JPS6396482A - 流動層炉のガス分散ノズル装置 - Google Patents
流動層炉のガス分散ノズル装置Info
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- JPS6396482A JPS6396482A JP24205586A JP24205586A JPS6396482A JP S6396482 A JPS6396482 A JP S6396482A JP 24205586 A JP24205586 A JP 24205586A JP 24205586 A JP24205586 A JP 24205586A JP S6396482 A JPS6396482 A JP S6396482A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
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- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/44—Fluidisation grids
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B15/00—Fluidised-bed furnaces; Other furnaces using or treating finely-divided materials in dispersion
- F27B15/02—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
- F27B15/10—Arrangements of air or gas supply devices
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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-
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- F27D2019/0018—Monitoring the temperature of the atmosphere of the kiln
-
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- F27D19/00—Arrangements of controlling devices
- F27D2019/0028—Regulation
- F27D2019/0068—Regulation involving a measured inflow of a particular gas in the enclosure
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、流動層炉におけるレトルト内に配設されるガ
ス分散ノズル装置に関する。
ス分散ノズル装置に関する。
従来の技術
第４図、第５図に示すように、レトル）ｌの底９１ ａ
にリング状の分散ノズル台２を設け、この分散ノズル台
２の上に大径パイプ３に下向のノズル孔を多数有する分
散ノズルパイプ４を相互に平行となるように連結したガ
ス分散ノズル５を載置し、その大径パイプ３に流動ガス
供給管６を連通して、流動ガスを多数のノズル孔よりレ
トルト１の底壁１αに向けて噴射するようにしたガス分
散ノズル装置が知られている。
にリング状の分散ノズル台２を設け、この分散ノズル台
２の上に大径パイプ３に下向のノズル孔を多数有する分
散ノズルパイプ４を相互に平行となるように連結したガ
ス分散ノズル５を載置し、その大径パイプ３に流動ガス
供給管６を連通して、流動ガスを多数のノズル孔よりレ
トルト１の底壁１αに向けて噴射するようにしたガス分
散ノズル装置が知られている。
発明が解決しようとする問題点
かかる分散ノズル装置であると流動ガスをレトルト１の
周囲に均一に噴出して均一なる流動層を形成できるので
、中・低温の焼入加熱や窒化処理などでは流動も良好で
使用に何ら問題がない。
周囲に均一に噴出して均一なる流動層を形成できるので
、中・低温の焼入加熱や窒化処理などでは流動も良好で
使用に何ら問題がない。
しかしながら、ハイス鋼焼入などの高温や浸炭処理時に
は下記の問題点を有する。
は下記の問題点を有する。
１、 浸炭処理では流動ガス中にプロパンやブタンガス
あるいはアルコールなどを混合して浸炭雰囲気を作るの
が、これらのガスは分散ノズルパイプ４中やノズル孔を
出て直ちに分解しはじめると共に、レトルト１の外周部
より図示しないヒータで加熱するのでレトルト１の外壁
部分は中央部よυも温度が多少高くなる。このために、
レトルト１の外周壁付近、特にノズル孔付近でのガス分
解が激しくなり、長時間浸炭や高カーボン浸炭を行う場
合にノズル孔に近いレトルト内面にカーボンが付着し、
この付着したカーボンが流動不良の原因となるので、こ
れを避けるために流動を強めたり、処理後にバーンアウ
トを頻繁に行う必要があって操作が面倒となる。
あるいはアルコールなどを混合して浸炭雰囲気を作るの
が、これらのガスは分散ノズルパイプ４中やノズル孔を
出て直ちに分解しはじめると共に、レトルト１の外周部
より図示しないヒータで加熱するのでレトルト１の外壁
部分は中央部よυも温度が多少高くなる。このために、
