としては油が用いられていた。他方、ダイア
フラム１９は高圧用ポンプであることもあつて長
年の使用によつて破れる危険性もある。もし、ダ
イアフラム１９が破れると、作動流体としての油
が純水に混入することとなり、こうなると高速ラ
イン上を流れる多数の半導体が使用に耐えなくな
り、膨大な損害を招く。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、前記問題点を解決し、たとえ
ダイアフラムが損傷しても、なお洗浄装置として
機能する洗浄用純水吐出ポンプを提供することに
ある。

〔発明の概要〕

この目的を達成するための本発明は、洗浄用純
水圧送用流路の途中に設けられた流入弁と流出弁
との間に被圧室を構成し、往復動ピストンと被圧
室との間にダイアフラムを設け、このダイアフラ
ムによつて、ピストンとの間の押圧室内の作動流
体と、被圧室内の純水とを仕切り、前記押圧室と
吸込弁およびリリーフ弁を介して連通する作動流
体室を設けたポンプにおいて；前記押圧室か、作
動流体室のいずれか一方もしくは両方をストツプ
弁を介して前記洗浄用純水圧送用流路に連通し、
前記作動流体として純水を用いるようにしたこと
を特徴とするものである。

すなわち、本発明に従つて、作動流体として純
水を用いると、ダイアフラムが破れたとしても、
押圧室から被圧室に純水が入るだけであるから、
洗浄化機能がなんら損われることがない。また、
作動流体の漏洩に対する不足分の補給やダイアフ
ラム交換時における作動流体の充填は洗浄用純水
圧送用流路を利用して行なうことができるためメ
ンテナンスが容易となり、一々作動流体を保管す
る必要もなくなる。

〔発明の具体例〕

以下本発明を図面に示す具体例によつてさらに
詳説する。

第２図は、第１図のポンプを概略的に図示した
状態で転用して洗浄装置を構成したもので、本発
明に従つて、押圧室２１および作動流体室１２に
純水発生装置３０から純水Ｗが与えられ、この純
水Ｗが、従来の油に代つて、作動流体とされる。

また、洗浄用の純水ｗは、流入弁９、被圧室２
および流出弁１０を通つて、噴射ノズル３１から
噴射される。その途中には、アキユムレータ３
２，レギユレータ３３、圧力計３４，切替用電磁
弁３５が設けられている。３６〜３８はドレン用
管路である。

かかるポンプによれば、ダイアフラム１９が破
損しても、押圧室２１および作動流体室１２の純
水Ｗが洗浄化経路に入り込むだけなので、相変わ
らずノズル３１からは純水Ｗが噴出され、洗浄作
業の支障とならず、損品の発生を防止できる。

ところで、ピストン１４の駆動系としては、米
国インターペース（INTERPACE）社販売のパ
ルサ（PULSA）シリーズのように、往復ピスト
ン機構を利用したもののほか、特公昭46−24093
号、同48−29882号公報のように空気作動方式と
してもよい。

第３図はこの空気作動方式を駆動系とした他の
具体例を示したものである。

ピストン１４と連結されたそれより面積が大と
された与圧板４０には、空気源Ａからエアレギユ
レータ４１を介して与えられ、与圧板４０と共に
ピストン１４を連続的に空気圧を平衡に保たない
限り往復動させる構成とされている。４２はマフ
ラー、３４Ａ，３４Ｂは圧力計、４３はゴミ除去
用のフイルターである。

〔発明の効果〕

以上の通り、本発明は、ダイアフラムを介して
高圧を発生するポンプにあつて、作動流体として
被圧室で加圧される純水と同じ純水を用いるもの
であるため、ダイアフラム破損に伴う損品発生を
防止でき、たとえば半導体製造ラインの洗浄に適
用した場合、一旦トラブルが発生したときには多
大の損害を招くことを解決でき、その実用的価値
に大なるものがある。また、作動流体の補給が洗
浄用純水圧送用流路を利用して行なわれるため、
メンテナンスが容易となり常時作動流体を保管す
る必要もなくなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用可能なポンプの一例を示
す断面図、第２図は本発明ポンプを備えた洗浄装
置の全体のフロー図、第３図は空気駆動方式によ
る洗浄装置の全体のフロー図である。 １……ヘツド、１ｂ……透孔、２……被圧室、
２ａ……前室、９……流入弁、１０……流出弁、
１２……作動流体室、１４……ピストン、２１…
…押圧室、２１ａ……後室、２１ｂ……透孔、２
３……吸込弁、２４……リリーフ弁。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 洗浄用純水圧送用流路の途中に設けられた流
   入弁と流出弁との間に被圧室を構成し、往復動ピ
   ストンと被圧室との間にダイアフラムを設け、こ
   のダイアフラムによつて、ピストンとの間の押圧
   室内の作動流体と、被圧室内の純水とを仕切り、
   前記押圧室と吸込弁およびリリーフ弁を介して連
   通する作動流体室を設けたポンプにおいて；前記
   押圧室か、作動流体室のいずれか一方もしくは両
   方をストツプ弁を介して前記洗浄用純水圧送用流
   路に連通し、前記作動流体として純水を用いるよ
   うにしたことを特徴とする洗浄用純水吐出ポン
   プ。