レトルト１の外周壁付近、特にノズル孔付近でのガス分
解が激しくなり、長時間浸炭や高カーボン浸炭を行う場
合にノズル孔に近いレトルト内面にカーボンが付着し、
この付着したカーボンが流動不良の原因となるので、こ
れを避けるために流動を強めたり、処理後にバーンアウ
トを頻繁に行う必要があって操作が面倒となる。
２ ハイスＡの焼入は１２００℃以上の高温を必要とす
るので、レトルト１の外部に設けたヒータで加熱する際
にレトルト１が溶損しないように注意しながら行なう必
要があり、例えばレトルト１から流動粒子への熱伝達が
良くなるように流動を多少強めとしているが、このよう
にすると流動ガスとして使用している窒素ガス使用量が
増えて操業コスト（ランニングフス））カ高くなる。
るので、レトルト１の外部に設けたヒータで加熱する際
にレトルト１が溶損しないように注意しながら行なう必
要があり、例えばレトルト１から流動粒子への熱伝達が
良くなるように流動を多少強めとしているが、このよう
にすると流動ガスとして使用している窒素ガス使用量が
増えて操業コスト（ランニングフス））カ高くなる。
そこで、本発明はレトルト内における流動ガス流量を外
周部と中央部とで任意に個別に制御できるようにした流
動層炉のガス分散ノズル装置を提供することを目的とす
る。
周部と中央部とで任意に個別に制御できるようにした流
動層炉のガス分散ノズル装置を提供することを目的とす
る。
問題点を解決するための手段及び作用
レトルト１１の底部にリング状の外周部分散ノズル１４
と中央部分散ノズル１５とを独立してそれぞれ設けると
共に、外周部分散ノズル１４に外周部流動ガス供給管１
９を接続連通し、中央部分散ノズル１５に中央部流動ガ
ス供給管２４を接続連通して、外周部と中央部とで流動
ガスの量及び速度を個別に制御できるようにしたもので
ある。
と中央部分散ノズル１５とを独立してそれぞれ設けると
共に、外周部分散ノズル１４に外周部流動ガス供給管１
９を接続連通し、中央部分散ノズル１５に中央部流動ガ
ス供給管２４を接続連通して、外周部と中央部とで流動
ガスの量及び速度を個別に制御できるようにしたもので
ある。
実施例
第３図に示すように、炉本体１０内には筒状のレトルト
１１が設けられ、このレトルト１１の外周にヒータ１２
が配設しであると共に、底部にガス分散ノズル装置１３
が設けである。
１１が設けられ、このレトルト１１の外周にヒータ１２
が配設しであると共に、底部にガス分散ノズル装置１３
が設けである。
該ガス分散ノズル装置１３は第１図、第２図に示すよう
に、リング状の外周部分散ノズ／Ｉ／１４と中央部分散
ノズル１５とを備え、外周部分散ノズル１４はリング状
の分散ノズルパイプ１６に下向のノズル孔１７を多数形
成したものであり、レトルト１１の底壁Ｚａに設けた分
散ノズル台１８の高部１８Ｇに載置しであると共に、そ
の分散ノズルパイプ１６は外周部流動ガス供給管１９に
接続しである。
に、リング状の外周部分散ノズ／Ｉ／１４と中央部分散
ノズル１５とを備え、外周部分散ノズル１４はリング状
の分散ノズルパイプ１６に下向のノズル孔１７を多数形
成したものであり、レトルト１１の底壁Ｚａに設けた分
散ノズル台１８の高部１８Ｇに載置しであると共に、そ
の分散ノズルパイプ１６は外周部流動ガス供給管１９に
接続しである。
前記中央部分散ノズル１５は大径パイプ２０とリング状
の分散ノズルパイプ２１とを連通し、その大径パイプ２
０に分散ノズルパイプ２２を多数連通すると共に、各分
散ノズルパイプ２１゜２２に下向のノズル孔２３をそれ
ぞれ多数形成したものであり、その大径パイプ２０に中
央部流動ガス供給管２４が接続連通しであると共に、リ
ング状の分散ノズルパイプ２１が前記分散ノズル台１８
の低部１８ｂに載置されて前記リング状の分散ノズルパ
イプ１６より低い位置となって相互に干渉しないように
しである。
の分散ノズルパイプ２１とを連通し、その大径パイプ２
０に分散ノズルパイプ２２を多数連通すると共に、各分
散ノズルパイプ２１゜２２に下向のノズル孔２３をそれ
ぞれ多数形成したものであり、その大径パイプ２０に中
央部流動ガス供給管２４が接続連通しであると共に、リ
ング状の分散ノズルパイプ２１が前記分散ノズル台１８
の低部１８ｂに載置されて前記リング状の分散ノズルパ
イプ１６より低い位置となって相互に干渉しないように
しである。
このようであるから、外周部分散ノズル１４よりレトル
ト１１の外周部に流動ガスを噴出し、中央部分散ノズル
１５よりレトルト１１の中央部に流動ガスを噴出できる
と共に、それぞれを単独に個別に制御することができる
。
ト１１の外周部に流動ガスを噴出し、中央部分散ノズル
１５よりレトルト１１の中央部に流動ガスを噴出できる
と共に、それぞれを単独に個別に制御することができる
。
したがって、長時間浸炭や高カーボン浸炭時にノズル孔
に近いレトルト１１内面にカーボンが付着し、流動不良
の原因となっていたものが、第３図に示すように外周部
の流動を中央部より少し強くすることによりカーボンを
付着しにくくでき、バーンアウトの回数も減らすことが
できる。また多少カーボンが付着しても外周部流動を強
くすることにより、流動不良を防止できる。
に近いレトルト１１内面にカーボンが付着し、流動不良
の原因となっていたものが、第３図に示すように外周部
の流動を中央部より少し強くすることによりカーボンを
付着しにくくでき、バーンアウトの回数も減らすことが
できる。また多少カーボンが付着しても外周部流動を強
くすることにより、流動不良を防止できる。
また１、高温処理時の場合も同様に外周部の流動を少し
強めにすることにより、レトルト１１と流動層（アルミ
ナ粒子）との熱伝達を促進させ、レトルト１１の溶損を
防止できる。この場合、中央部の流動は少し弱めでよい
ので、別制御できない場合に全体の流動を強くしていた
時に比べ流動用の窒素ガス使用量を低減できる。
強めにすることにより、レトルト１１と流動層（アルミ
ナ粒子）との熱伝達を促進させ、レトルト１１の溶損を
防止できる。この場合、中央部の流動は少し弱めでよい
ので、別制御できない場合に全体の流動を強くしていた
時に比べ流動用の窒素ガス使用量を低減できる。
また、炉内への処理品の装入のし方により（特に大きな
−かたまυを中央部へ入れた場合など）中央部の流動が
悪くなった場合、上記とは逆に中央部のみの流動ガス流
量を多くすることにより流動ムラを避けることができ、
処理品の昇温を速くできる。
−かたまυを中央部へ入れた場合など）中央部の流動が
悪くなった場合、上記とは逆に中央部のみの流動ガス流
量を多くすることにより流動ムラを避けることができ、
処理品の昇温を速くできる。
なお、外周部分散ノズル１５より噴出する流動ガスと中
央部分散ノズル１４より噴出する流動ガスの流量制御は
レトルト１１０近くに熱電対を設け、その検出温度に基
づいて図示しない流量制御パルプを制御して流量を制御
するようにすれば艮く、このようにすることでレトルト
１１の壁面温度を常に略一定にすることが可能となる。
央部分散ノズル１４より噴出する流動ガスの流量制御は
レトルト１１０近くに熱電対を設け、その検出温度に基
づいて図示しない流量制御パルプを制御して流量を制御
するようにすれば艮く、このようにすることでレトルト
１１の壁面温度を常に略一定にすることが可能となる。
以下余白
“ −、、、ｌ。
発明の効果
外周部分散ノズル１４と中央部分散ノズル１５とよシ流
動ガスを個別に噴出できるので、レトルト１１の外周部
と中央部とに流れる流動ガス量及び速度を個別に制御で
きるから、流動強さを外周部と中央部とで任意に調整で
きる。
動ガスを個別に噴出できるので、レトルト１１の外周部
と中央部とに流れる流動ガス量及び速度を個別に制御で
きるから、流動強さを外周部と中央部とで任意に調整で
きる。
したがって、外周部の流動を中央部より強くすることで
レトルト１１の内面にカーボンが付着しに〈〈できるか
ら、長時間浸炭や高カーボン浸炭時にバーンアウトの回
数を減らすことができると共に、多少カーボンが付着し
ても外周部流動を強くすることにより流動不良を防止で
き、高温処理時には外周部の流動を少し強めにすること
によりレトルト１１と流動層との熱伝達を促進させてレ
トルト１１の溶損を防止でき、かつ中央部の流動を弱く
して流動ガスとしての窒素ガスの使用量を低減できる。
レトルト１１の内面にカーボンが付着しに〈〈できるか
ら、長時間浸炭や高カーボン浸炭時にバーンアウトの回
数を減らすことができると共に、多少カーボンが付着し
ても外周部流動を強くすることにより流動不良を防止で
き、高温処理時には外周部の流動を少し強めにすること
によりレトルト１１と流動層との熱伝達を促進させてレ
トルト１１の溶損を防止でき、かつ中央部の流動を弱く
して流動ガスとしての窒素ガスの使用量を低減できる。
第１図、第２図、第３図は本発明の実施例を示し、第１
図は縦断面図、第２図は横断面図、第３図は全体図、第
４図、第５図は従来例の縦断面図、横断面図である。 １１はレトルト、１４は外周部分散ノズル、１５は中央
部分散ノズル、１９は外周部流動ガス供給管、２４は中
央部流動ガス供給管。
図は縦断面図、第２図は横断面図、第３図は全体図、第
４図、第５図は従来例の縦断面図、横断面図である。 １１はレトルト、１４は外周部分散ノズル、１５は中央
部分散ノズル、１９は外周部流動ガス供給管、２４は中
央部流動ガス供給管。
Claims (1)
- レトルト１１の底部にリング状の外周部分散ノズル１４
と中央部分散ノズル１５とを独立してそれぞれ設けると
共に、外周部分散ノズル１４に外周部流動ガス供給管１
９を接続連通し、中央部分散ノズル１５に中央部流動ガ
ス供給管２４を接続連通したことを特徴とする流動層炉
のガス分散ノズル装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24205586A JPS6396482A (ja) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | 流動層炉のガス分散ノズル装置 |
| EP87905472A EP0325657B1 (en) | 1986-10-14 | 1987-08-19 | Gas diffusing nozzle device for fluidized bed furnace |
| DE87905472T DE3788960T2 (de) | 1986-10-14 | 1987-08-19 | Gaszerstäuberdüse für einen fliessbettofen. |
| PCT/JP1987/000615 WO1988002839A1 (en) | 1986-10-14 | 1987-08-19 | Gas diffusing nozzle device for fluidized bed furnace |
| US08/159,936 US5354039A (en) | 1986-10-14 | 1993-12-01 | Gas dispersion nozzle apparatus for fluidized bed furnace |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24205586A JPS6396482A (ja) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | 流動層炉のガス分散ノズル装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6396482A true JPS6396482A (ja) | 1988-04-27 |
Family
ID=17083606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24205586A Pending JPS6396482A (ja) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | 流動層炉のガス分散ノズル装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0325657B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6396482A (ja) |
| DE (1) | DE3788960T2 (ja) |
| WO (1) | WO1988002839A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63286693A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-24 | 大同特殊鋼株式会社 | 流動層炉 |
| US10011794B2 (en) | 2013-04-24 | 2018-07-03 | Ihi Corporation | Fluidized bed system and method for operating fluidized bed furnace |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3932708A1 (de) * | 1989-09-29 | 1991-04-11 | Hillebrand Rudolf Gmbh | Wirbelbettofen |
| DE4000718C1 (ja) * | 1990-01-12 | 1991-04-18 | Man Gutehoffnungshuette Ag, 4200 Oberhausen, De | |
| US5189813A (en) * | 1991-02-22 | 1993-03-02 | Samuel Strapping Systems Ltd. | Fluidized bed and method of processing material |
| EP1165852A4 (en) * | 1999-02-08 | 2003-05-02 | Quality Heat Technologies Pty | SURFACE TREATMENT METHOD AND APPARATUS |
-
1986
- 1986-10-14 JP JP24205586A patent/JPS6396482A/ja active Pending
-
1987
- 1987-08-19 EP EP87905472A patent/EP0325657B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-19 DE DE87905472T patent/DE3788960T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-08-19 WO PCT/JP1987/000615 patent/WO1988002839A1/ja active IP Right Grant
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63286693A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-11-24 | 大同特殊鋼株式会社 | 流動層炉 |
| US10011794B2 (en) | 2013-04-24 | 2018-07-03 | Ihi Corporation | Fluidized bed system and method for operating fluidized bed furnace |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0325657A1 (en) | 1989-08-02 |
| EP0325657A4 (en) | 1990-05-14 |
| WO1988002839A1 (en) | 1988-04-21 |
| EP0325657B1 (en) | 1994-01-26 |
| DE3788960T2 (de) | 1994-05-05 |
| DE3788960D1 (de) | 1994-03-10 |
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